JPH01250826A - 界面レベル測定方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は広く片えば界面レベルを測定する方法及び装置
に関する。−観点では、本発明は界面レベルを測定する
方法及び装置並びに容器及び／又は管内に所望の界面レ
ベルを維持する制御システムに関づる。詳細には、本発
明は、共通のタンク、容；Ｓ及び／又は管中に含まれた
液体／蒸気界面レベル及び／又は液体／Ｍ体界面レベル
を、該レベルの位置を制御するために測定する方法及び
シー置に関づる。

従来の技術及び発明が解決しようとする課題多くの商業
上の利用において、一方の流体が他方の流体中で不溶性
であり且つ一方の流体が他方の流体よりも大きい比重を
有する２つの流体の間で起こる流体界面レベルを測定し
Ｈつ／又は制御Ｊることはしばしば不可欠である。５こ
れらの流体界面レベルは熱気及び液体の間又は２つの液
体の間にできることがある。流体界面レベルを測定し且
つ制御することが望ましい商業目的の一例は炭化水素精
製プ［１セスにおいてである。

特に、フッ化水素酸を用いる炭化水素のアルキル化では
、液体／蒸気界面レベル（例えば液体炭化水産相と蒸気
相）及び液体／液体界面レベルく例えば液体フッ化水素
酸相と液体炭化水産相）の位置を安全及び経演的即山の
ために測定し且つ制御することはしばしば不可欠である
。この不可欠性の且つの理由は、液体炭化水素生成物を
特定の容器から取出そうとする時に、炭化水素蒸気及び
／又はフッ化水素酸が該容器から除去されないことを保
証する必要である。それ故、フッ化水素酸のアルキル化
ユニットでのプロセス指示及び制御に適し且つフッ化水
素酸の腐食傾向によって悪影響を受けない界面レベル測
定システムを作ることは当業界でｔ５曹な竹進である。

しかしながら、そのような界面レベルの測定は、特に材
料の且つがフッ化水素酸と同じイ立高い腐食性を有する
時、長い間転いた問題であった。

フッ化水素酸アルキル化（以ＦＡＦアル４ル化と称づ）
ユニットで起こる界面レベルを測定し且つ制御する多く
の方法が現在存在するが、それらは多くは継続的な問題
に対する一時的な解決策である。例えば、且つのそのよ
うな装置は差圧器械を用いて界面レベルを測定する。感
知装置が実際にフッ化水素酸に接触するこの装置は、フ
ッ化水素酸の非常な腐食傾向による差圧器械の簿い隔膜
又はそのシール隔膜に及ぼす作用の故に信頼性のないこ
とが判明している。

ＡＦアルキル化ユニットで界面レベルを測定づ゛る別の
そのような装置はフロート又は変位部材を組入れている
。フロート又は変位部材はフッ化水素酸と物理的に接触
しなければならないので、その使用はフッ化水素酸がフ
ロートを腐食しＤつ漏れで動作不能にする故に満足でき
ない。

また、ＡＦアルキル化ユニットで界面レベルを測定する
ために観察ガラスを使用する試みがなされている。この
方法はフッ化水素酸がガラスに作用することのために有
効でないことが判明している。事実、フッ化水素酸はＳ
］器用ガラスを商業的に構成し得る透明な媒体の殆どに
作用する。

界面レベルを測定するために試験コックを用いることは
信頼性があることが判明している。しかしながら、試験
コックの使用は成るｍの液体及び蒸気の炭化水素並びに
高い腐食性のフッ化水ホ酸を周囲大気中へ放出する固有
の欠点を伴っている。

別の固有の欠点は界面レベルを測定するこの方法が連続
的な測定プロセスではなく、飛び飛びの測定であること
である。

フッ化水素酸の非常な腐食傾向及びそれに本来的に伴う
潜在的な安全性に対する危険のために、被測定材料と接
触する必要のない検知器を利用することによってそこに
生ずる界面レベルを測定する試みがなされている。且つ
のそのような試みは放射線点源を有する放射線式界面レ
ベル測定装置の使用を採用している１、この放射線点源
はレベルが測定される液体を含む容器の外部壁に取付け
られる。この点源からの放射線は扇形状のビームとして
放射される。放射線点源と直ぐ反対側の外部壁に、放射
線検知器セルが取付けられる。材料による放射線の吸収
は放射線源及び放射線検知器の間に含まれる材料の質量
の関数であるので、界面レベルが変化するにつれて、種
々の間の放射線が検知され、それにより放射線検知器の
出力の変化に作用する。この変化が起こると、微細な電
流が発生され、それは処理され且つ増幅される時にレベ
ル指示及び／又はプロセス制御目的に使用され得る。

界面レベルが測定される流体を含む容器の外部壁に近接
して放射線点源を使用することは、腐食性流体との接触
によって生じる問題をａｔノる非接触式測定システムを
提供するが、この点源放射線式測定装置は多くの問題に
よって苦しめられている。

第１のそのような問題はこの特別の放射線式界面レベル
測定装置を較正しようとする時に起こる。

特に、この装置を適性に較正するために、容器を設備か
ら取外寸ことが必要である。これは−殻内にＡＦアルキ
ル化ユニットの一時的な運転停止を必要とする。

容器を設備から取外した後、流体レベルと放射線検知器
の出力との間の関係を注目しながら被測定流体を容器に
満たすことが必敷である。ＡＦアルキル化ユニットで使
用される容器は高さ６メートル（２０フイート）及び直
径６メートル（２０フイー１〜）位大きいことがあるの
で、そのような作業のコストが変動することがある。

上述したような放射線式界面レベル測定装置を較正する
試みから生じる別の問題は、容器の４？４造及び形状か
ら生じる。特に、経済的実行性のために、ＡＦアルキル
化ユニットで使用される容器はしばしば低炭素鋼から構
成される。この鋼はフッ化水素酸に対して成る程度の抵
抗性を示すが、それはフッ化水素酸と反応し且つ時がた
つにつれて離れるスケールの層を形成することによって
フッ化水素酸の腐食傾向に必然的に負ける。この継続的
なスケールの形成及び離れの過程の故に、ＡＦアル↑ル
化ユニットで使用される容器の壁はこの腐食を補償する
に充分厚くなければならない。それ故、ＡＦアルキル化
ユニットで使用されるがべの厚さ及び容器の直径を補償
するために、かなり強い放射線源を必要とする。放射線
源の強さはそのコスト並びにそれに伴う安全性の危険と
正比例するので、そのような放ｆＪ４線式レベル測定装
置を利用する実行性は疑問である。

