JPH01214890A - Cleaner blade - Google Patents

Cleaner blade

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Publication number
JPH01214890A
JPH01214890A JP4016388A JP4016388A JPH01214890A JP H01214890 A JPH01214890 A JP H01214890A JP 4016388 A JP4016388 A JP 4016388A JP 4016388 A JP4016388 A JP 4016388A JP H01214890 A JPH01214890 A JP H01214890A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
blade
toner
film
cleaner plate
photoreceptor
Prior art date
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Pending
Application number
JP4016388A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Yasuno
政裕 安野
Junji Otani
淳司 大谷
Oichi Sano
央一 佐野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP4016388A priority Critical patent/JPH01214890A/en
Publication of JPH01214890A publication Critical patent/JPH01214890A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent the occurrence of turning-up of a sheet-shaped cleaner blade by giving a specific ruggedness to a face including the edge part, which is pressed to a photosensitive body, of the cleaner blade using a rubbery elastic body in an electrophotographic copying device. CONSTITUTION:The cleaner blade is a long rectangular parallelepiped, where a side ab is longer than a side da, and is formed with a rubbery elastic body 1 consisting of a polyethylene, a polycarbonate, or the like. The part of the long side ab is pressed to the photosensitive body as the edge to use the blade. A ruggedness whose roughness (l) is >1mum and is <0.5 times as large as the average particle size of toner is given to the face including at least the edge part ab pressed to the photosensitive body of the surface of the blade by buffering or the like. Thus, the blade is brought into contact with the photosensitive body at a point and the blade is difficult to turn up or deform.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はクリーナープレートに関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a cleaner plate.

従来技術および課題 電子写真法において、感光体上の潜像に対して現像され
た現像剤は、転写部で普通紙に忠実に転写されることが
要求される。しかし、100%の理想的な転写はほとん
ど不可能であるために、感光体上に残ったトナーを拭い
とるクリーニング工程が必要となる。
Prior Art and Problems In electrophotography, it is required that a developer developed on a latent image on a photoreceptor be faithfully transferred onto plain paper at a transfer section. However, since 100% ideal transfer is almost impossible, a cleaning step is required to wipe off the toner remaining on the photoreceptor.

従来、クリーニング方法としてはブラシクリーニング、
ブレードクリーニング、ウェーブクリーニング等の種々
の方法が知られているが、複写装置の小型化、メインテ
ナンスの容易性等からブレードクリーニング方式が主流
を占めるにいたっている。
Traditionally, cleaning methods include brush cleaning,
Although various methods such as blade cleaning and wave cleaning are known, the blade cleaning method has become mainstream due to the miniaturization of copying machines and ease of maintenance.

ブレードクリーニング方法は、ゴム状弾性重合体のシー
ト片のエツジ部を感光体表面に圧接させて、感光体上の
残留トナーをシート片のエツジ部を利用してかき落とす
方法である。
The blade cleaning method is a method in which the edge portion of a sheet piece of a rubber-like elastic polymer is brought into pressure contact with the surface of the photoreceptor, and residual toner on the photoreceptor is scraped off using the edge portion of the sheet piece.

クリーナープレートのエツジ部を感光体に圧接して使用
していると、感光体の移動に伴って、エツジ部に感光体
との摩擦力による力が加わり、そのエツジ部がしだいに
感光体移動の方向へ引きずられ変形する(いわゆる「ま
くれ」現象が起こる)。
When the edge of the cleaner plate is used in pressure contact with the photoreceptor, as the photoreceptor moves, force is applied to the edge due to the frictional force with the photoreceptor, and the edge gradually becomes weaker due to the movement of the photoreceptor. It is dragged in the direction and deformed (the so-called "curling" phenomenon occurs).

この引きずられてまくれたエツジ部に圧接力が加わり、
クリーナープレートのエツジ部が感光体に面接触するこ
とになる。
Pressure force is applied to this dragged and rolled up edge,
The edge portion of the cleaner plate comes into surface contact with the photoreceptor.

以上のようなりリーナーブレードエッジ部の変形、まく
れおよび面接触は、トナーのクリー二ング性に悪影響を
及ぼし、さらにはクリーナープレートの寿命を短くする
As described above, the deformation, curling, and surface contact of the edge portion of the leaner blade adversely affect the cleaning performance of toner and further shorten the life of the cleaner plate.

今日、画像の高精細化、高品位化のためにトナーは小粒
径化、球形化の傾向にあり、クリーニン。
Today, in order to improve the definition and quality of images, toner particles are becoming smaller and more spherical, making them easier to clean.

グ不良がより大きな問題となる。The problem becomes a bigger problem.

発明が解決しようとする課題 本発明はクリーナープレートのエツジ部のまくれに起因
するトナークリーニング不良が発生せず、長期使用が可
能なりリーナーブレードを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a leaner blade that can be used for a long period of time without causing toner cleaning defects due to curling of the edges of the cleaner plate.

課題を解決するための手段 すなわち、本発明はゴム状弾性体を用いたシート状クリ
ーナープレートにおいて、少なくとも感光体に圧接する
エツジ部を含む面上に、粗さ(12)がlpm以上でト
ナーの平均粒径の0.5倍以下の範囲にある凹凸を有す
ることを特徴とするクリーナープレート関する。
Means for Solving the Problems That is, the present invention provides a sheet-like cleaner plate using a rubber-like elastic material, in which toner particles are deposited on the surface including at least the edge portion that comes into pressure contact with the photoreceptor, with a roughness (12) of lpm or more. The present invention relates to a cleaner plate characterized by having irregularities within a range of 0.5 times or less the average particle diameter.

クリーナープレートとしては公知のものを使用すること
ができ、その−数的形状はシート状である。以下に詳述
する本発明の理解容易の為にクリーナープレートのシー
ト状構造を代表的に直方体をもって第1図に表した。な
お、第1図は本発明による凹凸を付与する前の構造を示
している。第1図に示したクリーナープレートは頂点a
bcda’ b’cl a lで示され辺abが辺da
より長い直方体のゴム状弾性体(1)より構成されてお
り、ゴム状弾性体(1)の長辺ab、あるいは60部分
がエツジとして感光体に圧接されて使用される。本発明
においてはさらに簡単のために、辺abがエツジとして
圧接され使用される場合に限って説明するものとする。
A known cleaner plate can be used, and its numerical shape is sheet-like. In order to facilitate understanding of the present invention, which will be described in detail below, the sheet-like structure of the cleaner plate is represented in FIG. 1 as a representative rectangular parallelepiped. Note that FIG. 1 shows the structure before the unevenness according to the present invention is provided. The cleaner plate shown in Figure 1 is at the apex a.
bcda'b'cl a l and side ab is side da
It is composed of a longer rectangular parallelepiped rubber-like elastic body (1), and the long side ab or 60 portion of the rubber-like elastic body (1) is used as an edge in pressure contact with the photoreceptor. In the present invention, for the sake of simplicity, only the case where side ab is pressed and used as an edge will be explained.

辺dcをエツジとして使用する場合においても以下の説
明により本発明を容易に類推適用可能である。
Even when the side dc is used as an edge, the present invention can be easily applied by analogy according to the following explanation.

本発明においてはクリーナープレート表面のうち、少な
くとも感光体に圧接するエツジ部を含む面に凹凸を設け
る。
In the present invention, unevenness is provided on the surface of the cleaner plate, including at least the edge portion that comes into pressure contact with the photoreceptor.

本発明において凹凸の方向性あるいは規則性は特に重要
でなく、凹凸深さを表す粗さ(lと凸部と凸部の間隔を
表すピッチ(p)が重要で、特に粗さは重要である。
In the present invention, the direction or regularity of the unevenness is not particularly important, but the roughness (l) representing the depth of the unevenness and the pitch (p) representing the interval between the protrusions are important, and the roughness is particularly important. .

粗さ(α)はし1以上でトナーの平均粒径の半分以下の
範囲、好ましくはトナー平均粒径の1/4〜275倍で
ある。このように粗さ(1の上限をトナーの平均粒径で
規定するのはあらゆる種類のトナーに本発明が適用でき
ることを意味するとともに、トナーの種類に合わせて粗
さくa)を調整する必要があることを意味するものであ
る。
Roughness (α) is in the range of 1 or more and less than half the average particle diameter of the toner, preferably 1/4 to 275 times the average particle diameter of the toner. In this way, defining the upper limit of roughness (1) by the average particle diameter of the toner means that the present invention can be applied to all types of toner, and it is necessary to adjust the roughness a) according to the type of toner. It means something.

