JPH0121112B2 - - Google Patents

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JPH0121112B2
JPH0121112B2 JP59073653A JP7365384A JPH0121112B2 JP H0121112 B2 JPH0121112 B2 JP H0121112B2 JP 59073653 A JP59073653 A JP 59073653A JP 7365384 A JP7365384 A JP 7365384A JP H0121112 B2 JPH0121112 B2 JP H0121112B2
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JP
Japan
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zirconia
phase
carbide
amount
tic
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JP59073653A
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Japanese (ja)
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Hirohide Yamada
Yoshiharu Koike
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は種々の電子機器の基板、例えば薄膜磁
気ヘツドのスライダーや磁気記録デイスクの基板
など、また断熱材などに使用するのに適したジル
コニアセラミツクスの組成に関するものである。 このような用途に使用されるセラミツクスとし
ては、機械加工性に優れていることがまず要求さ
れる。すなわち、加工時の切削抵抗の少ないこと
や、切断ブレードなどへの目づまりのないことな
どが要求される。また、加工時に加工された部分
の結晶粒の脱落が起るがこの脱落部分が出来るだ
け小さいことが望ましい。そのためには、結晶粒
が小さいことが望ましい。 また、これらの用途においては摺動性に優れて
いることも必要であるが、従来提案されていた
Al2O3―TiC系セラミツクスは摺動性に劣つてい
た。 そこで、本発明は加工性がよく更に摺動性にも
優れているジルコニア系セラミツクスを提案する
ものである。 本発明のジルコニアセラミツクスは、周期率表
a,a,a族から選ばれた少くとも1種類
の元素の炭化物を0.4〜26.3wt%、アルミナを0.34
〜22.5wt%を含み、残部が実質的にジルコニア部
分からなることを特徴とする。望ましくは、炭化
物量を0.72〜7.2wt%、アルミナ量を0.8〜8.1wt%
含む。ジルコニア相に炭化物微粒子、特にTiC微
粒子、やアルミナ微粒子を分散させることにより
ジルコニア相の結晶粒の成長を防ぎ、マトリツク
スの結晶粒を微細化する働きがあるものと考えら
れる。不純物としては通常許容される程度の
SiO2,Fe2O3は、含有することが出来るが、
Fe2O3の量は0.1wt%以下にすることが望ましい。
SiO2の量は5wt%までは問題にならない。また、
通常はジルコニア相に固溶されていると考えられ
ているY2O3,CaO,MgOなどが部分的に析出し
て来て、分散粒子となり、あるいは添加したTiC
やAl2O3などと結合あるいは反応した微粒子とし
てジルコニア相中に分散することもあるが、これ
は問題ではない。Al2O3とTiCは上述のようにジ
ルコニア相中に分散して、結晶粒の粗大化するの
を防ぐが、同時にジルコニアセラミツクスを切削
する際に、高硬度の炭化物がドレツシングの役割
をして、ダイヤモンドプレートの目づまりを防止
する。 ジルコニア相としては安定化ジルコニア相、す
なわち立方晶ジルコニアであることが望ましい。
立方晶ジルコニアは摺動特性に優れる。 ジルコニア相を安定化するには、Y2O3
MgO,CaO等の安定化剤を添加する。これらの
安定化剤を添加しないジルコニアは高温(2400℃
以上)では立方晶(C―相)であるが、温度を下
げて2400℃〜約1200℃の範囲では正方晶(t―
相)となり、常温(約1200℃以下)では単斜晶
(m―相)となる。そこで、安定化剤の量がきわ
めて少い場合、ジルコニアは常温ではm―相にな
るが、安定化剤の量を増加するとt―相が常温で
存在するようになり、更に安定化剤の量を増やす
と常温でもC―相で存在することになる。 そこで本発明のジルコニアセラミツクスにおい
ては、そのジルコニア相には常温においても立方
晶ジルコニアとして存在するだけの安定化剤を含
有させることが望ましい。Y2O3の場合、ジルコ
ニア相のなかに5〜20mol%含有され、残部実質
的にZrO2であることが望ましい。しかし、MgO
やCaOも同時に含有されても問題ない。 このような安定化剤が過剰に含まれた場合、立
方晶ジルコニアのなかにY4Zr3O12のようなZrO2
―Y2O3の化合物が析出して、摺動特性の劣化、
強度の低下をまねく。そこで20mol%以上の
Y2O3を含有することは望ましくない。安定化剤
が少くなると上に述べたように、t相やm相も生
じてくるが常温でm相が生じると、その際体積膨
張を伴なう。基板への膜付け、パターン付けの際
の数百℃までの加熱や冷却に起因してm相が生じ
ると基板の反りやパターンずれが生じるおそれが
ある。そこで安定化ジルコニアにするための安定
化剤の下限値は約5mol%である。Y2O3の含有量
は5mol%以上でできるだけ少いことがよく、よ
り適当な量は約5〜約10mol%である。 ジルコニア相の結晶粒径は12μm以下であるこ
