JPH01206682A - Semiconductor laser beam source - Google Patents

Semiconductor laser beam source

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Publication number
JPH01206682A
JPH01206682A JP3097088A JP3097088A JPH01206682A JP H01206682 A JPH01206682 A JP H01206682A JP 3097088 A JP3097088 A JP 3097088A JP 3097088 A JP3097088 A JP 3097088A JP H01206682 A JPH01206682 A JP H01206682A
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JP
Japan
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fresnel lens
change
focal length
chip
lens
Prior art date
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Application number
JP3097088A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Aoyama
茂 青山
Shiro Ogata
司郎 緒方
Tokuo Inoue
井上 十九男
Maki Yamashita
山下 牧
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Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To make the fluctuation of projecting laser rays in a projecting angle due to a temperature change as small as possible by a method wherein an unequally spaced diffraction grating is composed of a material which has such a thermal expansion coefficient that the fluctuation of a projecting angle can be almost compensated for with the change of the unequally spaced diffraction grating in a focal length due to a temperature change. CONSTITUTION:A semiconductor laser diode chip (LD chip) 1 is fixed to a heat sink 3, and a transparent substrate provided with a Fresnel lens 2 is disposed in front of the LD chip 1. A material forming the Fresnel lens 2 expands or contracts with the change of temperature T. When the lens material expands thermally due to the rise of a temperature T, the period of a lens pattern increases, and consequently the focal length of the Fresnel lens 2 grows larger. Therefore, the fluctuations of the focal length of the Fresnel lens 2 due to the change of an oscillating wavelength of the LD chip 1 caused by a temperature change and due to the thermal expansion and contraction of the lens material are made to act cancelling each other. By these processes, a projecting laser beam can be prevented from fluctuating in a projecting angle.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 半導体レーザとその出射光を整形するフレネル・レンズ
とを含む光源において、温度変化による半導体レーザの
発振波長の変化に帰因するフレネル・レンズの焦点距離
の変化を、熱膨脹に帰因するフレネル・レンズの焦点距
離の変化によってほぼ打消すような熱膨脹係数をもつ材
質によってフレネル・レンズを構成した。
Detailed Description of the Invention Summary of the Invention In a light source that includes a semiconductor laser and a Fresnel lens that shapes its emitted light, a change in the focal length of the Fresnel lens due to a change in the oscillation wavelength of the semiconductor laser due to a temperature change. The Fresnel lens was constructed from a material with a coefficient of thermal expansion that was almost canceled out by changes in the focal length of the Fresnel lens caused by thermal expansion.

発明の背景 この発明は半導体レーザ光源に関し、たとえば半導体レ
ーザからの拡散(発散)する出射光を不等間隔回折格子
(たとえばフレネル・レンズ)によって平行光に変換し
て空間に出射する半導体レーザ光源に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor laser light source, and more particularly, to a semiconductor laser light source that converts diffused (divergent) emitted light from a semiconductor laser into parallel light using an unequally spaced diffraction grating (for example, a Fresnel lens) and emits it into space. .

半導体レーザは温度変化によって発振波長が変動する。The oscillation wavelength of a semiconductor laser fluctuates due to temperature changes.

入射光の波長か変化するとフレネル・レンズの焦点距離
が変化する。また、フレネル・レンズ自体の温度変化に
よる伸縮によってその焦点距離が変化する。半導体レー
ザの発振波長の変動によるフレネル・レンズの焦点距離
の変化とフレネル・レンズ自体の熱伸縮による焦点距離
の変化とは、一般に、互いに相殺する方向に働くが1通
常は完全に相殺することはできない。このためフレネル
・、レンズ、によって整形されるレーザ・ビームは温度
変化によってその形状が変化する。すなイっち、平行光
であるべきものが発散光になったり、収束光になったり
する。また発散光、収束光の場合にはその発散角、収束
角か変化する。
When the wavelength of the incident light changes, the focal length of the Fresnel lens changes. Furthermore, the focal length of the Fresnel lens changes as it expands and contracts due to temperature changes. Changes in the focal length of the Fresnel lens due to fluctuations in the oscillation wavelength of the semiconductor laser and changes in the focal length due to thermal expansion and contraction of the Fresnel lens itself generally work in a direction that cancels each other out, but (1) Usually they do not cancel each other out completely. Can not. Therefore, the shape of the laser beam shaped by the Fresnel lens changes as the temperature changes. In other words, what should be parallel light becomes divergent light or convergent light. In addition, in the case of divergent light or convergent light, the divergence angle or convergence angle changes.

