JPH01246254A - N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法 - Google Patents
N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法Info
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、−最大[11)
【式中R1は、水素または水酸基の保護基を表し、R2
は、炭素端数1〜4の直鎖または分岐低級アルキル基、
置換または無置換ビニル基、置換または無置換アリル基
、置換または無置換アリール基、または置換または無置
換アラルキル基を表し、R3,R4は一体となって酸素
原子を表すか、R3,R4の一方が水素原子のとき他方
は水酸基または保護された水酸基を表す。〕で示される
N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法に係わるも
のであり、このN−無置換−β−ラクタム誘導体はカル
バペネムまたはペネム系β−ラクタム抗生物質の鍵合成
中間体である4−アセトキシ−3−(アルコキシエチル
)−2−アゼチジノンの合成原料として用いられるもの
である(Tctrahedron Lctt、、 27
.5751. (1986))。
は、炭素端数1〜4の直鎖または分岐低級アルキル基、
置換または無置換ビニル基、置換または無置換アリル基
、置換または無置換アリール基、または置換または無置
換アラルキル基を表し、R3,R4は一体となって酸素
原子を表すか、R3,R4の一方が水素原子のとき他方
は水酸基または保護された水酸基を表す。〕で示される
N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法に係わるも
のであり、このN−無置換−β−ラクタム誘導体はカル
バペネムまたはペネム系β−ラクタム抗生物質の鍵合成
中間体である4−アセトキシ−3−(アルコキシエチル
)−2−アゼチジノンの合成原料として用いられるもの
である(Tctrahedron Lctt、、 27
.5751. (1986))。
[従来の技術]
従来、一般式(1)
〔式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を表
し、nは1または2を表す。)で示されるN−置換−β
−ラクタム誘導体から一般式〔■〕で示されるN−無置
換−β−ラクタム誘導体を合成する方法としては、硝酸
セリウムアンモニウム(以降CANと略する。)をアセ
トニトリル水溶液中で反応させて脱保護する方法が知ら
れている(Tctrahcdron Lctt、、 2
7.5751. (198B))。
し、nは1または2を表す。)で示されるN−置換−β
−ラクタム誘導体から一般式〔■〕で示されるN−無置
換−β−ラクタム誘導体を合成する方法としては、硝酸
セリウムアンモニウム(以降CANと略する。)をアセ
トニトリル水溶液中で反応させて脱保護する方法が知ら
れている(Tctrahcdron Lctt、、 2
7.5751. (198B))。
この方法ではCANが比較的高価なためにCANを触媒
量用いないかぎりこの脱保護の方法は高価なプロセスと
なる。しかし、現在のところCANを触媒量用いて一般
式CI)で示されるN−置換−β−ラクタム誘導体のN
位を脱保護する例は文献上見当たらないため、CANを
用いてこの工程を工業化することは困難な状況にあった
。
量用いないかぎりこの脱保護の方法は高価なプロセスと
なる。しかし、現在のところCANを触媒量用いて一般
式CI)で示されるN−置換−β−ラクタム誘導体のN
位を脱保護する例は文献上見当たらないため、CANを
用いてこの工程を工業化することは困難な状況にあった
。
更に、CANを多量に用いることは反応後に生じる水酸
化セリウムを除去する際に多大の手間を要するために設
備的にも難しい問題が多い。また、一般的には無害と言
われてはいるが、重金属であるセリウムを大量に排出す
ることには廃棄物処理の面で大きな問題があると考えら
れる。
化セリウムを除去する際に多大の手間を要するために設
備的にも難しい問題が多い。また、一般的には無害と言
われてはいるが、重金属であるセリウムを大量に排出す
ることには廃棄物処理の面で大きな問題があると考えら
れる。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、一般式(I)で示されるN−置換−β−
ラクタム誘導体のN位を脱保護する方法で種々検討した
結果、ベルオキソニ硫酸塩を用いることにより、前記の
脱保護が効果的に進行することを見いだし、本発明を完
成させたものである。
ラクタム誘導体のN位を脱保護する方法で種々検討した
結果、ベルオキソニ硫酸塩を用いることにより、前記の
脱保護が効果的に進行することを見いだし、本発明を完
成させたものである。
即ち、本発明は一般式(1)で表されるN−置換−β−
ラクタム誘導体を、有機溶媒水溶液中で、ベルオキソニ
硫酸塩により酸化的にN位を脱保護することを特徴とす
る一般式(II)で表されるN−無置換−β−ラクタム
誘導体の製造方法である。
ラクタム誘導体を、有機溶媒水溶液中で、ベルオキソニ
硫酸塩により酸化的にN位を脱保護することを特徴とす
る一般式(II)で表されるN−無置換−β−ラクタム
誘導体の製造方法である。
本発明の製造方法は一般に高収率で進行し、以下の式で
示されるようにN−無置換−β−ラクタム誘導体とジア
リールケトンとが得られる。
示されるようにN−無置換−β−ラクタム誘導体とジア
リールケトンとが得られる。
ベルオキソニ硫酸塩
得られたジアリールケトンは、以下の反応によって高収
率でジアリールメチルアミンに変換することが出来(J
、 Am、 Chem、 Soc、 70.1422゜
(194g)、 Tetrahedron 1.ett
、、 23.779. (19g2)参照〕、このジア
リールメチルアミンは一般式〔I〕で表されるβ−ラク
タム誘導体を製造するために再利用することが可能であ
る。つまり、本発明は、N−置換−β−ラクタム誘導体
の脱保護の有効な方法を提供するだけではなく、ジアリ
ールメチルアミンの原料となるジアリールケトンを■H
CONH2/MgCl12 本発明に使用する一般式CI)で示されるN−置換−β
−ラクタム誘導体の3位側鎖の水酸基の保護基(R1)
としては、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニル
シリルのようなシリル基、例えば、メトキシメチル、ベ
ンジルオキシメチル、t−ブトキシメチル、(2−メト
キシエトキシ)メチル、1−エトキシエチル、2−メト
キシ−2−プロピル、テトラヒドロピラニルのようなア
ルコキシメチル基、例えば、ベンジル、p−メトキシベ
ンジル、2,4 −ジメトキシベンジル、O−ニトロベ
ンジル、p−ニトロベンジル、ジフェニルメチル、トリ
メチルなどの置換あるいは無置換アリールメチル基、例
えば、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、p−メトキ
