JPH01263993A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH01263993A
JPH01263993A JP63089027A JP8902788A JPH01263993A JP H01263993 A JPH01263993 A JP H01263993A JP 63089027 A JP63089027 A JP 63089027A JP 8902788 A JP8902788 A JP 8902788A JP H01263993 A JPH01263993 A JP H01263993A
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JP
Japan
Prior art keywords
word lines
memory array
memory cells
memory
dynamic memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP63089027A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Watabe
隆夫 渡部
Ryoichi Hori
堀 陵一
Takashi Tabei
田部井 隆
Kiyoo Ito
清男 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体記憶装置に係り、特に、アクセス時間
の異なるメモリを同一チップ上に高密度に実現するのに
好適な半導体装置に関する。
〔従来の技術〕
コンピュータなどのデータ処理システムでは、一般に高
密度に集積化された半導体メモリが利用されている。半
導体メモリの代表的なものには。
ダイナミックメモリ(DRAM)と、スタティックメモ
リ (SRAM)がある。これらのうち、DRAMは、
アクセス時間は比較的遅いが、集積度が高いという特長
がある。一方、SRAMは、アクセス時間が高速である
反面、DRAMに較べて集積度は低い。このため、高速
のアクセスが必要な所にはSRAMが、低速でもよいが
集積度が高いことが必要な所にはDRAMが使われてい
る。
このように、SRAMとDRAMを混在させて用いるシ
ステムでは、SRAMとDRAMが各々別のチップ上に
形成されるため、実装密度を高くすることが困難である
という欠点があった。
以上述べたDRAMとSRAMの特長については、例え
ば電子情報通信学会編、オーム社発行、rLSIハンド
ブック」の第3章に述べられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、SRAMとDRAMなど、アクセス時
間の異なるメモリを高密度に同一チップ上に実現するこ
とにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、DRAMやSRAMなどアクセス時間の異
なるメモリを、ワード線を共用して同一チップ上に形成
することにより達成される。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図のブロック図により説
明する。第1図は、ダイナミックメモリセルを配列した
ダイナミックメモリアレーと、スタティックメモリセル
を配列したスタティックメモリアレーを同一のチップ上
に配置し、ダイナミックメモリアレーのワード線の一部
をスタティックメモリアレーのワード線と共用した実施
例のブロック図である。M−DはNDビットのダイナミ
ックメモリアレーM−8はNSビットのスタティックメ
モリアレーであり各々のアレーにおいてワード線とデー
タ線が交差配列され、ND個、N3個のメモリセルが配
置されている。X選択回路3とY選択回路2には、各々
アドレス人力x1〜xo。
Yl〜Y、が入力され、これによりメモリセルを選択す
る。入出力回路4は選択したメモリへの情報の書き込み
、あるいは読み出しを行なう回路であり、入出力制御回
路1には、チップセレクト信号C8,書き込み信号WE
が入力され、情報の書き込み、読み出し動作を切り換え
たり、他の回路の動作タイミングを制御する。本実施例
の特徴は、ダイナミックメモリアレーM−Dと、スタテ
ィックメモリアレーM−8のワード線を一部共用してい
る点である。この点を明らかにするために第1図では、
アレー中のワード線のうち、4本と、データ線を1対ず
つ示し、それらに配置されるメモリセルを示しである。
ワード線を共用した場合には、ワード線を駆動する回路
も共用できるため、共用しない場合に較べて周辺回路の
回路数が少なくて済むという利点がある。したがってチ
ップサイズを小さくすることができ、実装時に高密度化
を図ることができる。
ところで、一般にダイナミックメモリセルは、スタティ
ックメモリセルに較べて占有面積が小さく、ワード線の
間隔、すなわちワード線ピッチを小さくすることができ
る。スタティックメモリアレーとダイナミックメモリア
レーのワード線を共用する場合にすべてのワード線を共
用しようとすると両者のワード線ピッチが異なるのでピ
ッチの大きいスタティックメモリアレーのワード線ピッ
チにそろえてダイナミックメモリセルを配置する必要が
ある。このようにすると、ダイナミックメモリアレー中
に配置できるメモリセルの数が最小のワード線ピッチと
した場合に較べて少なくなり、使用するシステムによっ
ては十分な情報量をたくねえることができない場合があ
る。そのときには、ダイナミックメモリアレーのワード
線のに本に1本をスタティックメモリアレーのワード線