発明の概要 この発明は、半導体レーザから出力されるレーザ光を不
等間隔回折格子によって整形上で出射させる半導体レー
ザ光源において、温度変化による出射光の出射角度の変
動をできるだけ小さくすることを目的とする。
Summary of the Invention The present invention aims to minimize variations in the output angle of the emitted light due to temperature changes in a semiconductor laser light source in which the laser light output from the semiconductor laser is shaped and emitted using an unevenly spaced diffraction grating. do.

この発明による半導体レーザ光源は、温度変化によって
半導体レーザの発振波長が変化することに帰因する不等
間隔回折格子の焦点距離の変化を、熱膨脹に帰因する不
等間隔回折格子の焦点距離の変化によってほぼ補償する
ような熱膨魔係数をもつ材質によって不等間隔回折格子
を構成したことを特徴とする。
The semiconductor laser light source according to the present invention suppresses the change in the focal length of the non-uniformly spaced diffraction grating caused by the change in the oscillation wavelength of the semiconductor laser due to temperature change to the change in the focal length of the non-uniformly spaced diffraction grating caused by thermal expansion. It is characterized in that the unevenly spaced diffraction grating is constructed of a material having a coefficient of thermal expansion that is almost compensated for by changes.

この発明によると、レーザ光の波長変化に帰因する不等
間隔回折格子の焦点距離の変化を、不等間隔回折格子の
熱膨脹による焦点距離の変化でほぼ相殺しているから、
温度変化によ゛名出射レーザ光の出射角度の変動が小さ
くなっている。したがって、温度変化があってもコリメ
ート光は平行な状態に保たれるし1発散光、収束光は発
散角。
According to this invention, the change in the focal length of the non-uniformly spaced diffraction grating due to the change in the wavelength of the laser beam is almost canceled out by the change in the focal length due to the thermal expansion of the non-uniformly spaced diffraction grating.
Fluctuations in the output angle of the output laser beam due to temperature changes become smaller. Therefore, even if there is a temperature change, the collimated light will remain parallel, and the divergent light will have a divergent angle.

収束角が殆んど変化しない。The convergence angle hardly changes.

実施例の説明 第1図はこの発明による半導体レーザ光源の実施例を示
す一部切欠き斜視図である。第2図は第1図に示す半導
体レーザ光源のキャップを除去した状態の一部切欠き正
面図である。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of a semiconductor laser light source according to the present invention. FIG. 2 is a partially cutaway front view of the semiconductor laser light source shown in FIG. 1 with the cap removed.

これらの図を参照して、ステム6のほぼ中央の位置にヒ
ート・シンク3が固定されている。このヒート・シンク
3はステム6と一体に形成してもよい。ヒート・シンク
3上には半導体レーザ・ダイオード・チップ(LDチッ
プ)1が固定されている。このLDチップ1はステム6
の中心軸Z(これが出射光の光軸となる)上に位置する
ように設けられている。
Referring to these figures, the heat sink 3 is fixed to the substantially central position of the stem 6. This heat sink 3 may be formed integrally with the stem 6. A semiconductor laser diode chip (LD chip) 1 is fixed on the heat sink 3. This LD chip 1 is stem 6
(This is the optical axis of the emitted light).