とが望ましい。より望ましくは、10μm以下であ
る。正方晶ジルコニアの結晶粒径は通常約15μm
であるが、12μm以下にすることによつて機械加
工性が向上し、チツピングの大きさも小さくする
ことができる。 更に、本発明のジルコニアセラミツクの相対密
度(理論密度と比して)は99%以上であることが
望ましく、ポアの極めて少ないものとなつてい
る。このように高い密度を持つので、摺動特性の
優れたものとなる。 本発明のジルコニアセラミツクスを製造するに
は、ZrO2微粉末、Y2O3粉末、a,a,a
族元素の炭化物(例えばTiC,ZrC,HfC,VC,
NbC,TaC,WC)粉末及びAl2O3粉末を所定の
割合で配合し、十分混合し、これを乾燥させ、少
量のバインダーを加えて造粒する。この造粒粉を
得るべき形状のキヤビテイを持つたプレス機で成
形体に予備成型する。この成形体を真空中で1400
℃〜1600℃の温度でホツトプレスして焼結体とし
てジルコニアセラミツクを得る。 このホツトプレスを行う時の温度は得られたジ
ルコニアセラミツクスの性能を左右する。1400℃
以上の温度はセラミツクスの相対密度を99%以上
にするために必要である。しかし、1600℃以上に
すると、安定化ジルコニアの結晶粒の粒成長が著
しくなるので1600℃以下でホツトプレスすること
が望ましい。 ホツトプレスで得たジルコニアセラミツクスは
用途に応じて必要とする形状にダイヤモンドブレ
ードで切断し、グラインダーなどで仕上加工をす
る。また必要に応じて磁気コア、信号コイル、絶
縁膜を付けて用いられる。この絶縁膜としては数
10μm厚さにスパツターで付けたAl2O3が使用さ
れる。 以上説明したように、本発明のジルコニアセラ
ミツクスは摺動性、耐摩耗性に優れている。また
密度も高くポアがほとんどない。 更に、機械加工性が良好などで、微細な加工を
行うことができる。 本発明のジルコニアセラミツクスについて、以
下例を示す。 例 1 平均粒径0.03μmのZrO2微粉末とY2O3粉末、さ
らに代表的なa,a,a族遷移元素の炭化
物(TiC,ZrC,HfC,VC,NbC,TaC,WC)
粉末及びAl2O3粉末を表1に示す割合に配合し、
純水を溶媒としてアルミナボールミルで24時間混
合した。混合溶液を乾燥し10%のPVA溶液を添
加してらいかい機で造粒後、1ton/cm2の圧力で
80φ×6〜7の成型体に予備成型した。次にこれ
を真空中1450℃×300Kg/cm2×1hの条件下でホツ
トプレスした。 焼結体の密度は水中置換法で測定し理論密度を
除して相対密度を求めた。曲げ強度試験は焼結体
をダイヤモンドブレードで切断し4mm×3mm×35
mmの試験片を使用し、JIS4点曲げて測定した。ま
たポア観察、ビツカース硬度測定(荷重200g)
は試片の一部を鏡面研摩して行つた。比抵抗の測
定には1cm角の試片を用い、4端子法の一種であ
るパウ法で測定したが、比抵抗が高いときには両
面に銀ペーストを塗布し絶縁抵抗を決めた。ま
た、摩耗テストを行い、摩耗量を測定し、ジルコ
ニアの摩耗量を100としたときの相対比較を行つ
た。加工性は、鏡面研摩した試片にダイヤモンド
ブレードで溝を入れラツピング面と切削面の稜に
生ずるチツピングの大小で比較した。また摺動特
性は、焼結体から実際の薄膜磁気ヘツドの形状に
切り出し、磁気デイスクと接触させてデイスクを
回転し、特性を比較した。以上の測定結果を第1
表に示す。 第1表でAl2O3と炭化物を加えたジルコニアセ
ラミツクスはNo.1〜8であり、No.9〜10はAl2O3
のみを加えたジルコニアセラミツクスである。い
ずれも助剤としてAl2O3を2wt%添加してある。
また、No.11は助剤としてMgOを0.5wt%添加し、
1650℃でホツトプレスしたものである。 相対密度はAl2O3―TiCを除いてすべて99%以
上に緻密化しており、また鏡面のポア観察におい
てもほとんどポアは観察されず、基板としての基
本的特性である表面にポアが存在しないという条
件を満していることがわかつた。これはマトリツ
クスであるZrO2がAl2O3に比べて焼結性が元来良
好である上に、圧力下で焼結していることに起因
するものと思われる。 ビツカース硬さはAl2O3―TiCに比べ、ZrO2
方が小さいが炭化物を加えることにより、Hvは
1400〜1550と100〜200程上昇する。そのため、耐
摩耗性も向上する曲げ強度はマトリツクスの強度
に強く影響を受けるため、残留正方晶の多いNo.7
に比べ、ZrO2及びZrO2―炭化物系では強度は小
さいが基板材としては十分な強度である。また比
抵抗は30vc1%の炭化物を複合化した場合、炭化
物粒子の平均粒径、分布状態によつて大きな差異
が存在するがそれでもマトリツクスのZrO2に比
べ導電性は大幅に向上されており、帯電防止とい
う点では好ましい影響を与える。 溝入れの際のチツピングは炭化物を添加すると
チツピングの量、大きさは小さくなり加工性は向
上した。摺動特性はAl2O3―TiCの場合、短時間
でデイスクに傷をつけるため基板材としてあまり
好ましくないのに対し、Y2O3を十分に入れた安
定化ジルコニアでは長時間のデイスク回転に耐
え、摺動特性は良好である。
