JPH01250059A - クロマトグラフィー用充填剤の製造方法 - Google Patents
クロマトグラフィー用充填剤の製造方法Info
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- JPH01250059A JPH01250059A JP63074557A JP7455788A JPH01250059A JP H01250059 A JPH01250059 A JP H01250059A JP 63074557 A JP63074557 A JP 63074557A JP 7455788 A JP7455788 A JP 7455788A JP H01250059 A JPH01250059 A JP H01250059A
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Landscapes
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高速液体クロマ1−グラフィーや超臨界クロ
マトグラフィー等における充填剤として好適に用いられ
るクロマトグラフィー用充填剤の新規製造方法に関する
。
マトグラフィー等における充填剤として好適に用いられ
るクロマトグラフィー用充填剤の新規製造方法に関する
。
高速液体クロマトグラフィー用の充填剤として、シリカ
ゲル表面のシラノール基に疎水性のアルキル基、特にオ
クタデシル基(cteH17)を導入したものが多用さ
れているが、このシリカゲルに疎水性のアルキル基を導
入した充填剤を製造する場合、アルコキシル基を示す、
) で表わされる化合物を反応させる方法が一般に採用され
ている(下記反応式(B)参照)。
ゲル表面のシラノール基に疎水性のアルキル基、特にオ
クタデシル基(cteH17)を導入したものが多用さ
れているが、このシリカゲルに疎水性のアルキル基を導
入した充填剤を製造する場合、アルコキシル基を示す、
) で表わされる化合物を反応させる方法が一般に採用され
ている(下記反応式(B)参照)。
しかし、上述した方法でシリカゲルにアルキル基を導入
したクロマトグラフィー用充填剤を製造した場合、シリ
カゲル表面の全てのシラノール基には(A)式の化合物
が結合せず、シリカゲル表面にはかなりの数のアミン類
等の塩基性化合物に対して活性なシラノール基が残存す
る。このため、従来の製法による充填剤を用いてクロマ
トグラフィーによってアミン類等の塩基性化合物の分析
を行なう場合、塩基性化合物がシラノール基に強く吸着
し、このため、塩基性化合物の溶出が著しく遅れたり、
塩基性化合物のピークがテーリングするなど、塩基性化
合物を正確に分離、検出できないという問題がある。こ
の点を解決するため、上述した方法でシリカゲルにアル
キル基を導入した後、エンドキャップ操作を施すことに
より残存する未反応活性シラノールを不活性化すること
も行なわれており、これによって得られた充填剤は。
したクロマトグラフィー用充填剤を製造した場合、シリ
カゲル表面の全てのシラノール基には(A)式の化合物
が結合せず、シリカゲル表面にはかなりの数のアミン類
等の塩基性化合物に対して活性なシラノール基が残存す
る。このため、従来の製法による充填剤を用いてクロマ
トグラフィーによってアミン類等の塩基性化合物の分析
を行なう場合、塩基性化合物がシラノール基に強く吸着
し、このため、塩基性化合物の溶出が著しく遅れたり、
塩基性化合物のピークがテーリングするなど、塩基性化
合物を正確に分離、検出できないという問題がある。こ
の点を解決するため、上述した方法でシリカゲルにアル
キル基を導入した後、エンドキャップ操作を施すことに
より残存する未反応活性シラノールを不活性化すること
も行なわれており、これによって得られた充填剤は。
塩基性化合物の分離、検出の点では向上するが、未だ不
完全である上、更に今度はフェノール類を分析する場合
にフェノール類のピークがテーリングし1分析が不正確
になるという問題が生じる。
完全である上、更に今度はフェノール類を分析する場合
にフェノール類のピークがテーリングし1分析が不正確
になるという問題が生じる。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、シリカゲル
の表面にアルキル基を導入したクロマトグラフィー用充
填剤の製造方法において、シリカゲル表面に残存するシ
ラノール基を可及的に減少させることができ、従ってア
ミン類等の塩基性化合物に対して十分不活性でアミン類
等の塩基性化合物の分析をより正確に行なうことができ
ると共に、エンドキャップを行なった場合でもフェノー
ル類のピークのテーリングが生じることのない充填剤の
製造方法を提供することを目的とする。
の表面にアルキル基を導入したクロマトグラフィー用充
填剤の製造方法において、シリカゲル表面に残存するシ
ラノール基を可及的に減少させることができ、従ってア
