JPS61106455A - Zirconia ceramics - Google Patents

Zirconia ceramics

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JPS61106455A
JPS61106455A JP59073653A JP7365384A JPS61106455A JP S61106455 A JPS61106455 A JP S61106455A JP 59073653 A JP59073653 A JP 59073653A JP 7365384 A JP7365384 A JP 7365384A JP S61106455 A JPS61106455 A JP S61106455A
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JP
Japan
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zirconia
phase
carbide
amount
chipping
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山田 宏秀
小池 義治
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Hitachi Metals Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は種々の電子機器の基板、例えは薄膜磁気ヘッド
のスライダーや磁気記録ディスクの基板など、また断熱
材などに使用するのに適したジルコニアセラミックスの
組成に1するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the composition of zirconia ceramics suitable for use in substrates of various electronic devices, such as sliders of thin-film magnetic heads and substrates of magnetic recording disks, as well as heat insulating materials. It is something.

このような用途に使用されるセラミックスとしては、機
械加工性に浸れていることがまず要求される。すなわち
、加工時の切削抵抗の少ないことや、切断ブレードなど
への目づまりのないことなどが要求される。また、加工
時に加工された部分の結晶粒の脱落が起るがこの脱落部
分が出来るだけ小さいことが望ましい。そのためには、
結晶粒が小さいことが望ましい。
Ceramics used in such applications are first required to have excellent machinability. That is, it is required that there is little cutting resistance during machining and that there is no clogging of the cutting blade or the like. Further, during processing, crystal grains may fall off in the processed portion, but it is desirable that this falling off portion be as small as possible. for that purpose,
It is desirable that the crystal grains be small.

また、これらの用途においては摺動性に唆れていること
も必要であるが、従来提案されていたAt=o、、 T
iO,1%セラミックスは摺動性に劣っていた。
In addition, in these applications, it is necessary to have sliding properties, but the previously proposed At=o,, T
The iO, 1% ceramic had poor sliding properties.

そこで、本発明は加工性がよく更に摺動性にも浸れてい
るジルコニア系セラミックスを提案するものである。
Therefore, the present invention proposes zirconia-based ceramics that have good processability and are also highly slidable.

本発明のジルコニアセラミックスは、周期率表IV&、
 VIL 、Ma族から選ばれた少くとも1糎類の元素
の炭化物をα4〜,2&3wt%、アルミナをα34/
V2&5wt%を含み、残部か実質的にジルコニア部分
からなることを特徴とする。望ましくは、炭化物量を0
7M、2wt%、アルミナ量を08〜&1wt%含む。
The zirconia ceramic of the present invention has periodic table IV&,
VIL, carbide of at least one starch element selected from the Ma group, α4~,2&3wt%, alumina, α34/
It is characterized in that it contains V2 & 5 wt%, and the remainder consists essentially of zirconia. Preferably, the amount of carbide is 0.
7M, 2wt%, containing an alumina amount of 08~&1wt%.

ジルコニア相に炭化物微粒子、特にTiG微粒子、やア
ルミナ微粒子を分散させることによりジルコニア相の結
晶粒の成長を防ぎ、マ) IJラックス結晶粒を微細化
Tる働きがあるものと考えられる。不純物としては通常
許容される程度の5ins 、7@moaは、含有する
ことが出来るが、1hs漠OBの量はα1wt%以下に
することが望ましい。$10漠の量は5wt%までは問
題にならない。また、通常はジルコニア相に固溶されて
いると考えられているY * Os % OaOlll
goなどが部分的に析出して来て、分散粒子となり、あ
るいは添加したTiOや)d−103などと結合あるい
は反応した微粒子としてジルコニア相中に分散すること
もあるが、これは問題ではない。At、03とTiOは
上述のようにジルコニア相中に分散して、結晶粒の粗大
化するのを防ぐか、同時にジルコニアセラミックスを切
削スる際に、高硬度の炭化物がドレッシングの役割をし
て、ダイヤモンドブレードの目づまりを防止する0 ジルコニア相としては安定化ジルコニア相、すなわち立
方晶ジルコニアであることが望ましい。
It is believed that by dispersing fine carbide particles, particularly TiG fine particles, and fine alumina particles in the zirconia phase, the growth of crystal grains in the zirconia phase is prevented, and (ma) the IJ lux crystal grains are made finer. Although it is possible to contain 5ins and 7@moa, which are generally acceptable levels as impurities, it is desirable that the amount of 1hs OB is not more than α1wt%. There is no problem with the amount of $10 up to 5wt%. In addition, Y*Os% OaOll, which is usually considered to be solid solution in the zirconia phase
Go etc. may partially precipitate and become dispersed particles, or may be dispersed in the zirconia phase as fine particles bonded or reacted with added TiO, d-103, etc., but this is not a problem. As mentioned above, At, 03 and TiO are dispersed in the zirconia phase to prevent coarsening of crystal grains, or at the same time, when cutting zirconia ceramics, high hardness carbide acts as a dressing. The zirconia phase that prevents clogging of the diamond blade is preferably a stabilized zirconia phase, that is, cubic zirconia.

