JPH01274052A - ガス又は蒸気分圧の連続測定装置 - Google Patents

ガス又は蒸気分圧の連続測定装置

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JPH01274052A
JPH01274052A JP1057677A JP5767789A JPH01274052A JP H01274052 A JPH01274052 A JP H01274052A JP 1057677 A JP1057677 A JP 1057677A JP 5767789 A JP5767789 A JP 5767789A JP H01274052 A JPH01274052 A JP H01274052A
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JP
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gas
reflector
substance
vapor
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JP1057677A
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Franz Dickert
フランツ、デイツケルト
Heinz Kimmel
ハインツ、キンメル
Gert Mages
ゲルト、マゲス
Sabine Schreiner
ザビーネ、シユライナー
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Siemens AG
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    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
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    • G01N27/125Composition of the body, e.g. the composition of its sensitive layer
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    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/22Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating capacitance
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気抵抗又は誘電率がガス又は蒸気の作用に
より変化する化学的に敏感なセンサ物質でガス又は茶気
の分圧を連続的に測定する装置に関する。
〔従来の技術〕
センサ物質として可逆的に変色する光学的フィルタを含
む、ガス及び蒸気を測定するセンサは公知である。この
場合フィルタの透明度もガスの作用によって変化可能で
ある。このフィルタは塩基性又は酸性発色剤又は染料と
相補性化合物とからなる混合物を含む。発色剤としては
例えばトリフェニルメタン系、特にクリスタルバイオレ
ットラクトンを使用することができる。更にトリフェニ
ルメタン系、特にフタレイン又はスルホフタレインの染
料を含有していてもよく、またマトリックスに組み込ま
れていてもよく、有利には担体を備えていてもよい。ガ
ス又は蒸気の作用によるフィルタの透明度の変化は電気
信号に変えられ、電子工学的に処理される(ドイツ連邦
共和国特許出願公開第3506686号(特開昭6l−
196141)公報参照)。
配位子が疏水性特性を有する金属錯体は公知である。こ
れらの物質群には単座配位子、例えばジメチルホルムア
ミド、二座配位子、いわゆるキレート配位子例えばエチ
レンジアミン及びアセチルアセトネート、ボダンデン(
Podanden)及び大環状化合物(Makrocy
clen)、特にクローネンエーテル(Kronene
ther)及びクリプタンデン(Kryptanden
)が属する。
例えば・ガス又は蒸気を測定するためにセンサ物質の電
気的特性の変化、例えば誘電率又は導電性の変化を利用
することは公知である。この作用効果は空気中の湿度を
測定する場合にはコンデンサの形でガスセンサとして簡
