JPH01220288A - Magnetic storage element - Google Patents

Magnetic storage element

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Publication number
JPH01220288A
JPH01220288A JP63047720A JP4772088A JPH01220288A JP H01220288 A JPH01220288 A JP H01220288A JP 63047720 A JP63047720 A JP 63047720A JP 4772088 A JP4772088 A JP 4772088A JP H01220288 A JPH01220288 A JP H01220288A
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JP
Japan
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groove
domain
stripe
auxiliary
region
Prior art date
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Application number
JP63047720A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Kawahara
川原 浩
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a solid-state magnetic storage element with ultra-high density capable of simplifying the impression condition of an external magnetic field for arranging a stripe domain with high stability by arranging an auxiliary second groove at a position equivalent to the intermediate part of a first groove, and setting the width of the second groove less than that of the first groove. CONSTITUTION:The formation of a prescribed domain is performed easily by forming the groove 4 (first groove) by cutting a holding layer 1 selectively extending over an area desired to stabilize the stripe domain, stabilizing a domain magnetic wall in the periphery centering on the groove, providing an auxiliary groove 7 (second groove) at the position equivalent to the intermediate part of the first groove in the area separated from the forming area of the groove 4, and supplying a domain generator and a local magnetic impression means to both ends of the groove for stabilizing the stripe domain. Furthermore, a fact that a potential well for a domain growing steely from a groove digging area for stabilizing the stripe domain is suddenly deepened is prevented from being generated by generating an auxiliary groove digging part, and the width of the second groove 7 is set less than that of the groove 4. In such a way, it is possible to obtain the solid-state magnetic storage element with ultra-high density in which a large number of stripe domains can be arranged stably.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は不揮発性の超高密度固体磁気記憶素子に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a nonvolatile ultra-high density solid state magnetic memory element.

(従来の技術) この磁気記憶素子は情報読み出し手段と情報書き込み手
段と情報蓄積手段を備え、膜面に垂直方向を磁化容易方
向とする強磁性体(フェリ磁性体膜を含む)に存在する
ストライプドメインの周囲のブロッホ磁壁の中に作った
相隣り合う垂直ブロッホライン(以下、VBLと称する
)を対としてブロッホ磁壁内で保持、転送する手段を有
する。例えば、素子構成をメイジャ・マイナルーブ構成
とする場合、メイジャラインでは、バブルを情報担体と
し、マイナループはストライプドメインで構成し、その
周囲のブロッホ磁壁内に存在するVBL対を情報担体と
する。全体の情報の流れを示すと、まずバブル発生器で
書き込まれた情報(バブルの有無の列)は書き込みメイ
ジャラインを移動する。メイジャライン上に1ペ一ジ分
の情報が書き込まれると、それをマイナループへ記憶さ
せるため、バブルの有無で示されたメイジャライン上の
情報をマイナループヘVBL対の形でトランスファする
。したがって、書き込みトランスファゲートはバブルの
有無をVBL対の有無に変換する機能を持っている。マ
イナルーブはVBL対を保持できるブロッホ磁壁で構成
している。また、マイナルーブは構成するストライプド
メイン磁壁土のVBL対を必要に応じて読み出しトラン
スファゲートへ移動させる機能を持っている。マイナル
ープから読み出しメイジャラインへの情報トランスファ
はVBL対からバブルへの変換を伴う。変換されたバブ
ルの有無の列をバブル検出器で読み取る。このように、
マイナルーブをバブル材料に存在するストライプドメイ
ンで構成し、マイナルーブ上での情報担体としてバブル
の代りに、VBL対を用いることにより、バブル素子に
比べて、約二桁の記憶密度の向上を達成できる。
(Prior art) This magnetic memory element includes an information reading means, an information writing means, and an information storage means, and has a stripe existing in a ferromagnetic material (including a ferrimagnetic film) whose easy magnetization direction is perpendicular to the film surface. It has means for holding and transferring adjacent vertical Bloch lines (hereinafter referred to as VBL) formed in the Bloch domain wall around the domain as a pair within the Bloch domain wall. For example, when the element configuration is a Major-minal loop configuration, in the Major line, bubbles are used as information carriers, minor loops are configured with striped domains, and VBL pairs existing in the Bloch domain wall around the bubbles are used as information carriers. To show the overall flow of information, first, the information written by the bubble generator (column of bubble presence/absence) moves along the write major line. When one page of information is written on the major line, in order to store it in the minor loop, the information on the major line indicated by the presence or absence of bubbles is transferred to the minor loop in the form of a VBL pair. Therefore, the write transfer gate has a function of converting the presence or absence of a bubble into the presence or absence of a VBL pair. The minor lube is composed of Bloch domain walls that can hold VBL pairs. Furthermore, the minor lube has a function of moving the VBL pair of the striped domain domain wall to the readout transfer gate as necessary. Information transfer from the minor loop to the read major line involves converting VBL pairs to bubbles. The bubble detector reads the converted bubble presence/absence column. in this way,
By constructing the minor lube with striped domains present in a bubble material and using VBL pairs instead of bubbles as information carriers on the minor lube, an improvement in storage density of about two orders of magnitude compared to bubble elements can be achieved.