すなわち、粗さくa>がトナーの平均粒径の半分より大
きいとトナーがクリーナープレートの凹部を通り抜け、
クリーニング不良が発生する。また粗さが1μmより小
さいとクリーナープレートの弾性によって感光体への圧
接時、エツジ部全面が感光体に圧接されてしまう。
In other words, if the roughness a> is larger than half the average particle diameter of the toner, the toner will pass through the recesses of the cleaner plate,
Cleaning failure occurs. If the roughness is less than 1 μm, the entire edge portion will be pressed against the photoreceptor due to the elasticity of the cleaner plate when the cleaner plate is pressed against the photoreceptor.

ピッチ(p)としては0.5μm〜粗さ(lの3倍、好
ましくはlILm〜粗さくa)の2倍である。
The pitch (p) is 0.5 μm to 3 times the roughness (l, preferably lILm to twice the roughness a).

ピッチが0.5μmより小さいと圧接時のクリーナープ
レートの変形が大きくなりクリーニング不良が発生しや
すくなり、ピッチが粗さ(α)の3倍より大きいとクリ
ーナープレートの弾性によって感光体への圧接時、エツ
ジ部全面が感光体に圧接されてしまう。
If the pitch is smaller than 0.5 μm, the deformation of the cleaner plate during pressure contact becomes large and cleaning defects are likely to occur.If the pitch is larger than 3 times the roughness (α), the elasticity of the cleaner plate will cause the cleaner plate to deform during pressure contact with the photoreceptor. , the entire edge portion is pressed against the photoreceptor.

本発明に従い、クリーナープレートの感光体に一圧接す
るエツジ部を含む一つ以上の面に凹凸を付与することに
より、クリーナープレートの感光体への接触が点接触で
クリーナープレートのめくれや変形が発生しにくくなり
、その結果クリーナープレートのクリーニング性、寿命
が改良される。
According to the present invention, by providing unevenness to one or more surfaces of the cleaner plate, including the edge portion that comes into contact with the photoreceptor under one pressure, the cleaner plate is caused to turn over or deform when the cleaner plate contacts the photoreceptor at a point. As a result, the cleaning performance and life of the cleaner plate are improved.

本発明に使用するゴム状弾性体としてはある程度の弾性
を有する弾性体材料、あるいは弾性を付与することので
きる公知の材料、例えばポリエチレン、ポリカーボネー
ト、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ塩化フッ化エチ
レン、ポリプロピレン、ポリビニリデン、ポリへキサフ
ルオロプロピレン等の一般プラスチック、および天然ゴ
ム、ポリウレタン、ネオブレン、ポリスチレンブタジェ
ン、シリコンゴム等のゴム状物質が使用できる。
The rubber-like elastic body used in the present invention is an elastic material having a certain degree of elasticity, or a known material capable of imparting elasticity, such as polyethylene, polycarbonate, polytetrafluoroethylene, polychlorofluoroethylene, polypropylene, Common plastics such as polyvinylidene and polyhexafluoropropylene, and rubbery substances such as natural rubber, polyurethane, neorene, polystyrene butadiene, and silicone rubber can be used.

本発明は、前述したようにゴム状弾性体の一面以上に前
記したようにさらに凹凸を設ける。
In the present invention, as described above, irregularities are further provided on one or more surfaces of the rubber-like elastic body.

凹凸の設は方としては、以下に記載する4つの方法が例
示されるが、本発明はそれらの方法にとくに制限される
ものではない。
The four methods described below are exemplified as methods of providing the unevenness, but the present invention is not particularly limited to these methods.

■ 微細な無機質粒子、金属塩粒子、樹脂成分から構成
されt;ブラシ、パフ研磨、ウェブ研磨等の材質で上記
した弾性クリーナープレート部材自体を直接研磨する;
これらの研磨方法についてはすでに公知の方法を使用す
ることが可能である。
■ It is composed of fine inorganic particles, metal salt particles, and resin components; directly polishes the above-mentioned elastic cleaner plate member itself with materials such as brush, puff polishing, and web polishing;
As for these polishing methods, already known methods can be used.

■ クリーナープレート部材上に樹脂等の保護層を設け
、その表面に■と同様の操作を行なう;この保護層形成
に使用できる樹脂としては、クリーナープレート部材よ
りも硬質のものが好ましく、例えばポリスチレン、ポリ
エステル等を挙げることができる。保護層は上記樹脂を
適当な溶剤に溶解させた塗布液をクリーナープレート上
に凹凸が生じないように塗布乾燥することにより所望の
膜厚に形成すればよい。
■ A protective layer such as a resin is provided on the cleaner plate member, and the same operation as in (■) is performed on its surface; as the resin that can be used to form this protective layer, it is preferable to use a resin that is harder than the cleaner plate member, such as polystyrene, Examples include polyester. The protective layer may be formed to a desired thickness by applying and drying a coating solution prepared by dissolving the above-mentioned resin in a suitable solvent onto the cleaner plate so as not to create unevenness.

膜厚としては乾燥後の膜厚が1.5〜30μm1好まし
くは2〜20μmとなるようにする。1.5μmより薄
いと安定した凹凸を設けることが困難であり、30μm
より厚いとクリーナープレートと保護層が剥離しやすく
なる。
The film thickness after drying is 1.5 to 30 μm, preferably 2 to 20 μm. If it is thinner than 1.5 μm, it is difficult to provide stable unevenness;
If it is thicker, the cleaner plate and protective layer will easily peel off.

■ クリーナープレート部材上に塗布法により有機保護
膜を形成する際、溶剤の乾燥速度を制御することにより
凹凸を設ける: 本方法は上記■において、溶剤を蒸発させる速度を制御
し、形成される保護層に直接凹凸を設けるもので、後の
研磨操作が不要である。
■ When forming an organic protective film on the cleaner plate member by a coating method, unevenness is created by controlling the drying rate of the solvent: This method uses the method described in (■) above to control the rate of evaporation of the solvent and reduce the amount of protection that is formed. Since the layer is directly textured, there is no need for a subsequent polishing operation.

保護膜乾燥速度制御方法はコーティングされる保護膜の
乾燥の際、保護層内の溶剤の蒸発速度が大きいと表面に
非常な大きな凹凸が形成され、反対に蒸発速度が小さい
と、表面が平滑となる現象、さらに凹凸の形成は溶剤の
蒸発速度とともに、保護膜を構成する樹脂の種類、溶剤
の種類、溶剤浸度、溶剤粘度、保護膜の厚さおよび支持
体の種類により変化する現象を巧みに利用するものであ
る。
The method for controlling the drying rate of a protective film is that when drying a protective film to be coated, if the evaporation rate of the solvent in the protective layer is high, very large irregularities will be formed on the surface, whereas if the evaporation rate is low, the surface will not be smooth. In addition, the formation of unevenness is a phenomenon that changes depending on the evaporation rate of the solvent, the type of resin composing the protective film, the type of solvent, the degree of immersion in the solvent, the viscosity of the solvent, the thickness of the protective film, and the type of support. It is used for.

この方法では、保護膜の乾燥工程において保護膜に微細
で均一な凹凸を一挙に′形成する。したがって保護膜形
成液の組成および性状を、目的とする表面粗さに合致す
るように適宜選定し、かつ乾燥速度を調整して溶剤の蒸
発速度を制御すれば所望の凹凸を有する保護膜を均一に
形成することができる。一般には、溶剤浸度が高いほど
、また保護膜が厚いほど保護膜表面が粗くなり易いので
所望の凹凸を形成するには乾燥速度を下げることが望ま
しい ■ クリーナープレート部材上に、ある条件下でプラズ
マ重合膜を設ける際に、同時にその重合膜に凹凸を付与
する; 本発明においては耐久性等の観点からこの■に挙げた方
法が特に好ましい。
In this method, fine and uniform irregularities are formed on the protective film all at once in the process of drying the protective film. Therefore, if the composition and properties of the protective film forming solution are appropriately selected to match the desired surface roughness, and the drying rate is adjusted to control the evaporation rate of the solvent, a protective film with the desired unevenness can be formed uniformly. can be formed into In general, the higher the degree of solvent immersion and the thicker the protective film, the rougher the surface of the protective film becomes. Therefore, in order to form the desired unevenness, it is desirable to lower the drying speed. When the plasma polymerized film is provided, the polymerized film is also provided with irregularities; in the present invention, the method listed in (1) is particularly preferred from the viewpoint of durability.

プラズマ重合膜(以下、本発明においては「a−C膜」
という)はグロー放電法により形成され、原料ガスとし
ては炭化水素ガス及びドーピング用化合物ガスが用いら
れ、キャリアーガスとしては一般に常用される水素ガス
、窒素ガス或はアルゴン等不活性ガスが用いられる。
Plasma polymerized membrane (hereinafter referred to as "a-C membrane" in the present invention)
) is formed by a glow discharge method, and a hydrocarbon gas and a doping compound gas are used as raw material gases, and a commonly used inert gas such as hydrogen gas, nitrogen gas, or argon is used as a carrier gas.