ミン類等の塩基性化合物に対して十分不活性でアミン類
等の塩基性化合物の分析をより正確に行なうことができ
ると共に、エンドキャップを行なった場合でもフェノー
ル類のピークのテーリングが生じることのない充填剤の
製造方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明は、上記
目的を達成するため、シリカゲルに下記式(1)又は(
2) (但し、 (1)、 (2)式においてR1及びR2
はそれぞれ炭素数1〜30のアルキル基もしくはシクロ
アルキル基、フェニル基、CN −R3−基又はR″ R’ −N −R’−基(R3及びR4はそれぞれ炭素
数1〜30のアルキレン基、R5及びR6はそれぞれ炭
素数1〜1oのアルキル基又は水素原子である)、Xl
及びX2はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は水酸基
、nは1〜18、mは3〜2oの整数を示す。) る。
目的を達成するため、シリカゲルに下記式(1)又は(
2) (但し、 (1)、 (2)式においてR1及びR2
はそれぞれ炭素数1〜30のアルキル基もしくはシクロ
アルキル基、フェニル基、CN −R3−基又はR″ R’ −N −R’−基(R3及びR4はそれぞれ炭素
数1〜30のアルキレン基、R5及びR6はそれぞれ炭
素数1〜1oのアルキル基又は水素原子である)、Xl
及びX2はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は水酸基
、nは1〜18、mは3〜2oの整数を示す。) る。
本発明によれば、シリカゲル表面のシラノール基が(1
)式又は(2)式の化合物と良好に結合し、残存シラノ
ール基が殆んど存在しなくなるため、アミン類等の塩基
性化合物に対して極めて不活性な充填剤を得ることがで
きるものである。その理由は明確ではないが、上記(1
)式又は(2)式の化合物がシリカゲル表面の2つのシ
ラノールと結合して橋かけ構造をとるためではないがと
思われる。また、本発明によれば、このように(1)式
又は(2)式の化合物がシリカゲル表面のシラノール基
の殆んど良好に反応、結合し、未反応シラノール基は極
めて少ないものであるが、なお、残存するシラノール基
をエンドキャップした場合でも、従来にみられたように
フェノール類を分析する場合にピークがテーリングする
という不都合が生じ難いものである。
)式又は(2)式の化合物と良好に結合し、残存シラノ
ール基が殆んど存在しなくなるため、アミン類等の塩基
性化合物に対して極めて不活性な充填剤を得ることがで
きるものである。その理由は明確ではないが、上記(1
)式又は(2)式の化合物がシリカゲル表面の2つのシ
ラノールと結合して橋かけ構造をとるためではないがと
思われる。また、本発明によれば、このように(1)式
又は(2)式の化合物がシリカゲル表面のシラノール基
の殆んど良好に反応、結合し、未反応シラノール基は極
めて少ないものであるが、なお、残存するシラノール基
をエンドキャップした場合でも、従来にみられたように
フェノール類を分析する場合にピークがテーリングする
という不都合が生じ難いものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のクロマトグラフィー用充填剤の製造方法は、上
述したようにシリカゲルに(1)式又は(2)式の化合
物を反応させるものである。
述したようにシリカゲルに(1)式又は(2)式の化合
物を反応させるものである。
ここで、(1)式及び(2)式の化合物においてR1〜
R’、xl、 x2及びnの定義は上述した通りである
が、R1及びR2のアルキル基、シクロアルキル基並び
にR3及びR4のアルキレン基としては炭素数が1〜1
8.特に1,3,4,8,12又は18であることが好
ましく、また R5及びR6のアルキル基はメチル基で
あることが好ましい。この場合、R1及びR2の一方が
炭素数1〜20のはメチル基であることが好ましい。更
に、nは1〜3、mは3〜5であることが好適である。
R’、xl、 x2及びnの定義は上述した通りである
が、R1及びR2のアルキル基、シクロアルキル基並び
にR3及びR4のアルキレン基としては炭素数が1〜1
8.特に1,3,4,8,12又は18であることが好
ましく、また R5及びR6のアルキル基はメチル基で
あることが好ましい。この場合、R1及びR2の一方が
炭素数1〜20のはメチル基であることが好ましい。更
に、nは1〜3、mは3〜5であることが好適である。
なお、上記アルキル基、シクロアルキル基、アルキレン
基は直鎖構造のものでも分枝を有する構造のものでもよ
い。
基は直鎖構造のものでも分枝を有する構造のものでもよ
い。
上記(1)式又は(2)式の化合物として、具体的には
下記式(1a)又は(2a) ′p7 (但し、 (la)、 (lb)式において、R7及び
R8はそれぞれ炭素数1〜20、より好ましくは1,3
