JPH01263186A - アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 - Google Patents
アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物Info
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- JPH01263186A JPH01263186A JP63092985A JP9298588A JPH01263186A JP H01263186 A JPH01263186 A JP H01263186A JP 63092985 A JP63092985 A JP 63092985A JP 9298588 A JP9298588 A JP 9298588A JP H01263186 A JPH01263186 A JP H01263186A
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はアルミニウム(以下アルミと略する〉磁気ディ
スクを迅速且つ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
クの研磨用組成物に係り、特にアルミサブストレートの
研磨において研磨速度が高く、且つサブストレートの縁
だれが非常に小さい弱アルカリ性の研磨用組成物に関す
るものである。
スクを迅速且つ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
クの研磨用組成物に係り、特にアルミサブストレートの
研磨において研磨速度が高く、且つサブストレートの縁
だれが非常に小さい弱アルカリ性の研磨用組成物に関す
るものである。
従来の技術
本発明者らは先にアルミサブストレートの研磨に好適な
弱アルカリ性の研磨用組成物について特許出願した(特
願昭62−275845号)。その内容は水とアルミナ
研磨材粉末及びトリエタノールアミンカルボン酸塩とト
リエタノールアミン塩酸塩の研磨促進剤からなる研磨用
組成物であり、この研磨用組成物はオレンジピールがな
く、突起・ピットの少ない、そしてうねりの小さい高精
度なりL面が得られるという特徴を有している。
弱アルカリ性の研磨用組成物について特許出願した(特
願昭62−275845号)。その内容は水とアルミナ
研磨材粉末及びトリエタノールアミンカルボン酸塩とト
リエタノールアミン塩酸塩の研磨促進剤からなる研磨用
組成物であり、この研磨用組成物はオレンジピールがな
く、突起・ピットの少ない、そしてうねりの小さい高精
度なりL面が得られるという特徴を有している。
しかし、アルミ磁気ディスクの高密度化への要求は益々
強くなって来ており、そのために最近は特にサブストレ
ートの周辺の縁だれを小さくする研磨用組成物が求めら
れている。即ち、縁だれを出来るだけ小さくして有効面
積を広げることによって記憶容量をアップしようという
ものである。
強くなって来ており、そのために最近は特にサブストレ
ートの周辺の縁だれを小さくする研磨用組成物が求めら
れている。即ち、縁だれを出来るだけ小さくして有効面
積を広げることによって記憶容量をアップしようという
ものである。
前記出願の研磨用組成物においても充分に実用的ではあ
るものの、その特徴を保持しつつ、より縁だれの小さい
且つ研磨能率の高い優れた研磨用組成物に対する要求が
ある。
るものの、その特徴を保持しつつ、より縁だれの小さい
且つ研磨能率の高い優れた研磨用組成物に対する要求が
ある。
本発明はこの要求に応える前記出願の研磨用組成物のよ
り高精度化のための改良に関し、更に詳述すれば、縁だ
れと研磨能率が従来より遥かに優加工物の縁だれに関係
する因子としては研磨用組成物の他に研磨機械、研磨パ
ッド、研磨条件などがあるが、これら他の条件を一定と
して、研磨用組成物のみに着目してみると、より高速度
で研磨する程、即ち研磨速度の大きい研磨組成物中、そ
して研磨面全体に均一に作用する程、即ちアルミナ研磨
材が研磨パッド上でよく保持される研磨組成物程縁だれ
が小さ(なるものと考えられる。
り高精度化のための改良に関し、更に詳述すれば、縁だ
れと研磨能率が従来より遥かに優加工物の縁だれに関係
する因子としては研磨用組成物の他に研磨機械、研磨パ
ッド、研磨条件などがあるが、これら他の条件を一定と
して、研磨用組成物のみに着目してみると、より高速度