シベンゾイル、p−ニトロベンジルなどのアシル基、例
えば、メトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
、t−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル
基などを例示することが出来る。
率でジアリールメチルアミンに変換することが出来(J
、 Am、 Chem、 Soc、 70.1422゜
(194g)、 Tetrahedron 1.ett
、、 23.779. (19g2)参照〕、このジア
リールメチルアミンは一般式〔I〕で表されるβ−ラク
タム誘導体を製造するために再利用することが可能であ
る。つまり、本発明は、N−置換−β−ラクタム誘導体
の脱保護の有効な方法を提供するだけではなく、ジアリ
ールメチルアミンの原料となるジアリールケトンを■H
CONH2/MgCl12 本発明に使用する一般式CI)で示されるN−置換−β
−ラクタム誘導体の3位側鎖の水酸基の保護基(R1)
としては、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニル
シリルのようなシリル基、例えば、メトキシメチル、ベ
ンジルオキシメチル、t−ブトキシメチル、(2−メト
キシエトキシ)メチル、1−エトキシエチル、2−メト
キシ−2−プロピル、テトラヒドロピラニルのようなア
ルコキシメチル基、例えば、ベンジル、p−メトキシベ
ンジル、2,4 −ジメトキシベンジル、O−ニトロベ
ンジル、p−ニトロベンジル、ジフェニルメチル、トリ
メチルなどの置換あるいは無置換アリールメチル基、例
えば、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、p−メトキ
シベンゾイル、p−ニトロベンジルなどのアシル基、例
えば、メトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
、t−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル
基などを例示することが出来る。
また、4位側鎖の保護された水酸基CR3またはR)の
保護基としては、先のR1と同様に、例えば、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリ
ル、t−ブチルジフェニルシリルのようなシリル基、例
えば、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、t−ブ
トキシメチル、(2−メトキシエトキシ)メチル、1−
エトキシエチル、2−メトキシ−2−プロピル、テトラ
ヒドロピラニルのようなアルコキシメチル基、例えば、
ベンジル、p−メトキシベンジル、2.4−ジメトキシ
ベンジル、0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、
ジフェニルメチル、トリメチルなどの置換あるいは無置
換アリールメチル基、例えば、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、p−メトキシベンゾイル、p−ニトロベン
ゾイルなどのアシル基、例えば、メトキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニルな
どのアルコキシカルボニル基などを例示することが出来
る。
保護基としては、先のR1と同様に、例えば、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリ
ル、t−ブチルジフェニルシリルのようなシリル基、例
えば、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、t−ブ
トキシメチル、(2−メトキシエトキシ)メチル、1−
エトキシエチル、2−メトキシ−2−プロピル、テトラ
ヒドロピラニルのようなアルコキシメチル基、例えば、
ベンジル、p−メトキシベンジル、2.4−ジメトキシ
ベンジル、0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、
ジフェニルメチル、トリメチルなどの置換あるいは無置
換アリールメチル基、例えば、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、p−メトキシベンゾイル、p−ニトロベン
ゾイルなどのアシル基、例えば、メトキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニルな
どのアルコキシカルボニル基などを例示することが出来
る。
また、4位側鎖のR2としては、メチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t
−ブチル等の炭素数1〜4の直鎖または分岐低級アルキ
ル基、ビニル、1−プロペニル、2−メチル−1−プロ
ペニル、2−フェニルースチレニル等の置換または無置
換ビニル基、アリル、2−ブテニル、3−メチル−2−
ブテニル、3.3−ジフェニル−2−プロペニル等の置
換または無置換アリル基、フェニル、2−13−1若し
くは4−メトキシフェニル、またはエトキシフェニル、
2.4−ジメトキシフェニル、2−13−1若しくは4
−クロロフェニル、またはブロモフェニル、2.4−1
若しくは3.4−ジクロロフェニル、2−13−1若し
くは4−トリル、またはエチルフェニル、またはクメニ
ル、2.4−1若しくは2,5−キシリルなどの無置換
あるいは置換アリール基を例示することができる。
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t
−ブチル等の炭素数1〜4の直鎖または分岐低級アルキ
ル基、ビニル、1−プロペニル、2−メチル−1−プロ
ペニル、2−フェニルースチレニル等の置換または無置
換ビニル基、アリル、2−ブテニル、3−メチル−2−
ブテニル、3.3−ジフェニル−2−プロペニル等の置
換または無置換アリル基、フェニル、2−13−1若し
くは4−メトキシフェニル、またはエトキシフェニル、
2.4−ジメトキシフェニル、2−13−1若しくは4
−クロロフェニル、またはブロモフェニル、2.4−1
若しくは3.4−ジクロロフェニル、2−13−1若し
くは4−トリル、またはエチルフェニル、またはクメニ
ル、2.4−1若しくは2,5−キシリルなどの無置換
あるいは置換アリール基を例示することができる。
本反応に用いられるベルオキソニ硫酸塩には、ベルオキ
ソニ硫酸カリウム、ベルオキソニ硫酸ナトリウムおよび
ベルオキソニ硫酸アンモニウムが挙げられ、それぞれ市
販の試薬をそのまま精製することなく使用できる。これ
らベルオキソニ硫酸塩は、それぞれ−最大(1)で示さ
れるN−置換−β−ラクタム誘導体に対し1〜IO当量
用いられる。
ソニ硫酸カリウム、ベルオキソニ硫酸ナトリウムおよび
ベルオキソニ硫酸アンモニウムが挙げられ、それぞれ市
販の試薬をそのまま精製することなく使用できる。これ
らベルオキソニ硫酸塩は、それぞれ−最大(1)で示さ
