JPH01205950A - Cleaning method for porous chuck table and device therefor - Google Patents

Cleaning method for porous chuck table and device therefor

Info

Publication number
JPH01205950A
JPH01205950A JP63030486A JP3048688A JPH01205950A JP H01205950 A JPH01205950 A JP H01205950A JP 63030486 A JP63030486 A JP 63030486A JP 3048688 A JP3048688 A JP 3048688A JP H01205950 A JPH01205950 A JP H01205950A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
porous
chuck table
pressurized fluid
porous chuck
oil stone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63030486A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0555267B2 (en
Inventor
Toshiyuki Mori
利之 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP63030486A priority Critical patent/JPH01205950A/en
Publication of JPH01205950A publication Critical patent/JPH01205950A/en
Publication of JPH0555267B2 publication Critical patent/JPH0555267B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/0042Devices for removing chips

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

PURPOSE:To effectively remove chips entrapped with a porous member by applying the constitution wherein a pressurized fluid is supplied for blowing out the chips and a table rubbing member is actuated to remove the chips. CONSTITUTION:A pump 18 is driven to supply a pressurized fluid to the bottom side of the porous member 20 of a porous chuck table 3. The fluid is thereby blown to the surface side of the porous member 20 via the infinite number of holes therein and machined chips entrapped with the holes of the porous member 20 are made to flow out together with the fluid. Even if chips projected from the holes are existing, an oil stone device 25 is driven and an oil stone 26 is made to press and rub the surface of the porous chuck table 3, thereby enabling the removal of the aforesaid chips. As aforementioned, the cleaning of the porous chuck table 3 can be attained by cooperation between the blow effect of the pressurized fluid and the removal function of the oil stone 26.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、研削機械に搭載され被加工物を吸着保持する
ポーラスチャックテーブルの洗浄方法と洗浄装置に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a cleaning method and a cleaning device for a porous chuck table that is mounted on a grinding machine and holds a workpiece by suction.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ウェーハ等の被加工物を研削する研削機械にはチャック
テーブルが搭載され、そのチャックテーブルに被加工物
を吸着保持して被加工物の研削が行われている。
A grinding machine that grinds a workpiece such as a wafer is equipped with a chuck table, and the workpiece is held by suction on the chuck table to grind the workpiece.

第7図にはチャックテーブルを搭載した研削機械の一例
が示されている。同図において、ベツド基台1にはター
ンテーブル2が回転自在に配設され、そのターンテーブ
ル2の表面には一対のチャックテーブル3a、3bが回
転自在に配設されている。図中、4はヘッド基台lに上
下移動自在に装着されているヘッドであり、このヘッド
4には回転自在のスピンドル5が垂設され、そのスピン
ドル5の下端部に砥石6が固定されている。7はチャッ
クテーブル3a、3bに吸着保持されている被加工物と
してのウェーハであり、8は矢印の方向に往復して旋回
するブラシであり、また、IOは吸盤11によってウェ
ーハ7を吸着し、咳ウェーハ7をレール12に1合って
運搬するトランスファアームである。
FIG. 7 shows an example of a grinding machine equipped with a chuck table. In the figure, a turntable 2 is rotatably disposed on a bed base 1, and a pair of chuck tables 3a, 3b are rotatably disposed on the surface of the turntable 2. In the figure, reference numeral 4 denotes a head mounted on a head base l so as to be movable up and down.A rotatable spindle 5 is vertically disposed on this head 4, and a grindstone 6 is fixed to the lower end of the spindle 5. There is. Reference numeral 7 indicates a wafer as a workpiece that is held by suction on the chuck tables 3a and 3b, 8 is a brush that reciprocates and rotates in the direction of the arrow, and IO adsorbs the wafer 7 with a suction cup 11; This is a transfer arm that transports the cough wafer 7 along the rail 12.

この種の研削機械を用いてウェーハ7を研削する場合は
、次のような手順に従って行われる。
When grinding the wafer 7 using this type of grinding machine, the following procedure is followed.

まず、図示されていないローディング(搬入)手段によ
って搬入されて来るウェーハ7を吸盤11で吸着し、ト
ランスファアーム10によってチャックテーブル3aの
所定位置に運搬して定置する。この定置位置で、ウェー
ハ7はチャックテーブル3aに吸着保持される。
First, the wafer 7 carried in by a loading means (not shown) is sucked by the suction cup 11, and is transported to a predetermined position on the chuck table 3a by the transfer arm 10 and placed there. At this fixed position, the wafer 7 is held by suction on the chuck table 3a.

次に、ターンテーブル2を180°回転し、ウェーハ7
を砥石6側に移動し、該砥石6の回転駆動によって研削
する。この研削中にチャックテーブル3bには次に加工
するウェーハ7が同様に吸着保持される。前記ウェーハ
7の研削が完了すると再びターンテーブル2が180°
回転され、チャックテーブル3b上のウェーハ7の研削
が行われる一方で、チャックテーブル3aから研削完了
後のウェーハ7がトランスファアーム10によって図示
されていないアンローディング(搬出)手段側に搬送さ
れる。そして、チャックテーブル3aからウェーハ7が
取り除かれた後に、図示されていない洗浄液供給手段に
よってチャックテーブル3aの表面に水等の洗浄液が掛
けられ、ブラシ8を旋回してチャックテーブル3aの表
面の洗浄が行われる。このように、ウェーハ7をチャッ
クテーブルへ定置してから、ウェーハ7を取り除いてチ
ャックテーブルの表面を洗浄するまでの手順を繰り返す
ことにより、ウェーハ7の研削とチャックテーブルの洗
浄とが次々に行われるのである。
Next, the turntable 2 is rotated 180 degrees, and the wafer 7 is
is moved to the grindstone 6 side, and the grindstone 6 is rotated to perform grinding. During this grinding, the wafer 7 to be processed next is similarly held by suction on the chuck table 3b. When the grinding of the wafer 7 is completed, the turntable 2 is rotated to 180° again.
While the wafer 7 on the chuck table 3b is rotated and ground, the wafer 7 after grinding is transferred from the chuck table 3a to an unloading means (not shown) by the transfer arm 10. After the wafer 7 is removed from the chuck table 3a, a cleaning liquid such as water is applied to the surface of the chuck table 3a by a cleaning liquid supply means (not shown), and the brush 8 is rotated to clean the surface of the chuck table 3a. It will be done. In this way, by repeating the procedure from placing the wafer 7 on the chuck table to removing the wafer 7 and cleaning the surface of the chuck table, the wafer 7 is ground and the chuck table is cleaned one after another. It is.