LDチップ1の前方にはフレネル・レンズ2が設けられ
た透明基板4が配置されている。フレネル・レンズ2は
基板4の中央に位置している。フレネル・レンズは同心
円状の凹凸パターンを有し、この凹凸パターンによる光
のフレネル回折を利用してレンズ作用(集光、コリメー
ト等)をなすものである。フレネル・レンズの凹凸パタ
ーンとしてはステップ状のもの、ブレーズ化されたもの
等2種々のものがある。レーザ光ビームの整形手段とし
ては他の形の不等間隔回折格子、たとえば両面に互いに
直交する方向に回折格子が形成され、これらの回折格子
のピッチが中央部で広く両側にいくほど狭くなるような
レンズ作用をする不等間隔回折格子を用いることもでき
る。このようなフレネル・レンズ2を含む不等間隔回折
格子は透明基板4に一体的に形成しても、別体につくっ
たものを基板4に貼付けるようにしてもよい。
A transparent substrate 4 provided with a Fresnel lens 2 is arranged in front of the LD chip 1. Fresnel lens 2 is located at the center of substrate 4. A Fresnel lens has a concentric pattern of protrusions and recesses, and uses Fresnel diffraction of light due to the pattern of protrusions and recesses to perform a lens action (condensing light, collimating, etc.). There are two types of concavo-convex patterns of Fresnel lenses, such as a step-like pattern and a blazed pattern. As a means for shaping the laser light beam, it is possible to use other forms of non-uniformly spaced diffraction gratings, such as diffraction gratings formed on both sides in directions perpendicular to each other, and the pitch of these diffraction gratings being wider in the center and narrowing towards the sides. It is also possible to use a nonuniformly spaced diffraction grating that acts as a lens. Such an unevenly spaced diffraction grating including the Fresnel lens 2 may be formed integrally with the transparent substrate 4, or may be made separately and attached to the substrate 4.

基板4はその両端部において2つの支持ブロック5に固
定され、これらの支持ブロック5はヒート・シンク3の
両側方においてステム6に固定されている。上記のZ軸
に直交する2方向にX、 Y軸を考えると、支持ブロッ
ク5の幅はY方向に長く、この幅の中心がX軸上にある
。また2つの支持ブロック5はZ軸中心からX軸方向に
等距離の位置にある。そうして、フレネル・レンズ2の
中心をZ軸が通る位置に基板4がブロック5に固定され
ている。
The substrate 4 is fixed at both ends to two support blocks 5, which are fixed to a stem 6 on both sides of the heat sink 3. Considering the X and Y axes in two directions perpendicular to the Z axis, the width of the support block 5 is long in the Y direction, and the center of this width is on the X axis. Further, the two support blocks 5 are located at equal distances from the Z-axis center in the X-axis direction. The substrate 4 is then fixed to the block 5 at a position where the Z axis passes through the center of the Fresnel lens 2.

さらに、LDチップ1から出射した拡散するレーザ光を
コリメートする位置にフレネル・レンズ2が設けられて
いる。
Further, a Fresnel lens 2 is provided at a position to collimate the diffused laser light emitted from the LD chip 1.

LDチップ1が固定されたヒート・シンク3゜フレネル
・レンズ2が設けられた基板4.このノ、(板4が固定
されたブロック5の全体を覆うようにキャップ7が設け
られ、かつキャンシール、接着その他のやり方でステム
6に固定されている。
A heat sink 3 to which an LD chip 1 is fixed; a substrate 4 provided with a Fresnel lens 2; In this case, a cap 7 is provided to cover the entire block 5 to which the plate 4 is fixed, and is fixed to the stem 6 by CanSeal, adhesive, or other method.

キャップ7の頂部には孔があけられ、この孔に透明板(
プラスチック、ガラスなど)8が設けられ、窓を構成し
ている。フレネル・レンズ2によってコリメートされた
レーザ光はこの透明板8を通して外部に出射される。
A hole is made at the top of the cap 7, and a transparent plate (
(plastic, glass, etc.) 8 are provided to constitute the window. The laser beam collimated by the Fresnel lens 2 is emitted to the outside through the transparent plate 8.