,4゜8.12,18のアルキル基、シクロアルキル基
。
下記式(1a)又は(2a) ′p7 (但し、 (la)、 (lb)式において、R7及び
R8はそれぞれ炭素数1〜20、より好ましくは1,3
,4゜8.12,18のアルキル基、シクロアルキル基
。
フェニル基、CN −R”−基又はN R2−R10−
基(R1及びRlgはそれぞれ炭素数1〜20、より好
ましくはl、3,4,8,12.18のアルキレン基で
ある。)、aは3〜5の整数を示す、)で示される化合
物を好適に使用し得る。
基(R1及びRlgはそれぞれ炭素数1〜20、より好
ましくはl、3,4,8,12.18のアルキレン基で
ある。)、aは3〜5の整数を示す、)で示される化合
物を好適に使用し得る。
また、本発明に用いるシリカゲルの粒子形状に制限はな
く、球状、破砕状等の適宜形状のものが使用され、更に
粒径、細孔の大きさ1表面積なども本発明充填剤の使用
目的等に応じて適宜選定されるもので、通常のクロマト
グラフィー充填剤用として使用されるものが好適に用い
られる。
く、球状、破砕状等の適宜形状のものが使用され、更に
粒径、細孔の大きさ1表面積なども本発明充填剤の使用
目的等に応じて適宜選定されるもので、通常のクロマト
グラフィー充填剤用として使用されるものが好適に用い
られる。
本発明において、シリカゲルに(1)式又は(2)式の
化合物を反応させる方法に限定はないが、気相法又は液
膜法が好適に採用される。気相法においては、シリカゲ
ル表面に(1)式又は(2)式の化合物を適宜方法で付
着させたものを不活性ガス又は真空雰囲気中に封入し、
250〜450℃、特に280〜390℃において0.
5〜100時間程度反応させることが好ましい。液膜法
においては、(1)弐又は(2)式の化合物を適宜溶媒
に溶解した溶液中に懸濁し、この溶液に触媒を添加した
後、溶媒を留去し、空気又は不活性ガス雰囲気中におい
て常圧〜50kg/aJの圧力下50〜300℃、特に
100〜280℃で0.5〜10時間程時間路させるこ
とが好ましい、ここで、上記触媒としてはテトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、テトラブチルアンモニウ
ムヒドロキサイド等の第四級アンモニウムヒドロキサイ
ド、水酸化セシウム。
化合物を反応させる方法に限定はないが、気相法又は液
膜法が好適に採用される。気相法においては、シリカゲ
ル表面に(1)式又は(2)式の化合物を適宜方法で付
着させたものを不活性ガス又は真空雰囲気中に封入し、
250〜450℃、特に280〜390℃において0.
5〜100時間程度反応させることが好ましい。液膜法
においては、(1)弐又は(2)式の化合物を適宜溶媒
に溶解した溶液中に懸濁し、この溶液に触媒を添加した
後、溶媒を留去し、空気又は不活性ガス雰囲気中におい
て常圧〜50kg/aJの圧力下50〜300℃、特に
100〜280℃で0.5〜10時間程時間路させるこ
とが好ましい、ここで、上記触媒としてはテトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、テトラブチルアンモニウ
ムヒドロキサイド等の第四級アンモニウムヒドロキサイ
ド、水酸化セシウム。
水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムと
クラウンエーテルとの混合触媒、水酸化ナトリウムとク
ラウンエーテルとの混合触媒等が好適に使用され、その
使用量はシリカゲル重量に対し0.1〜20重量%とす
ることが好ましい。なお、上記(1)式又は(2)式の
化合物の使用量は、シリカゲル重量に対して10〜10
0重量%とすることができる。また、上記気相法又は液
膜法で得た本発明充填剤は適宜方法で精製することがで
きる。
クラウンエーテルとの混合触媒、水酸化ナトリウムとク
ラウンエーテルとの混合触媒等が好適に使用され、その
使用量はシリカゲル重量に対し0.1〜20重量%とす
ることが好ましい。なお、上記(1)式又は(2)式の
化合物の使用量は、シリカゲル重量に対して10〜10
0重量%とすることができる。また、上記気相法又は液
膜法で得た本発明充填剤は適宜方法で精製することがで
きる。
上記方法により製造した本発明充填剤には、必要に応じ
シリル化剤等を用いてエンドキャップを行なうことがで
きる。特に、(1)式又は(2)式の化合物においてR
1又はR2が例えばメチル基、プロピル基、フェニル基
、オクチル基のように分子量が比較的小さい場合にはシ
リカゲルに(1)式又は(2)式の化合物を反応させる
だけで未反応シラノール基が極めて少ない高度に不活性
化された充填剤の製造が可能であるが、R1又はR2が
例えばオクタデシル基のように分子量が大きい場合には
従来法に比較して未反応シラノール残存量は少ないもの
の、なお若干の未反応シラノール基が残る場合があるの
で、エンドキャップを行なうことが好ましい。この場合