ところで、この種の研削機械に使用されるチャックテー
ブル3a、3bとして、かっては第8図に示すように、
金属基台13に複数の真空吸引孔14を穿設したものが
用いられていた。ところが、このようなチャックテーブ
ル3a、3bを用いてウェーハ7を真空吸引孔14を利
用して吸着保持すると、この真空吸引孔14の部分に局
部的な吸引力が作用するため、真空吸引孔14の孔形状
がウェーハ7の表面に転写されてしまうという不都合が
生じた。近年においては、かかる不都合を避けるため、
内部に無数の孔が形成されているポーラス部材をチャッ
クテーブルの表面側に配置したポーラスチャックテーブ
ルが使用されている。このポーラスチャックテーブルを
使用すれば、ウェーハ7はポーラス部材の無数の孔を利
用して吸引されるため、吸引力がウェーハ7の表面に均
一に作用し、孔形状がウェーハ7の表面に転写されると
いう前記不都合は解消されることになる。
By the way, as shown in FIG. 8, the chuck tables 3a and 3b used in this type of grinding machine used to be
A metal base 13 with a plurality of vacuum suction holes 14 was used. However, when the wafer 7 is sucked and held using the vacuum suction holes 14 using such chuck tables 3a and 3b, a local suction force acts on the vacuum suction holes 14. A problem occurred in that the shape of the hole was transferred onto the surface of the wafer 7. In recent years, in order to avoid such inconvenience,
A porous chuck table is used in which a porous member having numerous holes formed therein is arranged on the surface side of the chuck table. If this porous chuck table is used, the wafer 7 is sucked using the countless holes in the porous member, so the suction force acts uniformly on the surface of the wafer 7, and the hole shape is transferred to the surface of the wafer 7. This will eliminate the above-mentioned inconvenience.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、ポーラスチャックテーブルは表面に微小
の孔が無数に存在するため、研削くずがこの孔の中に入
り込み易く、−旦孔に入り込むと、洗浄ン夜を打しナな
がらフ゛ラシ8でポーラスチャックテーブルの表面を擦
うてもなかなか完全には取り去ることが難しい。この結
果、ポーラスチャックテーブル(詳しくはポーラス部材
)が目詰りを起こして真空吸引力が弱められ、ウェーハ
7の保持が不完全になったり、ポーラス部材の孔に入り
込んだ研削くずの一部がチャックテーブルの表面に突出
し、これがウェーハ7の表面に当たり、その当たり部分
からウェーハ7にクラックが発生するという新たな課題
が表面化するに至った。
However, since the porous chuck table has countless minute holes on its surface, it is easy for grinding chips to get into these holes. It is difficult to completely remove it even if you rub the surface. As a result, the porous chuck table (specifically, the porous member) becomes clogged, weakening the vacuum suction force, and holding the wafer 7 incompletely, or some of the grinding debris that has entered the hole of the porous member may be removed from the chuck. A new problem has come to light: the protrusion protrudes from the surface of the table, hits the surface of the wafer 7, and cracks occur in the wafer 7 from the hit area.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、その目的は、たとえ研削くずがポーラスチャックテー
ブル(ポーラス部材)の孔に入り込んでも、この研削く
ずを効果的に除去することができるポーラスチャックテ
ーブルの洗浄方法とその洗浄装置を提供することにある
The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to provide a porous chuck table (porous member) that can effectively remove the grinding waste even if the grinding waste enters the hole of the porous chuck table (porous member). An object of the present invention is to provide a chuck table cleaning method and cleaning device.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は上記目的を達成するため次のように構成されて
いる。すなわち、本発明の洗浄方法は、砥石によって研
削される被加工物を吸着保持するポーラスチャックテー
ブルの洗浄方法において、研削完了後の被加工物をポー
ラスチャックテーブルの表面から取り除いた後に該ポー
ラスチャックテーブルにおけるポーラス部材の底面側か
ら表面側に向けて加圧流体を供給しポーラス部材の孔に
入り込んだ研削くずを表面側に噴き出させるとともに、
テーブル摺擦部材をポーラスチャックテーブルの表面に
押し付けて摺捺し、ポーラス部材の孔から表面に突出し
ている研削くずを除去することを特徴として構成されて
おり、また、本発明の装置は、ポーラスチャックテーブ
ルにおけるポーラス部材の底面側に加圧流体を供給する
加圧流体供給手段と、ポーラスチャックテーブルの表面
側に配置されたテーブル摺擦部材と、このテーブル摺擦
部材のポーラスチャックテーブル表面への押圧駆動と押
圧解除駆動を行う摺擦部材駆動機構と、を有することを
特徴として構成されている。
In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows. That is, the cleaning method of the present invention is a method for cleaning a porous chuck table that sucks and holds a workpiece to be ground by a grindstone, in which the workpiece after grinding is removed from the surface of the porous chuck table. Pressurized fluid is supplied from the bottom side of the porous member toward the surface side to blow out the grinding debris that has entered the holes of the porous member to the surface side,
The apparatus of the present invention is characterized in that the table rubbing member is pressed against the surface of the porous chuck table to remove grinding debris protruding from the surface of the porous chuck table from the holes of the porous member. A pressurized fluid supply means for supplying pressurized fluid to the bottom side of the porous member on the table, a table rubbing member disposed on the surface side of the porous chuck table, and a pressurizing force of the table rubbing member to the surface of the porous chuck table. The structure is characterized by having a sliding member driving mechanism that performs driving and pressing release driving.