立方晶ジルコニアは摺動特性に優れる。Cubic zirconia has excellent sliding properties.

ジルコニア相を安定化するには、Y* Oa % Mg
0s OaO等の安定化剤を添加する。これらの安定化
剤を添加しないジルコニアは高温(z400℃以上)で
は立(狛txoo℃以下)では単斜晶(m−相)となる
。そこで、安定化剤の量がきわめて少い場合、ジルコニ
アは常温ではm−相になるが、安定化剤の量を増加する
とt−相が常温で存在するようになり、更に安定化剤の
量を増やすと常温でも〇−相で存在することになる。
To stabilize the zirconia phase, Y* Oa % Mg
Add a stabilizer such as 0s OaO. Zirconia to which these stabilizers are not added becomes monoclinic (m-phase) at high temperatures (above 400°C) and vertically (below 400°C). Therefore, when the amount of stabilizer is extremely small, zirconia becomes m-phase at room temperature, but when the amount of stabilizer is increased, t-phase exists at room temperature, and even more stabilizer is added. If you increase , it will exist in the 〇-phase even at room temperature.

そこで本発明のジルコニアセラミックスにおいては、そ
のジルコニア相には常温においても立方晶ジルコニアと
して存在するだけの安定化剤を含有させることが望まし
い。Y、O,の場合、ジルコニア相のなかに5〜20m
ot%含有され、残部実質的にZrO意であることが望
ましい。しかし、鰺や0(転)も回込 時に含有されても問題ない。
Therefore, in the zirconia ceramic of the present invention, it is desirable that the zirconia phase contains a stabilizer sufficient to exist as cubic zirconia even at room temperature. In the case of Y, O, 5 to 20 m in the zirconia phase
It is desirable that ZrO be present in an amount of 0.000%, with the remainder being substantially ZrO. However, there is no problem even if mackerel and 0 (Ten) are also included at the time of rotation.

このような安定化剤が過剰に含まれた場合、立方晶ジル
コニアのなかにY4Zr30x 寓のようなZrO*−
YmOsの化合物が析出して、摺動特性の劣化、強度の
低下をまねく。そこで20mot%以上のY、O,を含
有することは撮ましくない。安定化剤か少くなると上に
述べたように、を相やm相も生じてくるか常温でm相が
生じると、その際体積膨張を伴なう。
If such a stabilizer is included in excess, ZrO*-
A YmOs compound precipitates, leading to deterioration of sliding properties and a decrease in strength. Therefore, it is not acceptable to contain 20 mot% or more of Y, O, or more. As mentioned above, when the amount of stabilizer decreases, a phase and an m phase are also formed.If an m phase is formed at room temperature, volumetric expansion is accompanied at that time.

基板への膜付け、パターン付けの際の数百℃までの加熱
や冷却に起因してm相が生じると基板の反りやパターン
ずれが生じるおそれがある。そこで安定化ジルフェアに
するための安定化剤の下限値は約5πoL%である。Y
、O,の含有量は5 mot%以上でできるだけ少いこ
とがよく、より適当な量は約5〜約10mot%である
If the m-phase is generated due to heating or cooling up to several hundred degrees Celsius during film deposition or patterning on the substrate, there is a risk that the substrate will warp or the pattern will shift. Therefore, the lower limit of the stabilizer for making stabilized Zirphere is about 5πoL%. Y
The content of , O, is preferably 5 mot % or more and as small as possible, and a more suitable amount is about 5 to about 10 mot %.