、後述する実験に示したように、エンドキャップを行な
ってフェノール類を分析してもピークのテーリングは生
じないので、本発明においてエンドキャップは有効な手
段である。
シリル化剤等を用いてエンドキャップを行なうことがで
きる。特に、(1)式又は(2)式の化合物においてR
1又はR2が例えばメチル基、プロピル基、フェニル基
、オクチル基のように分子量が比較的小さい場合にはシ
リカゲルに(1)式又は(2)式の化合物を反応させる
だけで未反応シラノール基が極めて少ない高度に不活性
化された充填剤の製造が可能であるが、R1又はR2が
例えばオクタデシル基のように分子量が大きい場合には
従来法に比較して未反応シラノール残存量は少ないもの
の、なお若干の未反応シラノール基が残る場合があるの
で、エンドキャップを行なうことが好ましい。この場合
、後述する実験に示したように、エンドキャップを行な
ってフェノール類を分析してもピークのテーリングは生
じないので、本発明においてエンドキャップは有効な手
段である。
ここで、エンドキャップは、シリカゲルと(1)式又は
(2)式の化合物を反応させて得られた充填剤にシリル
化剤等を常法により作用させることによって行なわれる
が、この場合シリル化剤としてはオクタメチルシクロテ
トラシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルシ
リルクロライド、N−トリメチルシリルアセタミド、N
、O−ビス(トリメチル)アセタミド。
(2)式の化合物を反応させて得られた充填剤にシリル
化剤等を常法により作用させることによって行なわれる
が、この場合シリル化剤としてはオクタメチルシクロテ
トラシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルシ
リルクロライド、N−トリメチルシリルアセタミド、N
、O−ビス(トリメチル)アセタミド。
N−メチル−N−トリメチルアセタミド、N−メチル−
N−トリメチルシリル−トリフロロアセタミド、N−ト
リメチルシリルジメチルアミン、N−トリメチルシリル
ジエチルアミン、ビス(トリメチルシリル)トリフロロ
アセタミド、N−トリメチルシリルイミダゾール、テト
ラメチルジシラザン、t−ブチルジメチルクロロシラン
。
N−トリメチルシリル−トリフロロアセタミド、N−ト
リメチルシリルジメチルアミン、N−トリメチルシリル
ジエチルアミン、ビス(トリメチルシリル)トリフロロ
アセタミド、N−トリメチルシリルイミダゾール、テト
ラメチルジシラザン、t−ブチルジメチルクロロシラン
。
MTBSTFA(CF、C0N(CH,)SL(CH3
)、C(CH,)3、MTBSTFA+1%t−BDM
C3等の1種又は2種以上が使用され、特にオクタメチ
ルシクロテトラシロキサンを用いたり、ヘキサメチルジ
シラザンとトリメチルシリルクロライドとを併用するこ
とが好ましい。なお、エンドキャップは2回以上行なっ
ても差支えない。
)、C(CH,)3、MTBSTFA+1%t−BDM
C3等の1種又は2種以上が使用され、特にオクタメチ
ルシクロテトラシロキサンを用いたり、ヘキサメチルジ
シラザンとトリメチルシリルクロライドとを併用するこ
とが好ましい。なお、エンドキャップは2回以上行なっ
ても差支えない。
以上説明したように、本発明によれば、シリカゲルに上
記(1)式又は(2)式の化合物を反応させることによ
り、シリカゲル表面の残存シラノール基が可及的に減少
し、アミン類に対して不活性でアミン類を正確に分析す
ることが可能であると共に、エンドキャップを行なって
も、フェノールのピークのテーリングが生じることがな
く、薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィ
ー、逆相高速液体クロマトグラフィー、超臨界クロマト
グラフィー用等として好適に使用し得るクロマトグラフ
ィー用充填剤を製造することができるものである。
記(1)式又は(2)式の化合物を反応させることによ
り、シリカゲル表面の残存シラノール基が可及的に減少
し、アミン類に対して不活性でアミン類を正確に分析す
ることが可能であると共に、エンドキャップを行なって
も、フェノールのピークのテーリングが生じることがな
く、薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィ
ー、逆相高速液体クロマトグラフィー、超臨界クロマト
グラフィー用等として好適に使用し得るクロマトグラフ
ィー用充填剤を製造することができるものである。
以下実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発
明は下記実施例に限定されるものではなし)。
明は下記実施例に限定されるものではなし)。
実施例1〜5の本発明充填剤を下記方法により製造した
。なお、すべての実施例においてシリカゲルは野村化学
社製テベロジル(粒径5戸、細孔径100人)を塩酸洗