れるN−置換−β−ラクタム誘導体に対し1〜IO当量
用いられる。
反応は、溶媒中において行われ、溶媒としては反応に関
与しないものであればいかなるものも使用できるが、好
ましくはアセトニトリル水溶液、アセトン水溶液および
メタノール水溶液等が用いられる。これら好ましく用い
られる有機溶媒水溶液中の有機溶媒の割合は、反応する
原料のN−置換−β−ラクタム誘導体や有機溶媒の種類
によって変化するが、一般には30〜90%の割合で用
いられる。また、上記の有機溶媒水溶液にN、N−ジメ
チルホルムアミド、アセトアミド等の非プロトン性極性
溶媒をN−置換−β−ラクタム誘導体に対し1〜20当
量添加した溶媒も好ましく用いることが出来る。
与しないものであればいかなるものも使用できるが、好
ましくはアセトニトリル水溶液、アセトン水溶液および
メタノール水溶液等が用いられる。これら好ましく用い
られる有機溶媒水溶液中の有機溶媒の割合は、反応する
原料のN−置換−β−ラクタム誘導体や有機溶媒の種類
によって変化するが、一般には30〜90%の割合で用
いられる。また、上記の有機溶媒水溶液にN、N−ジメ
チルホルムアミド、アセトアミド等の非プロトン性極性
溶媒をN−置換−β−ラクタム誘導体に対し1〜20当
量添加した溶媒も好ましく用いることが出来る。
反応は、−最大CI)で示されるN−置換−β−ラクタ
ム誘導体のジアリールメチル基へのベルオキソニ硫酸塩
による酸化反応を脱保護に応用している。この際、硫酸
水素塩と硫酸が副生ずるが、副生するこれら硫酸水素塩
と硫酸とを中和し、系の水素イオン濃度(ptl)をp
113〜IOの範囲に保つことは、本発明において不可
欠の条件であり、そのための中和剤として、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、アンモニア水等の水酸化アル
カリ、リン酸水素−ナトリウム、リン酸水素二ナトリウ
ム、リン酸水素−カリウム、リン酸水素二カリウム、リ
ン酸水素−アンモニウム、リン酸水素二アンモニウムお
よびリン酸アンモニウム等のリン酸塩あるいはリン酸水
素塩、または、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸アンモニウ
ム等の炭酸塩あるいは炭酸水素塩を例示することができ
る。これらを単独あるいは組み合わせて用いることによ
り反応系のpHを上記の範囲内に調整するものである。
ム誘導体のジアリールメチル基へのベルオキソニ硫酸塩
による酸化反応を脱保護に応用している。この際、硫酸
水素塩と硫酸が副生ずるが、副生するこれら硫酸水素塩
と硫酸とを中和し、系の水素イオン濃度(ptl)をp
113〜IOの範囲に保つことは、本発明において不可
欠の条件であり、そのための中和剤として、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、アンモニア水等の水酸化アル
カリ、リン酸水素−ナトリウム、リン酸水素二ナトリウ
ム、リン酸水素−カリウム、リン酸水素二カリウム、リ
ン酸水素−アンモニウム、リン酸水素二アンモニウムお
よびリン酸アンモニウム等のリン酸塩あるいはリン酸水
素塩、または、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸アンモニウ
ム等の炭酸塩あるいは炭酸水素塩を例示することができ
る。これらを単独あるいは組み合わせて用いることによ
り反応系のpHを上記の範囲内に調整するものである。
一般式[I]で示されるN−置換−β−ラクタム誘導体
のN位の脱保護の反応は50〜100℃にて円滑に進行
し、反応後得られた反応液を常法によって処理すること
により一般式(n)で示されるN−無置換−β−ラクタ
ム誘導体が得られる。
のN位の脱保護の反応は50〜100℃にて円滑に進行
し、反応後得られた反応液を常法によって処理すること
により一般式(n)で示されるN−無置換−β−ラクタ
ム誘導体が得られる。
[実 施 例]
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではない。な
お、実施例で示される原料化合物はCheIl、 Le
tt、、 455. (1987)および参考例の方法
により合成した。
明はこれらの実施例により限定されるものではない。な
お、実施例で示される原料化合物はCheIl、 Le
tt、、 455. (1987)および参考例の方法
により合成した。
参考例 1
in Toluene
N−りooスクシンイミド579.5mg (4,34
mmol)をトルエン32m1に添加し、40℃にて完
全に溶解した。この溶液を室温まで徐々に冷却し、ジメ
チルスルフィド444μQ (8,07111111O
+)を添加した。この溶液を更に0℃まで冷却し、その
まま15分間攪はんした。その後、反応液を一25℃ま
で冷却し、(3S、4S、1′R,1’ 5)−1−(
ジ−p−アユシルメチル)−3−(1’−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−4−(1’ −ヒドロキ
シエチル)−2−アゼチジノン1445.1mg (2
,8911mo I )をトルエン3mlに溶かした溶
液を徐々に滴下し、そのまま−25℃にて2時間攪はん
した。
mmol)をトルエン32m1に添加し、40℃にて完
全に溶解した。この溶液を室温まで徐々に冷却し、ジメ
チルスルフィド444μQ (8,07111111O
+)を添加した。この溶液を更に0℃まで冷却し、その
まま15分間攪はんした。その後、反応液を一25℃ま
で冷却し、(3S、4S、1′R,1’ 5)−1−(
ジ−p−アユシルメチル)−3−(1’−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−4−(1’ −ヒドロキ
シエチル)−2−アゼチジノン1445.1mg (2
,8911mo I )をトルエン3mlに溶かした溶
液を徐々に滴下し、そのまま−25℃にて2時間攪はん
した。
反応後にトリエチルアミン642μaを加え15分間攪
はんし、その後室温まで戻し更に30分間攪はんした。
はんし、その後室温まで戻し更に30分間攪はんした。
その後、反応液を1規定塩酸1mlで洗浄した後、有機
層を飽和食塩水で更に洗浄した。有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラム(ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢
酸エチル−9:1)で分離精製し、(3S、4S、1’
5)−1−(p−ジアニシルメチル)−3−(1’−t
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセチル
−2−アゼチジノン1409.4ng (収率98%)
を得た。
層を飽和食塩水で更に洗浄した。有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラム(ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢
酸エチル−9:1)で分離精製し、(3S、4S、1’
5)−1−(p−ジアニシルメチル)−3−(1’−t
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセチル
−2−アゼチジノン1409.4ng (収率98%)
を得た。
H−NMR(CDCR3)δ
一〇、03 C3H,s 、(CHa ) S I
)=0.05 (3H,s、(CHa ) sl 〕
−0,85[9H,s、、 (CH3) 3−C)−
1,+8 (3H,d、 CH3) =1−77 C3H2s 、 CH3)=2.88 (
IH,m、CH) −3,72[6H9s 、 CH30X 2)−4,L
L (2H,m、CHx2) =5.7[i (IH,s、CHI −6,75〜7,26 [8H,m、(C2H3OMc)X2)実施例 1 アセトン水溶液 (3S、45.1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン153.3mg
(0,308mmol)を90%アセトン水溶液7.
7 mlに溶解した。この溶液に90%ベルオキソニ硫
酸ナトリウム825゜hg (3,08s層of)とリ
ン酸水素二ナトリウム437.3a+g (3,08m
層of)を水7.7mlに溶かした溶液を、アセトンリ
フラックスの条件で10分毎に3分割して(約2 、
Omlづつ)滴下した。
)=0.05 (3H,s、(CHa ) sl 〕
−0,85[9H,s、、 (CH3) 3−C)−
1,+8 (3H,d、 CH3) =1−77 C3H2s 、 CH3)=2.88 (
IH,m、CH) −3,72[6H9s 、 CH30X 2)−4,L
L (2H,m、CHx2) =5.7[i (IH,s、CHI −6,75〜7,26 [8H,m、(C2H3OMc)X2)実施例 1 アセトン水溶液 (3S、45.1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン153.3mg
(0,308mmol)を90%アセトン水溶液7.
7 mlに溶解した。この溶液に90%ベルオキソニ硫
酸ナトリウム825゜hg (3,08s層of)とリ
ン酸水素二ナトリウム437.3a+g (3,08m
層of)を水7.7mlに溶かした溶液を、アセトンリ
フラックスの条件で10分毎に3分割して(約2 、
Omlづつ)滴下した。
反応液をリフラックスさせながら更に1時間攪はんし反
応を完結させた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま
減圧下でアセトンを留去させた。
応を完結させた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま
減圧下でアセトンを留去させた。
アセトンを留去させた水層を酢酸エチル20m1で2回
抽出し、酢酸エチル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下で溶媒を留去した後の残渣をシリカゲル
カラム(ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル
−9=1)で分離精製して(3S、4S、1’R)−3
−(r−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4
−アセチル−2−アゼチジノンの白色結晶74.4mg
(収率89%)を得た。
抽出し、酢酸エチル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下で溶媒を留去した後の残渣をシリカゲル
カラム(ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル
−9=1)で分離精製して(3S、4S、1’R)−3
−(r−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4
−アセチル−2−アゼチジノンの白色結晶74.4mg
(収率89%)を得た。
得られた結晶をヘキサンにて再結晶し融点72.5〜7
3.5℃の白色結晶を得た。
3.5℃の白色結晶を得た。
H−NMR(CDCN 3)δ
一〇−11(6H,s 、(CH3S l ) ×2)
−mo、90 (9H,s 、(CHa C) X
3)−1,13(3H,d、 CH3) −2,25(3H,s 、 CHa) −3,08(IH,m、CH) =4.28 (2H,m、CHx2) =6.05 (I H,b s、 NH)このNMR
スペクトルデータは標品のスペクトルデータと一致した
。
−mo、90 (9H,s 、(CHa C) X
3)−1,13(3H,d、 CH3) −2,25(3H,s 、 CHa) −3,08(IH,m、CH) =4.28 (2H,m、CHx2) =6.05 (I H,b s、 NH)このNMR
スペクトルデータは標品のスペクトルデータと一致した
。
実施例 2
アセトニトリル水溶液
(3S、4S、1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン209.5mg
(0,421mmol)を90%アセトニトリル水溶
液10m1に溶解した。この溶液に90%ベルオキソニ
硫酸ナトリウム1.113g (4,21smol)と
リン酸水素二ナトリウム597.7mg (4,21m
mol)を水10m1に溶かした溶液を、75℃で10
分毎に3分割して(約3.3mlづつ)滴下した。反応
液を75℃で更に2分間攪はんし反応を完結させた。反
応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でアセトニト
リルを留去させた。アセトニトリルを留去させた水層を
酢酸エチル25m1と15m1で2回抽出し、酢酸エチ
ル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で
溶媒を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロ
メタン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9:1)で分離
精製して(3S、4S。
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン209.5mg
(0,421mmol)を90%アセトニトリル水溶
液10m1に溶解した。この溶液に90%ベルオキソニ
硫酸ナトリウム1.113g (4,21smol)と
リン酸水素二ナトリウム597.7mg (4,21m
mol)を水10m1に溶かした溶液を、75℃で10
分毎に3分割して(約3.3mlづつ)滴下した。反応
液を75℃で更に2分間攪はんし反応を完結させた。反
応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でアセトニト
リルを留去させた。アセトニトリルを留去させた水層を
酢酸エチル25m1と15m1で2回抽出し、酢酸エチ
ル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で
