JPH01211850A - 基板保持装置 - Google Patents

基板保持装置

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Publication number
JPH01211850A
JPH01211850A JP3657888A JP3657888A JPH01211850A JP H01211850 A JPH01211850 A JP H01211850A JP 3657888 A JP3657888 A JP 3657888A JP 3657888 A JP3657888 A JP 3657888A JP H01211850 A JPH01211850 A JP H01211850A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holder
vacuum chuck
substrate
base
actuator
Prior art date
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Pending
Application number
JP3657888A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsukasa Nogami
野上 司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP3657888A priority Critical patent/JPH01211850A/ja
Publication of JPH01211850A publication Critical patent/JPH01211850A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えばイオン注入装置等に用いられる基板
保持装置に関する。
〔従来の技術〕
第3図は、従来の基板保持装置の一例を示す概略図であ
る。
例えばイオン注入装置の真空容器のような基台4に軸受
部6を取り付け、それに支持されたホルダ軸8の上端部
に基板(例えばウェハ)2を支持するためのホルダ12
を設けており、更に基板2の周縁部を押さえるための押
えリング14が複数本のピン16とばね18によってこ
のホルダ12に向けて弾性付勢されている。
そして、基台4の下に取り付けたエアシリンダーのよう
なアクチュエータ22によって昇降板20を介してこの
ピン16を上下させることによって押えリング14を上
下させ、かつそれと所定のタイミングで、ホルダ軸8内
を貫通させた基板2吸着用の真空チャック10を軸受部
6の下部に取り付けたエアシリンダーのようなアクチュ
エータ23によって上下させることにより、例えば図示
しないハンドリングアームのようなものによって基板2
をホルダ12と押えリング14との間に搬出入すること
、および搬入された基板2をホルダ12と押えリング1
4との間に保持することを可能にしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが上記のような基板保持装置においては、ホルダ
12と押えリング14との間を開閉するためのアクチュ
エータ22と、真空チャック10を昇降させるためのア
クチュエータ23とが別々であるため、両者の動作のタ
イミングを誤れば基板2を割る恐れがある。
また、アクチュエータ数が多いと、それだけの問題では
なく、それに伴う補助機器や制御機器等も複雑になると
いう問題もある。
そこでこの発明は、一つのアクチュエータによって、上
記のようなホルダと押えリングとの間を開閉する動作と
、真空チャックを昇降させる動作とを所定のタイミング
で行わせることができるようにした基板保持装置を提供
することを目−的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明の基板保持装置は、基台と、当該基台をスライ
ド可能に貫通する軸受部と、前記基台に取り付けられて
いて軸受部のスライドをガイドする複数本のガイド軸と
、前記軸受部を基台に対して上下にスライドさせるアク
チュエータと、前記軸受部を貫通するホルダ軸と、当該
ホルダ軸の上端部に設けられていて基板を支持するため
のホルダと、基板の周縁部を押さえるためのものであっ
て複数本のビンとばねによって前記ホルダに向けて弾性
付勢されており、前記軸受部が下げられたとき当該ピン
の下端が前記基台に当接してホルダとの間が広がるよう
にされた押えリングと、基板吸着用のものであって前記
ホルダ軸内をスライド可能に貫通すると共にばねによっ
て弾性的に押し下げられている真空チャックと、前記ガ
イド軸間をつなぐものであって前記軸受部が下げられた
とき真空チャックの下端と当接してそれを押し上げる当
接部を有する支持板とを備えることを特徴とする。
〔作用] アクチュエータによって軸受部を降下させると、押えリ
ングのピンが基台に当接してホルダと押えリングとの間
隔が開き、かつそれと所定のタイミングで、真空チャッ
クの下端が支持板の当接部に当接して真空チャックが押
し上げられてその上部がホルダ上に出る。それによって