The present invention relates to the composition of zirconia ceramics suitable for use in substrates of various electronic devices, such as sliders of thin film magnetic heads and substrates of magnetic recording disks, as well as heat insulating materials. Ceramics used in such applications are first required to have excellent machinability. That is, it is required that there is little cutting resistance during machining and that there is no clogging of the cutting blade or the like. Further, during processing, crystal grains may fall off in the processed portion, but it is desirable that this falling off portion be as small as possible. For this purpose, it is desirable that the crystal grains be small. In addition, in these applications, it is necessary to have excellent sliding properties, but
Al 2 O 3 -TiC ceramics had poor sliding properties. Therefore, the present invention proposes zirconia-based ceramics that have good workability and excellent sliding properties. The zirconia ceramics of the present invention contains 0.4 to 26.3 wt% of carbide of at least one element selected from groups a, a, and a of the periodic table, and 0.34 wt% of alumina.
~22.5wt%, with the remainder consisting essentially of zirconia. Desirably, the amount of carbide is 0.72 to 7.2wt%, and the amount of alumina is 0.8 to 8.1wt%.
include. It is thought that by dispersing carbide fine particles, particularly TiC fine particles and alumina fine particles, in the zirconia phase, the growth of the crystal grains of the zirconia phase is prevented and the crystal grains of the matrix are made finer. Normally acceptable level of impurity
SiO 2 and Fe 2 O 3 can be contained, but
It is desirable that the amount of Fe 2 O 3 be 0.1 wt% or less.
The amount of SiO 2 is not a problem up to 5wt%. Also,
Y 2 O 3 , CaO, MgO, etc., which are normally thought to be solid-solved in the zirconia phase, partially precipitate and become dispersed particles, or the added TiC
It may be dispersed in the zirconia phase as fine particles bonded or reacted with Al 2 O 3 or the like, but this is not a problem. As mentioned above, Al 2 O 3 and TiC are dispersed in the zirconia phase and prevent the crystal grains from becoming coarse, but at the same time, when cutting zirconia ceramics, the high hardness carbide acts as a dressing. , to prevent clogging of the diamond plate. The zirconia phase is preferably a stabilized zirconia phase, that is, cubic zirconia.
Cubic zirconia has excellent sliding properties. To stabilize the zirconia phase, Y 2 O 3 ,
Add stabilizers such as MgO and CaO. Zirconia without these stabilizers can be used at high temperatures (2400℃).
above), it is a cubic crystal (C-phase), but when the temperature is lowered in the range of 2400℃ to about 1200℃, it is a tetragonal crystal (t-phase).