ジルコニア相の結晶粒径は12μm以下であること−が
望ましい。より望ましくは、10μm以下である。
It is desirable that the crystal grain size of the zirconia phase is 12 μm or less. More preferably, it is 10 μm or less.

正方晶ジルコニアの結晶粒径は通常的15μmであるが
、12μm以下にすることによって機械加工性が向上し
、チッピングの大きさも小さくすることができる。
The crystal grain size of tetragonal zirconia is usually 15 μm, but by reducing it to 12 μm or less, machinability can be improved and the size of chipping can be reduced.

更に、本発明のジルコニアセラミックの相対密度(理論
密度と比して)は99%以上であることが望ましく、ボ
アの極めて少ないものとなっている。
Further, it is desirable that the relative density (compared to the theoretical density) of the zirconia ceramic of the present invention is 99% or more, and the number of bores is extremely small.

このように高い密度を持つので、摺動特性の憂れたもの
となる。
Since it has such a high density, its sliding properties are poor.

本発明のジルコニアセラミックスを製造するには、Zr
O@微粉末、YmOs粉末、lTh5 Va % M’
族元素の炭化物(例えIfTiOlZrO、HfO、V
’O、NbOlTaOlwo)粉末及びAA105粉末
を所定の割合で配合し、十分混合し、これを乾燥させ、
少量のバインダーを加えて造粒する。この造粒粉を得る
べき形状のキャビティを持ったプレス機で成形体に予備
成型する。この成形体を真空中で1400℃〜1600
℃の温度でホットプレスして焼結体としてジルコニアセ
ラミックを得る。
To produce the zirconia ceramics of the present invention, Zr
O@fine powder, YmOs powder, lTh5 Va % M'
Group element carbides (e.g. IfTiOlZrO, HfO, V
'O, NbOlTaOlwo) powder and AA105 powder are blended in a predetermined ratio, thoroughly mixed, and dried.
Add a small amount of binder and granulate. This granulated powder is preformed into a molded body using a press machine having a cavity of the desired shape. This molded body was heated to 1400°C to 1600°C in a vacuum.
A zirconia ceramic is obtained as a sintered body by hot pressing at a temperature of °C.

このホットプレスを行う時の温度は得られたジするため
に必要である。しかし、1600℃以上にすると、安定
化ジルコニアの結晶粒の粒成長か著しくなるので160
0℃以下でホットプレスすることが望ましい。
The temperature at which this hot pressing is carried out is necessary to achieve the desired temperature. However, if the temperature exceeds 1600°C, the crystal grains of stabilized zirconia will grow significantly.
It is desirable to hot press at 0°C or lower.

ホットプレスで得たジルコニアセラミックスは用途に応
じて必要とする形状にダイヤモンドブレードで切断し、
グラインダーなどで仕上加工をする。dた必要に応じて
磁気コア、信号コイル、絶縁膜を付けて用いられる。こ
の絶縁膜としては数10.1m厚さにスパッターで付け
たA210aが使用される0度も高くボアがほとんどな
い。
Zirconia ceramics obtained by hot pressing are cut with a diamond blade into the required shape according to the application.
Finish with a grinder, etc. It is used with a magnetic core, signal coil, and insulating film attached as necessary. As this insulating film, A210a sputtered to a thickness of several 10.1 m is used.The insulating film is as high as 0° and has almost no bore.

更に、機械加工性が良好なとで、微細な加工を行うこと
ができる。
Furthermore, since the material has good machinability, fine processing can be performed.

本発明のジルコニアセラミックスについて、以下例を示
す。
Examples of the zirconia ceramics of the present invention are shown below.

