JPH01222223A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH01222223A JPH01222223A JP4738988A JP4738988A JPH01222223A JP H01222223 A JPH01222223 A JP H01222223A JP 4738988 A JP4738988 A JP 4738988A JP 4738988 A JP4738988 A JP 4738988A JP H01222223 A JPH01222223 A JP H01222223A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 57
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 7
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 18
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 18
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示素子(以下、LCDと称す)の製造方
法に係り、特に、5−TN (SuperTwiste
d Nemati c)型LCDのように液晶セルのギ
ャップの均一性が要求されるLCDの製造方法に関する
。
法に係り、特に、5−TN (SuperTwiste
d Nemati c)型LCDのように液晶セルのギ
ャップの均一性が要求されるLCDの製造方法に関する
。
TN型LCD等のLCDは、従来、次のような工程で液
晶セルが製造されている。
晶セルが製造されている。
すなわち、ガラス基板上に透明電極をパターン形成して
なる一方の電極基板の表面に、セルギャップに相当する
直径を有するガラススペーサを振りまいた後、この電極
基板と他方の電極基板をシール材を介して貼り合わせ、
これをカッティングして空セル容器を多数個取りする。
なる一方の電極基板の表面に、セルギャップに相当する
直径を有するガラススペーサを振りまいた後、この電極
基板と他方の電極基板をシール材を介して貼り合わせ、
これをカッティングして空セル容器を多数個取りする。
しかる後、こうして得た空セル容器の上下の電極基板間
に液晶を注入し、注入孔を封止することにより、両電極
基板間のギャップ(セルギャップ)を上記ガラススペー
サにて規定した液晶セルを得る。
に液晶を注入し、注入孔を封止することにより、両電極
基板間のギャップ(セルギャップ)を上記ガラススペー
サにて規定した液晶セルを得る。
第4図は、このようにして作成された液晶セルの断面図
であって、符号1,2は上下の電極基板、3.4はガラ
ス基板、5,6はITO膜等からなる透明電極、7は上
下のガラス基板3.4の周縁部を接合しているシール材
、8は液晶、9はセルギャップを規制している無色透明
なガラススペーサであり、このガラススペーサ9として
は高い寸法精度が得られるもの、例えば窯アルカリのガ
ラス棒状体からなるマイクロロッド〔日本電気硝子■製
〕が用いられる。
であって、符号1,2は上下の電極基板、3.4はガラ
ス基板、5,6はITO膜等からなる透明電極、7は上
下のガラス基板3.4の周縁部を接合しているシール材
、8は液晶、9はセルギャップを規制している無色透明
なガラススペーサであり、このガラススペーサ9として
は高い寸法精度が得られるもの、例えば窯アルカリのガ
ラス棒状体からなるマイクロロッド〔日本電気硝子■製
〕が用いられる。
ところで、セルギャップが約10μmのTN型LCDの
場合、セルギャップのばらつきが±0.5μm以内であ
れば色むらを生じない。これに対し、セルギャップが約
7μmで、液晶分子の捩れ角を180°以上にした複屈
折効果を利用している5−TN型LCDの場合、セルギ
ャップのばらつきを±0.1μm以内に抑えないと色む
らを生じてしまう。
場合、セルギャップのばらつきが±0.5μm以内であ
れば色むらを生じない。これに対し、セルギャップが約
7μmで、液晶分子の捩れ角を180°以上にした複屈
折効果を利用している5−TN型LCDの場合、セルギ
ャップのばらつきを±0.1μm以内に抑えないと色む
らを生じてしまう。
このような5−TN型LCDを上述した従来技術で製造
しようとすると、例えば、直径が7.0±0.1μmの
ガラススペーサを、フレオンとイソプロピルアルコール
の混合溶液に添加し、この溶液を窒素ガスにより噴霧し