上述したような点源放射線式測定装置を用いることの別
の問題は、容器の内部壁土のスケール形成及び必然的に
離れの継続的過程から生じる。上述したように、材料に
よる放ＣＮＩ２！の吸収は放射線源及び放ｒＪ４線検知
器の間に含まれる材料の関数である。それ故、もし放射
線点源が上述した′ように使用されるならば、このレベ
ル検知装置の較正は、もしスケールハが放射線点源に直
ぐ近接する位置から突然に落ちたならば無効にされる。

もしこれが起こるならば、放射線検知器はたとえ界面レ
ベルが変化しなくても変化が容器内で起こったことを指
示する。

ＡＦアル４ニル化ユニットで使用される容器の外部壁へ
放射線式レベル検知装置を取イ」けることから生じる更
に別の問題は、容器の外部及び／又は内部形状に関係す
る。特に、Ａ［アル：１ル化ユニツトで使用される容器
はそれらの機能並びに容器が含む材料に依存して多くの
異なる形状、寸法及び厚さを有する。その上、これらの
容器の多くは上述したようにスケールが形成し月っ離れ
る内部バッフル、トレー、管等を中に配置して有づる。

放射線式レベル検知装置の軽圧は上のファクターの全て
を考慮しなければならないので、適当な放射線検知装訂
を選ぶことはしばしばぞの場その揚の基本原即で行われ
る。この個別化された分析はコストを付加しＤつＡＦア
ルキル化ユニットと関連して放射線式レベル検知装置を
使用する願望を減らす。

課題を解決するための手段及び作用 本発明によれば、容器内に生ずる流体界面レベルを測定
し且つ／又は制御するために、流体界面レベルが放射線
源及び放射線検知器を具備する核レベル測定装置の利用
によって測定され且つ／又は制御される装置及び方法が
提供される。この核測定装置は、界面レベルが測定され
且つ／又＋、Ｌ制御される流体を含む容器と流体連通し
ている概ね垂直な立て管上に外部において配置される。

垂直な立て管は容器との関係において外部に配置され、
それにより立て管内の流体界面レベルは容器内のレベル
と同じレベルをもって対応する。

ここに開示する発明及びそのイ」随する利点の多くのよ
り完全な理解は、同様な参照符号が種々の観点で同様な
部分を指示する添イ」図面と関連して考察づる時、以下
の訂細り説明を参照することによってそれを一層よ（ｉ
ｌｌ！解できるので容易に得られる。

実施例 ここに開示する本発明の方法は、界面レベルが測定され
旦つ／又は制御される流体に接触しないように容器内の
流体界面レベルを測定し且つ／又は制御することに関係
する。この測定及び／又は制御方法は核レベル測定装置
を利用することによって達成される。本発明の核測定￥
装置は放射線源及び放射線検知器を具備する。

本発明によれば、核レベル測定装置は容器と流体連通し
ている概ね垂直な立て管上へ外部において配置され、そ
れにＪ：り立て管内の流体界面レベルは容器内の同じ界
面レベルにおいて対応する。

核レベル測定装置の放射線源は立て管の外部壁に近接し
てあるが、放射線検知器はその反対側の外部壁に近接し
てある。

前述したように、材料による放射線の吸収は放射線源及
び故ＯＡ線検知器の間に含まれる材料の質量の関数であ
る。それ故、容器及び立て管内の流体界面レベルが変化
するにつれて、放射線の変化する量が検知され、それに
より放射線検知器の出力の変化を生じる。この変化はレ
ベル指示及び／又はプロセス制御目的に使用され得る信
号を発生する。

本発明の付随する利点は説明するために、本発明をＡＦ
アルキル化ユニット内での適用と関連して説明する。し
かしながら、本発明をこの特別の適用と関連して開示す
るが、本発明の適用がそれに制限されないことが理解さ
れることは注目されるべぎである。特に、本発明は非接
触式の流体界面レベル測定及び／又は制御システムが望
ましいプロセスに適用し得る。

添付図面に信号ラインとして示されるラインは本発明の
実施例では電気式、空気式又は光学式である。−殻内に
、本発明に組入れられるような核測定装置から提供され
る信号は電気式の形であるしかしながら、種々の変換装
置がプロセスを特徴付けるパラメータをいろいろな形又
はフォーマットへ変換するために使用され得る。例えば
、新規なシステムの制御要素は電気的アナログ形式、デ
ィジタル電子形式、空気圧形式、液汁形式、機械形式、
光学形式又は他のそのような形式の設備又は該設備の且
つ以上の組合せを用いて実行され得る。

本発明の現在好適とされる実施例は電気アナログ信号取
扱及び翻訳装置とＩＮｌ連して空気１式最終制御要素の
組合ゼを利用するが、本発明の方法及び装置はプロセス
制御業者に利用可能であり且つ理解される広い範囲の特
別の設備を用いて実行され得る。同様に、種々の信号の
フォーマットは実質的に特別の設備の信号フォーマット
要件、安全ファクター、測定又は制御器械の物理的特性
及び他の同様なファクターに適合するために修正され得
る。

本発明の好適な実施例によれば、ＡＦアルキル化ユニッ
トの容器内に含まれる流体界面レベルを測定するため及
び／又は制御するために使用される核レベル測定装置は
、（１）ストリップ形式の放射線源と（２）放ｒＪ４線
検知器とを具備する。本発明に従って実行される立て管
の内部壁でのスケール形式及び離れの旬能性に鑑みて、
ストリップ形式の放射線源は魚形式の放射線源よりも好
ましい。

特に、ストリップ形式の放射線源からのガンマ線は単一
の点から放射されるのと反対にストリップの全スパンに
わたって放射され、ストリップ形式の放射線源はスケー
ルの形成及び離脱によって殆ど影響されない。

本発明の実施例を実施する時に使用するに適する放射線
源（例えばセシウム１３７又はコバルト６０）は容器と
流体連通している流体を含む立て管を通して平行ビーム
のガンマ線を放射する。ガンマ線は立て管内の流体界面
レベルに比例して吸収される。吸収されなかったガンマ
線は放射線検知器に接触し且つその中に含まれた気体を
イＡン化する。このイオン化は立て管中の流体界面レベ
ルに関係され得るパルス周波数を発生する１１次に信号
状態調節システムがこれらのパルス周波数を通常のプロ
セスｆｉｌ＋御器と共に使用され得る使用可能なアナロ
グ信号に変換する。そのような１ｎ号状態調節システム
はコンピュータシステム及び／又はマイクロプロセリを
含むが、それに制限されない。