この素子においては多数本の磁気ドメインをチップ上の
定められた位置に安定性よく配列することが重要な技術
である。
In this device, an important technique is to stably arrange a large number of magnetic domains at predetermined positions on the chip.

これに対する一つの方法は、ストライプドメイン磁壁を
溝堀り部境界膜厚段差部の外側にもっていくことである
(特願昭6O−079658)。この理由は溝堀り部お
よびその境界の外側を含むようにストライプドメインを
設定すると、溝堀り部境界の膜厚段差は境界外側にある
磁壁が膜厚段差部に近づくのを妨げる反磁界を生じ、磁
壁が外部から加えられるVBL対駆動用のパルス磁界に
対して、障害を受けず応答でき、しかも磁壁の応答を可
逆的にできるためである。これはVBL対保持用磁壁安
定化の必要条件である。他方、溝掘り部内にストライプ
ドメインを閉じ込めると、膜厚段差はそのストライプド
メインが溝掘り境界の外へ出ることを強く抑える反磁界
を生じる。このため、磁壁は外部印加磁界に対して自由
に応答して動くことができない。したがって、ストライ
プドメイン磁壁が溝堀り部境界膜厚段差部の外側にくる
ように、ストライプドメインを初期設定する必要がある
One way to deal with this is to move the stripe domain domain wall to the outside of the trench boundary boundary film thickness step (Japanese Patent Application No. 6O-079658). The reason for this is that when a stripe domain is set to include the trench and the outside of its boundary, the film thickness step at the trench boundary creates a demagnetizing field that prevents the domain wall outside the boundary from approaching the film thickness step. This is because the magnetic domain wall can respond without interference to a pulsed magnetic field for driving the VBL pair applied from the outside, and the response of the magnetic domain wall can be reversible. This is a necessary condition for stabilizing the VBL pair-holding domain wall. On the other hand, when striped domains are confined within the grooved portion, the difference in film thickness generates a demagnetizing field that strongly suppresses the striped domains from moving outside the grooved boundary. Therefore, the domain wall cannot freely move in response to an externally applied magnetic field. Therefore, it is necessary to initially set the stripe domain so that the stripe domain domain wall is located outside the trench boundary boundary film thickness step part.

第7図(a)、(b)にその構造の主要部を示している
The main parts of the structure are shown in FIGS. 7(a) and 7(b).