て電極基板上に振りまくが、ガラススペーサを一様な分
布密度で振りまくことは不可能なため、ガラススペーサ
が密な部分と疎な部分とでセルギャップが±0.5μm
程度ばらついてしまう。したがって、従来技術で5−T
N型LCDを製造すると、歩留まりが著しく低下してし
まうという不具合があった。
しようとすると、例えば、直径が7.0±0.1μmの
ガラススペーサを、フレオンとイソプロピルアルコール
の混合溶液に添加し、この溶液を窒素ガスにより噴霧し
て電極基板上に振りまくが、ガラススペーサを一様な分
布密度で振りまくことは不可能なため、ガラススペーサ
が密な部分と疎な部分とでセルギャップが±0.5μm
程度ばらついてしまう。したがって、従来技術で5−T
N型LCDを製造すると、歩留まりが著しく低下してし
まうという不具合があった。
本発明は畝上の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は、セルギャップの均一性が確保できるLCDの製造
方法を提供することにある。
的は、セルギャップの均一性が確保できるLCDの製造
方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、予め液晶にスペ
ーサを添加しておき、このスペーサを含有する液晶を空
セル容器内へ注入するとともに、この注入作業を超音波
を印加しながら行うようにした。
ーサを添加しておき、このスペーサを含有する液晶を空
セル容器内へ注入するとともに、この注入作業を超音波
を印加しながら行うようにした。
すなわち、本発明は、スペーサを含有せしめた液晶を超
音波を印加しながら空セル容器内へ注入するので、液晶
中のスペーサが微小振動して注入作業が容易に行え、ま
た、注入された液晶中のスペーサの分布密度も一様とな
る。
音波を印加しながら空セル容器内へ注入するので、液晶
中のスペーサが微小振動して注入作業が容易に行え、ま
た、注入された液晶中のスペーサの分布密度も一様とな
る。
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第1図および第2図は本発明の一実施例係り、第1図は
液晶注入工程を示す説明図、第2図は液晶セルの断面図
である。なお、第1図、第2図において、先に説明した
第4図と対応する部分には同一符号が付しである。
液晶注入工程を示す説明図、第2図は液晶セルの断面図
である。なお、第1図、第2図において、先に説明した
第4図と対応する部分には同一符号が付しである。
第2図に示す液晶セルを製造する際には、まず、ガラス
基板3上に透明電極5をパターン形成してなる一方の電
極基板1と、ガラス基板4上に透明電極6をパターン形
成してなる他方の電極基板2を用意し、画電極基板1.
2の表面(対向面)にそれぞれラビング配向処理を施
した後、電極基板2上に直径が7.0±0.1μmのガ
ラススペーサ9を振りまいた。ここで、ガラススペーサ
9としては前記マイクロロッド〔日本電気硝子■製〕を
用いており、その振りまき工程は、フレオンとイソプロ
ピルアルコールの混合溶液にガラススペーサ9を添加し
たものを窒素ガスにより噴霧して電極基板2上に振りま
いた。
基板3上に透明電極5をパターン形成してなる一方の電
極基板1と、ガラス基板4上に透明電極6をパターン形
成してなる他方の電極基板2を用意し、画電極基板1.
2の表面(対向面)にそれぞれラビング配向処理を施
した後、電極基板2上に直径が7.0±0.1μmのガ
ラススペーサ9を振りまいた。ここで、ガラススペーサ
9としては前記マイクロロッド〔日本電気硝子■製〕を
用いており、その振りまき工程は、フレオンとイソプロ
ピルアルコールの混合溶液にガラススペーサ9を添加し
たものを窒素ガスにより噴霧して電極基板2上に振りま
いた。
次に、シール材7を介して2枚の電極基板1゜2を貼り
合わせ、これをカッティングして空セル容器lOを多数
個取りする。こうして形成された個々の空セル容器10
は、相対向するガラス基板3.4の周縁部どうしがシー
ル材7によって接合されており、このシール材7と画電
極基板1,2によって画成される空間内にガラススペー
サ9が分布している。
合わせ、これをカッティングして空セル容器lOを多数
個取りする。こうして形成された個々の空セル容器10
は、相対向するガラス基板3.4の周縁部どうしがシー
ル材7によって接合されており、このシール材7と画電
極基板1,2によって画成される空間内にガラススペー
サ9が分布している。
しかる後、無色透明な真球微粒子(粒径は6.0±0.