例1 平均粒径α0311mのZr0i微粉末とY、O,粉末
、さらに代表的なIVa、Va 、 Ma族遷移元素の
炭化物(T10、Zr0w01vO1NbO1’raa
、wo)粉末及びAt1Oa粉末を表1に示す割合に配
合し、純水を溶媒としてアルミナボールミルで24時間
混合した。混合溶液を乾燥し10%の范溶液を添加して
らいかい機で造粒後、1ton/cyPの圧力で80φ
×6〜7の成型体に予備成型した。次にこれを真空中1
450℃X 300に9/ (1!jl禽Xlhの条件
下でホットプレスした。
Example 1 Zr0i fine powder with an average particle size α0311m, Y, O, powder, and carbides of typical IVa, Va, Ma group transition elements (T10, Zr0w01vO1NbO1'raa)
, wo) powder and At1Oa powder were blended in the proportions shown in Table 1, and mixed for 24 hours in an alumina ball mill using pure water as a solvent. Dry the mixed solution, add 10% fan solution, granulate it with a sieve machine, and then 80φ at a pressure of 1 ton/cyP.
It was pre-molded into a molded body of ×6 to 7. Next, put this in vacuum 1
Hot pressed under the conditions of 450°C x 300 x 9/(1!jl chicken xlh).

焼結体の密度は水中亀換法で測定し理論密度を除して相
対密度を求めた。曲げ強度試験は焼結体をダイヤモンド
ブレードで切断し4 tll X 3 III X35
m+11の試験片を使用し、1184点曲げて測定した
。またボア11!祭、ビッカース硬度測定(荷電200
g )は試片の一部を鏡面研摩して行った。比抵抗の測
定には1α角の試片を用い、4端子法の一種であるバラ
法で測定したが、比抵抗が高いときには両面に銀ペース
トを塗布し絶縁抵抗を決めた。また、摩耗テストを行い
、摩耗量を測定し、ジルコニアの摩耗量を100とした
ときの相対比較を行った。加工性は、鏡面研摩した試片
にダイヤモンドブレードで溝を入れラッピング面と切削
向の共に生ずるチッピングの大小で比較した。また摺動
特性は1焼結体から実際の薄膜磁気ヘッドの形状に切り
出し、磁気ディスクと接触させてディスクを回転し、特
性を比較した。以上の測定結果を第1表に示す。
The density of the sintered body was measured by the underwater turtle conversion method, and the relative density was determined by dividing the theoretical density. The bending strength test was carried out by cutting the sintered body with a diamond blade.
A test piece of m+11 was used and was bent at 1184 points for measurement. Boa 11 again! Festival, Vickers hardness measurement (charged 200
g) was performed by mirror polishing a part of the specimen. The specific resistance was measured using a 1α square specimen using the rose method, which is a type of four-terminal method. When the specific resistance was high, silver paste was applied to both sides to determine the insulation resistance. In addition, a wear test was conducted, the amount of wear was measured, and a relative comparison was made when the amount of wear of zirconia was set as 100. Machinability was evaluated by making grooves on mirror-polished specimens using a diamond blade and comparing the size of chipping that occurred on both the lapping surface and the cutting direction. In addition, the sliding properties were compared by cutting a sintered body into the shape of an actual thin-film magnetic head, bringing it into contact with a magnetic disk, and rotating the disk. The above measurement results are shown in Table 1.

加えたジルコニアセラミックスである。いずれも助剤と
してAt205を2wt%添加しである。また、A縁は
助剤として−をα5wt%添加し、1650℃でホット
プレスしたものである。
zirconia ceramics. In both cases, 2 wt % of At205 was added as an auxiliary agent. In addition, the A edge was hot-pressed at 1650° C. with α5wt% of - added as an auxiliary agent.

相対WAjはAltos  TiOを除いてすべて99
%以上に緻密化しており、また鏡面のボア観察において
もほとんどボアは観察されず、基板としての基本的特性
である表面にボアが存在しないという条件を満している
ことがわかった。これはマトリックスであるZr01が
At、0.に比べて焼結性が元来良好である上に、圧力
下で焼結していることに起因するものと思われる。
Relative WAj is 99 for all except Altos TiO
% or more, and almost no bores were observed even when observing the bores on the mirror surface, indicating that the substrate satisfies the condition of having no bores on the surface, which is a basic characteristic of the substrate. This is a matrix where Zr01 is At, 0. This seems to be due to the fact that the sinterability is originally better than that of the sintered steel, and that it is sintered under pressure.