該炭化水素ガスの相状態は常温常圧において必ずしも気
相である必要は無く、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相
でも使用可能である。該炭化水素としては、例えば、飽
和炭化水素、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族
炭化水素等が用いられる。
The phase state of the hydrocarbon gas does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure; it can be either a liquid phase or a solid phase as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. It is possible. Examples of the hydrocarbons used include saturated hydrocarbons, unsaturated hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソブタン
、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオヘ
キサン、ジメチルブタン、メチルヘキサン、エチルペン
タン、ジメチルペンタン、トリブタン、メチルへブタン
、ジメチルヘキサン、トリメチルペンタン、イソナノン
等が用いられる。不飽和炭化水素としては、例えば、エ
チレン、プロピレン、イソブチレン、ブテン、ペンテン
、メチルブテン、ヘキセン、テトラメチルエチレン、ヘ
プテン、オクテン、アレン、メチルアレン、ブタジェン
、ペンタジェン、ヘキサジエン、シクロペンタジェン、
オシメン、アロシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、ア
セチレン、ジアセチレン、メチルアセチレン、ブチン、
ペンチン、ヘキシン、ヘプチン、オクチン等が用いられ
る。脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン
、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シ
クロヘプタン、シクロオクタン、シクロプロペン、シク
ロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘ
プテン、シクロオクテン、リモネン、テルビルン、フェ
ナントレン、シルベストレン、ツエン、カレン、ピネン
、ボルニレン、カンフエン、フエンチェン、シクロ7エ
ンチエン、トリシクレン、ビサボレン、ジンギペレン、
クルクメン、フムレン、カジネンセスキベニヘン、セリ
ネン、カリオフィレン、サンタレン、セドレン、カンホ
レン、フィロクラテン、ポドカルプレン、ミレン等が用
いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン
、メシチレン、プレニテン、インジュレン、ジュレン、
ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチル
ベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフ
ェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタ
リン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン等が
用いられる。
There are many types of hydrocarbons that can be used, but examples of saturated hydrocarbons include methane, ethane, propane, butane,
Pentane, hexane, heptane, octane, isobutane, isopentane, neopentane, isohexane, neohexane, dimethylbutane, methylhexane, ethylpentane, dimethylpentane, tributane, methylhebutane, dimethylhexane, trimethylpentane, isonanone, etc. are used. Examples of unsaturated hydrocarbons include ethylene, propylene, isobutylene, butene, pentene, methylbutene, hexene, tetramethylethylene, heptene, octene, allene, methylalene, butadiene, pentadiene, hexadiene, cyclopentadiene,
Ocimene, allocimene, myrcene, hexatriene, acetylene, diacetylene, methylacetylene, butyne,
Pentyne, hexyne, heptyne, octyne, etc. are used. Examples of alicyclic hydrocarbons include cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, limonene, terbirun, phenanthrene, sylvestrene, and tsene. , Karen, Pinene, Bornylene, Kanghuene, Fuenchen, Cyclo7ene, Tricyclene, Bisabolene, Zingipelene,
Curcumene, humulene, kajinensesesquivenichen, selinene, caryophyllene, santarene, cedrene, campholene, phylloclatene, podocarprene, mylene, etc. are used. Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hemimelithene, pseudocumene, mesitylene, prenitene, indulene, durene,
Pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, styrene, biphenyl, terphenyl, diphenylmethane, triphenylmethane, dibenzyl, stilbene, indene, naphthalene, tetralin, anthracene, phenanthrene, etc. are used.

本発明におけるa−C膜中に含まれる水素原子量は、炭
素原子と水素原子の総量に対して概ね27乃至60原子
%程度である。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film in the present invention is approximately 27 to 60 atomic percent based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms.

本発明におけるa−C膜中に含まれる水素原子の量は、
皮膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化し、水素
量が低くなる場合としては、例えば、基板温度を高くす
る、圧力を低くする、原料炭化水素ガスの希釈率を低く
する、水素含有率の低い原料ガスを用いる、印加電力を
高くする、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重
畳せしめた直流電界強度を高くする等の場合が挙げられ
る。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film in the present invention is
The amount of hydrogen changes depending on the form of the coating device and the conditions during film formation, and examples of cases in which the amount of hydrogen decreases include raising the substrate temperature, lowering the pressure, lowering the dilution rate of the raw material hydrocarbon gas, and reducing the hydrogen content. Cases include using a raw material gas with a low value, increasing the applied power, lowering the frequency of the alternating electric field, and increasing the intensity of the DC electric field superimposed on the alternating electric field.

a−C膜の凹凸の程度を大きくするには電力周波数を低
くする、放電電力を高くする、放電時の圧力を低くする
、膜厚を厚くする、基板温度を上げる等の手段が有効で
ある、なかで基板温度については、クリーナープレート
材の熱変形温度(例えばASTM  D648規格で測
定可能)より90ないし30℃低い温度が好ましい。
To increase the degree of unevenness of the a-C film, effective measures include lowering the power frequency, increasing the discharge power, lowering the pressure during discharge, increasing the film thickness, and increasing the substrate temperature. Among them, the substrate temperature is preferably 90 to 30° C. lower than the thermal deformation temperature of the cleaner plate material (for example, measurable according to ASTM D648 standard).

本発明におけるブレードクリーナーとしての被覆膜とし
てのa−C膜の膜厚は、概ね0.2乃至50μmが好適
である。膜厚が0.2μ−より薄い場合には、a−C膜
が下地の影響を受けやすくなり、また好適な耐久性が確
保できない。また、膜厚が50μmより厚い場合には、
かならずしも好適なりリーニング性が確保できるとは限
らず、逆にクリーナープレートの歪みと感光体との摩擦
応力によりクラック又は剥離が発生しやすくなる。また
感光体のとの摩擦によりチャージアップし、感光体に悪
影響を及ぼす。さらに製造時間が長くなる問題が生じる
The thickness of the a-C film as a coating film for the blade cleaner in the present invention is preferably approximately 0.2 to 50 μm. When the film thickness is thinner than 0.2 μm, the a-C film becomes susceptible to the influence of the base, and suitable durability cannot be ensured. In addition, if the film thickness is thicker than 50 μm,
It is not always possible to ensure suitable leaning properties, and on the contrary, cracks or peeling are likely to occur due to distortion of the cleaner plate and frictional stress with the photoreceptor. In addition, due to friction with the photoreceptor, the charge builds up, which has an adverse effect on the photoreceptor. Furthermore, a problem arises in that the manufacturing time becomes longer.

本発明のa−C膜中には、前記炭化水素以外の原子を添
加することが可能で、a−C膜の親水性、親油性、また
はぬれ性等を変えることができ、感光体の種類、トナー
の種類に合わせて、クリーナープレートを調製できる。
In the a-C film of the present invention, atoms other than the above-mentioned hydrocarbons can be added to change the hydrophilicity, lipophilicity, or wettability of the a-C film. , cleaner plates can be prepared according to the type of toner.

係る原子としては、ハロゲン原子を挙げることができる
Such atoms include halogen atoms.

例えば本発明においては炭化水素ガスの他に、a−C膜
中にハロゲン原子を添加するためにハロゲン化合物ガス
が使用される。ここでハロゲン原子とは、弗素原子、塩
素原子、臭素原子、及び沃素原子を云う。このようなハ
ロゲン原子の添加はぬれ性、離型性の改良に有効である
For example, in the present invention, in addition to hydrocarbon gas, a halogen compound gas is used to add halogen atoms into the a-C film. Here, the halogen atom refers to a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Addition of such halogen atoms is effective in improving wettability and mold releasability.

該ハロゲン化合物ガスにおける相状態は常温常圧におい
て必ずしも気相で有る必要はなく、加熱或は減圧等によ
り溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、
液相でも固相でも使用可能である。
The phase state of the halogen compound gas does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure, as long as it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure, etc.
It can be used in either liquid phase or solid phase.

ハロゲン化合物としては、例えば、弗素、塩素、臭素、
沃素、弗化水素、弗化塩素、弗化臭素、弗化沃素、塩化
水素、塩化臭素、塩化沃素、臭化水素、臭化沃素、沃化
水素等の無機化合物、ハロゲン化アルキノ呟ハロゲン化
アルキル金属、ハロゲン化アリール、ハロゲン化珪酸エ
ステル、ハロゲン化スチレン、ハロゲン化ポリメチレン
、ハロゲン置換オルガノシラン、ハロホルム等の有機化
合物が用いられる。
Examples of halogen compounds include fluorine, chlorine, bromine,
Inorganic compounds such as iodine, hydrogen fluoride, chlorine fluoride, bromine fluoride, iodine fluoride, hydrogen chloride, bromine chloride, iodine chloride, hydrogen bromide, iodine bromide, hydrogen iodide, alkyl halides, etc. Organic compounds such as metals, halogenated aryls, halogenated silicate esters, halogenated styrenes, halogenated polymethylenes, halogen-substituted organosilanes, and haloforms are used.