浄して使用した。
。なお、すべての実施例においてシリカゲルは野村化学
社製テベロジル(粒径5戸、細孔径100人)を塩酸洗
浄して使用した。
実施例I CH3結合シリカゲルの製造−に懸濁し、
ロータリエバポレーターでペンタンを留去する。これを
ガラスアンプルに入れ、アンプル内を窒素ガスで置換し
、減圧状態で封管した後、380℃で40時間反応させ
、クロマトグラフィー用充填剤を得た。
ロータリエバポレーターでペンタンを留去する。これを
ガラスアンプルに入れ、アンプル内を窒素ガスで置換し
、減圧状態で封管した後、380℃で40時間反応させ
、クロマトグラフィー用充填剤を得た。
反応後室温まで冷却して開封し、充填剤をジクロロメタ
ンで洗浄した後、乾燥し、これを内径4.6nn、長さ
150のカラムに充填した。このカラムの性能をナフタ
レンを用いて高速液体クロマトグラフィーにより評価し
た。また充填剤の不活性度を評価するため、高速液体ク
ロマトグラフィーによりピリジンとフェノールとの混合
溶液の分析を行なった。
ンで洗浄した後、乾燥し、これを内径4.6nn、長さ
150のカラムに充填した。このカラムの性能をナフタ
レンを用いて高速液体クロマトグラフィーにより評価し
た。また充填剤の不活性度を評価するため、高速液体ク
ロマトグラフィーによりピリジンとフェノールとの混合
溶液の分析を行なった。
この場合、ナフタレンの測定においてはカラムの性能を
理論段数で評価し、ピリジン及びフェノールの測定にお
いてはカラムの性能をピリジンとフェノールとの相対保
持値で評価した。この相対保持値は、クロマトグラムに
おいて充填剤に全く保持されずに溶出するウラシルのピ
ークとフェノールのピークとの距離に対するウラシルの
ピークとピリジンのピークとの距離の割合であり、この
値が小さいほどアミン類の溶出が速く、充填剤がアミン
類に対して不活性であることを示す。
理論段数で評価し、ピリジン及びフェノールの測定にお
いてはカラムの性能をピリジンとフェノールとの相対保
持値で評価した。この相対保持値は、クロマトグラムに
おいて充填剤に全く保持されずに溶出するウラシルのピ
ークとフェノールのピークとの距離に対するウラシルの
ピークとピリジンのピークとの距離の割合であり、この
値が小さいほどアミン類の溶出が速く、充填剤がアミン
類に対して不活性であることを示す。
分析条件
溶離液:〔ナフタレンの分析〕
アセトニトリル/水(50150)
〔ピリジン、フェノールの分析〕
アセトニトリル/水(20/80)
流 量: 1 di / min
波 長:254nm
分析結果
■ナフタレン
クロマトグラム:第1図
理論段数: 7706
■ピリジン及びフェノール
クロマトグラム:第2図
相対保持値:0.3405
mλ−フェニル結合シリカゲルの製造
シリカゲル2.5gをテトラフェニルテトラメ溶液20
aQに懸濁し、以下実施例1と同様の方法でフェニル基
結合シリカゲル(クロマトグラフィー用充填剤)を合成
し、同様にカラム性能及び不活性化度の評価を行なった
。
aQに懸濁し、以下実施例1と同様の方法でフェニル基
結合シリカゲル(クロマトグラフィー用充填剤)を合成
し、同様にカラム性能及び不活性化度の評価を行なった
。
分析条件
溶離液:〔ナフタレンの分析〕
アセトニトリル/水(50150)
〔ピリジン、フェノールの分析〕
アセトニトリル/水(30/70)
流 量: 1 mQ / min
波 長:254nm
分析結果
■ナフタレン
クロマトグラム:第3図
理論段数:6177
■ピリジン及びフェノール
クロマトグラム:第4図
相対保持値:0.4523
失族剪菱 C,Hl、結合シリカゲルの製造メチルオク
チルジクロロシラン50gをエチルエーテル100mQ
に溶解し、エチルエーテル100蔵と蒸留水200−と
の混合溶媒中に攪拌しながら徐々に滴下する。攪拌しな
がら室温で一夜反応させた後、生成物をクロロホルム3
00dで抽出する。クロロホルム層を蒸留水30mQで
3回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで脱水濾過を行
なう。次に溶媒を留去し、160℃で24時間加熱゛
した後、真空蒸留を行なう。1.5nnHgで250
〜256℃に加熱して留分を取る(4.5g)。
チルジクロロシラン50gをエチルエーテル100mQ
に溶解し、エチルエーテル100蔵と蒸留水200−と
の混合溶媒中に攪拌しながら徐々に滴下する。攪拌しな
がら室温で一夜反応させた後、生成物をクロロホルム3
00dで抽出する。クロロホルム層を蒸留水30mQで
3回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで脱水濾過を行
なう。次に溶媒を留去し、160℃で24時間加熱゛
した後、真空蒸留を行なう。1.5nnHgで250
〜256℃に加熱して留分を取る(4.5g)。
IRにより上記化合物であることを確認した。
(2)C8H1□結合シリカゲルの合成シリカゲル2.
