JPH0125477Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0125477Y2 JPH0125477Y2 JP1983095963U JP9596383U JPH0125477Y2 JP H0125477 Y2 JPH0125477 Y2 JP H0125477Y2 JP 1983095963 U JP1983095963 U JP 1983095963U JP 9596383 U JP9596383 U JP 9596383U JP H0125477 Y2 JPH0125477 Y2 JP H0125477Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- trap
- furnace body
- hole
- valve
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、試料台近傍にトラツプを配置し、該
トラツプを伝導棒を介して冷却することにより汚
染物質をとらえ試料の汚染を防止する電子顕微鏡
等の汚染防止装置に関する。
トラツプを伝導棒を介して冷却することにより汚
染物質をとらえ試料の汚染を防止する電子顕微鏡
等の汚染防止装置に関する。
従来から知られているこの種の装置の構成は第
1図及び第2図で示される。両図において、1は
内部に液体窒素2が入れられた窒素容器で、複数
の絶縁柱3を用いて外部容器4内に支持されてい
る。該外部容器4の下部開口には、一端が試料室
5の外壁面6にねじ7を用いて固着されたシール
用連結パイプ8が挿入され、ねじ9によつて固着
されている。10は一端にトラツプ11が取付け
られた伝導棒、12は中間の貫通穴にコイル状の
ヒータ13が収納された炉体で、共に連結パイプ
8内に挿通されており、伝導棒10の炉体12へ
の固定及び炉体12の窒素容器1への固定は、同
一のねじ14によつてなされている。前記ヒータ
13の炉体12部分の絶縁端子15に接続された
リード線16は、外部取出用端子17を介して、
外部リード線18に電気的に接続される。この外
部取出用端子17は、取付台19に固着されてお
り、更に取付台19が連結パイプ8に取付けられ
ている。尚、連結パイプ8と外部容器4、試料室
5の外壁面6、取付台19等との接合面は全てO
リング等によつてシールされており、連結パイプ
8内及び外部容器4内は、試料室5内と同一の空
間を形成し、通常は真空に保たれる。
1図及び第2図で示される。両図において、1は
内部に液体窒素2が入れられた窒素容器で、複数
の絶縁柱3を用いて外部容器4内に支持されてい
る。該外部容器4の下部開口には、一端が試料室
5の外壁面6にねじ7を用いて固着されたシール
用連結パイプ8が挿入され、ねじ9によつて固着
されている。10は一端にトラツプ11が取付け
られた伝導棒、12は中間の貫通穴にコイル状の
ヒータ13が収納された炉体で、共に連結パイプ
8内に挿通されており、伝導棒10の炉体12へ
の固定及び炉体12の窒素容器1への固定は、同
一のねじ14によつてなされている。前記ヒータ
13の炉体12部分の絶縁端子15に接続された
リード線16は、外部取出用端子17を介して、
外部リード線18に電気的に接続される。この外
部取出用端子17は、取付台19に固着されてお
り、更に取付台19が連結パイプ8に取付けられ
ている。尚、連結パイプ8と外部容器4、試料室
5の外壁面6、取付台19等との接合面は全てO
リング等によつてシールされており、連結パイプ
8内及び外部容器4内は、試料室5内と同一の空
間を形成し、通常は真空に保たれる。
ところで、試料の汚染防止は、伝導棒10及び
炉体12を介して、窒素容器1によりトラツプ1
1を冷却することで行うことになるが、上記の如
き構成の場合、試料室5内を室温まで昇温させる
と、ヒータ13からガスが発生し、このガスが試
料室5内に拡散し、汚染防止装置自体が清浄な真
空内を汚染するという問題がある。
炉体12を介して、窒素容器1によりトラツプ1
1を冷却することで行うことになるが、上記の如
き構成の場合、試料室5内を室温まで昇温させる
と、ヒータ13からガスが発生し、このガスが試
料室5内に拡散し、汚染防止装置自体が清浄な真
空内を汚染するという問題がある。
本考案は、この問題に鑑みてなされたもので、
その目的は、ヒータによる試料室内の汚染という
事態の発生を阻止できる汚染防止装置を提供する
ことにある。
その目的は、ヒータによる試料室内の汚染という
事態の発生を阻止できる汚染防止装置を提供する
ことにある。
この目的を達成する本考案は、試料台近傍にト
ラツプを配置し、該トラツプを伝導棒を介して冷
却することにより汚染物質をとらえ試料の汚染を
防止する電子顕微鏡等の汚染防止装置において、
前記伝導棒に熱的に連結するように炉体を設け、
該炉体に試料室内部空間と仕切られ且つ弁を介し
て大気側に連通する穴を穿設し、該穴内に、前記
トラツプを昇温させる場合に使用するヒータを配