ホルダと押えリングとの間への基板の搬出入が可能にな
る。
一方、アクチュエータによって軸受部を上昇させると、
真空チャックはその下端が支持板の当接部から離れると
共にばねによって押し下げられてその上部がホルダ内に
納まり、かつそれと所定のタイミングで、ホルダが上昇
して押えリングとの間にばねの弾性力によって基板を挟
持することができるようになる。
〔実施例〕
第1図は、実施例に係る基板保持装置の一動作状態を示
す縦断面図である。第2図は、第1図の装置の他の動作
状態を示す縦断面図であり、第1図とは切断個所を少し
異にしている。
この実施例においては、例えば真空容器の一部、あるい
は真空容器を構成する蓋のようなものである基台24に
、軸受部26を矢印へのように上下にスライド可能に貫
通させている。40はそのための真空シール用のパツキ
ンである。
この基台24の下面には、例えばエアシリンダーのよう
なアクチュエータ60が取り付けられており、それによ
って軸受部26を矢印Aのように上下にスライド(昇降
)させるようにしており、また軸受部26のスライドは
、そのフランジ部27に設けたリニヤ軸受け52、基台
24に取り付けた複数本のガイド軸50およびこれらの
間をつなぐ支持板54によってガイドするようにしてし
する。
軸受部26内には、ホルダ軸28がこの実施例では回転
自在に貫通している。44はそのためのボールベアリン
グであり、42は真空シール用のパツキンである。そし
てこのホルダ軸28の上端部に、基板2を支持するため
のホルダ32を設けている。
このホルダ32には、基板2の周縁部を押さえるための
ものであって、複数本のピン36とばね38によって、
矢印Bのように上下可能でしかもホルダ32に向けて弾
性付勢されている押えリング34が取り付けられている
。またこの押えリング34は、軸受部26が押し下げら
れたときそのピン36の下端が基台24に当接してホル
ダ32との間が開くようにされている。
ホルダ軸28内には、基板2の吸着用の真空チャック3
0が矢印Cのように上下にスライド可能に貫通しており
、かつその下端部に設けたばね5日によって弾性的に押
し下げられて常時はその上端部がホルダ32内に納まる
ようにされている(第2図の状態参照)。43は真空シ
ール用のパツキンである また支持板54には、軸受部26が押し下げられたとき
、上記真空チャック30の下端と当接し ′てそれを押
し上げる当接部としての調整ボルト56が設けられてい
る。
更にこの実施例では、軸受部26のフランジ部27にモ
ータ66が取り付けられており(第2図参照)、これで
歯車62.64を介してホルダ軸28を回転させること
によって、ホルダ32ひいては基板2を回転させるよう
にしている。
またこの実施例では、ホルダ32内からホルダ軸28内
にかけて、ホルダ32ひいてはそこに保持した基板2を
冷却するための冷媒W(第2図参照)を通す往復の通路
46を形成しており、更に真空チャック30内からホル
ダ軸28内にかけて、真空チャック30の真空排気用の
通路48を形成しており、これらの通路46.48とホ
ルダ軸26の固定側とはロータリジヨイント方式でつな
がっている。
動作例を説明すると、まず第1図を主に参照して、アク
チュエータ60によって軸受部26を押し下げると、ま
ず最初に押えリング34のピン36の下端が基台24に
当たり、押えリング34の降下動作は停止される。しか
し、ホルダ32は降下動作を続けるため、ばね38はホ
ルダ32によって圧縮され、基板2がホルダ32上に乗
ったままホルダ32と押えリング34との間隔が広がる
この時点では真空チャック30を動作させてそれによっ
て基板2を吸着しているのが好ましく、そして軸受部2
6の降下に伴って真空チャック30の下端が調整ボルト
56に当たるとその降下動作が停止する一方、ホルダ軸
28およびホルダ32が継続して降下するため、ホルダ
軸2日によってばね58を圧縮し、真空チャック30の
上部がホルダ32上に突き出る。これによって、基板2
は真空チャック30に吸着されたままホルダ32から持
ち上げられ、それによって例えば図示しないハンドリン
グアーム等によって基板2を矢印りのようにホルダ32
と押えリング34との間に搬出入することが可能になる
尚、真空チャック30の上部がホルダ32より突き出す
タイミングや寸法等は、調整ボルト56によって調整す
ることができる。
一方、第2図を主に参照して、アクチュエータ60によ
って軸受部26を上昇させると、上記とはほぼ逆の動作
によって、まず真空チャック30は、その下端が調整ボ
ルト56から離れると共にばね58によって押し下げら
れてその上部がホルダ32内に納まり、それによって基
板2がホルダ32上に乗せられる。更にホルダ32が継
続して上昇して、押えリング34との間にばね38の弾
性力によって基板2を挟持する。
この状態で、例えば、モータ66によってホルダ32等
を回転させることによって、そこに保持した基板2のオ
リエンテーションフラットの位置合せをしたり、あるい
は基板2をステップ的にまたは連続的に回転させながら
、基板2にイオンビームを照射する等してイオン注入等
の処理を施すことができる。
以上のようにこの実施例の基板保持装置においては、一