溶媒を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロ
メタン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9:1)で分離
精製して(3S、4S。
1’R)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル)−4−アセチル−2−アゼチジノンの白色結
晶LO1,3■(収率89%)を得た。
シエチル)−4−アセチル−2−アゼチジノンの白色結
晶LO1,3■(収率89%)を得た。
得られた結晶のNMRは先の実施例のNMRと一致した
。
。
実施例 3
アセトニトリル水溶液
(3S、4S、1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン61.3I1g
(0,123auaol)を90%アセトニトリル水
溶液3.Omlに溶解した。この溶液にベルオキソニ硫
酸カリウム333.0II1g (1,23a+mol
)とリン酸水素−カリウム187.8a+g (1,2
3maol)を水3.0mlに溶かした溶液を、75℃
で10分毎に3分割して(約1.Omlづつ)滴下した
。反応液を75℃で更にlO分間攪はんし反応を完結さ
せた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でア
セトニトリルを留去させた。アセトニトリルを留去させ
た水層を酢酸エチル10m1で2回抽出し、酢酸エチル
層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶
媒を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメ
タン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9=1)で分離精
製して(3S、4S。
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン61.3I1g
(0,123auaol)を90%アセトニトリル水
溶液3.Omlに溶解した。この溶液にベルオキソニ硫
酸カリウム333.0II1g (1,23a+mol
)とリン酸水素−カリウム187.8a+g (1,2
3maol)を水3.0mlに溶かした溶液を、75℃
で10分毎に3分割して(約1.Omlづつ)滴下した
。反応液を75℃で更にlO分間攪はんし反応を完結さ
せた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でア
セトニトリルを留去させた。アセトニトリルを留去させ
た水層を酢酸エチル10m1で2回抽出し、酢酸エチル
層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶
媒を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメ
タン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9=1)で分離精
製して(3S、4S。
1’R) −3−(1’−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−4−アセチル−2−アゼチジノンの白
色結晶28.2w+g (収率78%)を得た。
オキシエチル)−4−アセチル−2−アゼチジノンの白
色結晶28.2w+g (収率78%)を得た。
得られた結晶のNMRは先の実施例のNMRと一致した
。
。
実施例 4
アセトニトリル水溶液
(BS、4S、1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2,−アゼチジノン87.7mg
(0,176mll1ol)とベルオキソニ硫酸カリ
ウム47(i、3mg (1,76m5ol)とリン酸
水素二カリウム306.9mg (1,7[immol
)を50%アセトニトリル水溶液14m1に溶解した。
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2,−アゼチジノン87.7mg
(0,176mll1ol)とベルオキソニ硫酸カリ
ウム47(i、3mg (1,76m5ol)とリン酸
水素二カリウム306.9mg (1,7[immol
)を50%アセトニトリル水溶液14m1に溶解した。
この溶液を60℃に加熱し、更に1時間20分間攪はん
した。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でア
セトニトリルを留去させた。アセトニトリルを留去させ
た水層を酢酸エチル4mlで3回抽出し、酢酸エチル層
を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒
を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタ
ン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9=1)で分離精製
して(3S、4S、1’R)−3−(1’−t−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル)−4−アセチル−2−ア
ゼチジノンの白色結晶34.0mg (収率71%)を
得た。
した。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でア
セトニトリルを留去させた。アセトニトリルを留去させ
た水層を酢酸エチル4mlで3回抽出し、酢酸エチル層
を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒
を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタ
ン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9=1)で分離精製
して(3S、4S、1’R)−3−(1’−t−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル)−4−アセチル−2−ア
ゼチジノンの白色結晶34.0mg (収率71%)を
得た。
得られた結晶のNMRは先の実施例のNMRと一致した
。
。
実施例 5
アセトニトリル水溶液
(3S、43.1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン250.6a+
g (0,504n+l1ol)を90%アセトニトリ
ル水溶113m1に溶解したのちN、N−ジメチルアセ
トアミド465μgを添加した。この溶液にベルオキソ
二硫酸カリウム1.381 g (5,04mmol)
とリン酸水素二カリウム877.2mg (5,04m
aol)を水13m1に溶かした溶液を、75℃で10
分毎に3分割して(約4.3mlづつ)滴下した。反応