単に利用することができる。吸水性誘電体は金属を極に
施されている。
コンデンサの第2電極は水蒸気を通す多孔性金属フィル
ムの形で誘電体に施されている。この第2電極は例えば
金からなっていてもよく、これは水分を更に拡散できる
程度に薄くまた多孔質である。
電気接続は例えば2本の組み合わされた指の形で行うこ
とができる。このいわゆるくし型構造体上にガスの作用
下にその誘電率を変える誘電体が施される。容量の相当
する変化がセンサ信号として使用される〔「センシリク
(Sensorik) JSpringer−νerl
ag社版、Heidelberg在、1986年、第1
95夏〜199頁参照〕。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の課題は、実際にあらゆる溶剤及びガスの分圧並
びに濃度の連続的測定を低温でも可能にするガス又は蒸
気用の簡単なセンサ装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記の課題は本発明によれば、電気抵抗として又は誘電
体として疏水性金属錯体か又は少なくとも1種のフタリ
ドと少なくとも1種の酸化合物とからなる混合物を使用
することにより解決される。
これらのセンサ物質はガス又は蒸気の作用によってイオ
ン濃度又はイオン移動度の変化を示す。
〔発明の効果〕
本発明によれば小形で容易に運搬可能の携帯装置として
僅かな費用で得ることができ、また特別な知識を必要と
することなくそれぞれ任意の場所で、室温においてもガ
ス及び蒸気を検出することのできるガス又は蒸気用セン
サ装置が得られる。
〔実施態様〕
このセンサ系の有利な実施態様では、センサに抵抗の変
化又は誘電率の変化を周波数の変化に置き換える非安定
マルチバイブレータを配設することができる。
センサ層は少なくとも一部が、特にクローネンエーテル
又はクリプタンデン型の配位子を有する大環状の金属錯
体からなる。配位子としては例えば9−ベンゾ−15−
クローネ−5又は6−ペンゾークリプタンデン例えば1
5.6−ベンゾ−4,7,+3.16.21.24−ヘ
キサオクサ−1,10−ジアゾ−ピンクロー(8,8,
8)−へキサコサン(これは商品名@−2228で公知
である)をit尺することができる。
これらの金属錯体は有利には、可変電荷を有する金属イ
オン例えばナトリウムイオンNa’ 又はカリウムイオ
ンに1又はマグネシウムイオンMg”に配位される高分
子のクローネンエーテル又はクリプタンデンを含んでい
てもよい。
特に安定な層を製造することのできるポリマー構造体が
適している。
更に可変求核物質の対イオン例えば塩素陰イオンCl−
又は過塩素酸陰イオンClO4−を有する大環状金属錯
体が適している。
適切な共存物質は、陰イオン又は陽イオンの溶媒和に適
しかつポジ又はネガに帯電した成分を安定化することの
できる化合物である。これらは例えば固体の又は多官能
のアルコールであってもよい。特にピロガロール又はエ
ーテル化ポリエチレングリコールが適している。
更にフタリド、有利には置換されたフタリド例えば3−
(N−メチル−3−インドリル)−6−ジメチルアミノ
フタリド、並びに3.3−ジフェニルツクリド例えば3
,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメ
チルアミノフタリド(これは商品名“クリスタルバイオ
レットラクトン(にristallviolett L
acton)”で知られている)又は3− (p−ジメ
チルアミノフェニル)−3−(P−メトキシフェニル)
−6−シメチルアミノフクリドが通している。
酸性共存物質しては有利にはフェノール系の酸、特に2
.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン(こ
れは商品名“ビスフェノールA (Btsphenol
−A )”で市販されている)又はヒドロキシ−(フェ
ニル)−ビス(p−ヒドロキシフェニル)−メタン(こ
れは商品名”ヘンザラリン(Benzaurin) ’
で市販されている)が適している。
透明な支持体物質としてはガラス又はプラスチックが適
している。センサ活性物質はマトリックスに組み込まれ
ていてもよく、これには例えばポリ塩化ビニル、シリコ
ーン及びコロジウム及び特に陽イオン及び陰イオンの溶
媒和に適した活性官能基を有するポリマーのような無機
及び打機のポリマー物質が適している。
〔実施例〕
本発明を図面に基づき更に詳述する。