基板2上のドメイン保持層1のドメインを配置したい領
域の中心部4をくりぬき、それを取り囲むように閉じた
ドメイン磁壁を配置するための形成技術の例は、アイ・
イー・イー・イー・トランザクション・オン・マグネテ
ィクス(IEEE Tran、 Magn、、 MAG
−22,784(1986))において報告されている
。しかし、実験してみると、この方法では溝掘り部が平
行に並んでいる領域と溝掘り部がない領域とでバブルド
メインがストライプドメインに変化するバイアス磁界の
大きさにかなりの違いがあり、溝堀り部領域では他の領
域に比べてバイアス磁界をもっと低くしないと、ドメイ
ンが伸長しない欠点があることが分かった。溝掘り部を
含む領域でドメインが溝と溝との間の領域を伸長するま
でバイアス磁界を下げると、溝堀り部領域の内のどれか
一箇所を伸びてバブル発生器19がある側と反対側、つ
まりドメイン結合用の導体パターン20がある領域に出
た途端にそのドメインが広がって20がある領域前面に
迷図状ドメインができてしまう。このため、いま伸びた
ドメインに遅れて溝掘り領域を伸びてきたドメインは迷
図状ドメインに邪魔されてドメイン接合用の導体パター
ン20の下を横切るところまで伸び出せない。そこで、
第8図(a)、 (b)に示すように、溝堀り部4の先
端部に溝4の長手方向に沿って相隣合う溝4の中間に相
当する位置に補助用の溝7を設けた(特願62−208
712)。しかし、この方法を用いて実験してみると、
溝4の間を伸長してきたドメインが溝で挟まれていない
導体パタン9の前面領域で横に広がってしまいやすく、
複数本のドメインが同時に再び溝(補助用の溝4)に挾
まれた領域に入りこみ伸長することが困難であった。な
お、16はガイド溝、17は変換ゲート、18はメイジ
ャラインである。
An example of a formation technique for hollowing out the center 4 of the region in the domain holding layer 1 on the substrate 2 where the domain is desired and arranging a closed domain domain wall so as to surround it is I.
IEEE Transactions on Magnetics (IEEE Tran, Magn, MAG)
-22, 784 (1986)). However, experiments have shown that with this method, there is a considerable difference in the magnitude of the bias magnetic field that changes a bubble domain into a stripe domain between a region where the trenches are lined up in parallel and a region where there are no trenches. It has been found that the domain does not elongate unless the bias magnetic field is lower in the trench region than in other regions. When the bias magnetic field is lowered until the domain extends in the region between the grooves in the region including the grooved portions, it extends in one of the grooved portions and forms the side where the bubble generator 19 is located. As soon as it appears on the opposite side, that is, in the area where the conductor pattern 20 for domain coupling is located, the domain expands, and a stray pattern domain is formed in front of the area where the conductor pattern 20 is located. For this reason, the domain that has been extending through the grooved region later than the domain that has just extended is obstructed by the stray domain and cannot extend to the point where it crosses under the conductor pattern 20 for domain joining. Therefore,
As shown in FIGS. 8(a) and 8(b), an auxiliary groove 7 is provided at the tip of the grooved portion 4 at a position corresponding to the middle of adjacent grooves 4 along the longitudinal direction of the groove 4. (Patent Application No. 62-208)
712). However, when experimenting with this method,
The domains that have extended between the grooves 4 tend to spread laterally in the front area of the conductor pattern 9 that is not sandwiched between the grooves.
It was difficult for the plurality of domains to simultaneously reenter the region between the grooves (auxiliary grooves 4) and expand. Note that 16 is a guide groove, 17 is a conversion gate, and 18 is a major line.

(本発明が解決しようとする課題) 上述の方法は多数本の磁気ドメインを安定性よく配列す
るためには問題であった。本発明はこれらの欠点を取り
除き、ストライプドメインを安定性よく配列するための
外部磁界の印加条件を単純化できるようにした超高密度
固体磁気記憶素子を提供することにある。
(Problems to be Solved by the Present Invention) The above-mentioned method has been problematic in order to stably arrange a large number of magnetic domains. An object of the present invention is to provide an ultra-high-density solid-state magnetic memory element that eliminates these drawbacks and can simplify the conditions for applying an external magnetic field for stably arranging striped domains.