立て管内の流体界面レベルが変化すると、流体によるガ
ンマ線の吸収も変化する。このガンマ放射線の吸収の変
化は放射線検知器内でイオン化される気体の邑に作用し
、従ってそれから発生するパルス周波数に作用し且つそ
れと関係したアナログ信号に作用する。これらの信号は
立て管内の所望の流体界面レベルを指示し且つ／又は維
持するためにレベル指示器及び／又は通常のプロセス制
御器を作用させるために使用され得る。上述したように
、立て管は容器と流体連通しているので、容器内の界面
レベルの測定及び／又は制御は木質的に容器内の対応す
る界面レベルを測定し且つ／又は制御する。

上述したプロセス＆Ｉ　Ｉｌｌ器は、比例、比例−積分
、比例−微分、又は比例−積分−微分のような当業界で
知られる種々の制御様式を利用することができる。好適
な実施例では、比例−積分制御器が利用される。し・か
じながら、２つの人力ＦＳ月を受入れることができ且つ
２つの入力信号の比較を代示する目盛り村山力信号を発
生することができる制御器が本発明の範囲内であること
は注目されるべきである。

制御器による出力の目盛り付けはＩＩＩ御システム業界
でよく知られる。本質的に、制御器の出力は所望される
ファクター又は変数を代示するように目盛り付けされ得
る。この例は所望のレベル及び実際のレベルが制御器に
よって比較される場合である。ＬＩＩＩＤ器の出力は所
望の及び実際のレベルを同等にするために必要とする若
干の気体又は液体の流ｍの所望の変化を代示する信号で
あり得る。

他方、同じ出力はパーセンテージを代示するように目盛
り付けされることができ又は所望の及び実際のレベルを
同等にするために必要とされる温度変化を代示するよう
に目盛り付けされ得る。例えば、もし制御器出力がＯか
ら１０ボルトの範囲にあり得るならば、出力信号は５ボ
ルトの電圧レベルを有する出力信号が特定の流量又は特
定の温度の５０パーセントに相当するように目盛り４＝
Ｊけされ得る。

次に、図面を詳細に且つ第１図を特に参照すると、本発
明のレベル測定及び／又は制御システムを組入れて有す
るＡＦアルキル化ユニットが内示される。

特に、第１図はアルキル化反応＠１０を例示し、該アル
キル化反応器は液体フッ化水１１Ｆｌｉをそれへ供給す
るためにそれと連通ずる入口導管１２を有する。イソパ
ラフィン及びオレフィンのような炭化水素の混合物から
なる炭化水素の供給流れが導管１４を通して反応２Ｓ１
０中へ導入される。任意選択可能に、インブタンのよう
なイソパラフィンの再循環流れが導管１６を通過しＤつ
反応″Ｊ！４へ入る＋Ｖ＋に炭化水素供給と混合される
。

アル１−ル化反応は混合された炭化水素供給をフッ化水
素酸と均質に１き触させることによって反応器１０中で
完了される。アル１ル化プロセスが完了した（蔓、反応
器１ｏからの生成物含有流出液は導管１８を通して排出
され且つ沈降容器２０中へ供給される。

本発明によれば、沈降容器２０は、外部に取イ・１けら
れ且つ概ね重直な立て管２２をそれと関連して有し、該
立て管は導管２４．２６及び２８並びに絶縁弁３０．３
２及び３４をそれぞれ介して沈降容器と流体連通してい
る。立て管２２の両端に、ベント弁３６及びドレン弁３
８が配置される。弁３０．３２及び３４は立て管２２を
沈降容器２０から絶縁する装置を形成する。絶縁される
と、核測定装置Ｎは沈降容器２０を使用状態から取出１
ことなく較正され得る。

また、取出導管４ｃｍ及び４４が沈降容器２０と関連し
ている。導管４ｃｍは沈降容器２０の上方端部分及び流
れ制御弁４２と流体連通している。好ましくは、導管４
ｃｍは導管１８より上方の位置に配置される。他方、￥
＃管４４は沈降容器２０の■万端部分及び流れ制御弁４
６と流体連通している。

好ましくは、導管４４は導管１８の下方に配置される。

作動中に、アルヤル化反応器１０からの生成物含有流出
液は導管１８を通して沈降容器２０中へ導入される。容
器２０中へ導入されると、この流出液は、蒸気炭化水素
相４８、液体炭化水素相５０及び液体酸相５２を含む３
つの識別可能＜１相に分離する。液体炭化水素相５０は
一般的にブタン、プロパン及びアルル−ト生成物からな
り、一方、液体酸相は一般的にフッ化水素酸とＭ可溶竹
炭化水素とからなる。

絶縁弁３０．３２及び３４をそれらの常開位置にし且つ
弁３６及び３８をそれらの常閉位瞠にすることによって
、アルキル化反応器１０がらの生成物含右流出′ａＧ、
ｉ立て管２２中へ入り月っその中で同じ３つの識別可能
り相に分！ｉｌｌする。沈降容器２０内に含まれた蒸気
炭化水素相４８と液体炭化水素相５ｏとの間の蒸気／液
体界面のレベル及び液体炭化水素相５０と液体酸相５２
との間の液体／液体界面のレベルは立て管２２内で同じ
レベルに対応する。

更に、本発明によれば、第１のレベル制御システム５４
が導’１ｇ２４及び２６の間の位Ｕにおいて立て管２２
に配置される。レベル制御システム５４は、蒸気炭化水
素相４８及び液体炭化水素相５０の間に生じる立て管２
２内の蒸気／液体界面を検知する能力を有するようにこ
の位置に配置される。

第２のレベル制御システム５６が導管２６及び２８の間
の位置において立て管２２に配置される。

レベル制御システム５６は液体炭化水素相５ｏ及び液体
酸相５２の間に生じる立て管２２内の液体／液体界面を
検知する能力を有するようにこの位置に配置される。

レベル制御システム５４は、容器２０内の蒸気炭化水素
相４８及び液体炭化水素相５０の間の蒸気／液体界面が
所定のレベルに維持されるように較正される。もし実際
の蒸気／液体界面がこの所定のレベルから偏するならば
、信号が信号ライン５８を通して流れ制御弁４２へ伝達
され、従って液体炭化水素が容器２０から導管４ｃｍを
通して取出されるはを変える。