ハロゲン化アルキルとしては、例えば、フッ化メチル、
塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、フッ化エチル
、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、フッ化プロ
ピル、塩化プロピル、臭化プロピル、ヨウ化プロピル、
7ツ化ブチル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル
、フッ化アミル、塩化アミル、臭化アミル、ヨウ化アミ
ル、フッ化ヘキシル、塩化ヘキシル、臭化ヘキシル、ヨ
ウ化ヘキシル、7ツ化ヘプチル、塩化ヘプチル、臭化ヘ
プチル、ヨウ化ヘプチル等が用いられる。
Examples of the alkyl halide include methyl fluoride,
Methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, ethyl fluoride, ethyl chloride, ethyl bromide, ethyl iodide, propyl fluoride, propyl chloride, propyl bromide, propyl iodide,
Butyl 7tsunide, butyl chloride, butyl bromide, butyl iodide, amyl fluoride, amyl chloride, amyl bromide, amyl iodide, hexyl fluoride, hexyl chloride, hexyl bromide, hexyl iodide, heptyl 7tsunide , heptyl chloride, heptyl bromide, heptyl iodide, etc. are used.

ハロゲン化アルキル金属としては、例えば、塩化ジメチ
ルアルミニウム、臭化ジメチルアルミニウム、塩化ジエ
チルアルミニウム、ヨウ化ジエチルアルミニウム、二塩
化メチルアルミニウム、三臭化メチルアルミニウム、ニ
ョウ化エチルアルミニウム、塩化トリメチルスズ、臭化
トリメチルスズ、ヨウ化トリメチルスズ、塩化トリエチ
ルスズ、臭化トリエチルスズ、二塩化ジメチルスズ、三
臭化ジメチルスズ、ニョウ化ジメチルスズ、二塩化ジメ
チルスズ、三臭化ジエチルスズ、ニョウ化ジエチルスズ
、三塩化メチルスズ、三臭化メチルスズ、三塩化メチル
スズ、ミ臭化エチルスズ等が用いられる。
Examples of the alkyl metal halides include dimethylaluminum chloride, dimethylaluminum bromide, diethylaluminum chloride, diethylaluminum iodide, methylaluminum dichloride, methylaluminum tribromide, ethylaluminum diodide, trimethyltin chloride, and trimethyl bromide. Tin, trimethyltin iodide, triethyltin chloride, triethyltin bromide, dimethyltin dichloride, dimethyltin tribromide, dimethyltin diodide, dimethyltin dichloride, diethyltin tribromide, diethyltin diodide, methyltin trichloride, methyltin tribromide , methyltin trichloride, ethyltin dibromide, etc. are used.

ハロゲン化アリールとしては、例えば、フルオロベンゼ
ン、クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン
、クロルトルエン、ブロムトルエン、クロルナフタリン
、ブロムナフタリン等が用いられる。
Examples of the halogenated aryl include fluorobenzene, chlorobenzene, brombenzene, iodobenzene, chlorotoluene, bromotoluene, chlornaphthalene, and bromnaphthalene.

ハロゲン化珪酸エステルとしては、例えば、モノメトキ
シトリクロルシラン、ジメトキシジクロルシラン、トリ
メトキシモノクロルシラン、モノエトキシトリクロルシ
ラン、ジェトキシジクロルシラン、トリエトキシモノク
ロルシラン、七ノアリロキシトリクロルシラン、ジアリ
ロキシジクロルシラン、トリアリロキシモノクロルシラ
ン等が用いられる。
Examples of the halogenated silicic acid ester include monomethoxytrichlorosilane, dimethoxydichlorosilane, trimethoxymonochlorosilane, monoethoxytrichlorosilane, jetoxydichlorosilane, triethoxymonochlorosilane, heptanoaryloxytrichlorosilane, and diaryloxy Dichlorosilane, triaryloxymonochlorosilane, etc. are used.

ハロゲン化スチレンとしては、例えば、クロルスチレン
、ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン
等が用いられる。
As the halogenated styrene, for example, chlorstyrene, bromustyrene, iodostyrene, fluorostyrene, etc. are used.

ハロゲン化ポリメチレンとしては、例えば、塩化メチレ
ン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化エチレン、臭
化エチレン、ヨウ化エチレン、塩化トリメチレン、臭化
トリメチレン、ヨウ化トリメチレン、ジ塩化ブタン、ジ
臭化ブタン、ショウ化ブタン、ジ塩化ペンタン、ジ臭化
ペンタン、ジヨウ化ペンタン、ジ塩化ヘキサン、ジ臭化
ヘキサン、ショウ化ヘキサン、ジ塩化へブタン、ジ臭化
へブタン、ジヨウ化へブタン、ジ塩化オクタン、ジ臭化
オクタン、ジヨウ化オクタン、ジ塩化ノナン、ジ臭化ノ
ナン等が用いられる。ハロゲン置換オルガノシランとし
ては、例えば、クロルメチルトリメチルシラン ラン、ビスクロルメチルジメチルシラン、トリスクロル
メチルメチルシラン、クロルエチルトリエチルシラン、
ジクロルエチルトリエチルシラン、ブロムメチルトリメ
チルシラン、ヨードメチルトリメチルシラン、ビスヨー
ドメチルジメチルシラン、クロルフェニルトリメチルシ
ラン、ブロムフェニルトリメチルシラン、クロルフェニ
ルトリエチルシラン、ブロムフェニルトリエチルシラン
、ヨードフェニルトリエチルシラン等が用いられる。
Examples of halogenated polymethylene include methylene chloride, methylene bromide, methylene iodide, ethylene chloride, ethylene bromide, ethylene iodide, trimethylene chloride, trimethylene bromide, trimethylene iodide, butane dichloride, butane dibromide, Butane dichloride, pentane dichloride, pentane dibromide, pentane diiodide, hexane dichloride, hexane dibromide, hexane dichloride, hebutane dichloride, hebutane dibromide, hebutane diiodide, octane dichloride, Octane dibromide, octane diiodide, nonane dichloride, nonane dibromide, etc. are used. Examples of the halogen-substituted organosilane include chloromethyltrimethylsilane, bischloromethyldimethylsilane, trischloromethylmethylsilane, chloroethyltriethylsilane,
Dichloroethyltriethylsilane, bromomethyltrimethylsilane, iodomethyltrimethylsilane, bisiodomethyldimethylsilane, chlorphenyltrimethylsilane, bromphenyltrimethylsilane, chlorphenyltriethylsilane, bromphenyltriethylsilane, iodophenyltriethylsilane, etc. are used. .

ハロホルムとしては、例えば、フルオロホルム、クロロ
ホルム、ブロモホルム、ヨードホルム等が用いられる。
As haloform, for example, fluoroform, chloroform, bromoform, iodoform, etc. are used.

本発明において化学的修飾物質として含有されるハロゲ
ン原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への
前述のハロゲン化合物ガスの導入量を増減する事により
制御する事が可能である。
In the present invention, the amount of halogen atoms contained as a chemical modifier can be controlled mainly by increasing or decreasing the amount of the halogen compound gas introduced into the reaction chamber in which the plasma reaction is performed.

ハロゲン化合物ガスの導入量を増大させれば、本発明に
よるa−C膜中へのハロゲン原子の添加量を高くする事
が可能であり、逆にハロゲン化合物の導入量を減少させ
れば、本発明によるa−C膜中へのハロゲン原子の添加
量を低くする事が可能である。
By increasing the amount of halogen compound gas introduced, it is possible to increase the amount of halogen atoms added to the a-C film according to the present invention, and conversely, by decreasing the amount of halogen compound introduced, it is possible to increase the amount of halogen atoms added to the a-C film according to the present invention. According to the invention, it is possible to reduce the amount of halogen atoms added to the a-C film.

本発明において、そのハロゲン原子含有量は、0、1i
子%以上であればよく、最大含有量は特に制限はないが
a−C層の構造及びグロー放電という製造面から必然的
に定まる。
In the present invention, the halogen atom content is 0, 1i
The maximum content is not particularly limited, but is necessarily determined from the structure of the a-C layer and the production aspect of glow discharge.

更に、また、例えば、本発明においては炭化水素ガスの
他に、a−C膜中に少なくとも金属原子を添加するため
に金属化合物ガスが使用される。
Furthermore, for example, in the present invention, in addition to the hydrocarbon gas, a metal compound gas is used to add at least metal atoms into the a-C film.