(課題を解決するための手段) 本発明は膜面に垂直方向を磁化容易方向とする強磁性体
膜に存在するストライプドメイン境界のブロッホ磁壁中
に作った相隣り合う2本のVBLからなるVBL対を記
憶担体として用いる磁気記憶素子において、前記ストラ
イプドメインを安定化したい領域に亘って選択的に保持
層を削って溝(第1の溝)を作り、溝を中心にしてその
周囲にドメイン磁、壁を安定化させる構造において、政
情の一方の先端部領域に政情の長手方向に沿って該溝形
成領域とは分離した領域に補助用の溝(第2の溝)を設
け、かつストライプドメイン安定化用の溝の両端にドメ
イン発生器および局所磁界印加手段を与えて、所要ドメ
インの形成を容易にした。該補助用の溝掘り部を作るこ
とにより、ストライプドメイン安定化用溝掘り領域を伸
び出したドメインに対するポテンシャルウェルが急激に
深くなることを防ぎ、該第2の溝の幅を該第1の溝の幅
より小さくすることによって、目的とする溝掘り部長手
方向に沿って所定の位置までストライプドメインを安定
性よく伸ばすことができるようになった。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides a VBL consisting of two adjacent VBLs created in a Bloch domain wall at a stripe domain boundary existing in a ferromagnetic film whose easy magnetization direction is perpendicular to the film surface. In a magnetic memory element that uses a pair of striped domains as a storage carrier, a groove (first groove) is created by selectively scraping the retention layer over a region where the striped domain is desired to be stabilized, and a domain magnet is formed around the groove as a center. In the structure for stabilizing the wall, an auxiliary groove (second groove) is provided in a region of one tip of the political condition along the longitudinal direction of the political condition in a region separated from the groove forming region, and a striped domain is provided. Domain generators and local magnetic field application means were provided at both ends of the stabilizing groove to facilitate the formation of the desired domains. By creating the auxiliary trench, the potential well for the domain extending out of the striped domain stabilizing trench can be prevented from becoming suddenly deeper, and the width of the second trench can be made smaller than the first trench. By making the width smaller than the width of , it became possible to stably extend the stripe domain to a predetermined position along the longitudinal direction of the intended groove digging.

(実施例) 以下、構成例の詳細な説明をする。(Example) A detailed explanation of the configuration example will be given below.

第1図は本発明におけるストライプドメイン保持層のマ
イナループ部の主要部の構成である。第1図(a)、(
b)は本発明の方法を用いた時のストライプドメイン保
持層の主要部である。ストライプドメイン保持層1上の
ドメインを保持したい領域に溝4(第1の溝)を、また
この溝に沿って分離した領域を挾んで補助用の溝7(第
2の溝)を形成する。これは例えば、ストライプドメイ
ン保持層の溝掘り部に相当する領域に選択的にH2+な
どのイオンを注入した後、ホットリン酸でエツチングす
ることによって得られる。その溝4の両端部にドメイン
発生器および局所面内磁界発生用手段8,9を配置して
いる。なお、8.9には第2図の11で示す櫛形状の櫛
のめが溝部4の各溝の間の領域の入り口に来るように、
ドメインを制御性よく発生でき、また、溝部4から伸び
出した互いに隣り合うドメインを縫い合わせることがで
きるように、第6図に示す形状のドメイン発生器を用い
た。第1図9に示す縫い合わせ用導体パターンの配置の
特徴は補助溝が導体パターン9のノツチ部にあり、かつ
補助溝の先端がノツチの出口に比べてノツチ内に引っ込
んでいることである。この構造にすることで、ドメイン
を縫い合わせた時、縫い合わされてできたドメインの一
部が補助溝にひっかかってしまうという欠点を取り除く
ことができた。
FIG. 1 shows the structure of the main part of the minor loop portion of the striped domain holding layer in the present invention. Figure 1 (a), (
b) is the main part of the striped domain retention layer when using the method of the present invention. A groove 4 (first groove) is formed in a region on the striped domain holding layer 1 where a domain is to be held, and an auxiliary groove 7 (second groove) is formed between regions separated along this groove. This can be obtained, for example, by selectively implanting ions such as H2+ into the region corresponding to the grooved portion of the striped domain holding layer, and then etching with hot phosphoric acid. A domain generator and local in-plane magnetic field generating means 8 and 9 are arranged at both ends of the groove 4. In addition, in 8.9, the comb-shaped comb eye shown by 11 in FIG. 2 is placed at the entrance of the area between each groove of the groove part 4.
A domain generator having the shape shown in FIG. 6 was used so that domains could be generated with good controllability and adjacent domains extending from the groove 4 could be sewn together. The arrangement of the conductor pattern for sewing shown in FIG. 19 is characterized in that the auxiliary groove is located at the notch portion of the conductor pattern 9, and the tip of the auxiliary groove is recessed into the notch compared to the outlet of the notch. By adopting this structure, it was possible to eliminate the drawback that when domains were sewn together, a portion of the sewn domains would get caught in the auxiliary groove.