〔作用〕[Effect]

上記のように構成されている本発明において、加圧流体
供給手段を駆動して加圧流体をポーラスチャックテーブ
ルにおけるポーラス部材の底面側へ供給することにより
、該加圧流体はポーラス部材内の無数の孔(ポーラス孔
)を通って表面側に噴き出す。この噴き出しによって、
ポーラス部材の孔に入った研削くずがそのポーラス孔か
ら排出され、その加圧流体とともに流出される。
In the present invention configured as described above, by driving the pressurized fluid supply means to supply the pressurized fluid to the bottom side of the porous member on the porous chuck table, the pressurized fluid is supplied to the numerous points inside the porous member. It is ejected to the surface through the pores (porous pores). With this outpouring,
Grinding debris that has entered the pores of the porous member is discharged from the pores and flows out together with the pressurized fluid.

また、ポーラス孔から表面に突出している研削くずがた
とえ残存しても、この研削くずの突出部分は、摺擦部材
駆動機構を駆動して摺擦部材をポーラスチャックテーブ
ルの表面に押し付け、摺擦することで、除去される。こ
のように、本発明では、加圧流体の噴き出し作用と、摺
擦部材による除去作用との協同によって、ポーラスチャ
ックテーブル表面の洗浄が達成されるのである。
In addition, even if the grinding debris protruding from the porous holes to the surface remains, the protruding portion of the grinding debris can be removed by driving the sliding member drive mechanism to press the sliding member against the surface of the porous chuck table. will be removed by doing so. In this manner, in the present invention, cleaning of the porous chuck table surface is achieved by the cooperation of the jetting action of the pressurized fluid and the removal action by the rubbing member.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図には本発明に係る洗浄装置の一実施例が示されて
いる。同図において、ポーラスチャックテーブル3は前
記第7図に示す研削機械のターンテーブル2上に回転自
在に装着される。このポーラスチャックテーブル3は通
路形成基台15とポーラス収容基台16とを一体的に連
結したものであり、通路形成基台15にはその内部に真
空吸引用の通路と加圧流体供給通路17とが形成されて
いる。この真空吸引用の通路と加圧流体供給通路17は
別系統の通路としてそれぞれ独立に形成してもよく、あ
るいは一系統の通路を形成し、これを真空吸引用と加圧
流体供給用とに適宜兼用するようにしてもよい。前記加
圧流体供給通路17は入口側17aにおいて、複数の通
路に分岐され、その各分岐通路の出口側はポーラス収容
基台16の底面側に臨んでいる。また、同通路17の入
口側17aは加圧流体供給用のポンプ18に通じている
FIG. 1 shows an embodiment of a cleaning device according to the present invention. In the figure, a porous chuck table 3 is rotatably mounted on the turntable 2 of the grinding machine shown in FIG. 7. This porous chuck table 3 is made by integrally connecting a passage forming base 15 and a porous accommodation base 16, and the passage forming base 15 has a vacuum suction passage and a pressurized fluid supply passage 17 inside. is formed. The vacuum suction passage and pressurized fluid supply passage 17 may be formed independently as separate passages, or one passage may be formed and used for vacuum suction and pressurized fluid supply. It may be used for both purposes as appropriate. The pressurized fluid supply passage 17 is branched into a plurality of passages at the inlet side 17a, and the outlet side of each branch passage faces the bottom side of the porous accommodation base 16. Further, an inlet side 17a of the passage 17 communicates with a pump 18 for supplying pressurized fluid.

ポーラス収容基台16は表面側の中央部に座ぐり状の凹
部を形成したものであり、この凹部にポーラス部材20
が収容されている。このポーラス部材20は例えばビト
リファイド等の部材によって構成され、表面および内部
にスポンジのように無数の孔(ポーラス孔)が形成され
たものである。同基台16の底壁には前記加圧流体供給
通路17(具体的にはその各分岐通路)に通じる複数の
貫通孔21が形成され、ポンプ18から供給される加圧
流体を通路17および貫通孔21を通してポーラス部材
20の底面側に導くようにしている。これら、貫通孔2
1と、加圧流体供給通路17と、ポンプ18と、このポ
ンプ18の動作を制御する制御装置22と、は加圧流体
供給手段を構成する。なお、加圧流体は空気等の気体で
もよく、水等の液体でもよく、さら、には、これら気体
と液体の混合体であってもよく、この加圧流体の種類は
仕様に応じ任意に設定される。
The porous accommodation base 16 has a counterbore-shaped recess formed in the center of the front surface, and the porous member 20 is placed in this recess.
is accommodated. The porous member 20 is made of a material such as vitrified material, and has numerous pores (porous pores) formed on the surface and inside thereof like a sponge. A plurality of through holes 21 communicating with the pressurized fluid supply passage 17 (specifically, each branch passage thereof) are formed in the bottom wall of the base 16, and the pressurized fluid supplied from the pump 18 is passed through the passage 17 and He is trying to guide it to the bottom side of the porous member 20 through the through hole 21. These through holes 2
1, the pressurized fluid supply passage 17, the pump 18, and the control device 22 that controls the operation of the pump 18 constitute pressurized fluid supply means. The pressurized fluid may be a gas such as air, a liquid such as water, or a mixture of these gases and liquids, and the type of pressurized fluid may be selected according to the specifications. Set.

一方、ポーラスチャックテーブル3の表面側近傍には水
等の洗浄液を噴射する噴射ノズル23がその噴出面を同
チャックテーブル30表面に向けて配置されている。こ
の噴射ノズル23の流路はポンプ24の吐出口に通じて
おり、同ポンプ24を駆動することにより、洗浄水がポ
ーラスチャックテーブル3の表面に掛かるようになって
いる。ポンプ24の動作は前記制御装置22によって制
御されており、これら、噴射ノズル23と、ポンプ24
と、制御装置22とは、洗浄液供給手段を構成する。
On the other hand, near the surface side of the porous chuck table 3, a spray nozzle 23 for spraying a cleaning liquid such as water is arranged with its spray surface facing the surface of the chuck table 30. The flow path of this injection nozzle 23 communicates with the discharge port of a pump 24, and by driving the pump 24, cleaning water is sprayed onto the surface of the porous chuck table 3. The operation of the pump 24 is controlled by the control device 22, and these, the injection nozzle 23 and the pump 24
and the control device 22 constitute a cleaning liquid supply means.