と共用すればよい6すなわち、上記kをダイナミックメ
モリセルのワード線ピッチの最小値と、スタティックメ
モリセルのワード線ピッチの最小値の比にできるだけ近
い値に選ぶことにより、集積度の損失を最小限にするこ
とができる。
k=3とした場合の例を第1図に示した。第1図におい
てワード線W1とW4はダイナミックメモリアレーM−
DとスタティックメモリアレーM−8に共用しているが
、ワード線W2とW3はダイナミックメモリアレーM−
Dのみに配置している。したがってワード線のピッチを
比較すると、ダイナミックメモリアレーでは、スタティ
ックメモリアレーの1/3になることがわかる。このよ
うにすれば両者のワード線ピッチが異なる場合でも、集
積度の損失を最小限に押えることができる。
以上のように1本実施例によれば、ダイナミックメモリ
アレーとスタティックメモリアレーを同一チップ上に配
置し、ダイナミックメモリアレーのワード線の少なくと
も一部をスタティックメモリアレーのワード線と共用す
ることによってアクセス時間の異なるメモリを同一チッ
プ上に高密度に実現することができる。なお1本実施例
では。
に=3の場合を示したが、これに限定されることなく、
ワード線ピッチに合わせてkを別の値に選ぶことができ
るのはもちろんである。
なお、メモリセルとしては1通常のDRAM、あるいは
SRAMに用いられているものを使用できることはもち
ろんで、例えば、ダイナミックメモリセルとしては、第
2図に示したような、MOSトランジスタMと、キャパ
シタCsから成るものを用い、スタティックメモリセル
としては、第3図に示したように、抵抗R1,R2とM
OSトランジスタM1〜M4より成るメモリセルを用い
ればよい。
なお、ここでは省略するが、周辺回路についても通常S
RAMあるいはDRAMに用いられているものを用いる
ことができる。
以上説明してきた実施例では、共用したワード線に接続
されたスタティックメモリセルとダイナミックメモリセ
ルから、−回の読み出し動作で両者の情報を読み出すこ
とが可能である。
第4図は、両者から読み出した情報を、別々の出力ピン
から取り出すようにした場合の波形図を示したものであ
る。チップセレクト信号τ丁が入力され、第1図に示し
た半導体記憶装置が選択され、アドレス信号ADRの入
力により第1図のダイナミックメモリセルCDIとスタ
ティックメモリセルC5Iが選択されたとする。このと
き、CDIからの読み出し信号DODは、CD2からの
信号DO8より遅れて出力され、第1図のようなタイミ
ングとなる。このように共用されたワード線については
一回の読み出し動作でアクセスの異なるダイナミックメ
モリセルとスタティックメモリセルの信号を別々にとり
出すことができる。
ところで、第1図の半導体記憶装置を収めるパッケージ
によっては、ピン数の制約から、信号DODとDO8を
別のピンから取り出すのが困難となる場合がある。その
場合には、第5図に示したように、信号DODとDO8
を同一のピンから取り出せばよい。この場合には、信号
τ丁入力後、スタティックメモリアレーのアクセス時間
が経つと。
まずスタティックメモリセルC8−1からの読出し信号
が出力され、その後同じピンから、CD−1からの信号
が出力される。
第5図では、C8−1からの信号がLI Oj″(Lo
w)でCD−1からの信号が’ 1 ”  (High
)の場合を示した。スタティックメモリアレーのアクセ
ス時間とダイナミックメモリアレーのアクセス時間の差
を利用してこれらの情報をシステム側に取り込むのは容
易である。
これまでは、ダイナミックメモリアレーM−Dとスタテ
ックメモリアレーM−5からの信号を一回の読み出し動
作で両方出力する例を示した。しかし、場合によっては
、Xアドレスにより共用したワード線を選択した場合に
も、M−DとM−8からの読み出し信号のどちらか一方
のみが出力される方がよい場合もある。その場合には、
M−DとM−8とでYアドレスを変えればよい。例えば
アドレス信号Y1が“1”(High)のときはDOD
内のメモリセルのみが、YlがLd Q 1+  (L
 Ow)のときはDO8内のメモリセルのみが選択され
るようにすればよい。
第6図、第7図はこの場合の波形の一実施例を示したも
ので、第6図ではYLが“1”のためDODのみが出力
され、第7図ではYlがIZ O#のためDO8のみが
出力されている。このようにすれば、システム側から見
るとアクセスの異なる独立のメモリが1チツプ内にある
ことになり、すでに別個のDRAMとSRAMで構成さ
れたシステムに応用する場合などでは、置き換えが容易
である。この場合にも信号DODとDO3を同一のピン
から出力してもよいし別々のピンから取り出してもよい
ことはもちろんである。
以上、本発明の実施例をダイナミックメモリアレーとス
タティックメモリアレーを同一チップ上に配置する例に
ついて説明し、出力形態についてもいくつかの例を示し
た。しかし、本発明はこれに限定されることなく種々変
形が可能なのはもちろんである。例えば、第1図では、
スタティックメモリアレーとダイナミックメモリアレー
を1つずつ用いたが、これに限らず複数個を組合せるこ
ともできる。又、第1図に示したブロックどうしの位置
関係についても図面上の位置は、実際のチップ上の配置
を限定するものではない。例えば、第1図では、ダイナ
ミックメモリアレーM−DをX選択回路3の近くに配置
しているが、実際には逆にしてもよい。ワード線の抵抗
遅延を考慮するとX選択回路3に近い方がアクセス時間
の損失が小さい。したがってM−Dのアクセス時間を速