第2図(a入(b)から第5図(a)、 (b)までを
使ってストライプドメイン安定化の動作を説明する。ま
ず、ストライプドメイン保持層の磁化をバイアス磁界を
加えることによって4の周囲に安定化するドメイン内の
磁化と同じ向きに飽和させておく。その後、ドメイン発
生器8に矢印の向きの電流を与えてその磁界によって第
2図に11で示すドメインを発生する。この様な形状の
ドメインを作るためには、まず8の上側のエツジ12に
沿ってドメインが発生するように発生器8の形状を設計
する必要がある。その具体的形状の一例が第6図である
。その後、バイアス磁界の絶対値を小さぐしていき、ド
メインが第3図に示すように溝掘り部を通り越して補助
溝7がある領域まで伸張する。その後、ドメイン発生器
9に第4図に示す矢印の向きの電流を与え、第4図(a
)に示すようなドメインを形成する。これらの磁界によ
って、ドメイン11は溝掘り部の両方の端部で互いに接
合し、逆に溝堀部を取り囲む閉磁壁に囲まれたドメイン
12が形成される。外部印加磁界を零にし、さらにその
向きを逆にし、10で示す向きにして磁界の強さを増加
していくと、第5図に示すように溝を取り囲む磁壁をも
つドメインが形成される。このドメインがVBL対保持
用に使われる。他方、補助溝にくっついていたドメイン
はこのバイアス磁界変化によって完全に消去される。
The operation of stripe domain stabilization will be explained using Figures 2 (a) and (b) to Figures 5 (a) and (b). First, the magnetization of the stripe domain holding layer is changed to 4 by applying a bias magnetic field. The magnetization is saturated in the same direction as the magnetization in the domain that is stabilized around .Then, a current is applied to the domain generator 8 in the direction of the arrow, and the magnetic field generates the domain shown at 11 in Fig. 2. In order to create a domain with a similar shape, it is first necessary to design the shape of the generator 8 so that the domain is generated along the upper edge 12 of the generator 8. An example of a specific shape is shown in FIG. Thereafter, the absolute value of the bias magnetic field is decreased, and the domain extends past the grooved part to the area where the auxiliary groove 7 is located, as shown in FIG. Applying a current in the direction of the arrow shown in the figure, Figure 4 (a
) to form a domain as shown in Due to these magnetic fields, the domains 11 are joined to each other at both ends of the grooved portion, and conversely, a domain 12 surrounded by a closed domain wall surrounding the grooved portion is formed. When the externally applied magnetic field is reduced to zero, and then its direction is reversed to the direction indicated by 10 and the strength of the magnetic field is increased, a domain with domain walls surrounding the groove is formed as shown in FIG. 5. This domain is used for VBL pair maintenance. On the other hand, the domains attached to the auxiliary grooves are completely erased by this change in the bias magnetic field.