また、ポーラスチャックテーブル3の表面側近傍にはテ
ーブル摺擦装置としてのオイルストーン装置25が配置
されている。このオイルストーン装置25はテーブル摺
擦部材としてのオイルストーン26と、このオイルスト
ーン26を収容している枠体27と、この枠体27を遊
嵌している保持枠28とを存しており、枠体27の基端
側はピン30によって保持枠28に回転自在に軸支され
ている。そして、枠体27の先端側と保持枠28との間
には常時オイルストーン26を前方(ポーラスチャック
テーブルの方向)へ付勢するばね31が介設されている
Further, an oil stone device 25 as a table rubbing device is arranged near the surface side of the porous chuck table 3. This oil stone device 25 includes an oil stone 26 as a table rubbing member, a frame body 27 that accommodates this oil stone 26, and a holding frame 28 that loosely fits this frame body 27. The base end side of the frame body 27 is rotatably supported on the holding frame 28 by a pin 30. A spring 31 is interposed between the distal end side of the frame body 27 and the holding frame 28, which always urges the oil stone 26 forward (in the direction of the porous chuck table).

このオイルストーン装置25はオイルストーン26をポ
ーラスチャックテーブル3の表面に押圧駆動する摺擦部
材駆動機構としてのオイルストーン駆動機構32に保持
されている。
This oil stone device 25 is held by an oil stone drive mechanism 32 serving as a sliding member drive mechanism that presses and drives the oil stone 26 against the surface of the porous chuck table 3.

このオイルストーン駆動機構32の構成としては他に様
々な態様のものが考えられるが、本実施例ではシリンダ
装置33を用いて駆動機構32を構成している。
Although various other configurations are possible for the oil stone drive mechanism 32, in this embodiment, the drive mechanism 32 is configured using a cylinder device 33.

すなわち、第1図で、オイルストーン駆動機構32は、
シリンダ装置33と、作動ロッド34と、保持アーム3
5と、筒袖部36と、シリンダ装置33の動作を制御す
る制御装置22と、を主要要素として構成されている。
That is, in FIG. 1, the oil stone drive mechanism 32 is
Cylinder device 33, operating rod 34, and holding arm 3
5, a sleeve portion 36, and a control device 22 that controls the operation of the cylinder device 33.

前記シリンダ装置33は研削機械のベツド基台1にアー
ム37等を介して固定されており、シリンダロッド38
と作動ロッド34の先端部はカップリング40によって
連結されている。また、作動ロッド34の基端部には伝
達アーム44の一端側がピンによって結合され、この伝
達アーム44の他’4側と保持アーム350基端部は筒
袖部36に固定されている。この筒軸部36は軸41に
嵌合され、該軸41を支点として回転自在となっている
。そして、保持アーム35の先端部にはオイルストーン
装置25の保持枠28が固定されている。
The cylinder device 33 is fixed to the bed base 1 of the grinding machine via an arm 37 and the like, and a cylinder rod 38
and the tip of the actuating rod 34 are connected by a coupling 40. Further, one end of a transmission arm 44 is connected to the base end of the actuation rod 34 by a pin, and the other end of the transmission arm 44 and the base end of a holding arm 350 are fixed to the sleeve portion 36. This cylindrical shaft portion 36 is fitted onto a shaft 41 and is rotatable about the shaft 41 as a fulcrum. A holding frame 28 of the oil stone device 25 is fixed to the tip of the holding arm 35.

本実施例の洗浄装置は上記のように構成されており、以
下、同装置を用いたポーラスチャックテーブルの洗浄方
法を同装置の作用とともに説明する。
The cleaning device of this embodiment is constructed as described above, and a method of cleaning a porous chuck table using the same device will be described below along with the operation of the device.

まず、ポーラスチャックテーブル3の表面の洗浄に際し
ては、前記第7図で説明したように、トランスファアー
ム10によって、研削完了のウェーハ7はポーラスチャ
ックテーブル3から取り除かれる。このウェーハ7の除
去後、ポーラスチャックテーブル3を回転させながらポ
ンプ24を起動して洗浄液を噴射ノズル23からテーブ
ル3の表面に向けて噴射する。
First, when cleaning the surface of the porous chuck table 3, the wafer 7 that has been ground is removed from the porous chuck table 3 by the transfer arm 10, as described in FIG. After removing the wafer 7, the pump 24 is activated while the porous chuck table 3 is rotated, and the cleaning liquid is sprayed from the spray nozzle 23 toward the surface of the table 3.

その一方で、シリンダ装置33を駆動し、第1図の状態
で、シリンダロッド38を上昇させる。このロッド38
の上昇によって筒袖部36は軸41を支点として反時計
方向に回転する。したがって、筒軸部36に基端部が固
定されている保持アーム35も反時計方向に回転し、オ
イルストーン26はポーラスチャックテーブル3の表面
に当接する。
On the other hand, the cylinder device 33 is driven to raise the cylinder rod 38 in the state shown in FIG. This rod 38
As a result of this rise, the sleeve portion 36 rotates counterclockwise about the shaft 41 as a fulcrum. Therefore, the holding arm 35 whose base end is fixed to the cylindrical shaft portion 36 also rotates counterclockwise, and the oil stone 26 comes into contact with the surface of the porous chuck table 3.

この場合、オイルストーン26はばね31の付勢力を受
け、ピン30を支点として反時計方向の回転力を受けて
いるから、基端側26bよりも先端側26aの方が前方
に傾斜して突出している。したがって、オイルストーン
26は、まず、先端側26aがポーラスチャックテーブ
ル3の表面に当接し、ひき続いてシリンダロッド38が
上昇するにつれて基端側26bに向けて徐々に当接し、
最後には第2図に示すように、オイルストーン26の研
削面が均一に前記テーブル3の表面に当接する。
In this case, since the oil stone 26 receives the biasing force of the spring 31 and the rotational force in the counterclockwise direction about the pin 30, the distal end 26a protrudes more inclined forward than the proximal end 26b. ing. Therefore, the oil stone 26 first contacts the surface of the porous chuck table 3 with its distal end 26a, and then gradually contacts the proximal end 26b as the cylinder rod 38 rises.
Finally, as shown in FIG. 2, the ground surface of the oil stone 26 comes into uniform contact with the surface of the table 3.