置すると共に、前記弁として、前記穴を大気側か
ら閉鎖する向きにスプリングにより押圧されたも
のを用いたことを特徴とするものである。
ラツプを配置し、該トラツプを伝導棒を介して冷
却することにより汚染物質をとらえ試料の汚染を
防止する電子顕微鏡等の汚染防止装置において、
前記伝導棒に熱的に連結するように炉体を設け、
該炉体に試料室内部空間と仕切られ且つ弁を介し
て大気側に連通する穴を穿設し、該穴内に、前記
トラツプを昇温させる場合に使用するヒータを配
置すると共に、前記弁として、前記穴を大気側か
ら閉鎖する向きにスプリングにより押圧されたも
のを用いたことを特徴とするものである。
以下、図面を参照し本考案を詳細に説明する。
第3図は本考案の一実施例を示す構成図であ
る。図において、31は内部に液体窒素32が入
れられた窒素容器で、その外部底面には伝導棒3
3の基端部が溶接により固着されている。該伝導
棒33は単一の部材で形成してもよいが、窒素容
器31との接合面積を広くとるために、広い接合
用平面を有した板材で基端部を構成し、他を棒材
で構成してもよい。この実施例では、上述の2部
材から成るものを図示した。伝導棒33の先端部
はヒートコンダクタ34を介してトラツプ35に
連結され、基端部には炉体36を収納するための
穴が中心軸にそつて穿設されている。この炉体3
6はヒータ37収納用の穴が穿設された有底円筒
状のもので、前記伝導棒33の穴に着脱可能に嵌
入され、且つ該ヒータ37収納用穴が開口する端
部はベローズ38を介して円筒状支持部材39の
小円筒部先端に同軸的に連結されている。この連
結は耐真空溶接によつてなされる。尚、伝導棒3
3の穴33aは空気穴である。40は外部容器
で、前記窒素容器31、伝導棒33及び炉体36
を覆うものである。この外部容器40の下部に設
けられたフランジ部40aは、ねじ41によつ
て、試料室42の外壁面42aに固着され、更
に、その突出円筒部40bには、前記円筒状支持
部材39がねじ43によつて固着されている。
又、外部容器40の上部には、蓋44がねじ45
によつて固着され、該蓋44の中央の円筒状突出
部先端には、窒素容器31の注入口部分が耐真空
溶接されている。又、蓋44の下面には、円筒状
の遮へい部材46が窒素容器31の側面を覆うよ
うにして取付けられている。
る。図において、31は内部に液体窒素32が入
れられた窒素容器で、その外部底面には伝導棒3
3の基端部が溶接により固着されている。該伝導
棒33は単一の部材で形成してもよいが、窒素容
器31との接合面積を広くとるために、広い接合
用平面を有した板材で基端部を構成し、他を棒材
で構成してもよい。この実施例では、上述の2部
材から成るものを図示した。伝導棒33の先端部
はヒートコンダクタ34を介してトラツプ35に
連結され、基端部には炉体36を収納するための
穴が中心軸にそつて穿設されている。この炉体3
6はヒータ37収納用の穴が穿設された有底円筒
状のもので、前記伝導棒33の穴に着脱可能に嵌
入され、且つ該ヒータ37収納用穴が開口する端
部はベローズ38を介して円筒状支持部材39の
小円筒部先端に同軸的に連結されている。この連
結は耐真空溶接によつてなされる。尚、伝導棒3
3の穴33aは空気穴である。40は外部容器
で、前記窒素容器31、伝導棒33及び炉体36
を覆うものである。この外部容器40の下部に設
けられたフランジ部40aは、ねじ41によつ
て、試料室42の外壁面42aに固着され、更
に、その突出円筒部40bには、前記円筒状支持
部材39がねじ43によつて固着されている。
又、外部容器40の上部には、蓋44がねじ45
によつて固着され、該蓋44の中央の円筒状突出
部先端には、窒素容器31の注入口部分が耐真空
溶接されている。又、蓋44の下面には、円筒状
の遮へい部材46が窒素容器31の側面を覆うよ
うにして取付けられている。
47はヒータ37のリード線48が一方のコン
タクトに接続される絶縁端子で、他方のコンタク
トはリード線49を介してコネクタ50に接続さ
れている。絶縁端子47は弁51に固着され、更
に弁51がコンプレツシヨンスプリング52によ
つて支持部材39の弁座部分39aに押圧されて
いる。上記コネクタ50の支持部材39の大円筒
部への取付はねじ53により行われ、この取付に
より大円筒部内部が外部から閉塞されることを防
止するために、支持部材39の大円筒部にはリー
ク穴39bが穿設されている。上記構成により、
ヒータ37収納用穴と大気側との間に弁51が配
置され、且つ該弁51がコンプレツシヨンスプリ
ング52によつてヒータ37収納用穴を大気側か
ら閉鎖する方向に押圧されることになる。更に、
54はヒータ37を一定の温度に発熱させるため
の温度コントローラ、56は対物ポールピース、
57は液体窒素排出用パイプである。尚、外部容
器40と支持部材39、試料室42の外壁面42
a及び蓋44との接合面、並びに、弁51と弁座
部分39aとの当接時の接合面は、Oリング等に
よつて確実にシールされる構成になつている。上
記構成のため、窒素容器31、伝導棒33及び炉