レベ制御システム５６は、立て管２２内の液体炭化水素
相５０及び液体酸相５２の間の液体／液体界面が所定の
レベルに維持されるように較正される。もしこの液体／
液体界面がこの所定のレベルから偏するならば、信号が
信号ライン６０を通して流れ制御弁４６へ伝達され、従
って液体酸が導管４４を通して容器２０から取出される
ムを変える。

所望により、若干の有機フッ化物を含む沈降容器２０か
らの炭化水素流出液は任意選択可能に導管４ｃｍを介し
てベンチュリミキサー６２へ通し、これらの有機フッ化
物をもしあるならば炭化水素及びフッ化水素酸に転化す
ることができる。炭化水素がミキサー６２を通過するに
つれて、フッ化水素酸を導管６４からミキサー６２中へ
引入れ且つそれを通る炭化水素を酎に均質に混合させる
低圧力が発生される。酸／炭化水素混合物は次に導管６
６を通して再接触器６８中へ通る。再接触器６８は一般
的に完全液体様式で運転するので、酸／炭化水素混合物
が再接触器６８へ入ると、混合物は炭化水素相５０及び
液体酸相５２を含む２つの識別可能な相に分離する。液
体炭化水素及び液体酸相は再接触器６８から導管８４及
び６４を通してそれぞれ取出される。

再接触器６８の適正な動作のために、できるだけ少ない
フッ化水素酸がそれから導管８４を通して取出されるべ
きである。逆に、できるだけ少ない液体炭化水素が再接
触器６８から導管６４を通して取出されるべきである。

それ故、再接触器６８は外部に配置された概ね垂直な立
て管７ｏをそれと関連して有し、該立て管７０は導管７
２及び７４を通して再接触器６８と流体連通している。

導管７２は、それが再接触器６８内で液体炭化水素相５
０及び液体酸相５２の間の液体／液体界面より上方の位
置にあるように配置される。他ｈ１導管７４はそれが再
接触器６８内で液体炭化水素相５０及び液体酸相５２の
間の液体／液体界面より下方の位置にあるように配置さ
れる。

再接触器６８と流体連通している垂直な立て管及び以下
に説明する全てのそれらが、立て恰２２について前述し
たように、（１）立て管をそれらのそれぞれの８鼎の内
部空所と流体連通状態にする導管中に配置された絶縁弁
と、（２）少なくとも且つのベント弁と、（３）少なく
と６且つのドレン弁とを含むことは注目されるべきであ
る。説明及び図面を簡単にするために、これらの弁は例
示されない。しかしながら、好適な実施例では−でれら
が存在することは理解されるべきである。

第３のレベル制御システム７６が立て管７０に配置され
る。レベル制御システム７６は導管７２及び７４の間に
配置され、且つ立て管７０内の液体炭化水素相５０及び
液体酸相５２の間の液体／液体界面が所定のレベルに維
持されるように較正される。もし実際の液体／液体界面
がこの所定のレベルから偏しているならば、信号が信号
ライン７８を通して流れυ制御弁８０へ伝達され、従っ
て液体酸が再接触器６８から導管６４及び８２を通して
取出される開を変える。

再接触器６８からの液体炭化水素相５０は導管８４を通
して取出され且つ分別器８６中へ導入される。作動中に
、軽質炭化水素及びもしあるならば残りのフッ化水素酸
の大部分は分別器８６から頭上導管８８を通してアキュ
ムレータ９０中へ取出される。分別器８６からの頭上生
成物が導管８８を通してアキュムレータへ入った後、そ
れは蒸気炭化水素相４８、液体炭化水素相５０及び液体
酸相５２を含む３つの識別可能な相に分離する。

液体炭化水素相及び液体酸相はアキュムレータ９０から
導管１０７及び１１４をそれぞれ通して取出される。

アキュムレータ９０の適正な作動のために、できるだけ
少ないフッ化水素酸がそれから導管１０７を通して取出
されるべきである。逆に、できるだけ少ない液体炭化水
素がアキュムレータ９０から導管１１４を通して取出さ
れるべきである。それ故、アキュムレータ９０はそれと
関連した２つの垂ぬな立て管９２及び９４を有する。立
て管９２は導管９６及び９８を通して７４−コムレータ
９０と流体連通状態にある。他方、立て管９４は々管１
００及び１０２を通してアキコムレータ９０と流体連通
状態にある 立て管９２の導管９６は、それが蒸気炭化水素相４８及
び液体炭化水素相５０の間に形成するアキュムレータ９
０内の蒸気／液体界面より上方に配置されるように配置
される。立て管９２の導管９８は、それが蒸気炭化水素
相４８及び液体炭化水素相５０の間に形成するアキュム
レータ９０内の蒸気／液体界面より下方に配置されるよ
うに配？ｌされる。他方、立て管９４の導管１００はで
れが液体炭化水素相５０及び液体酸相５２の間に形成す
るアキコムレータ９０内の液体／液体界面より上方に配
置されるように配置される。立て管９４の導管１０２は
それが液体炭化水素相５０及び液体酸相５２の間に形成
するアキュムレータ９０内の液体／液体界面よりＦ方に
配「りされるように配置される。

第４のレベル制御システム１０４が垂直な立て管９２に
配置される。レベル制御システム１０４は導管９６及び
９８の間に配置され、且つ蒸気炭化水素相４８及び液体
炭化水素相５ｏの間の立て管９２内の蒸気／液体界面が
所定のレベルに又はそれより上方にＨ持されるように較
正される。もし実際の蒸気／液体界面がこの所定のレベ
ルから偏するならば、信号が信号ライン１０６を通して
流れ制御弁１０８へ伝達され、従って液体炭化水素がア
キコムレータ９ｏから導管１０７を通して取出されるω
を変える。

第５のレベル制御システム１１０が立て管９４に配置さ
れる。レベル制御システム１１０は々管１００及び１０
２の間に配置され、且つ液体炭化水素相１３０及び液体
炭化水素１２４の間のＸγて管９４内の液体／液体界面
が所定のレベルに又はそれより下方に維持されるように
較ＩＦされる。もし実際の液体／液体界面がこの所定の
位置から偏するならば、信号が信号ライン１１２を通し
て流れ制御弁１１６へ伝達され、従って液体酸が導管１
１４を通してアキコムレータ９ｏから取出される闇を変
える。