この当接状態でポーラスチャックテーブル3を回転駆動
すれば、第3図に示すように、ポーラス孔42に研削く
ず43が突出状態で入り込んでいても、この突出部分は
オイルストーン26によって削り取られ、その削りかす
は洗浄液によって外部へ流出される。
If the porous chuck table 3 is rotated in this contact state, as shown in FIG. The shavings are flushed out by the cleaning fluid.

このポーラスチャックテーブル3の洗浄に際し、本実施
例では、さらに、ポンプ18が起動され、加圧流体が加
圧流体供給通路17および貫通孔21を通ってポーラス
部材20の下面(底面)側に供給される。この加圧流体
はポーラス部材20の内部のポーラス孔42を伝わって
表面側に噴出する。この加圧流体の噴出によってポーラ
ス孔42内に入り込んでいる微小な研削くずは加圧流体
の噴流によって表面側に噴き出され、この噴き出された
研削くずは前記洗浄液によって外部へ流出される。
When cleaning the porous chuck table 3, in this embodiment, the pump 18 is further activated, and pressurized fluid is supplied to the lower surface (bottom surface) side of the porous member 20 through the pressurized fluid supply passage 17 and the through hole 21. be done. This pressurized fluid passes through the porous holes 42 inside the porous member 20 and is ejected to the surface side. The fine grinding debris that has entered the porous hole 42 by this jet of pressurized fluid is jetted out to the surface side by the jet of pressurized fluid, and the jetted grinding debris is flowed out to the outside by the cleaning liquid.

このように本実施例においては、加圧流体の噴き出し作
用と、オイルストーン26による研削くずの削り取り作
用と、洗浄液の流出作用とが協同し、効果的な研削くず
の除去作用が行われる。なお、加圧流体の噴き出しは、
オイルストーン26の研削前に行ってもよく、オイルス
トーン26の研削と同時に行ってもよく、オイルストー
ン26の研削の前後にかけて連続的に行ってもよい。前
記ポーラスチャックテーブル3の洗浄完了時には、シリ
ンダ装置33の進出駆動が行われ、シリンダロッド38
は下方へ移動する。したがって、保持アーム35は時計
方向に回転し、オイルストーン26の押し付は動作が解
除される。そして、オイルストーン26は元の定位置(
第1図の状態)に復帰し、次の洗浄に備えられる。
In this manner, in this embodiment, the jetting action of the pressurized fluid, the scraping action of the grinding debris by the oil stone 26, and the outflow action of the cleaning fluid cooperate to provide an effective removal action of the grinding debris. In addition, the squirting of pressurized fluid is
It may be carried out before grinding the oil stone 26, it may be carried out simultaneously with the grinding of the oil stone 26, or it may be carried out continuously before and after grinding the oil stone 26. When the cleaning of the porous chuck table 3 is completed, the cylinder device 33 is advanced and the cylinder rod 38 is moved forward.
moves downward. Therefore, the holding arm 35 rotates clockwise and the pressing operation of the oil stone 26 is released. Then, the oil stone 26 is returned to its original position (
It returns to the state shown in Figure 1) and is ready for the next cleaning.

第4図および第5図にはオイルストーン駆動機構の他の
構成例が示されている。なお、第4図および第5図の構
成例の説明において、前記第1図の構成部分と同一の部
分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。
FIGS. 4 and 5 show other configuration examples of the oil stone drive mechanism. In the description of the configuration examples shown in FIGS. 4 and 5, the same parts as those shown in FIG.

この第4回および第5回に示す装置は、前記第1図に示
す装置と同様にビン30を支点とした枠体27の回動に
よってオイルストーン26を前後方向に回動可能に構成
しているが、前記第1図の装置と異なる特徴的なところ
は、オイルストーン26の左右方向の回動と前後方向の
移動が可能に構成されていることである。
The devices shown in the fourth and fifth sections are configured so that the oil stone 26 can be rotated in the front and back direction by rotating the frame 27 with the bottle 30 as a fulcrum, similar to the device shown in FIG. However, a distinctive feature different from the device shown in FIG. 1 is that the oil stone 26 is configured to be able to rotate in the left-right direction and move in the front-back direction.

すなわち、保持アーム35の下面に箱状のシリンダ45
が固定され、このシリンダ45内にピストン46が摺動
自在に収容されており、そして、このピストン46の軸
部はシリンダ450前後両端面壁を気密にかつ摺動自在
に貫通して外に突出し、その突出先端部は保持枠28に
軸支されている。したがって、ピストン46は保持枠2
8が左右方向に回動するための回動輪として機能するこ
ととなり、シリンダロッド38の上昇によって保持アー
ム35が反時計方向に回転してオイルストーン26の先
端部26aがポーラスチャックテーブル3に接触したと
き、オイルストーン26はピン30を支点として前後方
向に回転しく詳しくは時計方向に回転し)、さらに、ピ
ストン46を支点として左右方向(図の入方向)に回転
しながらポーラスチャックテーブル30表面己こ接触し
て行く。このようにオイルストーン26の左右方向の回
転を加えることにより、オイルストーン26の底面(研
削面)はよりなじんだ状態でポーラスチャックテーブル
3の表面に接触することとなり、同テーブル3の摺擦作
用をより効果的に行うことができる。
That is, a box-shaped cylinder 45 is provided on the lower surface of the holding arm 35.
is fixed, a piston 46 is slidably housed in the cylinder 45, and the shaft portion of the piston 46 passes through both front and rear end walls of the cylinder 450 in an airtight and slidable manner and protrudes to the outside. The protruding tip portion is pivotally supported by the holding frame 28. Therefore, the piston 46 is
8 functions as a rotating wheel for rotating in the left-right direction, and as the cylinder rod 38 rises, the holding arm 35 rotates counterclockwise, and the tip 26a of the oil stone 26 contacts the porous chuck table 3. At this time, the oil stone 26 rotates back and forth (more specifically, clockwise) about the pin 30 as a fulcrum), and further rotates from side to side (direction in the figure) using the piston 46 as a fulcrum while rotating on the surface of the porous chuck table 30. Let's get in touch. By applying the horizontal rotation of the oil stone 26 in this way, the bottom surface (grinding surface) of the oil stone 26 comes into contact with the surface of the porous chuck table 3 in a more familiar state, and the sliding effect of the table 3 can be done more effectively.