5gを上記テトラオクチルテトラメチルシクロシロキサ
ンの4%ペンタン溶液20mQに懸濁した後、実施例1
と同様にガラスアンプルに封入する。これを390℃で
20時間反応させてC,H,、結合シリカゲル(クロマ
トグラフィー用充填剤)を合成した。ナフタレンを用い
てカラム性能の評価及びピリジンとフェノールの分析に
より不活性度の評価を行なった。
5gを上記テトラオクチルテトラメチルシクロシロキサ
ンの4%ペンタン溶液20mQに懸濁した後、実施例1
と同様にガラスアンプルに封入する。これを390℃で
20時間反応させてC,H,、結合シリカゲル(クロマ
トグラフィー用充填剤)を合成した。ナフタレンを用い
てカラム性能の評価及びピリジンとフェノールの分析に
より不活性度の評価を行なった。
分析条件
溶離液:〔ナフタレンの分析〕
アセトニトリル/水(50150)
〔ピリジン、フェノールの分析〕
アセトニトリル/水(30/75)
流 量:1mQ/win
波 長:254nm
分析結果
■ナフタレン
クロマトグラム:第5図
理論段数:8426
■ピリジン及びフェノール
クロマトグラム:第6図
相対保持値:0.4849
ス」1例A−c工、H3□結合シリカゲルの合成メチル
オクタデシルジクロロシラン50gを実施例3の■と同
様にして加水分解及び縮合反応を行なった後、クロロホ
ルム30dに溶解してアセトン400m1lの中に攪拌
しながら滴下して再沈を行ない、次いで沈殿物を濾過し
、真空乾燥を行なって目的物を得る。
オクタデシルジクロロシラン50gを実施例3の■と同
様にして加水分解及び縮合反応を行なった後、クロロホ
ルム30dに溶解してアセトン400m1lの中に攪拌
しながら滴下して再沈を行ない、次いで沈殿物を濾過し
、真空乾燥を行なって目的物を得る。
IRによりn=3と4の混合物であることを確認した。
(2) Cx5Hit結合シリカゲルの合成シリカゲル
Logを上記メチルオクタデシルシクロシロキサンの1
0%のペンタン溶液60dに懸濁した後、ペンタンを完
全に留去する。これを窒素気流中300℃で40時間反
応させた後、トルエン及びペンタンで洗浄してクロマト
グラフィー用充填剤を得た。これをカラムに充填した後
、実施例1と同様にカラム性能及び不活性化度の評価を
行なった。
Logを上記メチルオクタデシルシクロシロキサンの1
0%のペンタン溶液60dに懸濁した後、ペンタンを完
全に留去する。これを窒素気流中300℃で40時間反
応させた後、トルエン及びペンタンで洗浄してクロマト
グラフィー用充填剤を得た。これをカラムに充填した後
、実施例1と同様にカラム性能及び不活性化度の評価を
行なった。
分析条件
?8離液:〔ナフタレンの分析〕
アセトニトリル/水(60/40)
〔ピリジン、フェノールの分析〕
アセトニトリル/水(30/70)
流 量目d/lll1n
波 長:254nm
分析結果
■ナフタレン
理論段数:13608
■ピリジン及びフェノール
相対保持値:0.3890
〔3〕エンドキヤツプ
上記〔2〕で得た充填剤を120℃で真空乾燥した後、
次の3方法でエンドキャップを行なった。
次の3方法でエンドキャップを行なった。
A法:オクタメチルシクロテトラシロキサンの10%ペ
ンタン溶液に懸濁した後ペンタンを留去する。これをガ
ラスアンプルに封入し、360℃で40時間反応させる
。次にエチルエーテルで洗浄する。
ンタン溶液に懸濁した後ペンタンを留去する。これをガ
ラスアンプルに封入し、360℃で40時間反応させる
。次にエチルエーテルで洗浄する。
B法:トルエン20mQに懸濁し、ヘキサメチルジシラ
ザン5aQ、トリメチルシリルクロライドIIIIQを
添加し、20時間還流を行なう。
ザン5aQ、トリメチルシリルクロライドIIIIQを
添加し、20時間還流を行なう。
次にトルエン、メチルアルコール、エチルエーテルで順
次洗浄する。
次洗浄する。
C法:オクタメチルシクロテトラシロキサンの10%ペ
ンタン溶液に懸濁した後、ペンタンを留去する。これを
ガラスアンプルに封入し、300℃で40時間反応させ
る。ゲルをガラスアンプルから取り出し、トルエン20
dに懸濁し、ヘキサメチルジシラザン5m1l、トリメ
チルシリルクロライド1−を添加し、20時間還流を行
なう。次にトルエン、メチルアルコール、エチルエーテ
ルで順次洗浄する。
ンタン溶液に懸濁した後、ペンタンを留去する。これを
ガラスアンプルに封入し、300℃で40時間反応させ
る。ゲルをガラスアンプルから取り出し、トルエン20
dに懸濁し、ヘキサメチルジシラザン5m1l、トリメ
チルシリルクロライド1−を添加し、20時間還流を行
なう。次にトルエン、メチルアルコール、エチルエーテ
ルで順次洗浄する。
次に、これらの充填剤を乾燥した後、長さ151、内径
4.6cmのカラムに充填し、ナフタレンを用いてカラ
ム性能の評価を、またピリジン、フェノールの分析によ
り不活性度の評価を行なった。
4.6cmのカラムに充填し、ナフタレンを用いてカラ
ム性能の評価を、またピリジン、フェノールの分析によ
り不活性度の評価を行なった。
分析条件
溶離液:〔ナフタレンの分析〕
アセトニトリル/水(60/40) 1mQ/min〔
ピリジン、フェノールの分析〕 アセトニトリル/水(30/ 70 ) 1 mQ/m