3μm)からなる樹脂スペーサ11を予め所定量添加し
ておいた液晶8を、第1図に示すように、液晶注入ボー
ト12を用いて空セル容器10内へ注入していく。この
とき、液晶注入ボート12に超音波発振器13を取り付
けておき、周波数50KH2超音波を出力50Wにて印
加しながら注入作業を行う。なお、樹脂スペーサ10と
しては、ジビニルベンゼンを主成分とする架橋重合体か
らなるミクロバール〔積木ファインケミカル■製〕を用
いた。
3μm)からなる樹脂スペーサ11を予め所定量添加し
ておいた液晶8を、第1図に示すように、液晶注入ボー
ト12を用いて空セル容器10内へ注入していく。この
とき、液晶注入ボート12に超音波発振器13を取り付
けておき、周波数50KH2超音波を出力50Wにて印
加しながら注入作業を行う。なお、樹脂スペーサ10と
しては、ジビニルベンゼンを主成分とする架橋重合体か
らなるミクロバール〔積木ファインケミカル■製〕を用
いた。
そして、空セル容器lOの画電極基板1,2間に、樹脂
スペーサ11を含有する液晶8を充填させたなら、注入
孔を封止して液晶セルを完成する。
スペーサ11を含有する液晶8を充填させたなら、注入
孔を封止して液晶セルを完成する。
このように、ガラススペーサ9よりも僅かに小径な樹脂
スペーサ11を含有せしめた液晶8の注入時に、超音波
を印加してやると、樹脂スペーサ11が微小振動して空
セル容器lO内へ入りやすくなるので、注入作業が容易
に行える。また、超音波を印加することによって樹脂ス
ペーサ11が分散されるので、注入された液晶8中にお
ける樹脂スペーサ11の分布密度は一様となり、その結
果、この樹脂スペーサ11と分布が一様でないガラスス
ペーサ9とが相互補完的にセルギャップを規制し、セル
ギャップの均一度が高まっている。
スペーサ11を含有せしめた液晶8の注入時に、超音波
を印加してやると、樹脂スペーサ11が微小振動して空
セル容器lO内へ入りやすくなるので、注入作業が容易
に行える。また、超音波を印加することによって樹脂ス
ペーサ11が分散されるので、注入された液晶8中にお
ける樹脂スペーサ11の分布密度は一様となり、その結
果、この樹脂スペーサ11と分布が一様でないガラスス
ペーサ9とが相互補完的にセルギャップを規制し、セル
ギャップの均一度が高まっている。
すなわち、ガラススペーサ9が疎らな部分のセルギャッ
プは樹脂スペーサ11によって規制され、ガラススペー
サ9が密な部分のセルギャップは、樹脂スペーサ10よ
りも僅かに大径なガラススペーサ9自身によって規制さ
れるので、セルギャップのばらつきが極めて少ない液晶
セルが得られている。
プは樹脂スペーサ11によって規制され、ガラススペー
サ9が密な部分のセルギャップは、樹脂スペーサ10よ
りも僅かに大径なガラススペーサ9自身によって規制さ
れるので、セルギャップのばらつきが極めて少ない液晶
セルが得られている。
第3図は、上記樹脂スペーサ(ミクロパール)の添加量
とセルギャップのばらつきとの相関関係を示す特性図で
あり、液晶注入時に超音波を印加した場合を実線で、印
加しない場合を破線で示しである。つまり、第3図は、
液晶に添加する樹脂スペーサの重量パーセントと、液晶
注入時の超音波印加の有無とが異なり、他は同一条件で
作成した液晶セルにについて、それ゛ぞれのセルギャッ
プをギャップテスターにて測定した結果を表している。
とセルギャップのばらつきとの相関関係を示す特性図で
あり、液晶注入時に超音波を印加した場合を実線で、印
加しない場合を破線で示しである。つまり、第3図は、
液晶に添加する樹脂スペーサの重量パーセントと、液晶
注入時の超音波印加の有無とが異なり、他は同一条件で
作成した液晶セルにについて、それ゛ぞれのセルギャッ
プをギャップテスターにて測定した結果を表している。
同図に示すように、液晶注入時に超音波を印加した場合
も印加しない場合も、予め液晶に4重量%以上の樹脂ス
ペーサを添加しておけば、セルギャップのばらつきを大
幅に低減できることがわかる。しかし、超音波を印加し
ない場合は、樹脂スペーサを4重量%以上添加してもセ
ルギャップのばらつきを±0.1.umまでしか抑えら
れないが、超音波を印加しながら液晶を注入すれば、樹
脂スペーサの添加量が4重量%以上でセルギャップのば
らつきをほぼ±0.05μmまで抑えることができ、セ
ルギャップの均一度が極めて高い液晶セルの作成が可能
となっている。そして、第3図の測定結果から、予め液
晶に5重量%以上の樹脂スペーサを添加しておき、この
液晶を空セル容器内へ注入する際に超音波を印加してや
れば、セルギャップのばらつきを±0.05μmにまで
抑えた液晶セルが確実に得られるので、セルギャップに
対し厳しい均一性が要求される5−TN型LCDの製造
において歩留まりを著しく向上させることができる。
も印加しない場合も、予め液晶に4重量%以上の樹脂ス
ペーサを添加しておけば、セルギャップのばらつきを大
幅に低減できることがわかる。しかし、超音波を印加し
ない場合は、樹脂スペーサを4重量%以上添加してもセ
ルギャップのばらつきを±0.1.umまでしか抑えら
れないが、超音波を印加しながら液晶を注入すれば、樹
脂スペーサの添加量が4重量%以上でセルギャップのば
らつきをほぼ±0.05μmまで抑えることができ、セ
ルギャップの均一度が極めて高い液晶セルの作成が可能
となっている。そして、第3図の測定結果から、予め液
晶に5重量%以上の樹脂スペーサを添加しておき、この
液晶を空セル容器内へ注入する際に超音波を印加してや
れば、セルギャップのばらつきを±0.05μmにまで
抑えた液晶セルが確実に得られるので、セルギャップに