また、ピストン46にオイルストーン26が枠体27と
保持枠28とを介して固定されるものであるから、例え
ば、作動孔47から作動流体をシリンダ45内に供給す
れば、その流体圧力によってピストン46は前方に摺動
し、その逆に、反対側の作動孔48から作動流体をシリ
ンダ45内に供給すれば、ピストン46は後方へ摺動す
る。すなわち、シリンダ45内に供給する作動流体の流
路を順次切り換えることにより、ピストン46は前後方
向に摺動し、このピストン46に連動してオイルストー
ン26も前後方向に移動する。
Further, since the oil stone 26 is fixed to the piston 46 via the frame body 27 and the holding frame 28, for example, if working fluid is supplied into the cylinder 45 from the working hole 47, the piston will be moved by the fluid pressure. 46 slides forward, and conversely, if working fluid is supplied into the cylinder 45 from the working hole 48 on the opposite side, the piston 46 slides backward. That is, by sequentially switching the flow path of the working fluid supplied into the cylinder 45, the piston 46 slides in the front-rear direction, and the oil stone 26 also moves in the front-rear direction in conjunction with the piston 46.

このオイルストーン26の前後移動をポーラスチャック
テーブル3との摺擦時に行えば、その摺擦作用をより効
果的に行うことができ、同テーブル3の洗浄効果は大幅
に高められる。
If the oil stone 26 is moved back and forth when it is rubbed against the porous chuck table 3, the rubbing action can be performed more effectively, and the cleaning effect of the table 3 can be greatly enhanced.

なお、本発明は上記実施例に限定されることはなく、様
々な実施の態様を採り得る。例えば、本実施例では作動
ロッド34の上下移動を保持アーム35の回転運動に変
換してオイルストーン26をポーラスチャックテーブル
3へ押圧しているが、これと異なり、作動ロッド34の
上下移動によって直接オイルストーンを同テーブル3の
表面へばね等を介して押し付けるようにしてもよい。
Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can take various embodiments. For example, in this embodiment, the vertical movement of the operating rod 34 is converted into the rotational movement of the holding arm 35 to press the oil stone 26 against the porous chuck table 3, but unlike this, the vertical movement of the operating rod 34 directly The oil stone may be pressed against the surface of the table 3 via a spring or the like.

また、第1図では、ポーラス収容基台16の凹部空間の
全域に渡ってポーラス部材20を嵌め込んでいるが、例
えば、第6図に示すように、ポーラス収容基台16の凹
部空間に同心状のセラミックス等からなる隔壁リング4
4を複数収容し、この各隔壁リング44の間の空間部に
ポーラス部材20を収容するようにしてもよい。このテ
ーブルは隔壁リング44によって形成される吸着領域が
それぞれ独立しており、この各吸引領域に対応した吸引
通路の切り換えによって吸着領域を任意に切り換えるこ
とができるように構成されており、径の異なるウェーハ
を確実に吸着保持することができる。
In addition, in FIG. 1, the porous member 20 is fitted over the entire recess space of the porous accommodation base 16, but for example, as shown in FIG. Partition ring 4 made of shaped ceramics, etc.
A plurality of partition rings 44 may be accommodated, and the porous member 20 may be accommodated in the space between the partition rings 44. This table has independent suction areas formed by the partition rings 44, and is configured so that the suction area can be arbitrarily switched by switching the suction passage corresponding to each suction area. The wafer can be reliably sucked and held.

さらに、本実施例では第7図に示されているブラシ8が
省略されているが、このブラシ8をポーラスチャックテ
ーブル3の表面側に配設し、オイルストーン26とこの
ブラシ8を併用して同テーブル3の表面洗浄を行うよう
にしてもよい。
Furthermore, although the brush 8 shown in FIG. 7 is omitted in this embodiment, this brush 8 is arranged on the surface side of the porous chuck table 3, and the oil stone 26 and this brush 8 are used together. The surface of the table 3 may also be cleaned.

さらにまた、本実施例では、テーブル摺擦部材としてオ
イルストーンを使用しているが、これに限らず、例えば
、CBN等の砥粒をレジンボンド等の適宜のボンド剤で
形成した砥石を使用してもよい。
Furthermore, in this embodiment, an oil stone is used as the table rubbing member, but the present invention is not limited to this. For example, a whetstone in which abrasive grains such as CBN are formed with a suitable bonding agent such as resin bond may be used. You can.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は以上説明したように、ポーラスチャックテーブ
ルのポーラス孔に入り込んだ微小な研削くずを加圧流体
によって表面に噴き出させ、かつ、ポーラス孔から突出
している研削くずをオイルストーンで削り取り、これら
、表面に噴き出した研削くずやオイルストーンで削り取
った削りかすを流出除去するように構成したものである
から、ポーラスチャックテーブルの表面に研削くずが突
出することなくチャックテーブルの面を平坦に洗浄でき
る。したがって、洗浄後にウェーハを吸着させたとき、
研削くずがウェーハ表面に局部的に当たってウェーハに
クランクを発生させることもない。
As explained above, the present invention uses pressurized fluid to blow out minute grinding chips that have entered the porous holes of the porous chuck table onto the surface, and scrapes off the grinding chips protruding from the porous holes with an oil stone. Since it is configured to remove the grinding debris spewed out on the surface and the shavings scraped off by the oil stone, the surface of the chuck table can be cleaned flat without any grinding debris protruding onto the surface of the porous chuck table. . Therefore, when the wafer is adsorbed after cleaning,
Grinding debris does not locally hit the wafer surface and cause the wafer to crank.