ここで、金属原子とはBes Mgs Ca%’ri,
 v。
Here, the metal atoms are Bes Mgs Ca%'ri,
v.

Mn、  Fe、  Co、Ni、CuS Zn、Sr
、Y、Zr。
Mn, Fe, Co, Ni, CuS Zn, Sr
, Y, Zr.

MOlTc、Ru、Rh、Pd、Ag5Cds Snで
あり、特に好ましいものは、Cas T1% Fes 
Cus ZnsAgs Sn等である。このような金属
原子の添加は帯電防止、即ち、感光体との摩擦帯電によ
るブレードがチャージアップし、リーク時に感光体に悪
影響を及ぼすのを防止できる。金属原子添加により、電
気抵抗値を調整し、上記問題点を解決するのに有効であ
る。
MOITc, Ru, Rh, Pd, Ag5Cds Sn, and particularly preferred are Cas T1% Fes
Cus ZnsAgs Sn etc. Addition of such metal atoms can prevent charging, that is, it can prevent the blade from being charged up due to frictional electrification with the photoreceptor and adversely affecting the photoreceptor when leakage occurs. The addition of metal atoms is effective in adjusting the electrical resistance value and solving the above problems.

該金属化合物ガスにおける相状態は常温常圧において必
ずしも気相で有る必要は無く、また、むしろ気相状態の
化合物は少ないため、加熱或は減圧等により溶融、蒸発
、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相
でも使用可能である。
The phase state of the metal compound gas does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure, and since there are few compounds in a gas phase, it can be vaporized through melting, evaporation, sublimation, etc. by heating or reduced pressure. It can be used in either liquid phase or solid phase.

金属化合物としては、例えば、金属アルコラード、金属
アクリル酸、金属メタクリル酸、或は、金属フタロシア
ニン(有機金属ガス)等が用いられる。
As the metal compound, for example, metal alcoholade, metal acrylic acid, metal methacrylic acid, metal phthalocyanine (organometallic gas), etc. are used.

本発明において化学的修飾物質として含有される金属原
子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への前述
の金属化合物ガスの導入量を増減する事により制御する
事が可能である。金属化合物ガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるa−C膜中への金属原子の添加量を高
くする事が可能であり、逆に金属化合物の導入量を減少
させれば、本発明によるa−C膜中への金属原子の添加
量を低くする事が可能である。
In the present invention, the amount of metal atoms contained as a chemical modifier can be controlled mainly by increasing or decreasing the amount of the metal compound gas introduced into the reaction chamber in which the plasma reaction is performed. By increasing the amount of metal compound gas introduced, it is possible to increase the amount of metal atoms added to the a-C film according to the present invention, and conversely, by decreasing the amount of metal compound introduced, it is possible to increase the amount of metal atoms added to the a-C film according to the present invention. It is possible to reduce the amount of metal atoms added to the a-C film according to the invention.

本発明において、その金属原子含有量は、0.1原子%
以上であればよく、最大含有量は特に制限はないが表面
保護層の構造及びグロー放電という製造面から必然的に
定まる。
In the present invention, the metal atom content is 0.1 at%
The maximum content is not particularly limited, but is necessarily determined by the structure of the surface protective layer and the production aspect of glow discharge.

第2図は本発明に係わるブレードクリーナー即ち、a−
C膜を形成するための製造装置を示し、図中(701)
〜(706)は常温において気相状態にある原料及びキ
ャリアガスを密封した第1乃至第6タンクで、各々のタ
ンクは第1乃至第6調節弁(707)〜(712)と第
1乃至第6流量制御器(713)〜(718)に接続さ
れている。図中(719)〜(721)は常温において
液相または固相状態にある原料を封入した第1乃至第3
容器で、夫々の容器は気化のため、第1乃至第3温調器
(722)〜(724)により与熱可能であり、さらに
夫々の容器は第7乃至第9調節弁(725)〜(727
)と第7乃至第9流量制御器(728)〜(730)に
接続されている。これらのガスは混合器(731)で混
合された後、主管(732)を介して反応室(733)
に送り込まれる。途中の配管は、常温において液相また
は固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中
で凝結しないように、適宜配置された配管加熱器(73
4)により、与熱可能とされている。反応室内には接地
電極(735)と電力印加電極(736)が対向して配
置され、夫々の電極は電極加熱器(737)により与熱
可能とされている。電力印加電極(736)には、高周
波電力用整合器(738)を介して高周波電源(739
)、低周波電力用整合器(740)を介して低周波電源
(741)、ローパスフィルタ(742)を介して直流
電源(743)が接続されており、接続選択スイッチ(
744)により周波数の異なる電力が印加可能とされて
いる。反応室(733)内の圧力は圧力制御弁(745
)により調整可能であり、反応室(733)内の減圧は
、排気系選択弁(746)を介して、拡散ポンプ(74
7)、油回転ポンプ(748)、或は、冷却除外装置(
749)、メカニカルブースターポンプ(750)、油
回転ポンプ(748)により行なわれる。排ガスについ
ては、さらに適当な除外装置(753)により安全無害
化した後、大気中に排気される。これら排気系配管に就
いても、常温において液相または固相状態にあった原料
化合物が気化したガスが途中で凝結しない様に、適宜配
置された配管加熱器(734)により、与熱可能とされ
ている。反応室(733)も同様の理由から反応室加熱
器(751)により与熱可能とされ、内部に配された電
極上には、予め弾性体層が形成された熱伝導支持パイプ
(752)が配置される。
FIG. 2 shows a blade cleaner according to the present invention, namely a-
A manufacturing apparatus for forming C film is shown, and (701) in the figure
- (706) are first to sixth tanks in which raw materials and carrier gas which are in a gas phase at room temperature are sealed, and each tank is connected to first to sixth control valves (707) to (712) and first to sixth control valves (707) to (712). 6 flow rate controllers (713) to (718). In the figure, (719) to (721) are the first to third tubes that encapsulate raw materials that are in a liquid or solid phase at room temperature.
Each container can be heated by first to third temperature regulators (722) to (724) for vaporization, and each container can be heated by seventh to ninth control valves (725) to (724). 727
) and seventh to ninth flow rate controllers (728) to (730). After these gases are mixed in a mixer (731), they are passed through a main pipe (732) to a reaction chamber (733).
sent to. The pipes along the way are equipped with pipe heaters (73
4), heat can be applied. A ground electrode (735) and a power application electrode (736) are arranged facing each other in the reaction chamber, and each electrode can be heated by an electrode heater (737). A high frequency power supply (739) is connected to the power application electrode (736) via a high frequency power matching box (738).
), a low frequency power source (741) is connected via a low frequency power matching box (740), a DC power source (743) is connected via a low pass filter (742), and a connection selection switch (
744), it is possible to apply power with different frequencies. The pressure inside the reaction chamber (733) is controlled by a pressure control valve (745).
), and the reduced pressure in the reaction chamber (733) is controlled by the diffusion pump (74) via the exhaust system selection valve (746).
7), oil rotary pump (748), or cooling exclusion device (
749), a mechanical booster pump (750), and an oil rotary pump (748). The exhaust gas is further rendered safe and harmless by an appropriate exclusion device (753) before being exhausted into the atmosphere. These exhaust system pipings can also be heated by appropriately placed piping heaters (734) to prevent the vaporized gas from the raw material compound, which is in a liquid or solid phase at room temperature, from condensing on the way. has been done. For the same reason, the reaction chamber (733) can also be heated by a reaction chamber heater (751), and a heat conduction support pipe (752) on which an elastic layer is previously formed is placed on the electrode arranged inside. Placed.

反応室は、拡散ポンプにより予めto−’乃至lO−’
Torr程度にまで減圧し、真空度の確認と装置内部に
吸着したガスの脱着を行なう。同時に電極加熱器により
、電極並びに電極に固定して配されたクリーナープレー
ト母材を必要に応じ、所定の温度まで昇温する。基板温
度はヒーター(737)により、所望の基板温度に設定
される。次いで、第1乃至第6タンク及び第1乃至第3
容器から適宜炭化水素並びにドーピング用化合物よりな
る原料ガスを第1乃至第9流量制御器を用いて定流量化
しながら反応室内に導入し、圧力調節弁により反応室内
を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が安定化した後、接
続選択スイッチにより、例えば高周波電源を選択し、電
力印加電極に高周波電力を投入する。両電極間には放電
が開始され、時間と共に基板上に固相の膜が形成される
。反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚に達したと
ころで放電を停止し、所望の面にa−C膜が被覆された
本発明のクリーナープレートを得る。
The reaction chamber is preliminarily heated from to-' to lO-' by a diffusion pump.
The pressure is reduced to approximately Torr, the degree of vacuum is confirmed, and the gas adsorbed inside the device is desorbed. At the same time, the electrode and the cleaner plate base material fixedly disposed on the electrode are heated to a predetermined temperature by the electrode heater as necessary. The substrate temperature is set to a desired substrate temperature by a heater (737). Next, the first to sixth tanks and the first to third tanks
A raw material gas consisting of hydrocarbons and doping compounds is introduced from the container into the reaction chamber at a constant flow rate using the first to ninth flow rate controllers, and the inside of the reaction chamber is maintained at a constant reduced pressure using the pressure control valve. After the gas flow rate is stabilized, a connection selection switch is used to select, for example, a high frequency power source, and high frequency power is applied to the power application electrode. A discharge is started between the two electrodes, and a solid phase film is formed on the substrate over time. The film thickness is controlled by the reaction time, and when a predetermined film thickness is reached, the discharge is stopped to obtain the cleaner plate of the present invention having a desired surface coated with the a-C film.