例えば約40amの長さL及び例えば約8眉の幅Bを有
する第1図に基づくガスセンサ2の実施態様において、
2個の電極4及び5は、それぞれその歯が互いに組み合
わされたいわゆるくし型構造の形で基板に配設されてい
る。この基板は第2図に示した側面図では10で表され
ており、またガラスからなっていてもよい。電極4及び
5はその大表面の末端で電気導体に接続されているが、
このために例えば銅からなっていてもよい付加的な金属
接触面6及び7を施すことができる。これらの金属接触
面にはそれぞれ接続導線11並びに12が例えばろう付
けにより固着されている。図面には詳細に示されていな
い画電極のくし型構造体の帯状歯形は、例えば約10〜
50μmであってよい僅かな間隔aを置いて互いに配設
されている。
帯状歯形の幅すは例えば約100〜200μ糟であって
よい。
第2図に示したその厚さdが例えば約0.5μmであっ
てよい2つの電極4及び5のくし型構造体上にセンサ物
質を含む溶液を一定量滴下し、溶剤を蒸発させる。その
際一連のセンサ層が生ずるが、その厚さCは少なくとも
、インゼル効果(島形成)を阻止するような厚さに選択
する。従ってその厚さCは有利には少なくとも50nm
であり、−Cに2μmを著しく越えることはない。第2
図には金属接触面7もその接続導線12と共に示されて
いる。ガスの作用によるセンサ層14の電気容量又は電
気抵抗の変化はガスセンサ2の出力信号として利用され
る。
センサ装置の特別な実施態様では、センサl114の電
気抵抗の変化又は電気容量の変化を問波数の変化に変え
ることができる。このために第3図によれば例えば非安
定マルチバイブレータ20が備えられており、その入力
側Eは例えば動作電圧U、=5.Vを印加されていても
よい。センサ2のセンサ114の電気容量の変化をaす
定するためGこ、センサ2の接続導線11及び12をマ
ルチノ<イブレータ20に接続する。その接続端子は2
2及び23で示されている。電気容置を測定するこの実
施態様では更に、別の端子24及び25の間に基本抵抗
16が装入されている。センサ2のセンサ7814の電
気容量の変化によって、マルチバイブレータ20の出力
側Aに出力電圧U2の周波数の相応する変化が得られる
電気抵抗の変化を信号として利用するこのセンサ層14
の実施態様では、マルチバイブレータ20の端子22と
23との間には基本電気容置が接続され、またセンサ2
は端子22と23との間にその接続導線11及び12で
接続されている。
電気抵抗を測定するセンサ2の実施B様では、例えばセ
ンサ層14として導電性の良好な大環状金!19体、例
えば塩化カリウム及び高分子のクローネンエーテルロー
B (15)K−5からなる錯体を電気抵抗物質として
施すことができる。例えば湿度50%の空気中エタノー
ル含有量を測定する場合、マルチバイブレータ20の出
力側Aで、エタノール濃度C2(%11)との関連にお
いて周波数r (KHz)が表されている第4図の特性
曲線に1に基づく周波数経過を得る0次に相応する測定
器をこの特性曲線に1に基づいて校正する。
電気容量としてセンサ2を操作する場合には、マルチバ
イブレータ20の周波数(KHz)がアセトン濃度Cm
  (%o)との関連において表されている第5図のグ
ラフに基づき、センサ層14として例えば次の構造式 %式% で示される置換3.3−ジフェニルフタリドを共存物質
としてのビスフェノール−A(1:4)と−緒に使用す
る。この混合物は比較的高い電気抵抗を示し、測定装置
内で誘電体として作用する。
この実施態様では例えば湿度50%の空気中アセトン含
有量を測定するための特性曲線Kgが得られる。
センサ2及びマルチバイブレータ20からなる構造単位
を有する装置は、第6図により浸漬センサとして構成す
ることもできる。この場合壁面は少なくとも一部分が図
中に破線で示されているガス透過性被膜28からなる容
器26を備えている。
ガス及び溶液中の液体を検出する光導波路技術分野で使
用される第7図に示した光学的浸漬センサの実施a様で
は、光源は32で、導線として作用する光導波路は34
で、帰線として作用する光導波路は35で、また受信機
は38で示されている0両光導波路34及び35の末端
は例えば共通の光導波路束36を構成することができ、
その自由端面にはレフレクタ30が固定されている。こ
のレフレクタは有利には支持体42を備えていてもよい
センサ層14を含む。光導波路束36の末端はレフレク
タ30とともに有利には膜として作用する被膜44を備
えていてもよい。