くしたい場合にはM−Dを、M−8のアクセス時間を速
くしたい場合にはM−3をX選択回路の近くに配置すれ
ばよい。
さらに、ここでは、アクセス時間の異なるメモリとして
SRAMとDRAMを用いたが、これに限定されること
もない。たとえば、M−8のかわりにダイナミックメモ
リアレーを用いることもできる。この場合には、ワード
線の遅延の分だけアクセス時間に差を作ることができる
。この場合は両者のワード線ピッチが等しくできるため
、すべてのワード線を共用してもよい。又、これまでは
共用するワード線は一方のアレーから他方へそのまま延
長して用いたが、両者のアクセス時間の差を制御したり
、波形成形を行なう必要のある場合には、アレー間に遅
延回路もしくは波形成形用の駆動回路を設けてもよいこ
とはもちろんである。
さらにDRAMで広く用いられているアドレスマルチプ
レックス方式によりピン数を少なくしたり、入出力イン
タフェースとしてTTL、ECLもしくはそれらの組合
せなど種々の変形、応用が可能なことはもちろんである
〔発明の効果〕
以上説明してきたように本発明では、アクセスの異なる
メモリアレーを同一チップ上に配置し、ワード線の少な
くとも一部をそれらのメモリで共用化した。これにより
、アクセスの異なるメモリアレーを同一のチップ上に高
密度に配置でき、コンピュータなどのデータ処理システ
ムにおける実装密度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である半導体装置のブロック
図、第2図はダイナミックメモリセルの回路図、第3図
はスタティックメモリセルの回路図、第4図〜第7図は
本発明の実施例におけるメモリ装置の信号タイミング図
である。 M −D−゛・ダイナミックメモリアレー、M−8・・
・スタティックメモリアレー、CD1〜CD4.CDi
・・・ダイナミックメモリセル、C81〜C84゜C3
i・・・スタティックメモリセル、1・・・入出力制御
回路、2・・・Y選択回路、3・・・X選択回路、4・
・・入出力回路、DOD・・・ダイナミックメモリアレ
ーからの読出し信号、DO8・・・スタテックメモリア
レーからの読出し信号。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、アクセス時間の異なる複数のメモリアレーから成る
    半導体記憶装置において、上記メモリアレーのうち、少
    なくとも1個のメモリアレーのアクセス時間が、他のメ
    モリアレーのうち少なくとも1個のメモリアレーのアク
    セス時間と異なる値をもち、上記メモリアレーのうち少
    なくとも2個のメモリアレーのワード線を少なくとも1
    本以上共用したことを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記第1項において、上記メモリアレーのうち少な
    くとも1個がスタティックメモリセルより構成され、少
    なくとも他の1個がダイナミックメモリセルより構成さ
    れた半導体記憶装置。
JP63089027A 1988-04-13 1988-04-13 半導体記憶装置 Pending JPH01263993A (ja)

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JP63089027A JPH01263993A (ja) 1988-04-13 1988-04-13 半導体記憶装置

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JP63089027A JPH01263993A (ja) 1988-04-13 1988-04-13 半導体記憶装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5603009A (en) * 1990-12-25 1997-02-11 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device including a data transfer circuit for transferring data between a DRAM and an SRAM
US6333873B1 (en) 1991-02-07 2001-12-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device with an internal voltage generating circuit

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US6434661B1 (en) 1990-12-25 2002-08-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Synchronous semiconductor memory including register for storing data input and output mode information
US6333873B1 (en) 1991-02-07 2001-12-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device with an internal voltage generating circuit

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