以下、実施例を挙げながら、本発明を説明する。The present invention will be described below with reference to Examples.

トナーの製造例1[(+)帯電性トナー(トナーA)]
]組分             重量部・スチレン−
n−ブチル        100メタクリレート樹脂 (軟化点、132℃;ガラス転移点、60℃)・カーボ
ンブラック           5(三菱化成社製、
MA#8) ・ニグロシン染料            3(オリエ
ント化学社製、ポントロンN−01)上記材料をボール
ミルで充分混合した後、140°Cに加熱した3本ロー
ル上で混練した。混練物を放置冷却後、フェザ−ミルを
用い粗粉砕し、さらにジェットミルで微粉砕した。つぎ
に、風力分級を繰り返し、平均粒径13μmの微粉末を
得た(トナーA)。この変動係数を測定した結果、18
%であった。
Toner production example 1 [(+) chargeable toner (toner A)]
] Parts by weight/Styrene
n-Butyl 100 methacrylate resin (softening point, 132°C; glass transition point, 60°C), carbon black 5 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation,
MA#8) - Nigrosine dye 3 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd., Pontron N-01) The above materials were thoroughly mixed in a ball mill, and then kneaded on three rolls heated to 140°C. After the kneaded material was left to cool, it was coarsely ground using a feather mill and further finely ground using a jet mill. Next, air classification was repeated to obtain a fine powder with an average particle size of 13 μm (toner A). As a result of measuring this coefficient of variation, 18
%Met.

トナーの製造例2[(−)帯電性トナー(トナーB)]
つぎの組成によりトナーの製造例1と同様の方法を用い
てトナーBを製造した。
Toner production example 2 [(-) chargeable toner (toner B)]
Toner B was manufactured using the same method as in Toner Manufacturing Example 1 with the following composition.

成 分             重量部・ポリエステ
ル樹脂          100(軟化点、130℃
;ガラス転移点、60°C%AV25.0HV38) ・カーボンブラック            5(三菱
化成社製、MA#8) 平均粒径11μm1変動係数=16% トナーの製造例3  [懸濁重合型(トナーC)]・ス
チレン           60  重量部・n−ブ
チルメタクリレート35  重量部・メタクリル酸  
       5 重量部・2.2−アゾビス−(2,
4−ジメチルバレロニトリル)0.5重量部 ・低分子量酸化をポリプロピレン 「ビスコールTS−200J(三菱化成工業社製)3 
重量部 ・カーボンブラックMA#8(三菱化成工業社製)8 
重量部 ・ニグロシンベースEX(オリエント化学工業社製)3
 重量部 上記材料をサンドスターラーにより充分に混合して、重
合性組成物を調製した。この重合性組成物を濃度3重量
%のアラビアゴム水溶液中に撹拌機rT−にホモジナイ
ザー」(特殊工業社製)により回転数30.0 Orp
mで撹拌しながら、温度60’Cで6時間重合反応させ
、さらに温度を80℃に上昇し重合反応させた。重合反
応終了後、反応系を冷却して5〜6回水洗後、ろ過し乾
燥して球状粒子を得た。(トナーC) 得られた球状粒子の平均粒径は1000μm1変動係数
は17%、軟化点(Tm)は14100.ガラス転移点
(Ts)は61’Oであった。
Ingredients Parts by weight/Polyester resin 100 (softening point, 130°C
; glass transition point, 60°C% AV25.0HV38) Carbon black 5 (manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation, MA#8) Average particle size 11 μm 1 Coefficient of variation = 16% Toner production example 3 [Suspension polymerization type (Toner C) ]・Styrene 60 parts by weight・n-butyl methacrylate 35 parts by weight・Methacrylic acid
5 parts by weight 2.2-azobis-(2,
0.5 parts by weight of 4-dimethylvaleronitrile) and low molecular weight oxidation were added to polypropylene "Viscol TS-200J (manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) 3
Part by weight: Carbon black MA #8 (manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) 8
Parts by weight: Nigrosine base EX (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) 3
Parts by weight The above materials were thoroughly mixed using a sand stirrer to prepare a polymerizable composition. This polymerizable composition was added to an aqueous gum arabic solution with a concentration of 3% by weight using a stirrer rT- homogenizer (manufactured by Tokushu Kogyo Co., Ltd.) at a rotational speed of 30.0 Orp.
The polymerization reaction was carried out at a temperature of 60'C for 6 hours while stirring at m, and the temperature was further raised to 80C to carry out a polymerization reaction. After the polymerization reaction was completed, the reaction system was cooled and washed with water 5 to 6 times, filtered and dried to obtain spherical particles. (Toner C) The average particle size of the obtained spherical particles was 1000 μm1, the coefficient of variation was 17%, and the softening point (Tm) was 14100. The glass transition point (Ts) was 61'O.

トナーの製造例4[粉体コートタイプ(トナーD)1シ
一ド重合法により得られた単分散球状のスチレン系ポリ
マー(平均粒径7μm1粒径の変動係数が10%以内の
もの。軟化点128°C1ガラス転移点54℃)をポリ
マー粒子(A)とする。
Toner production example 4 [Powder coat type (toner D) Monodisperse spherical styrene polymer obtained by one-sheet polymerization method (average particle size 7 μm, coefficient of variation of one particle size within 10%. Softening point 128° C. (glass transition point: 54° C.) is used as the polymer particle (A).

上記ポリマー粒子(A)100重量部とカーボンブラッ
ク(三菱化成工業社製MA#8)5重量部をヘンシェル
ミキサーに入れl 500rpm、 5分間混合撹拌し
、カーボンブラックで表面が被覆されたポリマー粒子(
B)を得た。
100 parts by weight of the above polymer particles (A) and 5 parts by weight of carbon black (MA #8 manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) were placed in a Henschel mixer and mixed and stirred at 500 rpm for 5 minutes to obtain polymer particles whose surfaces were coated with carbon black (
B) was obtained.

次にこのポリマー粒子(B)100重量部と、ポリアク
リル酸ナトリウム5重量部を溶解した水2000重量部
とを混合撹拌し、中間粒子を水中に分散させI;後、こ
の分散系にスチレン/n−ブチルメタアクリレート/2
.2.2−トリフルオロエチルアクリレート−75/1
5/10の組成比の七ツマー100重量部、重合開始剤
として過硫酸カリウム2重量部を添加し、系の温度を8
0℃に上昇させて6時間にわたり重合を行ない、ポリマ
ー粒子(B)上に、さらに樹脂コート層を有するトナー
粒子りを得た。
Next, 100 parts by weight of this polymer particle (B) and 2000 parts by weight of water in which 5 parts by weight of sodium polyacrylate were dissolved were mixed and stirred, and the intermediate particles were dispersed in water. n-butyl methacrylate/2
.. 2.2-Trifluoroethyl acrylate-75/1
100 parts by weight of 7-mer with a composition ratio of 5/10 and 2 parts by weight of potassium persulfate as a polymerization initiator were added, and the temperature of the system was raised to 8.
The temperature was raised to 0° C. and polymerization was carried out for 6 hours to obtain toner particles having a resin coat layer on the polymer particles (B).

トナー粒子りは、平均粒径10μm1粒径の変動係数が
、l1%であった。
The average particle size of the toner particles was 10 μm, and the coefficient of variation per particle size was 11%.

トナーの製造例5[粉体コートタイプ(トナーE)]ト
ナーの製造例4において、ポリマー粒子(A)の平均粒
径を5μmにかえることによって、平均粒径7μm1粒
径の変動係数12%のトナーEを得た。
Toner production example 5 [Powder coat type (toner E)] In toner production example 4, by changing the average particle size of the polymer particles (A) to 5 μm, the average particle size was 7 μm and the coefficient of variation of 1 particle size was 12%. Toner E was obtained.