で研磨する程、即ち研磨速度の大きい研磨組成物中、そ
して研磨面全体に均一に作用する程、即ちアルミナ研磨
材が研磨パッド上でよく保持される研磨組成物程縁だれ
が小さ(なるものと考えられる。
しかし、前記出願のトリエタノールアミンカルボン酸塩
とトリエタノールアミン塩酸塩の研磨促進剤の組み合せ
だけでは限界があるため、第二酸11添加によって解決
を図ることを考えた。このため前記出願の研磨用組成物
に無機と有機のアルミニウム化合物を加えてアルミサブ
ストレートの研究を行なった所詣肪酸アルミニウム、望
ましくは高級脂肪酸アルミニウムの添加が最も効果の高
いことを見出し、本発明を完成させた。即ち本発明はア
ルミナ研磨材粉末とトリエタノールアミンカルボン酸塩
とトリエタノールアミン塩酸塩と脂肪酸アルミニウムの
研磨促進剤と水からなるアルミ磁気ディスクの研磨用組
成物である。
とトリエタノールアミン塩酸塩の研磨促進剤の組み合せ
だけでは限界があるため、第二酸11添加によって解決
を図ることを考えた。このため前記出願の研磨用組成物
に無機と有機のアルミニウム化合物を加えてアルミサブ
ストレートの研究を行なった所詣肪酸アルミニウム、望
ましくは高級脂肪酸アルミニウムの添加が最も効果の高
いことを見出し、本発明を完成させた。即ち本発明はア
ルミナ研磨材粉末とトリエタノールアミンカルボン酸塩
とトリエタノールアミン塩酸塩と脂肪酸アルミニウムの
研磨促進剤と水からなるアルミ磁気ディスクの研磨用組
成物である。
以下、本発明を詳しく述べる。
脂肪酸アルミニウムとしてステアリン酸アルミニウムの
場合を例にとり説明するとステアリン酸アルミニウムは
第1図に示す様に添加量に比例して研磨速度の増加をも
たらすが、0.25重量%以上ではその増加の割合は小
さくなるので実際の使用に当っての好ましい濃度は0.
03〜0.25重量%である。但し、研磨用組成物とし
ては原液の濃度を高くして、研磨能率や要求品質に対応
して原液のままから6倍程度迄希釈して使い分けるのが
普通であり(第1図のデータは全て原液を6倍に希釈し
て研磨した時のものである)、従って原液としては希釈
する場合を見込んで0.25重量%の6倍の1.5重量
%迄が適当である。又、ステアリン酸アルミニウムは粘
度を増大させる性質があり、1.5重量%を超えると必
要以上に粘度が増大して取扱いが困難となるばかりでな
く、面粗さなどに悪影響を及ぼすことからt、5im%
以下が好ましい。
場合を例にとり説明するとステアリン酸アルミニウムは
第1図に示す様に添加量に比例して研磨速度の増加をも
たらすが、0.25重量%以上ではその増加の割合は小
さくなるので実際の使用に当っての好ましい濃度は0.
03〜0.25重量%である。但し、研磨用組成物とし
ては原液の濃度を高くして、研磨能率や要求品質に対応
して原液のままから6倍程度迄希釈して使い分けるのが
普通であり(第1図のデータは全て原液を6倍に希釈し
て研磨した時のものである)、従って原液としては希釈
する場合を見込んで0.25重量%の6倍の1.5重量
%迄が適当である。又、ステアリン酸アルミニウムは粘
度を増大させる性質があり、1.5重量%を超えると必
要以上に粘度が増大して取扱いが困難となるばかりでな
く、面粗さなどに悪影響を及ぼすことからt、5im%
以下が好ましい。
脂肪酸アルミニウムは炭素数が5以上の脂肪酸アルミニ
ウムがよ(、さらに望ましくはステアリン酸アルミニウ
ムやバルミチン酸アルミニウムのような高級脂肪酸アル
ミニウムである。
ウムがよ(、さらに望ましくはステアリン酸アルミニウ
ムやバルミチン酸アルミニウムのような高級脂肪酸アル
ミニウムである。
トリエタノールアミンカルボン酸塩とトリエタノールア
ミン塩酸塩の研磨組成物中に占める合計の割合は特願昭
62−275845号に詳述した如く、研磨能率を上げ
且つ突起やピットの発生を少なくするために0.1〜5
重量%が好ましい。勿論実際の研磨に当っては前述の様
に原液でもあるいは2〜6倍程度迄希釈して使用しても
差支えない。
ミン塩酸塩の研磨組成物中に占める合計の割合は特願昭
62−275845号に詳述した如く、研磨能率を上げ
且つ突起やピットの発生を少なくするために0.1〜5
重量%が好ましい。勿論実際の研磨に当っては前述の様
に原液でもあるいは2〜6倍程度迄希釈して使用しても
差支えない。
アルミナ研磨材粉末も同様に特願昭62−275845
号に詳述した如く、研磨能率を上げ、且つスクラッチを
押えて表面粗さを小さくするために研磨用組成物中(原