液を75℃で更に35分間攪はんし反応を完結させた。
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン250.6a+
g (0,504n+l1ol)を90%アセトニトリ
ル水溶113m1に溶解したのちN、N−ジメチルアセ
トアミド465μgを添加した。この溶液にベルオキソ
二硫酸カリウム1.381 g (5,04mmol)
とリン酸水素二カリウム877.2mg (5,04m
aol)を水13m1に溶かした溶液を、75℃で10
分毎に3分割して(約4.3mlづつ)滴下した。反応
液を75℃で更に35分間攪はんし反応を完結させた。
反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でアセトニ
トリルを留去させた。アセトニトリルを留去させた水層
を酢酸エチル15m1で3回抽出し、酢酸エチル層を合
わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留
去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン−
ジクロロメタン:酢酸エチル−9:1)で分離精製して
(3S、43.1’R)−3−(1’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−4−アセチル−2−アゼチ
ジノンの白色結晶109.7mg (収率80%)を得
た。
トリルを留去させた。アセトニトリルを留去させた水層
を酢酸エチル15m1で3回抽出し、酢酸エチル層を合
わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留
去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン−
ジクロロメタン:酢酸エチル−9:1)で分離精製して
(3S、43.1’R)−3−(1’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−4−アセチル−2−アゼチ
ジノンの白色結晶109.7mg (収率80%)を得
た。
得られた結晶のNMRは先の実施例のNMRと一致した
。
。
実施例 6
アセトニトリル水溶液
(3S、4S、1’R)−1−(p−ジアニシルメチル
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン58.1mg
(0,117IIIlol)を90%アセトニトリル水
溶液2.9mlに溶解した。この溶液にベルオキソニ硫
酸アンモニウム28B、4a+g (1,17mmol
)とリン酸水素二アンモニウム154.2mg (1,
17+nol)を水2.9mlに溶かした溶液を、75
℃で10分毎に3分割して(約1.Omlづつ)滴下し
た。反応液を75℃にて更に30分間攪はんし反応を完
結させた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下
でアセトニトリルを留去させた。アセトニトリルを留去
させた水層を酢酸エチル10m1で2回抽出し、酢酸エ
チル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
で溶媒を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロ
ロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9=1)で分
離精製して(3S、4S。
)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル)−4−アセチル−2−アゼチジノン58.1mg
(0,117IIIlol)を90%アセトニトリル水
溶液2.9mlに溶解した。この溶液にベルオキソニ硫
酸アンモニウム28B、4a+g (1,17mmol
)とリン酸水素二アンモニウム154.2mg (1,
17+nol)を水2.9mlに溶かした溶液を、75
℃で10分毎に3分割して(約1.Omlづつ)滴下し
た。反応液を75℃にて更に30分間攪はんし反応を完
結させた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下
でアセトニトリルを留去させた。アセトニトリルを留去
させた水層を酢酸エチル10m1で2回抽出し、酢酸エ
チル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
で溶媒を留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロ
ロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル−9=1)で分
離精製して(3S、4S。
1’R) −3−(1’−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−4−アセチル−2−アゼチジノンの白
色結晶23.0mg (収率72%)を得た。
オキシエチル)−4−アセチル−2−アゼチジノンの白
色結晶23.0mg (収率72%)を得た。
得られた結晶のNMRは先の実施例のNMRと一致した
。
。
実施例 7
アセトン水溶液
(3S、4S、1’R,1’ R)−1−(p −ジア
ニシルメチル)−3−C1’−ヒドロキシエチル)−4
−(1’−ベンジルオキシエチル)−2−アゼチジノン
2G3.7mg (0,554mmol)を90%ア七
トン水溶液13.2mlに溶解した。この溶液に90%
ペルオキソニ硫酸ナトリウム1.487g (5,54
mmol)とリン酸水素二ナトリウム787.2mg
(5,54ma+ol)を水13.2mlに溶かした溶
液を、アセトンリフラックスの条件で10分毎に3分割
して(約4.4mlづつ)滴下した。反応液をリフラッ
クスさせながら更に40分間攪はんし反応を完結させた
。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でアセト
ンを留去させた。アセトンを留去させた水層を酢酸エチ
ル20m1で2回抽出し、酢酸エチル層を合わせて硫酸
マグネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去した後
の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン−ジクロロ
メタン:酢酸エチル−2:1〜4:1)で分離精製して
(3S、 4S、 1’R。
ニシルメチル)−3−C1’−ヒドロキシエチル)−4
−(1’−ベンジルオキシエチル)−2−アゼチジノン
2G3.7mg (0,554mmol)を90%ア七
トン水溶液13.2mlに溶解した。この溶液に90%
ペルオキソニ硫酸ナトリウム1.487g (5,54
mmol)とリン酸水素二ナトリウム787.2mg
(5,54ma+ol)を水13.2mlに溶かした溶
液を、アセトンリフラックスの条件で10分毎に3分割
して(約4.4mlづつ)滴下した。反応液をリフラッ