このようにして、4の周囲を取り囲む磁壁によって囲ま
れたドメインを安定化できたが、8の側のポテンシャル
ウェルは依然として深いまま残されており、導体電流に
よる局所バイアス磁界をドメイン先端部に付加できるよ
うにしておかないと、チップの温度変化などによってド
メイン先端部が伸び出してしまう危険性が取り除かれて
いない。そこで、本発明では第1図に16で示す溝(第
3の溝)を新たに設け、その周辺のポテンシャルウェル
を浅くし、ドメイン先端部の任意の伸び出しを防止する
ようにした。この溝はブロッホラインメモリに必要なV
BL対−バブル変換ゲート部17の動作時に、ドメイン
が4の長手方向に一致した向きで、ゲート17の中へ伸
び出していくことも助ける。メイジャ°ライン18のポ
テンシャルウェルは導体電流磁界によって動作時のみ、
かさ上げすることで十分である。
In this way, the domain surrounded by the domain wall surrounding 4 was stabilized, but the potential well on the 8 side remained deep, and a local bias magnetic field due to the conductor current was applied to the domain tip. If this is not done, there is a risk that the domain tips will extend due to changes in chip temperature, etc. Therefore, in the present invention, a groove (third groove) shown at 16 in FIG. 1 is newly provided, and the potential well around the groove is made shallow to prevent the domain tip from extending arbitrarily. This groove is the V required for Bloch line memory.
It also helps that the domains extend into the gate 17 in an orientation consistent with the longitudinal direction of 4 when the BL-to-bubble conversion gate section 17 operates. The potential well of major line 18 is only activated by the conductor current magnetic field.
It is enough to raise it.

Gd5Ga5002(111)基板上に411mバブル
材料(Y?SmLuCa)3(FeGe)501□ガー
ネツト膜を2pmの厚さLPE成長した。第1図の構造
に溝(溝4の幅3μm、溝7の幅211m、配置周期1
2pm)は溝を掘りたい部分に選択的にイオン注入をし
た後、リン酸を使い、エツチングして形成した。出来た
溝の深さは2.111mであった。その上に、5102
スペーサー0.5pmを介して、第6図に示す形状のド
メイン発生器を配置して上述のドメイン発生から始まる
一連の動作により、第5図(a)、 (b)に示す溝堀
り部4を取り囲む閉磁壁を持つドメイン14を形成でき
た。
A 411m bubble material (Y?SmLuCa)3(FeGe)501□garnet film was grown on a Gd5Ga5002(111) substrate to a thickness of 2 pm by LPE. Grooves in the structure shown in Figure 1 (width of groove 4 3 μm, width of groove 7 211 m, arrangement period 1)
2pm) was formed by selectively implanting ions into the area where a groove was to be dug, and then etching using phosphoric acid. The depth of the resulting trench was 2.111 m. On top of that, 5102
A domain generator having the shape shown in FIG. 6 is arranged via a spacer of 0.5 pm, and a series of operations starting from the above-mentioned domain generation is performed to form the trench portion 4 shown in FIGS. 5(a) and 5(b). A domain 14 having a closed domain wall surrounding the domain 14 was formed.