光源32としては例えば発光ダイオード(LED (l
ight e+*5ision diode) ) 、
有利にはレーザ、特にパルス半導体レーザを使用するこ
とができる。
光導波路34及び35はそれぞれ末端で共通のガラス繊
維束36にまとめられるガラス繊維の束からなり、この
束のうち一部は光線を通すためにまた残りの部分は反射
光線を戻すために使用される。
レフレクタ30としては有利には3,3−ジフェニルフ
タリドからなる、厚さ例えば約0.1〜0.2μmであ
ってもよい層を設けることができる。支持体42として
は有利にはプラスチック箔、特にポリエステル箔が適し
ており、その厚さは例えば約100μ鴫であってもよい
。被tl144は測定溶液46から測定すべきガス又は
測定すべき液体の電気をレフレクタ30に拡散させるこ
とのできる物質からなる。この特性を有する物質は例え
ばテドラフルオルエチレンである( B 品’t4テフ
ロン)。
センサのもう一つの別の実施態様においては、第8図に
示すように双方の光導波路34及び35を、その末端の
端面が一平面にあるように隣接して配設することができ
る。この双方の端面には、センサ層14を有するレフレ
クタ30として使用するプリズムが固定されている。図
中に一点破線で示されており、光導波路34を通る光線
48は更にその端面で2回反射した後光導波路35に戻
される9反射した光量は、ガスの作用によりレフレクタ
30の透明度又は色が変化した際、変化する。
更にその底面で双方の光導波路34皮び35の端面が直
接隣接するように固定されまたその外面がセンサ層14
を備えている円錐形のレフレクタを設けることもできる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による装置の概略平面図、第2図は第1
図の■−n線に沿ったセンサ断面図、第3図はセンサ出
力信号の変化を相応する周波数の変化に置き換えるマル
チバイブレータを示す略示図、第4図及び第5図はそれ
ぞれ抵抗変化並びに容量変化を示す曲線図、第6図、第
7図及び第8図は′浸漬センサとしての本発明装置の概
略図である。 2・・・ガスセンサ 4.5・・・光導波路 6.7・・・光導波路束 10・・・支持体 11.12・・・接続導線 14・・・センサ層 16・・・基本抵抗 20・・・非安定マルチバイブレータ 22.23・・・接続端子 24.25・・・端子 26・・・容器 28・・・ガス透過性被膜 30・・・レフレクタ 32・・・光源 34.35・・・光導波路 36・・・光導波路束 3日・・・受信機 42・・・支持体 44・・・ガス透過性被嘆 46・・・測定/8液

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)電気抵抗又は誘電率がガス又は蒸気の作用により変
    化する化学的に敏感なセンサ物質でガス又は蒸気の分圧
    を連続的に測定する装置において、抵抗として又は誘電
    体として少なくとも1個の疏水性配位子を有する金属錯
    体又は少なくとも1個の酸成分を有する少なくとも1個
    のフタリドからなる混合物を備えており、そのイオン移
    動度又はイオン濃度がガス又は蒸気の作用によって変化
    することを特徴とするガス又は蒸気分圧の連続的測定装
    置。 2)抵抗の変化又は誘電率の変化を周波数の変化に置き
    換える非安定マルチバイブレータ(20)が配設されて
    いるセンサを使用することを特徴とする請求項1記載の
    装置。 3)センサ物質が大環状金属錯体を含むことを特徴とす
    る請求項1又は2記載の装置。 4)クローネンエーテルを含むことを特徴とする請求項
    3記載の装置。 5)§−ベンゾ〔15〕クローネ−5を含むことを特徴
    とする請求項4記載の装置。 6)クリプタンデンを含むことを特徴とする請求項3記
    載の装置。 7)§−ベンゾ−クリプタンデンを含むことを特徴とす
    る請求項6記載の装置。 8)§−222_■を含むことを特徴とする請求項7記
    載の装置。 9)センサ物質が可変電荷を有する金属イオンを含むこ
    とを特徴とする請求項1ないし3の1つに記載の装置。 10)ナトリウムイオンNa^+又はカリウムイオンK
    ^+又はマグネシウムイオンMg^+^+を含むことを
    特徴とする請求項9記載の装置。 11)センサ物質が可変求核性物質の対イオンを有する
    金属錯体を含むことを特徴とする請求項1ないし3の1