体36は試料室42内と同一空間(真空)内に位
置し、ヒータ37は試料室42内部とは仕切られ
た空間内に位置する。
タクトに接続される絶縁端子で、他方のコンタク
トはリード線49を介してコネクタ50に接続さ
れている。絶縁端子47は弁51に固着され、更
に弁51がコンプレツシヨンスプリング52によ
つて支持部材39の弁座部分39aに押圧されて
いる。上記コネクタ50の支持部材39の大円筒
部への取付はねじ53により行われ、この取付に
より大円筒部内部が外部から閉塞されることを防
止するために、支持部材39の大円筒部にはリー
ク穴39bが穿設されている。上記構成により、
ヒータ37収納用穴と大気側との間に弁51が配
置され、且つ該弁51がコンプレツシヨンスプリ
ング52によつてヒータ37収納用穴を大気側か
ら閉鎖する方向に押圧されることになる。更に、
54はヒータ37を一定の温度に発熱させるため
の温度コントローラ、56は対物ポールピース、
57は液体窒素排出用パイプである。尚、外部容
器40と支持部材39、試料室42の外壁面42
a及び蓋44との接合面、並びに、弁51と弁座
部分39aとの当接時の接合面は、Oリング等に
よつて確実にシールされる構成になつている。上
記構成のため、窒素容器31、伝導棒33及び炉
体36は試料室42内と同一空間(真空)内に位
置し、ヒータ37は試料室42内部とは仕切られ
た空間内に位置する。
以上のような本考案装置においては、伝導棒3
3が窒素容器31によつて77゜K近傍に冷され、
ヒートコンダクタ34を介してトラツプ35が
145゜K程度に冷される。この時、炉体36内も冷
されるが、弁51によつて気密保持されており、
炉体36内及びヒータ37に霜が付着しにくい。
このため、ヒータ37は保護され、その寿命が低
下することはない。又、ベローズ38での熱絶縁
効果により、炉体36と支持部材39との間の熱
伝導が極めて少なく、無駄のない冷却を行える。
尚、ベローズ38が弾性的屈曲を行うため、支持
部材39を引き抜くことにより容易に炉体36を
引き抜くことができ、ヒータ37の断線時に簡単
にその交換を行うことができる。
3が窒素容器31によつて77゜K近傍に冷され、
ヒートコンダクタ34を介してトラツプ35が
145゜K程度に冷される。この時、炉体36内も冷
されるが、弁51によつて気密保持されており、
炉体36内及びヒータ37に霜が付着しにくい。
このため、ヒータ37は保護され、その寿命が低
下することはない。又、ベローズ38での熱絶縁
効果により、炉体36と支持部材39との間の熱
伝導が極めて少なく、無駄のない冷却を行える。
尚、ベローズ38が弾性的屈曲を行うため、支持
部材39を引き抜くことにより容易に炉体36を
引き抜くことができ、ヒータ37の断線時に簡単
にその交換を行うことができる。
一方、試料室42を室温リークする場合には、
窒素排出用パイプ57を上部から窒素容器31に
挿入後、温度コントローラ54を用いて所定の温
度にヒータ37を加熱し、伝導棒33を介して窒
素容器31を加熱する。これにより窒素はパイプ
57から排出される。この窒素が排出される過程
で、炉体36内は温度上昇による圧力上昇が起こ
るが、一定の圧力上昇にて弁51が第3図の右方
に移動し、内部空気をリーク穴39bを介して外
部に排出するため、内圧上昇による問題は生じな
い。又、伝導棒33は上記ヒータ37の加熱によ
り300℃前後に加熱される。このため、熱がヒー
トコンダクタ34を介してトラツプ35に到達
し、トラツプ35の温度を常温(室温状態)まで
上昇させる。この加熱時においても、支持部材3
9への熱伝導はベローズ38により阻まれる。更
に、ヒータ37が真空外に配置されているため、
ヒータ37による加熱の際に生じるヒータ37の
放出ガスが真空内に拡散することがなく、真空内
を常に清浄に保つことができる。
窒素排出用パイプ57を上部から窒素容器31に
挿入後、温度コントローラ54を用いて所定の温
度にヒータ37を加熱し、伝導棒33を介して窒
素容器31を加熱する。これにより窒素はパイプ
57から排出される。この窒素が排出される過程
で、炉体36内は温度上昇による圧力上昇が起こ
るが、一定の圧力上昇にて弁51が第3図の右方
に移動し、内部空気をリーク穴39bを介して外
部に排出するため、内圧上昇による問題は生じな
い。又、伝導棒33は上記ヒータ37の加熱によ
り300℃前後に加熱される。このため、熱がヒー
トコンダクタ34を介してトラツプ35に到達
し、トラツプ35の温度を常温(室温状態)まで
上昇させる。この加熱時においても、支持部材3
9への熱伝導はベローズ38により阻まれる。更
に、ヒータ37が真空外に配置されているため、
ヒータ37による加熱の際に生じるヒータ37の
放出ガスが真空内に拡散することがなく、真空内
を常に清浄に保つことができる。
尚、上記実施例では、フランジ部40aや突出
円筒部40bを外部容器40と一体に構成した
が、従来装置(第1図)と同様に、別体にて構成
してもよい。