分別器８６は底生酸物１２４が所望の液体アルキレート
生成物であるように設計される。このアルキレート生成
物は導管１２６を通して分別器８６から取出される。ま
た、分別器８６の上方部分に蒸気炭化水素相１３０が配
置される。液体アルキレート生成物が分別器８６から取
出され、同じ導管から蒸気炭化水素が取出されないこと
が望ましいので、垂直な立て管１１８は導管１２０及び
１２２を通して分別器８６の下方部分へ作動上連結きれ
る。導管装置１２０はそれが分別器８６内で蒸気炭化水
素相１３０及び液体炭化水素相１２４の間の蒸気／液体
界面より上方の位置にあるように配置される。導管装置
１２２はそれが分別器８６内で蒸気炭化水素相１３０及
び液体炭化水素相１２４の間の蒸気／液体界面より下方
の位置にあるように配置される。

第６のレベル制御システム１３２が立て管１１８に配置
される。レベル制御システム１３２は導管１２０及び１
２２の間に配置され、Ｈつ蒸気炭化水素相１３０及び液
体炭化水素１２４の間の立て管１１８内の液体／液体界
面が所定のレベルに維持されるように較正される、１も
し実際の蒸気／液体界面がこの所定の位置から偏するな
らば、信号が信号ライン１３４を通して流れ制御弁１２
８へ伝達され、従って液体アルキレートが導管１２６を
通して分別器８６から取出される間を変える。

本発明のレベル制御システムの且つの特別の実施例が第
２図に例示される１、第２図は第１図の炭化水素−酸沈
降容器２０の横所面図であり、本発明のレベル制御シス
テムはそれに作動上連結され”る立て管上に配置されて
いる。沈降容器２０はそれと関連した入口導管１８を有
し、該入口導管を通してアルキル化反応器１０からの生
成物含有流出物がその中に導入される。沈降容器２０は
２つの出口導管４ｏ及び４４を更に含み、導管４ｃｍは
それが液体炭化水素を取出し得るように配置され、且つ
導管４４はそれが液体フッ化水素酸を取出し得るように
配置される。

本発明によれば、長手方向基準区域としてもみられ得る
概ね垂直な立て管２２は、相分離区域としてもみられ得
る容器２０の内部空所と、それぞれ導管２４．２６及び
２８並びに絶縁弁３０．３２及び３４によって、流体連
通している。１沈降容器２０が作動している時、絶縁弁
３０．３２及び３４は通常開かれ且つ３６及び３８は通
常閉じられる。しかしながら、必要により、弁３０．３
２及び３４は立て管２２を容器２２及びＡＦフルヤル化
ココニットら絶縁するために閏じられ得る。

これらの弁が閉じられている間、立て管２２は修理され
ることができ且つ／又はそれに取付けられた核レベル測
定装置はＡＦアルキル化ユニットを運転停止することな
く較正され得る。

立て管２２はベント弁３６及びドレン弁３８を更に含む
。これらの弁は一般的に立て管を修理する時及び／又は
それに取付けられた核レベル測定装置を較正する時に使
用される。

立て管２２はフッ化水索酸の腐食傾向に適当に耐える材
料から作られ得る。そのような材料の例はプラチナ、ニ
ッケル、金、銀、銅、低炭素鋼（即らＡＳＴＭ　　１０
６　　グレードＢ）又はハステロイＢ１ハステロイＣ及
びモネルのようなニッケル合金を含むが、それらに１．
ＩＩ限されない。商業的及び経済的実行性の故に、立て
管２２を調製し得る好適な材料は低炭素鋼又はニッケル
合金モネルである。

一般的に、立て管２２は界面レベルを測定し且つ／又は
制御する必要がある範囲をまたがるに充分な長さを有す
る。その上、立て管２２は一般的にそれを通して流体の
制限のない流れを許すに充分な内径を有する。好ましく
は、立て管２２は約２．５４ｚ（１インチ）から約３０
．４８ａ＋＋（１２インチ）まで、特に好ましくは約５
．０８ｚ（３インチ）から約２５．４ｃｍｃｍ（１０イ
ンチ）まで、且つ一層好ましくは７．６２ｃＩＲ（３イ
ンヂ〉から約２０．３２（：ＩＩ（８インチ）までの内
径を有する。

更に本発明によれば、且つ以上のレベル制御システムが
前記立て管へ作動上連結され得る。特に、第２図に例示
するように、２つのそのよう４Ｔレベル制御システムが
立て管２２に作動上連結される。

これらのレベルレノ御システムは物品符号５４及び５６
によって識別される。本発明のレベル制御システムは好
ましくは核レベル測定装置１信号状態調節器、及びプロ
セス制ＤＢ器及び／又はレベル指示装置を具備する。

本発明の好適な実施例では、核レベル測定装置１３６及
び１３８は立て管２２の一側部に配置された放射性物質
のストリップ形式の源１４ｃｍ及び１４３と、その反対
側部に配置された気体を含む放Ｑ４線検知器セル１４２
及び１４５とを具備する。

ガンマ放射線は放射線源１４ｃｍから平行ビーム１４１
として放射されて立て管２２の壁、もしあるならばスケ
ール生成物１４７、及びレベルが検知される材料を通る
。ガンマ線が放射線検知セル１４２内の気体に接触する
と、気体はイオン化される。このイオン化は立て管２２
内の蒸気／液体界面の実際のレベルのそれぞれの第１の
信号を確立する。この第１の信号は且つの場合にレベル
指示装置（図示せず）を作動するために使用され得る。

好適な実施例では、第２の信号（図示せず）が立て管２
２内の蒸気／液体界面の所望のレベルを代示する信号状
態調ｌｌ１ｌ；！３１４４によって確立される。信号状
ｉ調節器１４４は次に第１の信号及び第２の信号の間の
差を代示する第３の信号１４６を確立する。

信号１４６はレベル記録器械又はプロセス＆ＩＪ御器と
関連して使用されるように目盛り付けされるこ□とがで
き、立て管２２及び容器２０内の蒸気／液体界面及び／
又は液体／液体界面をそれらのそれぞれの所定のレベル
に維持するために電気式又は空気圧式に制御される弁の
ような適当な装置を作動させる。所望により、信号１４
６はこれらの機能の２つ以上を同時に行うことができる
。例えば、信号１４６は流れ制御弁４２を操作するため
にプロセスｖＪｔｌｌ器１４８を作動することによって
蒸気／液界面面レベルを制御すると同時に記録器械（図
示せず）を作動することによって界面の［１視指示を提
供するために使用され得ることが可能である。