液)に占める割合は1〜25重二%重機ましく、平均粒
径は0.5〜10趨が好ましい。
号に詳述した如く、研磨能率を上げ、且つスクラッチを
押えて表面粗さを小さくするために研磨用組成物中(原
液)に占める割合は1〜25重二%重機ましく、平均粒
径は0.5〜10趨が好ましい。
作 用
本発明において、ステアリン酸アルミニウムは特に研磨
促進と研磨面の縁だれを小さくする働きがあり、その作
用は次の様に考えられる。
促進と研磨面の縁だれを小さくする働きがあり、その作
用は次の様に考えられる。
(イ)脂肪酸アルミニウムそのものが活性でアルミサブ
ストレートに対する化学作用を有する。即ち、ケミカル
研磨効果を促進する。
ストレートに対する化学作用を有する。即ち、ケミカル
研磨効果を促進する。
0)脂肪酸アルミニウムは研磨用組成物の粘性を増大し
、このため多孔構造をした研磨パ・ソド表面でのアルミ
ナ研磨材の保持力が良くなり、研磨速度を高めると同時
に研磨面全体に均一に作用する。
、このため多孔構造をした研磨パ・ソド表面でのアルミ
ナ研磨材の保持力が良くなり、研磨速度を高めると同時
に研磨面全体に均一に作用する。
以上二つの効果の相乗作用により研磨速度の増加と研磨
面の縁だれ減少をもたらすものと考えられる。
面の縁だれ減少をもたらすものと考えられる。
実施例
次に、実施例により、本発明を更に詳しく説明する。以
下の実施例における研磨特性は、次の様な研磨試験で評
価した。研磨は4ウ工イ式の両面ポリシングマシン(定
盤径φ840+u)を使用し、定盤にはスェードタイプ
のパッド(千代田■製D’Lex 25−3)を貼りつ
け、3,5インチのアルミサブストレート10枚を6分
間研磨する。研磨条件は、下定盤回転数: BOrpt
s、加工圧カニ 100g/ cJ、スラリー供給ji
: 150m1/sin、である。研磨後アルミサブ
ストレートを洗浄、乾燥し、重量減から研磨速度を求め
る。表面は微分干渉顕微鏡及びlO万ルクス スポット
ライトで観察し、突起。
下の実施例における研磨特性は、次の様な研磨試験で評
価した。研磨は4ウ工イ式の両面ポリシングマシン(定
盤径φ840+u)を使用し、定盤にはスェードタイプ
のパッド(千代田■製D’Lex 25−3)を貼りつ
け、3,5インチのアルミサブストレート10枚を6分
間研磨する。研磨条件は、下定盤回転数: BOrpt
s、加工圧カニ 100g/ cJ、スラリー供給ji
: 150m1/sin、である。研磨後アルミサブ
ストレートを洗浄、乾燥し、重量減から研磨速度を求め
る。表面は微分干渉顕微鏡及びlO万ルクス スポット
ライトで観察し、突起。
ビット、スクラッチなどの度合を判定する。又表面粗さ
はランクテーラーホブソン社製のタリステップとタリデ
ータ2000で測定する。縁だれは■東京精密製の表面
粗さ形状n1定機サーフコム558Aを用いて第2図に
示す様な断面形状を得、第2図のLの長さをもって縁だ
れとする。
はランクテーラーホブソン社製のタリステップとタリデ
ータ2000で測定する。縁だれは■東京精密製の表面
粗さ形状n1定機サーフコム558Aを用いて第2図に
示す様な断面形状を得、第2図のLの長さをもって縁だ
れとする。
〔比較例1〕
平均粒径2.3pのアルミナ粉末を22重量%含有する
スラリーに、トリエタノールアミンカルボン酸塩とトリ
エタノールアミン塩酸塩を両者の重量比率をO40:
0.18に保って、この両者の合計の組成物中に占める
割合が1.275重量%になる様に溶解した後炭酸ソー
ダを0.15ffi量%添加して比較用の研磨用組成物
を得た。
スラリーに、トリエタノールアミンカルボン酸塩とトリ
エタノールアミン塩酸塩を両者の重量比率をO40:
0.18に保って、この両者の合計の組成物中に占める
割合が1.275重量%になる様に溶解した後炭酸ソー
ダを0.15ffi量%添加して比較用の研磨用組成物
を得た。
この研磨用組成物を容量比で正確に6倍に希釈して研磨
試験を実施した。試験の結果を第1表の比較品の欄に示
す。
試験を実施した。試験の結果を第1表の比較品の欄に示
す。
〔実施例1〜5〕
比較例1で得た研磨用組成物にステアリン酸アルミニウ
ム(AΩ 〔CH3(CH2)loCOO〕3)を重量
%で0.1B、 0.30.0.4g、 0.72.1
.5になる様に溶解し、本発明の研磨用組成物を得た。
ム(AΩ 〔CH3(CH2)loCOO〕3)を重量
%で0.1B、 0.30.0.4g、 0.72.1