LDチップ1はステム6に絶縁して設けられた端子9に
ワイヤボンディング等によって接続されているのはいう
までもない。
Needless to say, the LD chip 1 is connected to a terminal 9 provided insulated on the stem 6 by wire bonding or the like.

LDチップ1およびフレネル・レンズ2を含む光学系は
キャップ7内に収納されているので外部環境による影響
が非常に少なくなっている。とくに塵埃の付着等から保
護されている。
Since the optical system including the LD chip 1 and the Fresnel lens 2 is housed within the cap 7, the influence of the external environment is extremely reduced. It is especially protected from dust adhesion.

さらにLDチ・ンプ1およびフレネル拳レンズ2はステ
ム6の中心軸Z上にあり、フレネル・レンズ2は基板4
の中心に位置し、さらに基板4および支持ブロック5は
X軸およびY軸に関して対称の形状をもちかつそのよう
に配置されている。したがって、温度変化によって基板
4.支持ブロック5(この実施例では支持ブロックの熱
膨張はきわめて小さいが)等が伸縮しても、Z軸に垂直
な平面(XY平面)内においてはこれらは等方向に熱伸
縮する。したがってLDチップ1およびフレネル・レン
ズ2は常にZ軸上にあり、光軸はZ軸から偏向すること
はない。フレネル・レンズ2が設けられた基板4は2つ
の支持ブロック5によってしっかりと固定されているか
ら、振動や衝撃に強いものとなっている。
Further, the LD chip 1 and the Fresnel lens 2 are located on the central axis Z of the stem 6, and the Fresnel lens 2 is located on the substrate 4.
Further, the substrate 4 and the support block 5 have a symmetrical shape with respect to the X-axis and the Y-axis and are arranged in such a manner. Therefore, due to temperature changes, the substrate 4. Even if the support block 5 (although the thermal expansion of the support block is extremely small in this embodiment) expands or contracts, they thermally expand or contract in the same direction in a plane perpendicular to the Z axis (XY plane). Therefore, the LD chip 1 and Fresnel lens 2 are always on the Z-axis, and the optical axis is never deflected from the Z-axis. Since the substrate 4 on which the Fresnel lens 2 is provided is firmly fixed by the two support blocks 5, it is resistant to vibrations and shocks.

一般にLDチップ1は温度Tが上昇するとその発振波長
λが長くなる傾向がある。
Generally, when the temperature T of the LD chip 1 increases, the oscillation wavelength λ tends to become longer.

一方、フレネル・レンズの凹凸パターンの周期Δは、使
用する光(入射光)の波長λおよびそのレンズの焦点距
離fの関数である。この周期へを一定と考えたときに、
光の波長λが大きくなると焦点距#Lfが短くなる。
On the other hand, the period Δ of the concavo-convex pattern of the Fresnel lens is a function of the wavelength λ of the light used (incident light) and the focal length f of the lens. When we consider this cycle to be constant,
As the wavelength λ of light increases, the focal length #Lf decreases.

フレネル・レンズ2.を形成する飼料も温度Tの変化に
よって伸縮する。温度Tの上昇によってレンズ飼料が熱
膨張するとレンズ・パターンの周期へが増大し、これに
よってフレネル争レンズ2の焦点距離fは長くなる。
Fresnel lens 2. The feed that forms this also expands and contracts as the temperature T changes. Thermal expansion of the lens feed due to an increase in temperature T increases the period of the lens pattern, thereby increasing the focal length f of the Fresnel lens 2.

したがって、温度変化によるLDチップ1の発振波長の
変化に帰因するフレネル・レンズ2の焦点距離変動と、
フレネル・レンズ2の材料の熱伸縮に帰因する焦点距離
変動とは互いに打消す方向に働く。
Therefore, the focal length fluctuation of the Fresnel lens 2 due to the change in the oscillation wavelength of the LD chip 1 due to temperature change,
The focal length fluctuations caused by thermal expansion and contraction of the material of the Fresnel lens 2 act in a direction that cancels each other out.