対し厳しい均一性が要求される5−TN型LCDの製造
において歩留まりを著しく向上させることができる。
なお、液晶に樹脂スペーサを6重量%以上添加してもセ
ルギャップのばらつきはほとんど変わらないので、樹脂
スペーサの添加量は5〜8重量%に設定することが好ま
しい。
ルギャップのばらつきはほとんど変わらないので、樹脂
スペーサの添加量は5〜8重量%に設定することが好ま
しい。
また、上記実施例では、ガラススペーサと樹脂スペーサ
を併用してセルギャップのばらつきを極力抑えた場合に
ついて説明したが、通常のTN型LCDの製造に本発明
を適用すれば、ガラススペーサを省略してもセルギャッ
プのばらつきを低減することができる。すなわち、ガラ
ススペーサのみでセルギャップを規制するという従来方
法で製造された液晶セルは、セルギャップのばらつきが
±0.5μmであるが、ガラススペーサを用いずに樹脂
スペーサを所定量添加した液晶を超音波を印加しながら
注入して製造された液晶セルは、セルギャップのばらつ
きを±0.3μmに抑えることができ、品質が良好なT
N型LCDが得られる。
を併用してセルギャップのばらつきを極力抑えた場合に
ついて説明したが、通常のTN型LCDの製造に本発明
を適用すれば、ガラススペーサを省略してもセルギャッ
プのばらつきを低減することができる。すなわち、ガラ
ススペーサのみでセルギャップを規制するという従来方
法で製造された液晶セルは、セルギャップのばらつきが
±0.5μmであるが、ガラススペーサを用いずに樹脂
スペーサを所定量添加した液晶を超音波を印加しながら
注入して製造された液晶セルは、セルギャップのばらつ
きを±0.3μmに抑えることができ、品質が良好なT
N型LCDが得られる。
以上説明したように、本発明によれば、予めスペーサを
添加しておいた液晶を超音波を印加しながら空セル容器
内へ注入するので、液晶中のスペーサの分布密度が一様
となってセルギャップの均一性が確保でき、電極基板に
振りまかれるスペーサと併用すればセルギャップのばら
つきを例えば±0.05μmにまで抑えることも可能と
なるため、5−TN型LCDのようにセルギャップに厳
しい均一性が要求されるLCDの製造歩留まりを著しく
向上させることができる。また、超音波を印加するので
液晶の注入作業も容易であり、作業性を劣化合せる虞れ
はない。
添加しておいた液晶を超音波を印加しながら空セル容器
内へ注入するので、液晶中のスペーサの分布密度が一様
となってセルギャップの均一性が確保でき、電極基板に
振りまかれるスペーサと併用すればセルギャップのばら
つきを例えば±0.05μmにまで抑えることも可能と
なるため、5−TN型LCDのようにセルギャップに厳
しい均一性が要求されるLCDの製造歩留まりを著しく
向上させることができる。また、超音波を印加するので
液晶の注入作業も容易であり、作業性を劣化合せる虞れ
はない。
第1図および第2図は本発明の一実施例に係り、第1図
は液晶注入工程を示す説明図、第2図は液晶セルの断面
図、第3図は液晶注入時に超音波を印加した場合と印加
しない場合のそれぞれについて、樹脂スペーサの添加量
とセルギャップのばらつきとの相関関係を示す特性図、
第4図は従来例に係る液晶セルの断面図である 1、2・・・・・・電極基板、7・・・・・・シール材
、8・・・・・・液晶、10・・・・・・空セル容器、
11・・・・・・樹脂スペーサ。12・・・・・・液晶
注入ボート、13・・・・・・超音波発振器。 第1図 第2図
は液晶注入工程を示す説明図、第2図は液晶セルの断面
図、第3図は液晶注入時に超音波を印加した場合と印加
しない場合のそれぞれについて、樹脂スペーサの添加量
とセルギャップのばらつきとの相関関係を示す特性図、
第4図は従来例に係る液晶セルの断面図である 1、2・・・・・・電極基板、7・・・・・・シール材
、8・・・・・・液晶、10・・・・・・空セル容器、
11・・・・・・樹脂スペーサ。12・・・・・・液晶
注入ボート、13・・・・・・超音波発振器。 第1図 第2図
Claims (1)
- 一対の電極基板をシール材を介して接合して空セル容器
を形成した後、この空セル容器の両電極基板間に液晶を
注入して封止することにより液晶セルを得る液晶表示素
子の製造方法において、上記液晶にセルギャップを規制
するためのスペーサを予め添加しておき、この液晶を、
超音波を印加しながら上記空セル容器内へ注入すること
を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4738988A JPH01222223A (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4738988A JPH01222223A (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01222223A true JPH01222223A (ja) | 1989-09-05 |
Family
ID=12773752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4738988A Pending JPH01222223A (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01222223A (ja) |
-
1988
- 1988-03-02 JP JP4738988A patent/JPH01222223A/ja active Pending
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