適当な核レベル検知装置が本発明の実施例を実施するた
めに使用され得る。そのような適当な核測定装置を提供
し得る製造者の例は、テ１：サス州オースヂンのテキリ
°ス・ニュークリアー、オハイオ州シンシナチのオーマ
ート・コーポレーシヨン、及びイリノイ州アーリントン
ハイツのケイ−レイ・インコーホレイテッドを含む。そ
のような応用に特に適する核レベル測定装置はテ４リー
ス・ニュークリアーのＣＮＤ　（Ｅ−ＺＣａ　ｌ　）連
続レベル制御器、型式番＠５１９５及び５１９６である
。

好適な実施例では、ストリップ形式の放射ｖ２源１４ｃ
ｍは立て管２２の外部壁に近接して垂直方！ｌＩｉに配
置されると共に、放射線検知セル１４２は放ｔｊ４線源
１４ｃｍと反対側の立て管２２の外部壁に近接して垂直
り向に配路される。放射線源１４ｃｍ及び放射線検知各
１４２の配置は、放射される放射線が放射線検知セルに
当たる前に立て管２２内の液体の少なくとも部分を通過
しなければならないようになっている。その上、放射線
検知セル１４２はそれがそれにより測定され且つ／又は
制御される界面レベルの節回にまたがるように配置され
るべきであることは注目されるべきである。

本発明のレベル利口ｕシステムの一体部分として使用さ
れる萌に、核レベル測定装置は較正されねばならない。

この較正プロ廿スは多くの異なる装置によって行われる
ことができ、測定装置１３６及び１３８を較正する且つ
のそのようなｈ法は最初に絶縁弁３０．３２及び３４を
閉じることによって立て管２２を容器２０から絶縁する
ことによる。絶縁弁が閉鎖された後、ドレン弁３８及び
ベント弁３６が開かれて立て管２２内に含まれた流体を
除去する。全ての流体が除去された後、ドレン弁３８は
閉じられ、且つ立て管２２は適当な絶縁弁を選択的に開
くことによって、レベルを測定し且つ制御２′ｌｌする
種々の流体で満たされる。所望のプロセス流体が立て管
２２中へ導入された後、次に核測定装置は蒸気／液体界
面及び／又は液体／液体界面を所望の範囲内に又は所望
のレベルに維持するようにそれに応じて較正される。核
測定装δ１３６及び１３８の較正後、立て菅２２は流体
を排出され、ベント弁３６及びドレン弁３８は開じられ
且つ絶縁弁３０．３２及び３４は再び聞かれる。

上の説明から理解され得るように、本発明のレベル制御
システムは、核レベル測定装置が立て管に外部において
配置されずに容器に作動上連結されたレベル制御シスア
ムと関連した較１［問題の多くを回避する。例えば、本
発明の立て管は容器よりもはるかに小さい容積を有する
ので、核測定装置の較正プロセス中に必要な流体の量は
容器数イ；１式核測定１！置の較正に必要な爪と比較し
て非常に少ない。その上、立て管はＡＦアルキル化ユニ
ットを運転停止せｆに容易に修理され且つ／又は交換さ
れ骨るので、アル：１ル化容器から要求されるサービス
年数に耐え得るように構成される必要がない。それ故、
立て管はアル：１ル化容器の製作で一般的に使用される
材料よりも薄い壁Ｖを有する材料で構成されることがで
きる。立て管の壁厚が一般的にアルキル化容器の壁厚よ
りも薄く、且つ立て管の直径がアルキル化容器の直径よ
りも実質的に小さいので、本発明の実施例を実施するた
めに必要な放射線源の強さは、核測定装置が立て管では
なく容器に作動上連結された場合に必要とされる強さよ
りも実質的に少ない。

ここに開示した本発明のレベル制御システムによって回
速される別の問題は、不規則な形状の容器内又はバッフ
ル、トレー及び／又は管を中に含む容器内の界面レベル
を測定し釜／又は制卸しようとする時に遭遇する問題で
ある。特に、容器内の形状及び取（＝１具にかかわりな
く、その中の界面レベルは垂直な立て管内の界面レベル
と一致する。

このため、垂直な立て管内の界面レベルを測定し旦つ／
又は制御することによって、不規則な形状の容器内の対
応する界面レベルは制御される、１新規なレベル制御シ
ステムがＡＦアル４．ル化プロセス内に生ずる界面レベ
ルを測定し且つ制ｔｉｎｙるために使用される第２図に
例示する特別の実施例の作動中に、アルキル化反応器１
ｏからの生成物含有流出物は導管１８を通して容器２０
中へ導入される。前述したように、アルキル化反応器か
らの流出物は沈降容器２０へ入り、流出物は３つの識別
可能な相に分離する。これらの相は蒸気炭化水素相４８
、液体炭化水素相５０及び液体フッ化水素酸相５２であ
る。沈降容器２０の適正な作動中、できるだけ少ない液
体酸及び／又は熱気炭化水束がそれから導管４ｃｍを通
して取出されるべきである。それ故、容器２０内の液体
炭化水素レベルは導管４ｃｍ中への容器２０の開口より
下方へ１貸されない。その上、液体酸相は導管４ｃｍ中
への容器２０の開口より上方へ上昇しない。