クスさせながら更に40分間攪はんし反応を完結させた
。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減圧下でアセト
ンを留去させた。アセトンを留去させた水層を酢酸エチ
ル20m1で2回抽出し、酢酸エチル層を合わせて硫酸
マグネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去した後
の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン−ジクロロ
メタン:酢酸エチル−2:1〜4:1)で分離精製して
(3S、 4S、 1’R。
1’ 5)−3−(1’−ヒドロキシエチル)−4−(
1′−ベンジルオキシエチル)−2−アゼチジノンの白
色結晶99.2mg (収率72%)を得た。
1′−ベンジルオキシエチル)−2−アゼチジノンの白
色結晶99.2mg (収率72%)を得た。
得られた結晶をメタノールにて再結晶し、融点129〜
130℃の白色結晶を得た。
130℃の白色結晶を得た。
H−NMRCCDCl 3)δ
−1,25[3H,d、 CH3)
−1,31[3H,d、 CH3]
=2.88 (IH,m、CH)
−3,58(2H,m、CHx2)
−4,16(IH,m、CH:1
−4.55 C2H,dd、 CH2−Ph)=5.9
5 (I H,b s、 NH)−7,25(5H,
S、 C6H3) このNMRスペクトルデータは標品のスペクトルデータ
と一致した。
5 (I H,b s、 NH)−7,25(5H,
S、 C6H3) このNMRスペクトルデータは標品のスペクトルデータ
と一致した。
実施例 8
アセトン水溶液
(3S、4S、1’R,1’ R)−1,−(p −ジ
アニシルメチル)−3−(1”−t−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル)−4−(1’ −ベンジルオキシエ
チル)−2−アゼチジノン237.2mg(0,402
ma+ol)を90%アセトン水溶液11.9mlに溶
解した。この溶液に9026ベルオキソニ硫酸ナトリウ
ム1.0(i4g (4,02ma+ol)とリン酸水
素二ナトリウム570.9mg (4,02mff1o
l)を水11.9mlに溶かした溶液を、アセトンリフ
ラックスの条件で10分毎に3分割して(約4.Oml
づつ)滴下した。反応液をリフラックスさせながら更に
45分間攪はんし反応を完結させた。反応液を氷水で冷
却しながらそのまま減圧下でアセトンを留去させた。ア
セトンを留去させた水層を酢酸エチル20m1で2回抽
出し、酢酸エチル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下で溶媒を留去した後の残渣をシリカゲルカ
ラム(ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル−
19:1)で分離精製して(3S、 4S。
アニシルメチル)−3−(1”−t−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル)−4−(1’ −ベンジルオキシエ
チル)−2−アゼチジノン237.2mg(0,402
ma+ol)を90%アセトン水溶液11.9mlに溶
解した。この溶液に9026ベルオキソニ硫酸ナトリウ
ム1.0(i4g (4,02ma+ol)とリン酸水
素二ナトリウム570.9mg (4,02mff1o
l)を水11.9mlに溶かした溶液を、アセトンリフ
ラックスの条件で10分毎に3分割して(約4.Oml
づつ)滴下した。反応液をリフラックスさせながら更に
45分間攪はんし反応を完結させた。反応液を氷水で冷
却しながらそのまま減圧下でアセトンを留去させた。ア
セトンを留去させた水層を酢酸エチル20m1で2回抽
出し、酢酸エチル層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下で溶媒を留去した後の残渣をシリカゲルカ
ラム(ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル−
19:1)で分離精製して(3S、 4S。
1’R,1’ S) −3−(1’−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−4−(1’ −ベンジルオ
キシエチル)−2−アゼチジノンの無色オイル99.5
+ag (収率68%)を得た。
ルシリルオキシエチル)−4−(1’ −ベンジルオ
キシエチル)−2−アゼチジノンの無色オイル99.5
+ag (収率68%)を得た。
H−NMR(CD(Jl 3)δ
−〇−07 [6H2s 、(CHa S I)×2
)−〇、871:9H,s、 (CHa C) X
3)利、22 (3H,d、 CH3) 帽、25 (3H,d、 CH3) −2,74(IH,m、CH) =3.52 (2H,m、CHx2] −4,17(L H,qulnL 、 CH)−4,
47(2H,dd、 CH2−Ph)=5.87 (I
H,b s NH)−7,25(5H,S、 C6
H3) このNMRスペクトルデータは標品のスペクト ゛ルデ
ータと一致した。
)−〇、871:9H,s、 (CHa C) X
3)利、22 (3H,d、 CH3) 帽、25 (3H,d、 CH3) −2,74(IH,m、CH) =3.52 (2H,m、CHx2] −4,17(L H,qulnL 、 CH)−4,
47(2H,dd、 CH2−Ph)=5.87 (I
H,b s NH)−7,25(5H,S、 C6
H3) このNMRスペクトルデータは標品のスペクト ゛ルデ
ータと一致した。
実施例 9
アセトン水溶液
(3S、4S、1’R,1’ R)−1−(p−ジアニ
シルメチル)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−4−(1’ −ヒドロキシエチル)
−2−アゼチジノン40.3mg(0,081gmol
)を90%アセトン水溶液2.Omlに溶解した。この
溶液に90%ベルオキソニ硫酸ナトリウム2134mg
(0,808smol)とリン酸水素二ナトリウム1
14.5mg (0,806+uol)を水2.0ml
に溶かした溶液を、アセトンリフラックスの条件で10
分毎に3分割して(約0.7mlづつ)滴下した。反応
液をリフラックスさせながら更に40分間攪はんし反応
を完結させた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減
圧下でアセトンを留去させた。アセトンを留去させた水
層を酢酸エチル10m1で2回抽出し、酢酸エチル層を
合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン
−ジクロロメタン:酢酸エチル−19:1)で分離精製
して(3S。
シルメチル)−3−(1’−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−4−(1’ −ヒドロキシエチル)
−2−アゼチジノン40.3mg(0,081gmol
)を90%アセトン水溶液2.Omlに溶解した。この