トナーの製造例6(トナーF) トナーの製造例1において、風力分級の回数を減らすこ
とによって変動係数24%のトナーFを得た。
Toner Production Example 6 (Toner F) In Toner Production Example 1, Toner F with a coefficient of variation of 24% was obtained by reducing the number of times of air classification.

(ブレード製造例1) ポリウレタンのクリーニングブレード(東海ゴム社製)
に対し、パフ研磨を行い表面に凹凸を設けた(このブレ
ードをブレードIとする)。こうして得たブレードの表
面の最大粗さを東京精密社製表面粗さ・輪郭形状測定装
置surfcom553 Aを用いて測定したところ、
33−0pであった。
(Blade manufacturing example 1) Polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.)
On the other hand, puff polishing was performed to create irregularities on the surface (this blade is referred to as blade I). The maximum roughness of the surface of the blade thus obtained was measured using a surface roughness/contour measuring device surfcom553A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
It was 33-0p.

(ブレード製造例2) ポリウレタンのクリーニングブレード(東海ゴム社製)
に対し、下記方法でスチレンオリゴマー保護層を設けた
パフ研磨を行い表面に凹凸を設けた(このブレードをブ
レード■とする)。
(Blade manufacturing example 2) Polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.)
On the other hand, a styrene oligomer protective layer was provided and puff polishing was performed using the method described below to create irregularities on the surface (this blade will be referred to as blade (2)).

こうして得たブレードの表面の最大粗さを(製造例1)
と同様にして測定したところ、3.3μmであった。
The maximum surface roughness of the blade thus obtained (Manufacturing Example 1)
When measured in the same manner as above, it was found to be 3.3 μm.

[スチレンオリゴマー層の設は方] スチレンー〇C1,系で重合度(分子量)が約200の
白色粉末のオリゴスチレン[CI(styrene)n
ccls]を溶剤に溶かし、被コート材にスプレーコー
トシタ後(約10μ+11)、100°c’t’1時間
乾燥する。
[How to set up the styrene oligomer layer] White powder oligostyrene [CI (styrene) n
ccls] in a solvent, spray coated on the material to be coated (approx. 10μ+11), and then dried at 100°c't' for 1 hour.

(ブレード製造例3) ポリウレタンのクリーニングブレード(東海ゴム社製)
に対し、下記方法で有機保護層を設け、凹凸をつけた(
このブレードをブレード■とする)。
(Blade manufacturing example 3) Polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.)
On the other hand, an organic protective layer was applied using the following method, and unevenness was created (
This blade will be referred to as blade ■).

こうして得たブレードの表面の最大粗さを(製造例1)
と同様にして測定したところ、2.8μ璽であった。
The maximum surface roughness of the blade thus obtained (Manufacturing Example 1)
When measured in the same manner as above, it was found to be 2.8 μm.

[ポリエステル層の設は方1 クリーニングブレードを、熱可塑性芳香族ポリエステル
(商品名Uポリマー、ユニチカ社製)を1.2−ジクロ
ルエタンに溶解した保護膜形成液(溶液濃度3重量%)
中に浸漬し、IO+++s+/secの速度で引き上げ
た後、直ちに83℃に維持された恒温槽中で4分間乾燥
させた。その結果、約4μ園の保護層が形成された。
[How to prepare the polyester layer 1] A cleaning blade was coated with a protective film forming solution in which thermoplastic aromatic polyester (trade name: U Polymer, manufactured by Unitika) was dissolved in 1,2-dichloroethane (solution concentration: 3% by weight).
After being immersed in the liquid and pulled up at a rate of IO+++s+/sec, it was immediately dried for 4 minutes in a constant temperature bath maintained at 83°C. As a result, a protective layer of about 4 μm was formed.

(ブレード製造例4) あらかじめ70℃に加熱したポリウレタンのクリーニン
グブレード(東海ゴム社製)に対し、500KHz。
(Blade Production Example 4) 500 KHz for a polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.) that was preheated to 70°C.

150Wa t tの印加電圧で真空中グ°ロー放電法
によりアセチレンガス(CzHz)を用いて15分間成
膜処理を行いブレード上に膜厚約5μm1表面の最大粗
さ2.2μmのプラズマ重合膜を得た(このブレードを
ブレード■とする)。
A plasma polymerized film with a film thickness of approximately 5 μm and a maximum surface roughness of 2.2 μm was formed on the blade by performing a film forming process for 15 minutes using acetylene gas (CzHz) by the glow discharge method in vacuum with an applied voltage of 150 Watts. (This blade is called Blade ■).

(ブレード製造例5) ポリウレタンのクリーニングブレード(東海ゴム社製)
に対し、ブレードの製造例4と同様の条件で真空中グロ
ー放電法によりHe、C,H,、CF。
(Blade manufacturing example 5) Polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.)
On the other hand, He, C, H, and CF were prepared by glow discharge method in vacuum under the same conditions as in Blade Production Example 4.

を用いて15分間成膜処理を行いブレード上に膜厚約5
μm1表面の最大粗さ2.5μmのプラズマ重合膜を得
た(このブレードをブレードVとする)。
The film was formed on the blade for 15 minutes with a thickness of about 5.
A plasma polymerized film with a maximum surface roughness of 2.5 μm was obtained (this blade is referred to as blade V).

(ブレード製造例6) (製造例2)と同様にしてポリウレタンのクリーニング
ブレード(東海ゴム社製)に対し、膜厚約8μm1表面
の最大粗さ0.3μmの表面保護層を設けた(研磨は、
省いた)(このブレードをブレード■とする)。
(Blade Production Example 6) In the same manner as in (Production Example 2), a surface protective layer with a film thickness of approximately 8 μm and a maximum surface roughness of 0.3 μm was provided on a polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.) (polishing was not performed). ,
(Omitted) (This blade will be referred to as Blade ■).

(ブレード製造例7) あらかじめ60℃に加熱したポリウレタンのクリーニン
グブレード(東海ゴム社製)に対し、3MHz%100
Wattの印加電圧で真空中グロー放電法によりアセチ
レンガス(czHz)を用いて18分開成膜処理を行い
ブレード上に膜厚約6μm1表面の最大粗さ0.2μm
のプラズマ重合膜を得た(このブレードをブレード■と
する)。
(Blade manufacturing example 7) 3MHz%100 polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.) heated to 60°C in advance
An open film was formed on the blade using an acetylene gas (czHz) using a glow discharge method in a vacuum for 18 minutes with an applied voltage of 6 μm and a maximum surface roughness of 0.2 μm.
A plasma polymerized film was obtained (this blade will be referred to as blade ■).

(ブレード製造例8) あらかじめ90℃に加熱したポリウレタンのクリーニン
グブレード(東海ゴム社製)に対し、30KHz120
0Wattの印加電圧で真空中グロー放電法によりアセ
チレンガス(C2H2)を用いて25分開成膜処理を行
いブレード上に膜厚約9μm1表面の最大粗さ7.8μ
mのプラズマ重合膜を得た(このブレードをブレード■
とする)。
(Blade manufacturing example 8) A polyurethane cleaning blade (manufactured by Tokai Rubber Co., Ltd.) heated to 90°C in advance was heated to 30KHz120
An open film was formed on the blade using acetylene gas (C2H2) for 25 minutes using a glow discharge method in vacuum with an applied voltage of 0 Watt, and a film thickness of about 9 μm and a maximum surface roughness of 7.8 μ were formed on the blade.
A plasma polymerized film of m was obtained (this blade was
).

(実施例1) (製造例1)で得たブレードIとトナー製造例1で得た
トナーAを用いてミノルタカメラ社製EP〜47ozを
用いて3.000枚の連続コピーを行った。この時、感
光体とブレードの圧接部からは何の異音(鳴き)も発生
しなかった。そこで、更に2,000枚の連続コピーを
行った結果、クリーニング不良が発生した。
(Example 1) Using Blade I obtained in (Production Example 1) and Toner A obtained in Toner Production Example 1, 3,000 sheets of continuous copying was performed using EP~47oz manufactured by Minolta Camera Co., Ltd. At this time, no abnormal noise (squeal) was generated from the pressure contact portion between the photoreceptor and the blade. Then, as a result of continuous copying of 2,000 more sheets, a cleaning failure occurred.

また、ブレード通過前の感光体上残存トナーの平均付着
量0 、33 [g/cm”]に対し、ブレード通過後
の付着量は3.000枚までは0−02 [g/cm”
l以下であり、クリーニング性は良好であった。5゜0
00枚コピー後は0 、22 [g/cm”lと多かっ
た。
Furthermore, while the average amount of toner remaining on the photoreceptor before passing through the blade is 0.33 [g/cm"], the amount of toner remaining on the photoreceptor after passing through the blade is 0-02 [g/cm"] for up to 3,000 sheets.
1 or less, and the cleaning performance was good. 5゜0
After copying 00 sheets, it was as high as 0.22 g/cm"l.