一般にはLDチップ1の発振波長の変動による焦点距離
の変化の方がレンズ2の材料による焦点距離変化よりも
大きい。
Generally, the change in focal length due to a change in the oscillation wavelength of the LD chip 1 is larger than the change in focal length due to the material of the lens 2.

そこでこの発明では熱膨張係数がきわめて大きい材料を
用いてフレネル・レンズ2を構成し、レンズ飼料の熱膨
張に帰因する焦点距離変化を太きくり、LDチップ1の
発信波長の変動に帰因する焦点距離の変化をほぼ打消す
ようにしている。
Therefore, in the present invention, the Fresnel lens 2 is constructed using a material with an extremely large coefficient of thermal expansion, and the change in focal length caused by the thermal expansion of the lens feed is widened, and the change in focal length caused by the variation in the emission wavelength of the LD chip 1 is reduced. The lens is designed to almost cancel out any changes in focal length.

この実施例では、ヒート・シンク3および支持ブロック
5を、温度変化によるその熱伸縮を無視することができ
る程度のきわめて小さい熱膨張係数をもつ飼料より形成
している。これによりLDチップ1とフレネル・レンズ
2との間の距離は温度変化にかかわらずほぼ一定と考え
てよい。熱伸縮が無視することができる程度に小さい熱
膨張係数をもつ材料にはたとえばコバール(熱膨張係数
: 4.8 X 10−6/ ”C)がある。
In this embodiment, the heat sink 3 and the support block 5 are made of feed having such a small coefficient of thermal expansion that its thermal expansion and contraction due to temperature changes can be ignored. As a result, the distance between the LD chip 1 and the Fresnel lens 2 can be considered to be approximately constant regardless of temperature changes. An example of a material having a coefficient of thermal expansion so small that thermal expansion and contraction can be ignored is Kovar (coefficient of thermal expansion: 4.8 x 10-6/''C).

上述した焦点距離変動の補償の一例について以下に詳し
く説明する。
An example of compensation for the focal length variation described above will be described in detail below.

フレネル・レンズ2の材料の焦点距離変動係数は次式で
与えられる。
The focal length variation coefficient of the material of the Fresnel lens 2 is given by the following equation.

(1/f)(a f/aT)−2a−r   (1)こ
こでαはフレネル・レンズ2の材料の線膨脹係数であっ
て次式で与えられる。
(1/f)(a f/aT)-2a-r (1) Here, α is the coefficient of linear expansion of the material of the Fresnel lens 2, and is given by the following equation.

a= (1/R)(aR/JT)   (2)m   
        m Rmはフレネル・レンズの各ゾーンの半径である。
a= (1/R) (aR/JT) (2) m
m Rm is the radius of each zone of the Fresnel lens.

=  8  = また、γはLDチップ1の波長変化係数であって次式で
与えられる。
= 8 = Furthermore, γ is the wavelength change coefficient of the LD chip 1 and is given by the following equation.

γ=(1/λ)(aλ/ 9 T ’)     (3
)第(1)式を変形すると次式のようになる。
γ=(1/λ)(aλ/9T') (3
) When formula (1) is transformed, it becomes the following formula.

(、llf/δT) = f (2a−7)    (
4)所与のγに対して」二記第(4)式のllf/aT
)の値が零またはこれに近い値となるようなαをもつフ
レネル・レンズ2の材料を選定すればよい。
(,llf/δT) = f (2a-7) (
4) llf/aT of the second equation (4) for a given γ
It is sufficient to select a material for the Fresnel lens 2 having α such that the value of ) is zero or close to zero.