溶液に90%ベルオキソニ硫酸ナトリウム2134mg
(0,808smol)とリン酸水素二ナトリウム1
14.5mg (0,806+uol)を水2.0ml
に溶かした溶液を、アセトンリフラックスの条件で10
分毎に3分割して(約0.7mlづつ)滴下した。反応
液をリフラックスさせながら更に40分間攪はんし反応
を完結させた。反応液を氷水で冷却しながらそのまま減
圧下でアセトンを留去させた。アセトンを留去させた水
層を酢酸エチル10m1で2回抽出し、酢酸エチル層を
合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後の残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン
−ジクロロメタン:酢酸エチル−19:1)で分離精製
して(3S。
4S、1’R,1’ 5)−3〜 (1’−t−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル)−4−(1’ −ヒド
ロキシエチル)−2−アゼチジノンの無色オイル5.1
mg (収率23%)を得た。
ジメチルシリルオキシエチル)−4−(1’ −ヒド
ロキシエチル)−2−アゼチジノンの無色オイル5.1
mg (収率23%)を得た。
H−NMR(CDCN 3)δ
一〇、08 (6H,s、(CHa Sl)×23−
〇、88 C9H,s 、(CHa C) ×3 )
−1,23[3H,d、 CH3) −1,25[:3H,d、 CH3) =2.85 [IH,m、CH) −3,55(2H,dd、CH) −3,72(IH,m、CH) −4,20(I H,quint 、 CH)=I3
.11 (I H,b s NH)このNMRスペ
クトルデータは標品のスペクトルデータと一致した。
〇、88 C9H,s 、(CHa C) ×3 )
−1,23[3H,d、 CH3) −1,25[:3H,d、 CH3) =2.85 [IH,m、CH) −3,55(2H,dd、CH) −3,72(IH,m、CH) −4,20(I H,quint 、 CH)=I3
.11 (I H,b s NH)このNMRスペ
クトルデータは標品のスペクトルデータと一致した。
参考例 2
HCΩ
mメタノール
97%ジーp−アニシルケトン9.29g(37amo
l)とギ酸アンモニウム14.07 g (220aa
+ol)を180〜190℃で4時間攪はんし、次いで
ホルムアミド5.0 g (11111a+ol)と無
水塩化マグネシウム247mgを添加し、同温度で2時
間攪はんした。反応液を冷却後塩化メチレンを加えて反
応混合物を溶解したあと有機層を水洗した。水洗後の有
機層を減圧乾固しlO,25g、 (粗衣率:102%
)のホルミルアミン体を得た。これに約1規定塩酸メタ
ノール溶液(市販の塩酸をメタノールで12倍に希釈し
たもの) 55m1を加え環境下2時間反応した。冷却
後減圧乾固し、水50m1に溶解し不溶物をトルエン5
0m1で二回抽出した。水層に50%水酸化ナトリウム
水溶液を加えてpH+2とした後トルエン50m1で二
回抽出し硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で
留去することにより目的とするジ−p−アユシルメチル
アミンが薄黄色の結晶として8.48g (収率94%
)で得られた。
l)とギ酸アンモニウム14.07 g (220aa
+ol)を180〜190℃で4時間攪はんし、次いで
ホルムアミド5.0 g (11111a+ol)と無
水塩化マグネシウム247mgを添加し、同温度で2時
間攪はんした。反応液を冷却後塩化メチレンを加えて反
応混合物を溶解したあと有機層を水洗した。水洗後の有
機層を減圧乾固しlO,25g、 (粗衣率:102%
)のホルミルアミン体を得た。これに約1規定塩酸メタ
ノール溶液(市販の塩酸をメタノールで12倍に希釈し
たもの) 55m1を加え環境下2時間反応した。冷却
後減圧乾固し、水50m1に溶解し不溶物をトルエン5
0m1で二回抽出した。水層に50%水酸化ナトリウム
水溶液を加えてpH+2とした後トルエン50m1で二
回抽出し硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で
留去することにより目的とするジ−p−アユシルメチル
アミンが薄黄色の結晶として8.48g (収率94%
)で得られた。
H−NMR(CDCΩ3)δ
−t、7o [2H,s、 NH2]
−3,77C6H,s 、(CHa O) ×2)=5
.12[IH,s、CH) −6,78〜7.31
.12[IH,s、CH) −6,78〜7.31
Claims (1)
- (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は、水素または水酸基の保護基を表し、R
^2は、炭素数1〜4の直鎖または分岐低級アルキル基
、置換または無置換ビニル基、置換または無置換アリル
基、置換または無置換アリール基、または置換または無
置換アラルキル基を表し、R^3、R^4は一体となっ
て酸素原子を表すか、R^3、R^4の一方が水素原子
のとき他方は水酸基または保護された水酸基を表し、n
は1または2を表す。〕で表されるN−置換−β−ラク
タム誘導体を、有機溶媒水溶液中で、ペルオキソ二硫酸
塩により酸化的にN位を脱保護することを特徴とする一
般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1、R^2、R^3、R^4は前記と同じ意
味を表す。〕で表されるN−無置換−β−ラクタム誘導
体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63072999A JPH01246254A (ja) | 1988-03-26 | 1988-03-26 | N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63072999A JPH01246254A (ja) | 1988-03-26 | 1988-03-26 | N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01246254A true JPH01246254A (ja) | 1989-10-02 |
Family
ID=13505623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63072999A Pending JPH01246254A (ja) | 1988-03-26 | 1988-03-26 | N−無置換−β−ラクタム誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01246254A (ja) |
-
1988
- 1988-03-26 JP JP63072999A patent/JPH01246254A/ja active Pending
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