ビッカース硬さはAt寓Q5 TiOに比べ、ZrO2
の方が小さいが炭化物を加えることにより、Hvは14
00〜1550と100〜200程上昇する。そのため
、耐摩耗性も向上する曲げ強度はマトリックスの強度に
強く影暢を受けるため、残留正方晶の多いA7に比べ、
zrOll及びZr01−炭化物系では強度は小さいが
基板材としては十分な強度である。また比抵抗は30v
a1%の炭化物を複合化した場合、炭化物粒子の平均粒
径、分布状態によって大きな差異が存在するがそれでも
マトリックスのiro 1に比べ導電性は大幅に向上さ
れており、帯電防止という点では好ましい彰巻を与える
The Vickers hardness of ZrO2 is higher than that of Ateg Q5 TiO.
is smaller, but by adding carbide, Hv becomes 14
00-1550 and rises by about 100-200. Therefore, the bending strength, which also improves wear resistance, is strongly influenced by the strength of the matrix, so compared to A7, which has more residual tetragonal crystals,
ZrOll and Zr01-carbide systems have low strength, but are strong enough to be used as a substrate material. Also, the specific resistance is 30v
When a 1% carbide is composited, although there are large differences depending on the average particle size and distribution state of the carbide particles, the conductivity is still significantly improved compared to the matrix IRO 1, and it is a preferable choice in terms of antistatic properties. Give the volume.

溝入れの際のチッピングは炭化物を添加するとチッピン
グの量、大きさは小さくなり加工性は向上した。摺動特
性は柘0s−TiOの場合、短時間でディスクに傷をつ
けるため基板材としてあまり好ましくないのに対し、Y
、Osを十分に入れた安定化ジルコニアでは長時間のデ
ィスク回転に船え、摺動特性は良好である。
As for chipping during grooving, adding carbide reduced the amount and size of chipping and improved workability. In terms of sliding properties, Y0s-TiO is not very desirable as a substrate material because it scratches the disk in a short period of time.
Stabilized zirconia containing a sufficient amount of Os can withstand long-time disk rotation and has good sliding properties.

例2 表2に示す組成のジルコニアセラミックスを例1と同じ
製造条件で作成した。これを加工し、鏡面にラッピング
して、?径のウェハーとした。この試料について、結晶
径径S耐チツピング性1切削抵抗加工性、切削面の肌の
状況、摺動特性を測定した。
Example 2 Zirconia ceramics having the composition shown in Table 2 were produced under the same manufacturing conditions as Example 1. Process this and wrap it to a mirror surface? It was made into a wafer of diameter. Regarding this sample, the crystal diameter S chipping resistance 1 cutting resistance workability, texture of the cut surface, and sliding properties were measured.

耐チッピング性はダイサーによる真入れ加工の際に鵜に
苑するチッピングの大きさく表では最大チッピング深さ
で°示す)及びアルミナ族の欠けによって測定した。ア
ルミナ膜はセラミック基板上に約40μm厚さにスパッ
ターリングで形成し、これにダイサーで滴入れ加工した
時に基板とともにアルミナ膜か欠けた時のその部分の欠
けの幅で示した0 切削抵抗は外周スライサーで、スライサーに加わる応力
を圧電素子を用いて測定した。
The chipping resistance was measured by the size of chipping that occurs during machining with a dicer (indicated by the maximum chipping depth in the table) and chipping of the alumina group. The alumina film is formed on a ceramic substrate by sputtering to a thickness of approximately 40 μm, and when the alumina film is chipped together with the substrate when a droplet is placed on it using a dicer, the width of the chip is 0. The stress applied to the slicer was measured using a piezoelectric element.

摺動特性は磁気ディスクを回転させて、これにジルコニ
アセラミックスを接触摺動させるO8Sテストによって
判定した。
The sliding characteristics were determined by an O8S test in which a magnetic disk was rotated and a zirconia ceramic was slid in contact with the magnetic disk.