(発明の効果) 以上のように本発明によれば多数本のストライプドメイ
ンを安定に配列できる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, a large number of striped domains can be stably arranged.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)、 (b)は本発明におけるドメイン保持
するための主要構造の例を示す図、第2図(a)、(b
)から第5図(a)、 (b)は本発明のドメイン形成
過程を示す図である。第6図は本発明に用いたドメイン
発生器の例を示す図、第7図(a)、 (b)第8図(
a)、 (b)は、各々、溝掘り部を取り囲む閉磁壁を
もつドメイン安定化法の従来法の例を示す図である。 図において、1.ドメイン保持層、2.基板、3.スペ
ーサ、4.ドメイン保持層くり抜き部(第1の溝)、5
、くりぬき部エツジ、6.ガード用ドメイン保持層くり
抜き部、7.補助用のドメイン保持層くり抜き部(第2
の溝)、8,9.ドメイン発生用導体バタン、10゜バ
イアス磁界、11.ドメイン発生器8により発生した磁
気ドメイン、12.ドメイン発生器用導体パタンのエツ
ジ、13.ドメイン発生用導体バタンのノツチ、14.
中抜きドメイン、15.ドメイン外周磁壁、16、ドメ
イン14の伸び出し防止およびドメインのゲート部への
ガイド用溝(第3の溝)、17.ブロッホライン対とバ
ブルとの間の変換ゲート、18.メイジャライン、19
.バブル発生器用導体パターン、20.ドメイン結合用
導体パターンである。
Figures 1 (a) and (b) are diagrams showing examples of main structures for holding domains in the present invention, and Figures 2 (a) and (b).
) to FIGS. 5(a) and 5(b) are diagrams showing the domain formation process of the present invention. FIG. 6 is a diagram showing an example of a domain generator used in the present invention, FIG. 7(a), (b) and FIG.
Figures a) and (b) each show an example of a conventional domain stabilization method in which a closed domain wall surrounds a grooved portion. In the figure, 1. domain retention layer, 2. Substrate, 3. Spacer, 4. Domain holding layer hollowed out part (first groove), 5
, Hollowed edge, 6. Guard domain holding layer hollowed out part, 7. Auxiliary domain holding layer hollowed out part (second
groove), 8, 9. Conductor button for domain generation, 10° bias magnetic field, 11. magnetic domains generated by domain generator 8; 12. Edge of conductor pattern for domain generator, 13. Notch of conductor button for domain generation, 14.
Hollow domain, 15. Domain outer peripheral domain wall, 16, groove for preventing extension of the domain 14 and guiding the domain to the gate portion (third groove), 17. Conversion gate between Bloch line pair and bubble, 18. Major Line, 19
.. Conductor pattern for bubble generator, 20. This is a conductor pattern for domain coupling.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)情報読み出し手段、情報書き込み手段および情報
蓄積手段を有し、かつ膜面に垂直方向を磁化容易方向と
する強磁性体(フェリ磁性体を含む)膜に存在するスト
ライプドメインの境界のブロッホ磁壁中に作った相隣る
2本の垂直ブロッホラインからなる対をブロッホ磁壁内
で保持転送する手段を有する磁気記憶素子において、ス
トライプドメインを配置すべき領域にストライプドメイ
ン保持層に第1の溝が設けられ、かつ該第1の溝の一方
の先端部領域と対向する領域に該第1の溝の長手方向に
沿ってとなり合う各第1の溝の中間に相当する位置に補
助用の第2の溝を配置し、第1の溝の他方の先端部領域
と対向する領域に第1の溝の長手方向に沿ってとなり合
う第1の溝の中間に相当する位置に第3の溝を配置し、
第2の溝の幅は第1の溝の幅より小さいことを特徴とす
る磁気記憶素子。
(1) Bloch at the boundary of a stripe domain existing in a ferromagnetic (including ferrimagnetic) film that has information reading means, information writing means, and information storage means and whose easy magnetization direction is perpendicular to the film surface. In a magnetic memory element having a means for retaining and transferring a pair of two adjacent vertical Bloch lines formed in a domain wall within a Bloch domain wall, a first groove is formed in a stripe domain retention layer in a region where a stripe domain is to be arranged. is provided, and an auxiliary groove is provided at a position corresponding to the middle of each adjacent first groove along the longitudinal direction of the first groove in a region facing one of the tip end regions of the first groove. A third groove is arranged at a position corresponding to the middle of the first grooves adjacent to each other along the longitudinal direction of the first groove in a region opposite to the other tip region of the first groove. place,
A magnetic memory element characterized in that the width of the second groove is smaller than the width of the first groove.
JP63047720A 1988-02-29 1988-02-29 Magnetic storage element Pending JPH01220288A (en)

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