It becomes a monoclinic crystal (m-phase) at room temperature (approximately 1200℃ or less). Therefore, when the amount of stabilizer is extremely small, zirconia becomes m-phase at room temperature, but when the amount of stabilizer is increased, t-phase exists at room temperature, and even more stabilizer is added. If it increases, it will exist in the C-phase even at room temperature. Therefore, in the zirconia ceramic of the present invention, it is desirable that the zirconia phase contains a stabilizer sufficient to exist as cubic zirconia even at room temperature. In the case of Y 2 O 3 , it is desirable that the zirconia phase contains 5 to 20 mol %, with the remainder being substantially ZrO 2 . However, MgO
There is no problem even if CaO is also contained at the same time. If such a stabilizer is included in excess, ZrO 2 such as Y 4 Zr 3 O 12 may be present in cubic zirconia.
- Y 2 O 3 compounds precipitate, resulting in deterioration of sliding properties,
This leads to a decrease in strength. Therefore, more than 20 mol%
Containing Y 2 O 3 is undesirable. As stated above, when the amount of stabilizer decreases, t-phase and m-phase also occur, but when m-phase is generated at room temperature, it is accompanied by volumetric expansion. If the m-phase is generated due to heating or cooling up to several hundred degrees Celsius during film attachment or patterning to the substrate, there is a risk that the substrate will warp or the pattern will shift. Therefore, the lower limit of the stabilizer to produce stabilized zirconia is about 5 mol%. The content of Y 2 O 3 is preferably 5 mol % or more and as low as possible, and a more suitable amount is about 5 to about 10 mol %. The crystal grain size of the zirconia phase is preferably 12 μm or less. More preferably, it is 10 μm or less. The crystal grain size of tetragonal zirconia is usually about 15 μm.
However, by setting the thickness to 12 μm or less, machinability can be improved and the size of chipping can be reduced. Further, the relative density (compared to the theoretical density) of the zirconia ceramic of the present invention is desirably 99% or more, and has extremely few pores. Since it has such a high density, it has excellent sliding properties. To produce the zirconia ceramics of the present invention, ZrO 2 fine powder, Y 2 O 3 powder, a, a, a
Group element carbides (e.g. TiC, ZrC, HfC, VC,
NbC, TaC, WC) powder and Al 2 O 3 powder are blended in a predetermined ratio, thoroughly mixed, dried, and granulated with a small amount of binder added. This granulated powder is preformed into a compact using a press machine having a cavity of the desired shape. This molded body was heated to 1400 in a vacuum.
A zirconia ceramic is obtained as a sintered body by hot pressing at a temperature of 1600°C to 1600°C. The temperature at which this hot pressing is performed influences the performance of the obtained zirconia ceramics. 1400℃
The above temperature is necessary to increase the relative density of ceramics to 99% or higher. However, if the temperature is 1600°C or higher, the crystal grains of stabilized zirconia will grow significantly, so it is desirable to hot press at 1600°C or lower. Zirconia ceramics obtained by hot pressing are cut with a diamond blade into the required shape according to the application, and then finished with a grinder. Additionally, a magnetic core, signal coil, and insulating film may be attached as necessary. As this insulating film, there are several
Sputtered Al 2 O 3 to a thickness of 10 μm is used. As explained above, the zirconia ceramic of the present invention has excellent sliding properties and wear resistance. It is also highly dense and has almost no pores. Furthermore, it has good machinability and can be finely processed. Examples of the zirconia ceramics of the present invention are shown below. Example 1 Fine ZrO 2 powder and Y 2 O 3 powder with an average particle size of 0.03 μm, as well as representative carbides of a, a, and a group transition elements (TiC, ZrC, HfC, VC, NbC, TaC, WC)
Blend the powder and Al 2 O 3 powder in the proportions shown in Table 1,
The mixture was mixed for 24 hours in an alumina ball mill using pure water as a solvent. Dry the mixed solution, add 10% PVA solution, granulate it with a sieve machine, and then granulate it at a pressure of 1 ton/cm 2.
A molded body of 80φ×6 to 7 was preformed. Next, this was hot pressed in a vacuum at 1450° C. x 300 Kg/cm 2 x 1 h. The density of the sintered body was measured by an underwater displacement method, and the relative density was determined by dividing the theoretical density. For the bending strength test, the sintered body was cut with a diamond blade and cut into 4mm x 3mm x 35mm pieces.