AJaOa、TiOを添加しないA12及び14のジル
コニアの場合、切削抵抗力は非常に大きく切削面の肌の
状態も良くなかった。チッピング深さは結晶粒径の小さ
いA12では小さいか、y意osmを増加し粗大な立方
晶が多く墓14では大きくなった。TiO、AJ!、*
Oaを単独に添加したA1+5.16では結晶粒がある
程度微細化されるためチッピング深さはある程度減少す
るが切削面の肌の状態は大きさは改善されない。
In the case of A12 and A14 zirconia to which AJaOa and TiO were not added, the cutting resistance was very large and the texture of the cut surface was not good. The chipping depth was either small in A12, which has a small grain size, or became large in Grave 14, where there were many coarse cubic crystals due to increased yosm. TiO, AJ! , *
In A1+5.16, in which Oa was added alone, the crystal grains were refined to some extent, so the chipping depth was reduced to some extent, but the size of the texture of the cut surface was not improved.

それに対しTiOとAl−m0aを同時に添加したA1
3及び轟17〜25の場合にはチッピング量は414に
比べb程度に減少しました切削抵抗力も小さく切削面の
肌の状態も良好であり、スライダーを90本加工後も切
削面は最初とはとんど変わりはない。またアルミナ膜の
欠けも非常に小さい。
On the other hand, A1 with TiO and Al-m0a added simultaneously
In the case of 3 and Todoroki 17 to 25, the amount of chipping was reduced to about b compared to 414.The cutting resistance was small and the texture of the cut surface was good, and even after machining 90 sliders, the cut surface remained the same as before. Not much has changed. In addition, chips in the alumina film are also very small.

A25はTiOを40VoL%と非−常に多く添加した
場合であるが、チッピング切削抵抗共に小さいが摺動特
性が悪い。
A25 is a case in which a very large amount of TiO is added at 40 VoL%, and although the chipping cutting resistance is small, the sliding properties are poor.

以上の実験から明らかなように、ジルコニアセラミック
スは摺動特性に表れている1゜しかし、炭化物を30V
oL%を越えて加えたものは少し摺動特性が落ちる。そ
れでも、At、03−’l’lQ糸よりも優れているO ジルコニアセラミックスに炭化物、アルミナを分散させ
たものは、耐摩耗性に凝れている。
As is clear from the above experiments, zirconia ceramics exhibits a sliding property of 1°, but carbide
If added in excess of oL%, the sliding properties will deteriorate slightly. Still, O zirconia ceramics, which are superior to At and 03-'l'lQ yarns with carbide and alumina dispersed in them, have excellent wear resistance.

O相のジルコニアであっても、ALiOa 、TiOを
分散させると結晶粒径が小さくなり、チッピング量が小
さくなる。このため加工性が良好になる。
Even in the case of O-phase zirconia, when ALiOa and TiO are dispersed, the crystal grain size becomes smaller and the amount of chipping becomes smaller. This improves workability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、周期率表IVa、Va、VIa族から選ばれた少くとも
1種類の元素の炭化物を0.4〜26.3wt%、アル
ミナを0.34〜22.5wt%を含み、残部が実質的
にジルコニア部分からなることを特徴とするジルコニア
セラミックス。 2、ジルコニア部分は実質的に立方晶ジルコニアである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のジルコニ
アセラミックス。 3、周期率表IVa、Va、VIa族の元素の炭化物が炭化
チタンであることを特徴とする特許請求の範囲第2項記
載のジルコニアセラミックス。 4、ジルコニア部分は酸化イットリウムを5〜20mo
l%含み残部が実質的に酸化ジルコニウムであることを
特徴とする特許請求の範囲第3項記載のジルコニアセラ
ミックス。 5、ホットプレスを行つて理論密度の99%以上にした
ことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のジルコニ
アセラミックス。
[Claims] 1. 0.4 to 26.3 wt% of carbide of at least one element selected from groups IVa, Va, and VIa of the periodic table, and 0.34 to 22.5 wt% of alumina. zirconia ceramics, the remainder being substantially composed of a zirconia portion. 2. The zirconia ceramic according to claim 1, wherein the zirconia portion is substantially cubic zirconia. 3. The zirconia ceramic according to claim 2, wherein the carbide of an element in groups IVa, Va, or VIa of the periodic table is titanium carbide. 4. The zirconia part contains 5 to 20 mo of yttrium oxide.
3. The zirconia ceramic according to claim 3, wherein the remaining 1% is substantially zirconium oxide. 5. The zirconia ceramic according to claim 4, which is hot-pressed to a density of 99% or more of the theoretical density.
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