.5になる様に溶解し、本発明の研磨用組成物を得た。
なお、ステアリン酸アルミニウムは水への溶解度が殆ん
どないので、トリエタノールアミンカルボン酸塩とトリ
エタノールアミン塩酸塩の混合溶液に溶解させた後組成
物に添加した。この時トリエタノールアミンカルボン酸
塩とトリエタノールアミン塩酸塩の合計の組成物中に占
める割合は比較例1と同一の1.275重量%になる様
にPめ調整をした。これらの研磨用組成物をそれぞれ純
水で容量比で正確に6倍に希釈して、研磨試験を実施し
た。試験の結果を第1表の発明品の欄に示す。
どないので、トリエタノールアミンカルボン酸塩とトリ
エタノールアミン塩酸塩の混合溶液に溶解させた後組成
物に添加した。この時トリエタノールアミンカルボン酸
塩とトリエタノールアミン塩酸塩の合計の組成物中に占
める割合は比較例1と同一の1.275重量%になる様
にPめ調整をした。これらの研磨用組成物をそれぞれ純
水で容量比で正確に6倍に希釈して、研磨試験を実施し
た。試験の結果を第1表の発明品の欄に示す。
〔比較例2〕
比較例1で得た研磨用組成物に硝酸アルミニウム(Al
(No > ・9H20)を重量%で0.4
8になる様に溶解し、比較用の研磨用組成物を得た。こ
の研磨用組成物を純水で容量比で正確に6倍に希釈して
研磨試験を実施した。試験の結果を第1表の比較品の欄
に示す。
(No > ・9H20)を重量%で0.4
8になる様に溶解し、比較用の研磨用組成物を得た。こ
の研磨用組成物を純水で容量比で正確に6倍に希釈して
研磨試験を実施した。試験の結果を第1表の比較品の欄
に示す。
〔比較例3〕
比較例2の硝酸アルミニウムに代えて硫酸アルミニウム
(AI (S04)3II18H20)を用い全く同
様にして研磨用組成物を得、研磨試験を実施した。試験
の結果を第1表の比較品の欄に示す。
(AI (S04)3II18H20)を用い全く同
様にして研磨用組成物を得、研磨試験を実施した。試験
の結果を第1表の比較品の欄に示す。
第1表によれば、本発明によるステアリン酸アルミニウ
ムを添加したものは無添加のものと比較して研磨速度は
約1.5倍に増大し、縁だれは172以下に小さくなっ
ており、又、うねりもやや小さくなるなど著しい性能向
上のあることを示している。ステアリン酸アルミニウム
の濃度は、総合的に評価してみれば研磨時においてo、
tmi%前後が最も好ましいことが分る。表面粗さは無
添加のものに比較してやや粗くなる傾向にあるが、通常
必要とされる品質は2000Å以下であり実用上全く問
題とならない。
ムを添加したものは無添加のものと比較して研磨速度は
約1.5倍に増大し、縁だれは172以下に小さくなっ
ており、又、うねりもやや小さくなるなど著しい性能向
上のあることを示している。ステアリン酸アルミニウム
の濃度は、総合的に評価してみれば研磨時においてo、
tmi%前後が最も好ましいことが分る。表面粗さは無
添加のものに比較してやや粗くなる傾向にあるが、通常
必要とされる品質は2000Å以下であり実用上全く問
題とならない。
比較例2及び3の硝酸アルミニウム及び硫酸アルミニウ
ムは従来の無添加品と比較して殆んど研層性能に差がな
く、ステアリン酸アルミニウムの様な添加効果のないこ
とを示している。
ムは従来の無添加品と比較して殆んど研層性能に差がな
く、ステアリン酸アルミニウムの様な添加効果のないこ
とを示している。
(以下余白)
効 果
アルミナ研磨材粉末及びトリエタノールアミンカルボン
酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩とステアリン酸アル
ミニウムの研磨促進剤からなる本発明による研磨用組成
物は、ステアリン酸アルミニウムを含有しない組成物に
比較して、イ)研磨速度が著しく向上する 口)加工面の縁だれが著しく小さくなるハ)うねりが小
さくなる などの効果があり、且つ 二)機械に対する腐蝕性が少ない ホ)人体に対する有害性が少ない という点でも効果的である。
酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩とステアリン酸アル
ミニウムの研磨促進剤からなる本発明による研磨用組成
物は、ステアリン酸アルミニウムを含有しない組成物に
比較して、イ)研磨速度が著しく向上する 口)加工面の縁だれが著しく小さくなるハ)うねりが小
さくなる などの効果があり、且つ 二)機械に対する腐蝕性が少ない ホ)人体に対する有害性が少ない という点でも効果的である。