たとえばフレネル・レンズ2の材料として、アリルジグ
リコールカーボネート(CR−39)を用いる。この材
料の熱膨張係数αはきわめて大きくα−1,2XLO”
−4/’Cである。またLDチップ1にGaAj2As
系半導体レーザを用いると、あるタイプのLDチップの
波長変化係数γはγ= 2.923XIO’/’C(λ
=0.78μm、  a λ/ aT=0.228nm
/’C)である。さらにフレネル・レンズ2の焦点距離
fをf = 1 [mm]と設定する。これらの値を第
(4)式ニ代入スル。(J f/、13 T) = I
 Xl0−3X (2Xl、2 XIO−2,923X
l0−4) −−5,23X10−8[m/’C] =
−0,0528[μm / ’Cコ焦点距離fの温度依
存性をこのようにきわめて小さな値におさえることがで
き、温度変化にかかわらず出射光を平行に保つことがで
きる。
For example, allyl diglycol carbonate (CR-39) is used as a material for the Fresnel lens 2. The coefficient of thermal expansion α of this material is extremely large α-1,2XLO”
-4/'C. Also, GaAj2As is used for LD chip 1.
When using a system semiconductor laser, the wavelength change coefficient γ of a certain type of LD chip is γ = 2.923XIO'/'C(λ
=0.78μm, aλ/aT=0.228nm
/'C). Further, the focal length f of the Fresnel lens 2 is set to f = 1 [mm]. Substitute these values into equation (4). (J f/, 13 T) = I
Xl0-3X (2Xl, 2 XIO-2,923X
l0-4) --5,23X10-8 [m/'C] =
-0,0528[μm/'C The temperature dependence of the focal length f can be suppressed to an extremely small value in this way, and the emitted light can be kept parallel regardless of temperature changes.

第3図は各種のフレネル・レンズ材料およびプラスチッ
ク・レンズの指向角度温度依存性(20℃基準)を示す
ものである。フレネル・レンズ材料としてアクリル樹脂
(PMMA)を用いた場合。
FIG. 3 shows the directivity angle temperature dependence (20° C. standard) of various Fresnel lens materials and plastic lenses. When acrylic resin (PMMA) is used as the Fresnel lens material.

レンズとしてプラスチック・レンズ(凸レンズ)を用い
た場合に比べて、フレネルφレンズ材料として上記のア
リルジグリコールカーボネートを用いると、温度変化に
かかわらず出射光の出射角度をほぼ一定に保つことかで
きることが分る。
Compared to the case where a plastic lens (convex lens) is used as the lens, when the above-mentioned allyl diglycol carbonate is used as the Fresnel φ lens material, the exit angle of the emitted light can be kept almost constant regardless of temperature changes. I understand.

上記の例ではヒート・シンク3および支持ブロック5の
熱伸縮が無視することができることを前提としたが、こ
の発明はこれらの熱伸縮が無視できない場合であっても
適用可能である。次に。
In the above example, it is assumed that the thermal expansion and contraction of the heat sink 3 and the support block 5 can be ignored, but the present invention is applicable even when these thermal expansion and contraction cannot be ignored. next.

ヒート・シンク3および支持ブロック5の熱伸縮を考慮
した場合について述べる。
A case will be described in which thermal expansion and contraction of the heat sink 3 and the support block 5 are taken into account.

第1図において、ヒート・シンク3のZ軸方向の長さを
a、支持ブロック5のZ軸方向の長さをbとし、ヒート
・シンク3の線膨脹係数をa t 。
In FIG. 1, the length of the heat sink 3 in the Z-axis direction is a, the length of the support block 5 in the Z-axis direction is b, and the linear expansion coefficient of the heat sink 3 is a t .

支持ブロック5の線膨脹係数をblとする。Let the linear expansion coefficient of the support block 5 be bl.

LDチップ1の出射面からフレネル・レンズ2までの距
離は設定焦点距離fに等しく、f=b−aである。
The distance from the exit surface of the LD chip 1 to the Fresnel lens 2 is equal to the set focal length f, and f=ba.

焦点距離変動評価関数Fは次式で与えられる。The focal length variation evaluation function F is given by the following equation.