また、加圧流体によってポーラス孔に入り込む微小な研
削くずは表面側に噴き出し排除されるから、ポーラス孔
が目詰りすることもなく、ウェーハの吸着時に好適な吸
引力をウェーハに与えることができる。
In addition, since minute grinding debris that enters the porous holes are ejected by the pressurized fluid to the surface side, the porous holes are not clogged, and a suitable suction force can be applied to the wafer when the wafer is attracted.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は同実
施例の作用説明図、第3図はポーラス孔に研削くずが突
出状態で入り込んでいる状態を示す説明図、第4図はオ
イルストーン駆動機構の他の構成例を示す斜視図、第5
図は第4図のオイルストーン装置部分の断面図、第6図
はポーラスチャックテーブルの他の態様図、第7図はブ
ラシ洗浄装置を搭載した研削機械の一例を示す平面図、
第8図はかってのチャックテーブルの構成を示す断面図
である。 ■・・・ヘッド基台、2・・・ターンテーブル、3・・
・ポーラスチャックテーブル、3a、3b・・・チャッ
クテーブル、4・・・ヘッド、5・・・スピンドル、6
・・・砥石、7・・・ウェーハ、8・・・ブラシ、lO
・・・トランスファアーム、11・・・吸盤、12・・
・レール、13・・・金属基台、14・・・真空吸引孔
、15・・・通路形成基台、16・・・ポーラス収容基
台、17・・・加圧流体供給通路−、17a・・・入口
側、18・・・ポンプ、20・・・ポーラス部材、21
・・・貫通孔、22・・・制御装置、23・・・噴射ノ
ズル、24・・・ポンプ、25・・・オイルストーン装
置、26・・・オイルストーン、27・・・枠体、28
・・・保持枠、30・・・ピン、31・・・ばね、32
・・・オイルストーン駆動機構、33・・・シリンダ装
置、34・・・作動ロッド、35・・・保持アーム、3
6・・・筒軸部、37・・・アーム、38・・・シリン
ダ装置ド、4o・・・カップリング、41・・・軸、4
2・・・ポーラス孔、43・・・研削くず、44・・・
伝達アーム、45・・・シリンダ、46・・・ピストン
、47.48・・・作動孔。 $22 第3 図 第5凪 第6凪
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the same embodiment, FIG. Figure 4 is a perspective view showing another configuration example of the oil stone drive mechanism;
The figure is a sectional view of the oil stone device part shown in Figure 4, Figure 6 is a diagram of another aspect of the porous chuck table, and Figure 7 is a plan view showing an example of a grinding machine equipped with a brush cleaning device.
FIG. 8 is a sectional view showing the structure of a former chuck table. ■... Head base, 2... Turntable, 3...
・Porous chuck table, 3a, 3b... Chuck table, 4... Head, 5... Spindle, 6
... Grindstone, 7... Wafer, 8... Brush, lO
...Transfer arm, 11...Sucker, 12...
・Rail, 13... Metal base, 14... Vacuum suction hole, 15... Passage formation base, 16... Porous accommodation base, 17... Pressurized fluid supply passage, 17a. ...Inlet side, 18...Pump, 20...Porous member, 21
... Through hole, 22 ... Control device, 23 ... Injection nozzle, 24 ... Pump, 25 ... Oil stone device, 26 ... Oil stone, 27 ... Frame, 28
...Holding frame, 30...Pin, 31...Spring, 32
... Oil stone drive mechanism, 33 ... Cylinder device, 34 ... Operating rod, 35 ... Holding arm, 3
6... Cylinder shaft portion, 37... Arm, 38... Cylinder device door, 4o... Coupling, 41... Shaft, 4
2... Porous hole, 43... Grinding waste, 44...
Transmission arm, 45... cylinder, 46... piston, 47.48... operating hole. $22 Figure 3 5th calm 6th calm

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)砥石によって研削される被加工物を吸着保持する
ポーラスチャックテーブルの洗浄方法において、研削完
了後の被加工物をポーラスチャックテーブルの表面から
取り除いた後に該ポーラスチャックテーブルにおけるポ
ーラス部材の底面側から表面側に向けて加圧流体を供給
しポーラス部材の孔に入り込んだ研削くずを表面側に噴
き出させるとともに、テーブル摺擦部材をポーラスチャ
ックテーブルの表面に押し付けて摺擦し、ポーラス部材
の孔から表面に突出している研削くずを除去することを
特徴とするポーラスチャックテーブルの洗浄方法。
(1) In a method for cleaning a porous chuck table that suction holds a workpiece to be ground by a grindstone, after the workpiece after grinding is removed from the surface of the porous chuck table, the bottom surface of the porous member on the porous chuck table is Pressurized fluid is supplied toward the surface side from the porous member to blow out the grinding chips that have entered the holes of the porous member toward the surface side. At the same time, the table rubbing member is pressed against the surface of the porous chuck table to rub it against the surface of the porous member. A method for cleaning a porous chuck table characterized by removing grinding debris protruding from the hole to the surface.
(2)ポーラスチャックテーブルにおけるポーラス部材
の底面側に加圧流体を供給する加圧流体供給手段と、ポ
ーラスチャックテーブルの表面側に配置されたテーブル
摺擦部材と、このテーブル摺擦部材のポーラスチャック
テーブル表面への押圧駆動と押圧解除駆動を行う摺擦部
材駆動機構と、を有することを特徴とするポーラスチャ
ックテーブルの洗浄装置。
(2) A pressurized fluid supply means for supplying pressurized fluid to the bottom side of the porous member in the porous chuck table, a table rubbing member arranged on the front side of the porous chuck table, and a porous chuck of the table rubbing member. 1. A cleaning device for a porous chuck table, comprising: a sliding member drive mechanism that presses the table surface and drives the table surface to release the pressure.
JP63030486A 1988-02-12 1988-02-12 Cleaning method for porous chuck table and device therefor Granted JPH01205950A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63030486A JPH01205950A (en) 1988-02-12 1988-02-12 Cleaning method for porous chuck table and device therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63030486A JPH01205950A (en) 1988-02-12 1988-02-12 Cleaning method for porous chuck table and device therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01205950A true JPH01205950A (en) 1989-08-18
JPH0555267B2 JPH0555267B2 (en) 1993-08-16