    つに記載の装置。 12)塩素陰イオンCl^−又は過塩素酸隠イオンCl
    O_4^−を含むことを特徴とする請求項11記載の装
    置。 13)センサ物質が少なくとも1個のプロトン共存物質
    を含むことを特徴とする請求項1ないし12の1つに記
    載の装置。 14)ピロガロールを含むことを特徴とする請求項13
    記載の装置。 15)センサ物質が少なくとも1個の非プロトン共存物
    質を含むことを特徴とする請求項1ないし12の1つに
    記載の装置。 16)エーテル化されたポリエチレングリコールを含む
    ことを特徴とする請求項15記載の装置。 17)置換フタリドを含むことを特徴とする請求項1又
    は2記載の装置。 18)3−(N−メチル−3−インドリル)−6−ジメ
    チルアミノフタリドを含むことを特徴とする請求項17
    記載のセンサ。 19)3,3−ジフェニルフタリドを含むことを特徴と
    する請求項17記載のセンサ。 20)3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−
    6−ジメチルアミノフタリドを含むことを特徴とする請
    求項19記載のセンサ。 21)3−(p−ジメチルアミノフェニル)−3−(p
    −メトキシフェニル)−6−ジメチルアミノフタリドを
    含むことを特徴とする請求項19記載のセンサ。 22)酸化合物としてフェノール系の酸を含むことを特
    徴とする請求項1又は2記載のセンサ。 23)2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロ
    パンを含むことを特徴とする請求項22記載のセンサ。 24)ヒドロキシ−(フェニル)−ビス(p−ヒドロキ
    シフェニル)−メタンを含むことを特徴とする請求項2
    2記載のセンサ。 25)センサ物質がマトリックス物質中に組み込まれて
    いることを特徴とする請求項1ないし24の1つに記載
    の装置。 26)センサ物質が支持体(10)上に配置されている
    ことを特徴とする請求項1ないし25の1つに記載の装
    置。 27)ガス透過性の被膜(28)を備えた容器(26)
    を有する浸漬センサとして構成されていることを特徴と
    する請求項1ないし26の1つに記載の装置。 28)反射能がガス又は液体の蒸気の作用によって変化
    し、その都度光導波路を介して光源又は感知器と接続さ
    れるレフレクタを有するガス又は液体用センサにおいて
    、 a)レフレクタ(30)が疏水性金属錯体からなるか又
    は少なくとも1個のフタリドと少なくとも1個の酸化合
    物との混合物からなり、 b)レフレクタ(30)が光導波路(4、5)の自由端
    を被覆し、 c)これらの自由端面が共通の一平面に配置されており
    、 d)レフレクタ(30)及び光導波路(4、5)の端部
    がガス透過性被膜(44)で覆われており、ガス又は液
    体を含む測定溶液(46)に浸漬されるように構成され
    ている ことを特徴とする請求項27記載のレフレクタを有する
    ガス及び液体用センサ。 29)ガラスファイバ光導波路を備えていることを特徴
    とする請求項28記載のセンサ。30)ガラスファイバ
    束を有することを特徴とする請求項29記載のセンサ。 31)両方の光導波路がそれらの末端で共通の光導波路
    束(36)を形成することを特徴とする請求項30記載
    のセンサ。 32)光導波路(34、35)の端面が一平面に互いに
    並んで配置されており、レフレクタ(30)として使用
    するプリズムの底面に固定されておりかつこれがセンサ
    層(14)を備えていることを特徴とする請求項28な
    いし30の1つに記載のセンサ。 33)光導波路の端面が一平面に互いに並んで配置され
    また円錐体の底面に固定されており、円錐体がレフレク
    タとして利用されまたその外面にセンサ層(14)を備
    えていることを特徴とする請求項28ないし30の1つ
    に記載のセンサ。
JP1057677A 1988-03-14 1989-03-09 ガス又は蒸気分圧の連続測定装置 Pending JPH01274052A (ja)

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