in波 長:254nm 分析結果 1、A法によるカラム ■ナフタレン クロマトグラム:第7図 理論段数:13608 ■ピリジン及びフェノール クロマトグラム:第8図 相対保持値:0.3890 2、B法によるカラム ■ナフタレン クロマトグラム:第9図 理論段数:13456 ■ピリジン及びフェノール クロマトグラム:第10図 相対保持値:0.4640 3、C法によるカラム ■ナフタレン クロマトグラム:第11図 理論段数:10471 ■ピリジン及びフェノール クロマトグラム:第12図 相対保持値:0.3345 ス」1的j−cl、H,、結合シリカゲルの製造シリカ
ゲル2.5gをメチルオクタデシルシクロシロキサンの
10%エチルエーテル溶液15mQに懸濁し、これに1
0%テトラブチルアンモニウムヒドロキサイドのメタノ
ール溶液を1 mQ添加した後、溶媒を留去する。20
0℃で3時間反応行なった後、ゲルをメタノール及びエ
チルエーテルで洗浄して乾燥を行ない、クロマトグラフ
ィー用充填剤を得た。
ピリジン、フェノールの分析〕 アセトニトリル/水(30/ 70 ) 1 mQ/m
in波 長:254nm 分析結果 1、A法によるカラム ■ナフタレン クロマトグラム:第7図 理論段数:13608 ■ピリジン及びフェノール クロマトグラム:第8図 相対保持値:0.3890 2、B法によるカラム ■ナフタレン クロマトグラム:第9図 理論段数:13456 ■ピリジン及びフェノール クロマトグラム:第10図 相対保持値:0.4640 3、C法によるカラム ■ナフタレン クロマトグラム:第11図 理論段数:10471 ■ピリジン及びフェノール クロマトグラム:第12図 相対保持値:0.3345 ス」1的j−cl、H,、結合シリカゲルの製造シリカ
ゲル2.5gをメチルオクタデシルシクロシロキサンの
10%エチルエーテル溶液15mQに懸濁し、これに1
0%テトラブチルアンモニウムヒドロキサイドのメタノ
ール溶液を1 mQ添加した後、溶媒を留去する。20
0℃で3時間反応行なった後、ゲルをメタノール及びエ
チルエーテルで洗浄して乾燥を行ない、クロマトグラフ
ィー用充填剤を得た。
これを内径4.6m、長n15cmのカラムに充填し、
トルエンを用いてカラム性能を評価した。
トルエンを用いてカラム性能を評価した。
分析条件
溶離液ニアセトニトリル/水(60/40)流 量:
1 mQ / lin 波 長:254nm 分析結果(ナフタレン) クロマトグラム:第13図 理論段数:13882 以上実施例1〜5の結果より、本発明充填剤はアミン類
に対して極めて不活性であることが認められると共に、
クロマトグラムから明らかなようにフェノールのピーク
がテーリングしないものであった。また、アミン類に対
する不活性度はピリジンピークのテーリングファクター
でも評価することができ、テーリングの少ない方が不活
性度が高いものであるが、クロマトグラムから明らかな
ようにピリジンのピークのテーリングは少なく、本発明
充填剤がアミン類に対して不活性であることが確認され
た。
1 mQ / lin 波 長:254nm 分析結果(ナフタレン) クロマトグラム:第13図 理論段数:13882 以上実施例1〜5の結果より、本発明充填剤はアミン類
に対して極めて不活性であることが認められると共に、
クロマトグラムから明らかなようにフェノールのピーク
がテーリングしないものであった。また、アミン類に対
する不活性度はピリジンピークのテーリングファクター
でも評価することができ、テーリングの少ない方が不活
性度が高いものであるが、クロマトグラムから明らかな
ようにピリジンのピークのテーリングは少なく、本発明
充填剤がアミン類に対して不活性であることが確認され
た。
なお、本発明ODS充填剤(C工、H3□結合シリカゲ
ル)及び市販ODS充填剤(同上)をそれぞれ用いて下
記条件により分析を行なった場合のピリジンとフェノー
ルとの相対保持値並びにピリジン及びフェノールのテー
リングファクターを下記第1表に示す。
ル)及び市販ODS充填剤(同上)をそれぞれ用いて下
記条件により分析を行なった場合のピリジンとフェノー
ルとの相対保持値並びにピリジン及びフェノールのテー
リングファクターを下記第1表に示す。
分析条件1
試 料:ウラシル 100■
ナフタレン 1000■
溶離液ニアセトニトリル/水(60/40)1mQ/w
in 波 長:254nm 分析条件2 試 料:ピリジン 600■ フェノール 4000■ 溶離液ニアセトニトリル/水(30/70)l mQ
/ min 波 長:254nm 第1表の結果より、本発明方法で製造した○DS充填剤
はピリジンとフェノールとの相対保持値及びピリジンテ
ーリングファクターが小さく、アミン類に対して不活性
であること、及び市販品及び従来品はエンドキャップが
良いものほどフェノールピークがテーリングするが、本
発明品はフェノールピークがないことが認められる。
in 波 長:254nm 分析条件2 試 料:ピリジン 600■ フェノール 4000■ 溶離液ニアセトニトリル/水(30/70)l mQ
/ min 波 長:254nm 第1表の結果より、本発明方法で製造した○DS充填剤
はピリジンとフェノールとの相対保持値及びピリジンテ
ーリングファクターが小さく、アミン類に対して不活性
であること、及び市販品及び従来品はエンドキャップが
良いものほどフェノールピークがテーリングするが、本
発明品はフェノールピークがないことが認められる。