その後、30.000枚までコピーしたが、ブレード通
過後の付着量は、0.20 [g/cm”]以上であっ
た。
Thereafter, up to 30,000 copies were made, but the amount of adhesion after passing through the blade was 0.20 [g/cm''] or more.

(実施例2〜5) トナーB、C,D、Eに対し、ブレードIを用いてミノ
ルタカメラ社製EP−5702において、(実施例1)
と同様のテストを行った。
(Examples 2 to 5) Toners B, C, D, and E were treated with Blade I in EP-5702 manufactured by Minolta Camera Co., Ltd. (Example 1)
I conducted a similar test.

(結果は表1参照) (実施例6) トナーFに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 6) The same test as in Example 1 was conducted on Toner F using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例7) トナーAに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 7) The same test as in Example 1 was conducted on toner A using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例8〜11) トナーB、C,D、Eに対し、ブレード■を用いて(実
施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Examples 8 to 11) The same tests as in Example 2 were conducted on toners B, C, D, and E using blade (2).

(結果は表1参照) (実施例12) トナーFに対し、ブレード「を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 12) The same test as in Example 1 was conducted on Toner F using a blade.

(結果は表1参照) (実施例13) トナーAに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 13) A test similar to that in Example 1 was conducted on toner A using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例14〜17) トナーBSC,D、Eに対し、ブレード■を用いて(実
施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 1 for the results) (Examples 14 to 17) The same test as in Example 2 was conducted on toners BSC, D, and E using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例18) トナーFに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 18) The same test as in Example 1 was conducted on Toner F using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例19) トナーAに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 19) A test similar to that in Example 1 was conducted on toner A using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例20〜23) トナーB、C,D%Eに対し、ブレード■を用いて(実
施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Examples 20 to 23) The same test as in Example 2 was conducted on toners B, C, and D%E using Blade ■.

(結果を表1参照) (実施例24) トナーFに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 24) The same test as in Example 1 was conducted on Toner F using Blade ■.

(結果は表1参照) (実施例25) トナーAに対し、ブレードVを用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 25) A test similar to that in Example 1 was conducted on Toner A using Blade V.

(結果は表1参照) (実施例26〜29) トナーB、C%D1Eに対し、ブレードVを用いて(実
施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Examples 26 to 29) The same test as in Example 2 was conducted on Toner B and C%D1E using Blade V.

(結果は表1参照) (実施例30) トナーFに対し、ブレードVを用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。(結果は表1参照)(比較例1) トナーAに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。(結果は表2参照)(比較例2〜
5) トナーB、CXD、Eに対し、ブレード■を用いて(実
施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 1 for results) (Example 30) The same test as in Example 1 was conducted on Toner F using Blade V. (See Table 1 for results) (Comparative Example 1) Toner A was subjected to the same test as in Example 1 using Blade ■. (See Table 2 for results) (Comparative Example 2~
5) Toners B, CXD, and E were subjected to the same test as in Example 2 using Blade (2).

(結果は表2参照) (比較例6) トナーFに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 2 for results) (Comparative Example 6) Toner F was subjected to the same test as in Example 1 using Blade ■.

(結果は表2参照) (比較例7) トナーAに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。(結果は表2参照)(比較例8〜
11) トナーB、C,D、Eに対し、ブレード■を用いて(実
施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 2 for results) (Comparative Example 7) Toner A was subjected to the same test as in Example 1 using Blade ■. (See Table 2 for results) (Comparative Example 8~
11) Toners B, C, D, and E were subjected to the same test as in Example 2 using Blade (2).

(結果は表2参照) (比較例12) トナーFに対し、ブレード■を用いて(実施例1)と同
様のテストを行った。
(See Table 2 for results) (Comparative Example 12) Toner F was subjected to the same test as in Example 1 using Blade ■.

(結果は表2参照) (比較例13) トナーAに対し、凹凸を設けていないブレード■を用い
て(実施例1)と同様のテストを行った。
(Refer to Table 2 for the results) (Comparative Example 13) A test similar to that of Example 1 was conducted on Toner A using blade (3) with no unevenness.

(結果は表2参照) (比較例14〜17) トナーB、C,D、Eに対し、凹凸を設けていないブレ
ード■を用いて(実施例2)と同様のテストを行った。
(See Table 2 for results) (Comparative Examples 14 to 17) The same test as in Example 2 was conducted on toners B, C, D, and E using blade (3) with no unevenness.

(結果は表2参照) (比較例18) トナーFに対し、凹凸を設けていないブレード■を用い
て(実施例1)と同様のテストを行った。
(See Table 2 for results) (Comparative Example 18) A test similar to that in Example 1 was conducted on toner F using blade (3) which had no unevenness.

(結果は表2参照) 発明の効果 本発明に従いクリーナープレートに凹凸を設けることに
より、クリーナープレートのめくれ等が発生せず、小粒
径トナーでも効率良くクリーニングすることができ、か
つクリーナープレートの耐久性が向上した。
(Refer to Table 2 for results) Effects of the Invention By providing unevenness on the cleaner plate according to the present invention, the cleaner plate does not turn over, and even small particle size toner can be efficiently cleaned, and the durability of the cleaner plate is improved. sex has improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、クリーナープレートの概略斜視図である。 第2図はグロー放電プラズマ重合製造装置の該略構成例
である。 (1)・・・ゴム状弾性体、 (701)〜(706)・・・タンク、(707)〜(
712)及び(725)〜(727)・・・調節弁、 (713)〜(718)及び(728)−(730)・
・・流量制御器(マス70−コントローラー)(719
)〜(721)・・・容器、 (722)〜(724)・・・温調器、(731)・・
・混合器、(732)・・・主管、(733)・・・反
応室、(734)・・・配管加熱器、(735)・・・
接地電極、(736)・・・電力印加電極、(737)
・・・電力加熱器、 (738)・・・高周波電力整合器、 (739)・・・高周波電源、 (740)・・・低周波電力用整合器、(741)・・
・低周波電源、 (742)・・・ローパスフィルタ、 (743)・・・直流電源、 (744)・・・接続選択スイッチ、 (745)・・・圧力制御弁、 (746)・・・排気系選択弁、 (747)・・・拡散ポンプ、 (748)・・・油回転ポンプ、 (749)・・・冷却除外装置、 (750)・・・メカニカルブースタポンプ、(751
)・・・反応加熱器、 (752)・・・熱伝導支持パイプ基板、(753)・
・・除外装置
FIG. 1 is a schematic perspective view of the cleaner plate. FIG. 2 is a schematic configuration example of a glow discharge plasma polymerization production apparatus. (1)...Rubber-like elastic body, (701)-(706)...Tank, (707)-(
712) and (725) to (727)... control valves, (713) to (718) and (728) to (730).
・・Flow rate controller (mass 70-controller) (719
)~(721)...Container, (722)~(724)...Temperature controller, (731)...
・Mixer, (732)... Main pipe, (733)... Reaction chamber, (734)... Piping heater, (735)...
Ground electrode, (736)...Power application electrode, (737)
... Power heater, (738) ... High frequency power matching device, (739) ... High frequency power supply, (740) ... Low frequency power matching device, (741) ...
・Low frequency power supply, (742)...Low pass filter, (743)...DC power supply, (744)...Connection selection switch, (745)...Pressure control valve, (746)...Exhaust System selection valve, (747) Diffusion pump, (748) Oil rotary pump, (749) Cooling exclusion device, (750) Mechanical booster pump, (751
)...Reaction heater, (752)...Heat conduction support pipe substrate, (753)...
・Exclusion device

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、ゴム状弾性体を用いたシート状クリーナープレート
において、少なくとも感光体に圧接するエッジ部を含む
面上に、粗さ(l)が1μm以上でトナーの平均粒径の
0.5倍以下の範囲にある凹凸を有することを特徴とす
るクリーナープレート。
1. In a sheet-like cleaner plate using a rubber-like elastic material, on the surface including at least the edge portion that comes into pressure contact with the photoreceptor, the roughness (l) is 1 μm or more and 0.5 times or less the average particle size of the toner. A cleaner plate characterized by having unevenness within a range.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03196084A (en) * 1989-12-26 1991-08-27 Canon Inc Electrophotographic copying device
US5765088A (en) * 1996-05-20 1998-06-09 Minolta Co., Ltd. Image forming apparatus and cleaning blade
JP2016151657A (en) * 2015-02-17 2016-08-22 コニカミノルタ株式会社 Cleaning device and image forming apparatus
JP2016161683A (en) * 2015-02-27 2016-09-05 コニカミノルタ株式会社 Image forming apparatus
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