Measurements were made using a test piece of mm, bent at four JIS points. In addition, pore observation and Bitkers hardness measurement (load 200g)
This was done by mirror polishing a part of the specimen. Specific resistance was measured using a 1 cm square test piece using the Pau method, which is a type of four-terminal method.When the specific resistance was high, silver paste was applied to both sides to determine the insulation resistance. In addition, a wear test was conducted, the amount of wear was measured, and a relative comparison was made when the amount of wear of zirconia was taken as 100. Machinability was evaluated by making grooves on mirror-polished specimens with a diamond blade and comparing the size of chipping that occurred on the wrapping surface and the edge of the cut surface. The sliding properties were compared by cutting out the shape of an actual thin film magnetic head from the sintered body, bringing it into contact with a magnetic disk, and rotating the disk. The above measurement results are
Shown in the table. In Table 1, zirconia ceramics containing Al 2 O 3 and carbide are Nos. 1 to 8, and Nos. 9 to 10 are Al 2 O 3
This is zirconia ceramics with chisel added. In both cases, 2wt% of Al 2 O 3 was added as an auxiliary agent.
In addition, No. 11 added 0.5wt% MgO as an auxiliary agent,
It was hot pressed at 1650℃. The relative density of all materials except Al 2 O 3 -TiC is more than 99%, and almost no pores are observed even when observing pores on a mirror surface, and there are no pores on the surface, which is a basic characteristic of a substrate. It was found that the following conditions were met. This seems to be due to the fact that the matrix ZrO 2 has inherently better sinterability than Al 2 O 3 and is sintered under pressure. The Bitkers hardness of ZrO 2 is smaller than that of Al 2 O 3 -TiC, but by adding carbide, Hv can be reduced.
It increases by about 100-200 to 1400-1550. Therefore, the bending strength, which also improves wear resistance, is strongly affected by the strength of the matrix, so No. 7, which has a lot of residual tetragonal crystals,
In comparison, ZrO 2 and ZrO 2 -carbide systems have lower strength, but are strong enough to be used as substrate materials. Furthermore, when composited with 30vc1% carbide, there is a large difference in specific resistance depending on the average particle size and distribution state of the carbide particles, but even so, the conductivity is greatly improved compared to the ZrO 2 matrix, and the charging It has a positive impact in terms of prevention. As for chipping during grooving, adding carbide reduced the amount and size of chipping and improved workability. In the case of Al 2 O 3 -TiC, it is not very desirable as a substrate material because it scratches the disk in a short period of time, whereas with stabilized zirconia containing a sufficient amount of Y 2 O 3 , the disk rotates for a long time. It has good sliding characteristics.

【表】【table】

【表】 例 2 表2に示す組成のジルコニアセラミツクスを例
1と同じ製造条件で作成した。これを加工し、鏡
面にラツピングして、3″径のウエハーとした。こ
の試料について、結晶径径、耐チツピング性、切
削抵抗加工性、切削面の肌の状況、摺動特性を測
定した。 耐チツピング性はダイサーによる溝入れ加工の
際に稜に生ずるチツピングの大きさ(表では最大
チツピング深さで示す)及びアルミナ膜の欠けに
よつて測定した。アルミナ膜はセラミツク基板上
に約40μm厚さにスパツターリングで形成し、こ
れにダイサーで溝入れ加工した時に基板とともに
アルミナ膜が欠けた時のその部分の欠けの幅で示
した。 切削抵抗は外周スライサーで、スライサーに加
わる応力を圧電素子を用いて測定した。 摺動特性は磁気デイスクを回転させて、これに
ジルコニアセラミツクスを接触摺動させるCSSテ
ストによつて判定した。 Al2O3,TiCを添加しないNo.12及び14のジルコ
ニアの場合、切削抵抗力は非常に大きく切削面の
肌の状態も良くなかつた。チツピング深さは結晶
粒径の小さいNo.12では小さいが、Y2O3量を増加
し粗大な立方晶が多くNo.14では大きくなつた。
TiC,Al2O3を単独に添加したNo.15,16では結晶
粒がある程度微細化されるためチツピング深さは
ある程度減少するが切削面の肌の状態は大きさは
改善されない。それに対しTiCとAl2O3を同時に
添加したNo.13及びNo.17〜25の場合にはチツピング
量はNo.14に比べ1/3程度に減少しました切削抵抗
力も小さく切削面の肌の状態も良好であり、スラ
イダーを90本加工後も切削面は最初とほとんど変
わりはない。またアルミナ膜の欠けも非常に小さ
い。 No.25はTiCを40Vol%と非常に多く添加した場
合であるが、チツピング切削抵抗共に小さいが摺
動特性が悪い。 以上の実験から明らかなように、ジルコニアセ
ラミツクスは摺動特性に優れている。しかし、炭
化物を30Vol%を越えて加えたものは少し摺動特
性が落ちる。それでも、Al2O3―TiC系よりも優
れている。 ジルコニアセラミツクスに炭化物、アルミナを
分散させたものは、耐摩耗性に優れている。 C相のジルコニアであつても、Al2O3,TiCを
分散させると結晶粒径が小さくなり、チツピング
量が小さくなる。このため加工性が良好になる。