第1図はステアリン酸アルミニウムの濃度と研磨速度の
関係を示すグラフである。 第2図は表面粗さ形状4pJ定機によるアルミサブスト
レートの加工面の断面形状の1部拡大図である。 1・・・アルミサブストレート 第1図
関係を示すグラフである。 第2図は表面粗さ形状4pJ定機によるアルミサブスト
レートの加工面の断面形状の1部拡大図である。 1・・・アルミサブストレート 第1図
Claims (4)
- (1)水とアルミナ研磨材粉末及びトリエタノールアミ
ンカルボン酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩と脂肪酸
アルミニウムの研磨促進剤からなる弱アルカリ性のアル
ミニウム磁気ディスク研磨用組成物。 - (2)トリエタノールカルボン酸塩とトリエタノールア
ミン塩酸塩の組成物中に占める割合が合計で0.1〜5
重量%である特許請求の範囲第1項記載のアルミニウム
磁気ディスク研磨用組成物。 - (3)脂肪酸アルミニウムの組成物中に占める割合が1
.5重量%以下である特許請求の範囲第1項又は第2項
記載のアルミニウム磁気ディスク研磨用組成物。 - (4)アルミナ研磨材粉末の組成物中に占める割合が1
〜25重量%であり、平均粒子径が0.5〜10μmで
ある特許請求の範囲第1項又は第2項又は第3項記載の
アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63092985A JPH01263186A (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP63092985A JPH01263186A (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH01263186A true JPH01263186A (ja) | 1989-10-19 |
Family
ID=14069670
Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH01263186A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6258140B1 (en) | 1999-09-27 | 2001-07-10 | Fujimi America Inc. | Polishing composition |
JP2002020732A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-23 | Showa Denko Kk | 研磨用組成物 |
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-
1988
- 1988-04-15 JP JP63092985A patent/JPH01263186A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000000567A1 (en) * | 1998-06-26 | 2000-01-06 | Cabot Microelectronics Corporation | Chemical mechanical polishing slurry useful for copper/tantalum substrate |
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GB2354525B (en) * | 1999-09-27 | 2003-10-22 | Fujimi America Inc | Polishing composition |
US6488729B1 (en) | 1999-09-30 | 2002-12-03 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and method |
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JP2002020732A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-23 | Showa Denko Kk | 研磨用組成物 |
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