しかしながら、好ましくは液体酸相は導ｆ２１８中への
容器２０のｍ１口より上方へ上昇すべきでない。蒸気炭
化水素相４８及び液体炭化水素相５０の間の蒸気／液体
界面を導管４ｃｍ中への容器２０の開口より上方のレベ
ルに維持するために、核レベル測定装置１３６は放射線
ストリップ源１４ｃｍの下７Ｊ端が導管４ｃｍ中への容
器２０の流体連通開口に又はそれより上方にあるような
位どにおいて立て＠２０に取付けられる。その上、液体
炭化水素相５０及び液体酸相５２の間の液体／液体界面
を導管４ｃｍ中への容器２０の流体連通開口より下方に
、且つ好ましくは導管１８中への容器２０の流体連通開
口より下方に維持するために、核レベル測定装置１３８
は放射線ストリップ源１４３の上方端が容器２０の内部
空所及び導管１８の間の流体連通開口に又はそれより上
方にあるように立て恰２２に取付６ノられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の開窓及び制御システムを中に組入れて
有するＡ　Ｆアルキル化コニットの部分断面概略図で釣
り、第２図は第１図に例示したフッ化水Ｓ酸沈降容冴中
の流体界面レベルを測定し且つ制御するために採用され
る核レベル測定装置の断面図である。 １ｏ・・・アルキル化反応器、 １２．１４．１６．１８．２４．２６．２８゜４ｃｍ．
４４，６４，６６．７２．７４．８２゜８４．８８．９
６．９８．１００，１０２゜１０７．１１４，１２０，
１２２．１２６・・・導管、２０−・・沈陣容器、 ２２．７０．９２，９４，１１８・・・立て管、３０．
３２．３４・・・絶縁弁、　３６・・・ベント弁、３８
・・・ドレン弁、 ４２．４６，８０，１０８，１１６・・・流れ制御弁、
４８・・・蒸気炭化水産相、　５ｏ・・・液体炭化水ム
相、５２・・・液体酸相、 ５４．５６．７６．１０４，１１０，１３２・・・レベ
ル制御システム、　６８・・・再接触器、８６・・・分
別器、　９０・・・アキュムレータ、１３６．１３８・
・・核レベル測定装置、１４ｃｍ．１４３・・・放射線
源、 １４２．１４５・・・放射線検知セル、１４４・・・信
号状態調節器、 １４８・・・プロセス制御器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）相分離区域内の２つの流体の第１次界面のレベル
   を決定するための方法であつて、前記第１次界面が第１
   流体及び第２流体の間に生じ、前記第１流体及び前記第
   ２流体が他方の中で不溶性であり且つ前記第１流体が前
   記第２流体の比重よりも大きい比重を有し、前記第１流
   体の大部分が前記第１次界面のレベルより下方に配置さ
   れた第１出口流を通して前記相分離区域から除去される
   方法において、 前記第１流体の一部を前記相分離区域から長手方向基準
   区域中へ、前記第１次界面のレベルより下方に配置され
   た第１導管を介して通し、且つ前記第２流体の一部を前
   記相分離区域から前記長手方向基準区域中へ、前記第１
   次界面のレベルより上方に配置された第２導管を介して
   通し、それにより前記第１流体及び前記第２流体の間の
   第２次界面が前記長手方向基準区域中に形成され、前記
   第２次界面が前記第１次界面に対応すること、放射線源
   によつて放射される核放射線を、該核放射線が前記第１
   流体及び前記第２流体に接触するように前記長手方向基
   準区域の長手方向軸線と概ね直角な方向へ前記長手方向
   基準区域に通すこと、 前記長手方向基準区域内の前記第２次界面にまたがる放
   射線検知装置によつて、前記長手方向基準区域を通過す
   る前記核放射線を検知すること、前記放射線検知装置に
   よつて検知された前記核放射線に応じて第１信号を確立
   し、該第１信号が前記長手方向基準区域内の前記第２次
   界面の実際のレベルを代示し且つ前記相分離区域内の前
   記第１次界面レベルに対応するように目盛り付けされる
   こと、及び 前記目盛り付けされた第１信号に応じてレベル指示装置
   を作動すること、 を特徴とする方法。 （２）前記第１流体が液体酸からなり且つ前記第２流体
   が酸不溶性液体炭化水素からなる特許請求の範囲第１項
   に記載の方法。 （３）前記酸がフッ化水素酸からなる特許請求の範囲第
   ２項に記載の方法。 （４）前記酸不溶牲炭化水素がブタン及びプロパンの混
   合物からなる特許請求の範囲第３項に記載の方法。 （５）前記第１流体が蒸気からなり且つ前記第２流体が
   液体からなる特許請求の範囲第１項から第４項のいずれ
   か１つの項に記載の方法。 （６）前記蒸気が気化した炭化水素からなる特許請求の
   範囲第５項に記載の方法。 （７）前記液体が液体炭化水素からなる特許請求の範囲
   第６項に記載の方法。 （８）前記気化した炭化水素がプロパンからなり且つ前
   記液体炭化水素がブタンからなる特許請求の範囲第７項
   に記載の方法。 （９）相分離区域内の２つの流体の第１次界面のレベル
   を制御するための方法であつて、前記相分離区域内の前
   記第１次界面の所望のレベルに対応する前記長手方向基
   準区域内の前記第２次界面の所望のレベルを代示する第
   ２信号を確立すること、 前記第１信号及び前記第２信号を比較し且つ前記第１信
   号及び前記第２信号の間の差を代示する第３信号を確立
   すること、及び 前記第１次界面の実際のレベルを維持し且つ前記第２の
   信号によつて代示される所望のレベルに実質的に等しい
   前記第２次界面に対応するように前記相分離区域から前
   記第１出口流を通る前記第１流体の流量を操作すること
   、 を更に特徴とする特許請求の範囲第１項から第８項のい
   ずれか１つの項に記載の方法。 （１０）前記相分離区域から前記第１出口流を通る前記
   第１流体の流量を操作する前記ステップが、前記第１次
   界面の実際のレベルを維持し且つ前記第２信号によつて
   代示される所望のレベルと実質的に等しい前記第２次界
   面に対応するために必要とされる前記第１流体の流量を
   制御するように作動上配置された制御弁の位置を代示す
   るように前記第３信号を目盛り付けすること、及び 前記制御弁の位置を前記目盛り付けされた第３信号に応
   じて操作すること、 を特徴とする特許請求の範囲第９項に記載の方法。 （１１）前記放射線検知装置によつて検知された前記核
   放射線に応じて第４信号を確立し、該第４信号が前記長
   手方向基準区域内にあり且つ前記相分離区域内の前記第
   １次レベルに対応する前記第２次界面の実際のレベルを
   代示するように目盛り付けされること、及びレベル指示
   装置を前記目盛り付けされた第４信号に応じて作動する
   こと、 を更に特徴とする特許請求の範囲第１項から第１０項の