F=(設定焦点距離) +ΔTi[ヒート・シンクおよび支持ブロックの熱膨張
に帰因する変動分コ −(フレネル・レンズの熱膨張に帰因する変動分)+(
発振波長に帰因する変動分)) = f +ΔTf[−b(a  −b  ) −a  f]一2
fα +fγ                (5)温度変
化にかかわらずF=f(=一定)とするためには次式が
成立すればよい。
F = (setting focal length) +ΔTi [variation attributable to thermal expansion of heat sink and support block co-(variation attributable to thermal expansion of Fresnel lens) + (
Variation due to oscillation wavelength)) = f + ΔTf[-b(a-b)-a f]-2
fα +fγ (5) In order to set F=f (=constant) regardless of temperature changes, the following equation should hold true.

t [b (a   b  )   a t  f ]
   2 f α+fγl−0(6) 第(6)式が成立するように、ヒート・シンク3、支持
ブロック5の材質(a  +  bt ) +およびそ
れらの長さaとbを設定すればよい。α。
t [b (a b ) a t f ]
2 f α+fγl−0 (6) The materials (a + bt ) + of the heat sink 3 and the support block 5 and their lengths a and b may be set so that equation (6) holds true. α.

γ、fは上記の実施例のものと同じである。γ and f are the same as those in the above embodiment.

たとえばヒート・シンク3としてコバール′  て銅(
b  =1.65xLO−5/’C)を用い、それらの
長さをa = 21.3mm、  b = 22.3m
mとすれば第(6)式が成立し、F=fとなる。
For example, heat sink 3 is made of Kovar' copper (
b = 1.65xLO-5/'C) and their lengths are a = 21.3mm, b = 22.3m
If m, then equation (6) holds true, and F=f.

これにより2 出射光ビームの出射角は温度によって変
化しないことになる。
As a result, the output angle of the two output light beams does not change depending on the temperature.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明による半導体レーザ光源の実施例を示
す一部切欠き斜視図、第2図は第1図のキャップを除去
した状態の一部切欠き正面図、第3図は各種の材質のフ
レネル・レンズおよびプラスチック・レンズの指向角温
度依存性を示すグラフである。 1・・・LDチップ、   2・・・フレネル・レンズ
。 以  上
Fig. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of a semiconductor laser light source according to the present invention, Fig. 2 is a partially cutaway front view with the cap shown in Fig. 1 removed, and Fig. 3 shows various materials. 2 is a graph showing the temperature dependence of the orientation angle of a Fresnel lens and a plastic lens. 1...LD chip, 2...Fresnel lens. that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 温度変化によって半導体レーザの発振波長が変化するこ
とに帰因する不等間隔回折格子の焦点距離の変化を、熱
膨脹に帰因する不等間隔回折格子の焦点距離の変化によ
ってほぼ補償するような熱膨脹係数をもつ材質によって
不等間隔回折格子を構成した半導体レーザ光源。
Thermal expansion such that the change in the focal length of the non-uniformly spaced diffraction grating due to the change in the oscillation wavelength of the semiconductor laser due to temperature change is almost compensated for by the change in the focal length of the non-uniformly spaced diffraction grating due to thermal expansion. A semiconductor laser light source that consists of an unevenly spaced diffraction grating made of materials with coefficients.
JP3097088A 1988-02-15 1988-02-15 Semiconductor laser beam source Pending JPH01206682A (en)

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JPH01206682A true JPH01206682A (en) 1989-08-18

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JP (1) JPH01206682A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5410563A (en) * 1992-10-02 1995-04-25 Minolta Co., Ltd. Laser beam optical system capable of compensating focal length changes thereof
EP0758753A3 (en) * 1995-08-16 1997-08-06 Eastman Kodak Co Diffractive optical elements

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5410563A (en) * 1992-10-02 1995-04-25 Minolta Co., Ltd. Laser beam optical system capable of compensating focal length changes thereof
EP0758753A3 (en) * 1995-08-16 1997-08-06 Eastman Kodak Co Diffractive optical elements

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