つのアクチュエータ60によって、ホルダ32と押えリ
ング34との間を開閉する動作と、真空チャックを昇降
させる動作とを所定のタイミングで行わせることができ
るため、従来のようにホルダに異なるアクチュエータ2
2.23を用いる場合と違って、動作タイミング誤りに
よって基板2を割るような恐れは無くなる。
また、従来に比べてアクチュエータ数が少なくて済むた
め、しかもそれに伴ってその補助機器や制御機器等も簡
素化できるため、装置構成の簡素化を図ることもできる
尚、以上においてはホルダ32、即ら基板2を回転かつ
冷却する例を説明したが、その必要が無い場合は、それ
に関する機構を省略しても良いのは勿論である。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、一つのアクチュエータ
によって、ホルダと押えリングとの間を開閉する動作と
、真空チャックを昇降させる動作とを所定のタイミング
で行わせることができるため、従来のようにこれらに異
なるアクチュエータを用いる場合と違って、動作タイミ
ング誤りによって基板を割るような恐れは無くなる。
また、従来に比べてアクチュエータ数が少なくて済むた
め、しかもそれに伴ってその補助機器や制御機器等も簡
素化できるため、装置構成の簡素化を図ることもできる
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例に係る基板保持装置の一動作状態を示
す縦断面図である。第2図は、第1図の装置の他の動作
状態を示す縦断面図であり、第1図とは切断個所を少し
異にしている。第3図は、従来の基板保持装置の一例を
示す概略図である。 2・・・基板、24・・・基台、26・・・軸受部、2
8・・・ホルダ軸、30・・・真空チャック、32・・
・ホルダ、34・・・押えリング、36・・・ビン、3
8・・・ばね、50・・・ガイド軸、54・・・支持板
、56・・・調整ボルト(当接部)、58・・・ばね、
60・・・アクチュエータ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基台と、当該基台をスライド可能に貫通する軸受
    部と、前記基台に取り付けられていて軸受部のスライド
    をガイドする複数本のガイド軸と、前記軸受部を基台に
    対して上下にスライドさせるアクチュエータと、前記軸
    受部を貫通するホルダ軸と、当該ホルダ軸の上端部に設
    けられていて基板を支持するためのホルダと、基板の周
    縁部を押さえるためのものであって複数本のピンとばね
    によって前記ホルダに向けて弾性付勢されており、前記
    軸受部が下げられたとき当該ピンの下端が前記基台に当
    接してホルダとの間が広がるようにされた押えリングと
    、基板吸着用のものであって前記ホルダ軸内をスライド
    可能に貫通すると共にばねによって弾性的に押し下げら
    れている真空チャックと、前記ガイド軸間をつなぐもの
    であって前記軸受部が下げられたとき真空チャックの下
    端と当接してそれを押し上げる当接部を有する支持板と
    を備えることを特徴とする基板保持装置。
JP3657888A 1988-02-18 1988-02-18 基板保持装置 Pending JPH01211850A (ja)

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JP3657888A JPH01211850A (ja) 1988-02-18 1988-02-18 基板保持装置

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JP3657888A JPH01211850A (ja) 1988-02-18 1988-02-18 基板保持装置

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JP3657888A Pending JPH01211850A (ja) 1988-02-18 1988-02-18 基板保持装置

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JP (1) JPH01211850A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04190548A (ja) * 1990-11-22 1992-07-08 Hitachi Ltd イオンビーム加工装置および該装置の試料交換方法
JP2011071478A (ja) * 2009-08-31 2011-04-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置及び半導体装置の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04190548A (ja) * 1990-11-22 1992-07-08 Hitachi Ltd イオンビーム加工装置および該装置の試料交換方法
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