円筒部40bを外部容器40と一体に構成した
が、従来装置(第1図)と同様に、別体にて構成
してもよい。
以上説明したように、本考案によれば、ヒータ
が試料室と仕切られた空間内にあるため、その放
出ガスが試料室内に拡散し、試料室が汚染される
というような事態を避けることができる。尚、ト
ラツプ冷却時は弁によりヒータ収納用穴が気密に
保持されるため、ヒータや炉体内部に霜が付きに
くく、ヒータの寿命が短くなることもない。又、
ヒータ加熱時に生じる放出ガスによつてヒータ収
納用穴の内圧が上昇すると、弁が開いてこの放出
ガスを外部に逃がすので、過度の内圧上昇による
破損等の事態も生じない。
が試料室と仕切られた空間内にあるため、その放
出ガスが試料室内に拡散し、試料室が汚染される
というような事態を避けることができる。尚、ト
ラツプ冷却時は弁によりヒータ収納用穴が気密に
保持されるため、ヒータや炉体内部に霜が付きに
くく、ヒータの寿命が短くなることもない。又、
ヒータ加熱時に生じる放出ガスによつてヒータ収
納用穴の内圧が上昇すると、弁が開いてこの放出
ガスを外部に逃がすので、過度の内圧上昇による
破損等の事態も生じない。
第1図は従来の汚染防止装置の一例を示す構成
図、第2図は第1図のAA断面図、第3図は本考
案の一実施例を示す構成図である。 31……窒素容器、33……伝導棒、34……
ヒートコンダクタ、35……トラツプ、36……
炉体、37……ヒータ、38……ベローズ、39
……支持部材、40……外部容器、42……試料
室、50……コネクタ、51……弁、52……コ
ンプレツシヨンスプリング、54……温度コント
ローラ、57……排出用パイプ。
図、第2図は第1図のAA断面図、第3図は本考
案の一実施例を示す構成図である。 31……窒素容器、33……伝導棒、34……
ヒートコンダクタ、35……トラツプ、36……
炉体、37……ヒータ、38……ベローズ、39
……支持部材、40……外部容器、42……試料
室、50……コネクタ、51……弁、52……コ
ンプレツシヨンスプリング、54……温度コント
ローラ、57……排出用パイプ。
Claims (1)
- 試料台近傍にトラツプを配置し、該トラツプを
伝導棒を介して冷却することにより汚染物質をと
らえ試料の汚染を防止する電子顕微鏡等の汚染防
止装置において、前記伝導棒に熱的に連結するよ
うに炉体を設け、該炉体に試料室内部空間と仕切
られ且つ弁を介して大気側に連通する穴を穿設
し、該穴内に、前記トラツプを昇温させる場合に
使用するヒータを配置すると共に、前記弁とし
て、前記穴を大気側から閉鎖する向きにスプリン
グにより押圧されたものを用いたことを特徴とす
る電子顕微鏡等の汚染防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9596383U JPS603643U (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 電子顕微鏡等の汚染防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9596383U JPS603643U (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 電子顕微鏡等の汚染防止装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603643U JPS603643U (ja) | 1985-01-11 |
| JPH0125477Y2 true JPH0125477Y2 (ja) | 1989-07-31 |
Family
ID=30228918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9596383U Granted JPS603643U (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 電子顕微鏡等の汚染防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603643U (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS504656U (ja) * | 1973-05-16 | 1975-01-18 | ||
| JPS5132351U (ja) * | 1974-08-30 | 1976-03-09 | ||
| JPS5518745Y2 (ja) * | 1975-07-24 | 1980-05-01 |
-
1983
- 1983-06-22 JP JP9596383U patent/JPS603643U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS603643U (ja) | 1985-01-11 |
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