Family

ID=12305164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63030486A Granted JPH01205950A (en) 1988-02-12 1988-02-12 Cleaning method for porous chuck table and device therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01205950A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003045841A (en) * 2001-08-02 2003-02-14 Disco Abrasive Syst Ltd Suction pad cleaning apparatus, and method of cleaning the pad using the apparatus
JP2003053662A (en) * 2001-08-17 2003-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd Machining distortion removing device
JP2007184412A (en) * 2006-01-06 2007-07-19 Sumco Techxiv株式会社 Cleaning method of chuck table of grinding apparatus
JP2009111037A (en) * 2007-10-29 2009-05-21 Komatsu Machinery Corp Chuck table cleaning device
JP2009160700A (en) * 2008-01-08 2009-07-23 Disco Abrasive Syst Ltd Polishing device
JP2015054362A (en) * 2013-09-10 2015-03-23 株式会社ディスコ Foreign matter removal tool and method
JP2017140663A (en) * 2016-02-09 2017-08-17 株式会社ディスコ Grinding device
JP2018078208A (en) * 2016-11-10 2018-05-17 株式会社ディスコ Chuck table
JP2019040945A (en) * 2017-08-23 2019-03-14 株式会社Sumco Washing station of chuck table and grinding device including washing station
JP2020146790A (en) * 2019-03-12 2020-09-17 株式会社東京精密 Washing method and device of wafer chuck
US20220305612A1 (en) * 2021-03-29 2022-09-29 Disco Corporation Polishing apparatus

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021111717A (en) * 2020-01-14 2021-08-02 株式会社ディスコ Processing device and washing method for communication pipe

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56152562A (en) * 1980-04-24 1981-11-26 Fujitsu Ltd Grinder
JPS59196163A (en) * 1983-04-05 1984-11-07 Kanetsuu Kogyo Kk Automatic chuck cleaner
JPH01171762A (en) * 1987-12-28 1989-07-06 Shibayama Kikai Kk Suction chuck cleaning device for semiconductor wafer grinding machine

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56152562A (en) * 1980-04-24 1981-11-26 Fujitsu Ltd Grinder
JPS59196163A (en) * 1983-04-05 1984-11-07 Kanetsuu Kogyo Kk Automatic chuck cleaner
JPH01171762A (en) * 1987-12-28 1989-07-06 Shibayama Kikai Kk Suction chuck cleaning device for semiconductor wafer grinding machine

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003045841A (en) * 2001-08-02 2003-02-14 Disco Abrasive Syst Ltd Suction pad cleaning apparatus, and method of cleaning the pad using the apparatus
JP2003053662A (en) * 2001-08-17 2003-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd Machining distortion removing device
JP4617028B2 (en) * 2001-08-17 2011-01-19 株式会社ディスコ Processing strain remover
JP2007184412A (en) * 2006-01-06 2007-07-19 Sumco Techxiv株式会社 Cleaning method of chuck table of grinding apparatus
JP2009111037A (en) * 2007-10-29 2009-05-21 Komatsu Machinery Corp Chuck table cleaning device
JP2009160700A (en) * 2008-01-08 2009-07-23 Disco Abrasive Syst Ltd Polishing device
JP2015054362A (en) * 2013-09-10 2015-03-23 株式会社ディスコ Foreign matter removal tool and method
JP2017140663A (en) * 2016-02-09 2017-08-17 株式会社ディスコ Grinding device
JP2018078208A (en) * 2016-11-10 2018-05-17 株式会社ディスコ Chuck table
JP2019040945A (en) * 2017-08-23 2019-03-14 株式会社Sumco Washing station of chuck table and grinding device including washing station
TWI730240B (en) * 2017-08-23 2021-06-11 日商Sumco股份有限公司 A cleaning device of a chuck-table and a grinding device having the cleaning device
JP2020146790A (en) * 2019-03-12 2020-09-17 株式会社東京精密 Washing method and device of wafer chuck
US20220305612A1 (en) * 2021-03-29 2022-09-29 Disco Corporation Polishing apparatus
US11858088B2 (en) * 2021-03-29 2024-01-02 Disco Corporation Polishing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0555267B2 (en) 1993-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5405887B2 (en) Polishing apparatus and polishing method
US6283840B1 (en) Cleaning and slurry distribution system assembly for use in chemical mechanical polishing apparatus
KR100789358B1 (en) Method and apparatus for cleaning polishing surface of polisher
JP3797861B2 (en) Polishing device
JPH01205950A (en) Cleaning method for porous chuck table and device therefor
US6953390B2 (en) Polishing apparatus
JP2002043267A (en) Substrate cleaning apparatus, method and substrate processing apparatus
JPH0929619A (en) Polishing device
JP4387557B2 (en) Method and apparatus for cleaning a chuck table in a grinding apparatus
JP4412192B2 (en) Polishing pad dressing method
TW202207299A (en) Dressing apparatus and polishing apparatus
JP4672924B2 (en) Suction pad cleaning apparatus and suction pad cleaning method using the same
JP2002079461A (en) Polishing device
JP2000254855A (en) Conditioning apparatus and method of abrasive pad
JPH10256199A (en) Cleaning system for chucking surface
JPH10244458A (en) Grinding pad dressing device
JP2006159317A (en) Dressing method of grinding pad
JP3475004B2 (en) Polishing equipment
JP4705387B2 (en) Semiconductor substrate delivery method and transfer device used therefor
JPH10235549A (en) Dressing device for grinding pad
JP2002355759A (en) Wafer polishing device
KR100837534B1 (en) Dispenser cleaning apparatus
JPH05305560A (en) Precision grinding device and precision grinding method
JP4642183B2 (en) Wafer polishing equipment
JP7161411B2 (en) drying mechanism

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080816

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080816

Year of fee payment: 15