第1図乃至第13図はそれぞれ本発明充填剤を用いて高
速液体クロマトグラフィーを行なったときのクロマトグ
ラムである。 出願人 財団法人 化学品検査協会 代理人 弁理士 小 島 隆 同 第1図 、 第2図 含 第5図 第6図 グ セ゛ シ 1 第13図 1し セ。
速液体クロマトグラフィーを行なったときのクロマトグ
ラムである。 出願人 財団法人 化学品検査協会 代理人 弁理士 小 島 隆 同 第1図 、 第2図 含 第5図 第6図 グ セ゛ シ 1 第13図 1し セ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、シリカゲルに下記式(1)又は(2) ▲数式、化学式、表等があります▼……(1) ▲数式、化学式、表等があります▼……(2) (但し、(1),(2)式においてR^1及びR^2は
それぞれ炭素数1〜30のアルキル基もしくはシクロア
ルキル基、フェニル基、CN−R^3−基又は▲数式、
化学式、表等があります▼(R^3及びR^4はそれぞ
れ炭素数1〜30のアルキレン基、R^5及びR^6は
それぞれ炭素数1〜10のアルキル基又は水素原子であ
る)、X^1及びX^2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子又は水酸基、nは1〜18、mは3〜20の整数を
示す。) で表わされる化合物を反応させて、シリカゲル表面に▲
数式、化学式、表等があります▼を導入することを特徴
とするク ロマトグラフィー用充填剤の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63074557A JPH01250059A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | クロマトグラフィー用充填剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63074557A JPH01250059A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | クロマトグラフィー用充填剤の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01250059A true JPH01250059A (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=13550651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63074557A Pending JPH01250059A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | クロマトグラフィー用充填剤の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01250059A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007010495A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Chemicals Evaluation & Research Institute | タンパク質又はポリペプチドの同定方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62110746A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-05-21 | Shiseido Co Ltd | 液体クロマトグラフイ−用充てん剤 |
JPS6367566A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-26 | Shiseido Co Ltd | 逆相液体クロマトグラフイ−用充てん剤 |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP63074557A patent/JPH01250059A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62110746A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-05-21 | Shiseido Co Ltd | 液体クロマトグラフイ−用充てん剤 |
JPS6367566A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-26 | Shiseido Co Ltd | 逆相液体クロマトグラフイ−用充てん剤 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007010495A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Chemicals Evaluation & Research Institute | タンパク質又はポリペプチドの同定方法 |
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