[Table] Example 2 Zirconia ceramics having the composition shown in Table 2 were produced under the same manufacturing conditions as in Example 1. This was processed and wrapped to a mirror surface to make a 3" diameter wafer. This sample was measured for crystal diameter, chipping resistance, cutting resistance machinability, texture of the cut surface, and sliding characteristics. The chipping resistance was measured by the size of chipping that occurs at the edge during grooving with a dicer (indicated by the maximum chipping depth in the table) and by the chipping of the alumina film.The alumina film was formed on a ceramic substrate with a thickness of approximately 40 μm. The width of the chip is shown by the width of the chip when the alumina film is chipped along with the substrate when the alumina film is formed with a sputter ring and then grooved with a dicer.Cutting resistance is measured by a peripheral slicer, and the stress applied to the slicer is The sliding properties were determined by a CSS test in which a magnetic disk was rotated and a zirconia ceramic was slid against it . In the case of zirconia, the cutting resistance was very large, and the surface condition of the cut surface was not good.The chipping depth was small for No. 12, which has a small crystal grain size, but when the amount of Y 2 O 3 was increased, coarse cubic crystals were formed. There were a lot of them, and they got bigger in No.14.
In Nos. 15 and 16, in which TiC and Al 2 O 3 were added alone, the crystal grains were refined to some extent, so the chipping depth was reduced to some extent, but the size of the texture of the cut surface was not improved. On the other hand, in the case of No. 13 and No. 17 to 25, which added TiC and Al 2 O 3 at the same time, the amount of chipping was reduced to about 1/3 compared to No. 14. The cutting resistance was also small and the texture of the cut surface was reduced. It is in good condition, and even after machining 90 sliders, the cutting surface is almost the same as it was at the beginning. In addition, chips in the alumina film are also very small. No. 25 is a case in which a very large amount of TiC is added at 40 Vol%, but the chipping cutting resistance is small, but the sliding properties are poor. As is clear from the above experiments, zirconia ceramics have excellent sliding properties. However, when carbide is added in excess of 30 Vol%, the sliding properties deteriorate slightly. Still, it is superior to the Al 2 O 3 -TiC system. Zirconia ceramics with carbide and alumina dispersed have excellent wear resistance. Even in the case of C-phase zirconia, when Al 2 O 3 and TiC are dispersed, the crystal grain size becomes smaller and the amount of chipping becomes smaller. This improves workability.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 周期率表a,a,a族から選ばれた少
くとも1種類の元素の炭化物を0.4〜26.3wt%、
アルミナを0.34〜22.5wt%を含み、残部が実質的
にジルコニア部分からなることを特徴とするジル
コニアセラミツクス。 2 ジルコニア部分は実質的に立方晶ジルコニア
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のジルコニアセラミツクス。 3 周期率表a,a,a族の元素の炭化物
が炭化チタンであることを特徴とする特許請求の
範囲第2項記載のジルコニアセラミツクス。 4 ジルコニア部分は酸化イツトリウムを5〜
20mol%含み残部が実質的に酸化ジルコニウムで
あることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載
のジルコニアセラミツクス。 5 ホツトプレスを行つて理論密度の99%以上に
したことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
のジルコニアセラミツクス。
[Scope of Claims] 1. 0.4 to 26.3 wt% of carbide of at least one element selected from groups a, a, and a of the periodic table;
A zirconia ceramic containing 0.34 to 22.5 wt% of alumina, with the remainder consisting essentially of a zirconia portion. 2. The zirconia ceramic according to claim 1, wherein the zirconia portion is substantially cubic zirconia. 3. The zirconia ceramic according to claim 2, wherein the carbide of an element in groups a, a, a of the periodic table is titanium carbide. 4 The zirconia part contains yttrium oxide from 5 to
The zirconia ceramic according to claim 3, wherein the zirconia ceramic contains 20 mol % and the remainder is substantially zirconium oxide. 5. The zirconia ceramic according to claim 4, which is hot-pressed to a density of 99% or more of the theoretical density.
JP59073653A 1983-09-21 1984-04-12 Zirconia ceramics Granted JPS61106455A (en)

Priority Applications (3)

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