   いずれか１つの項に記載の方法。（１２）流体界面を決
   定するための装置であつて、流体を含む容器（２０）で
   あつて、該容器が少なくとも１つの入口導管（１８）と
   少なくとも１つの出口導管（４４）を有する容器（２０
   ）と、上方端部分、中間部分及び下方端部分を有する立
   て管（２２）であつて、該立て管（２２）が前記容器（
   ２０）の外部に概ね垂直方向に配置された立て管（２２
   ）と、 一端において前記容器中へ開き且つ他端において前記立
   て管の前記下方端部分中へ開いて流体を前記容器（２０
   ）から前記立て管（２２）中へ通す第１導管装置（２８
   ）と、一端において前記容器中へ開き且つ他端において
   前記立て管の前記上方端部分中へ開いて流体を前記容器
   から前記立て管中へ通す第２導管装置（２６）とを具備
   する装置において、 レベル制御システムが核レベル測定装置（１３８）を具
   備し、該核レベル測定装置が前記第１導管装置の下方及
   び前記第２導管装置の上方の位置において前記立て管の
   外部壁に近接してある放射線放射源（１４３）と、前記
   放射線源（１４３）によつて放射され且つそれに関する
   信号を伝達する放射線検知装置（１４５）とを含み、前
   記放射線検知装置（１４５）が前記放射線放射源（１４
   ３）が近接する壁の反対側の前記立て管の外部壁に近接
   してあり、それにより前記放射線放射源から放射された
   放射線が、前記放射線放射源に直ぐ隣接する前記立て管
   （２２）の壁と、前記立て管の内部壁によつて形成され
   た空所と前記放射線検知装置に直ぐ隣接する前記立て管
   の壁とを、前記放射線検知装置に接触する前に通過する
   こと、を特徴とする流体界面決定装置。 （１３）前記容器（２０）及び前記立て管（２２）の間
   で前記第１導管装置を通して流れる前記流体の制御を行
   うために前記第１導管装置（２８）へ作動上連結された
   第１絶縁弁装置（３４）と、前記容器及び前記立て管の
   間で前記第２導管装置を通して流れる前記流体の制御を
   行うために前記第２導管装置（２６）へ作動上連結され
   た第２絶縁弁装置（３２）と、 を更に含む特許請求の範囲第１２項に記載の装置。 （１４）一端において前記容器（２０）中へ開き且つ他
   端において前記立て管（２２）の前記中間部分中へ開く
   第３導管装置を更に具備する特許請求の範囲第１２項又
   は第１３項に記載の装置。 （１５）前記核レベル測定装置が前記第１導管装置の上
   方及び前記第３導管装置の下方の位置において前記立て
   管に配置される特許請求の範囲第１４項に記載の装置。 （１６）前記核レベル測定装置が前記第２導管装置の下
   方及び前記第３導管装置の上方の位置において前記立て
   管に配置される特許請求の範囲第１４項に記載の装置。 （１７）前記第１導管装置の上方及び前記第３導管装置
   の下方の位置において前記立て管に配置された第２核レ
   ベル測定装置を更に含む特許請求の範囲第１５項に記載
   の装置。 （１８）前記容器及び前記立て管の間で前記第１導管装
   置を通して流れる前記流体の制御を行うために前記第１
   導管装置へ作動上連結された第１絶縁弁装置と、 前記容器及び前記立て管の間で前記第２導管装置を通し
   て流れる前記流体の制御を行うために前記第２導管装置
   へ作動上連結された第２絶縁弁装置と、 前記容器及び前記立て管の間で前記第３導管装置を通し
   て流れる前記流体の制御を行うために前記第３導管装置
   へ作動上連結された第３絶縁弁装置と、 を具備する特許請求の範囲第１４項から第１７項のいず
   れか１つの項に記載の装置。 （１９）前記容器がフッ化水素酸触媒による炭化水素の
   アルキル化プロセスで使用するに適する特許請求の範囲
   第１２項から第１８項のいずれか１つの項に記載の装置
   。 （２０）前記容器がフッ化水素酸沈降容器、酸再接触器
   、分別器又はアキュムレータである特許請求の範囲第１
   ２項から第１９項のいずれか１つの項に記載の装置。 （２１）前記立て管がプラチナ、ニッケル、金、銀、銅
   、低炭素鋼、ハステロイＢ、ハステロイＣ又はモネルで
   ある特許請求の範囲第１２項から第２０項のいずれか１
   つの項に記載の装置。 （２２）前記立て管が前記容器の横断面積より小さい横
   断面積を有する特許請求の範囲第１２項から第２１項の
   いずれか１つの項に記載の装置。 （２３）前記立て管が、前記立て管の上方端部分と流体
   連通しているベント弁と、前記立て管の下方端部分と流
   体連通しているドレン弁とを含む特許請求の範囲第１２
   項から第２２項のいずれか１つの項に記載の装置。 （２４）前記立て管が約２．５４ｃｍ（１インチ）から
   約３０．４８ｃｍ（１２インチ）までの範囲の内径を有
   する特許請求の範囲１２項から第２３項のいずれか１つ
   の項に記載の装置。 （２５）前記立て管が約５．０８ｃｍ（２インチ）から
   約２５．４ｃｍ（１０インチ）までの内径を有する特許
   請求の範囲２４項に記載の装置。 （２６）前記立て管が約７．６２ｃｍ（３インチ）から
   約２０．３２ｃｍ（８インチ）までの内径を有する特許
   請求の範囲２５項に記載の装置。 （２７）前記レベル制御システムが信号状態調整システ
   ムを含む特許請求の範囲１２項から第２６項のいずれか
   １つの項に記載の装置。 （２８）前記信号状態調節システムがコンピュータ又は
   マイクロプロセサである特許請求の範囲第２７項に記載
   の装置。 （２９）前記レベル制御システムがプロセス制御器を更
   に含む特許請求の範囲第１２項から第２８項のいずれか
   １つの項に記載の装置。 （３０）前記少なくとも１つの流体出口装置と流体連通
   している流れ制御弁を更に含み、該流れ制御弁が前記プ
   ロセス制御器へ作動上連結される特許請求の範囲第２９
   項に記載の装置。 （３１）前記レベル制御システムがレベル指示装置を更
   に含む特許請求の範囲第１２項から第３０項のいずれか
   １つの項に記載の装置。 （３２）前記核レベル測定装置の前記放射線源がストリ
   ップ形式の放射線源を具備する特許請求の範囲第１２項
   から第３１項のいずれか１つの項に記載の装置。 （３３）前記放射線源がセシウム１３７又はコバルト６
   ０である特許請求の範囲第１２項から第３２項のいずれ
   か１つの項に記載の装置。 （３４）前記立て管が、前記立て管の上方端部分と流体
   連通しているベント弁と、前記立て管の下方端部分と流
   体連通しているドレン弁とを含む特許請求の範囲第１２
   項から第３３項のいずれか１つの項に記載の装置。