JPH01203428A - 珪素原子に直接的に結合されたハロゲンを含有するポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロゲン含量を低下させる方法、炭化珪素、セラミツク材料、ＳｉＣ含有繊維及びＳｉＣ含有セラミツク保護層の製法並びに結合剤 - Google Patents
珪素原子に直接的に結合されたハロゲンを含有するポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロゲン含量を低下させる方法、炭化珪素、セラミツク材料、ＳｉＣ含有繊維及びＳｉＣ含有セラミツク保護層の製法並びに結合剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、珪素原子に直接的に結合されたハロゲンを含
有するポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロゲ
ン含量を低下させる方法、炭化珪素、セラミック材料、
ＳｉＣ含有繊維及びＳｉＣ含有セラミック保護層の製法
並びに結合剤に関する。
有するポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロゲ
ン含量を低下させる方法、炭化珪素、セラミック材料、
ＳｉＣ含有繊維及びＳｉＣ含有セラミック保護層の製法
並びに結合剤に関する。
従来の技術
ポリシラン及びポリカルボシランは、炭化珪素を製造す
るだめの貴重な中間体である。ポリシランは、例えばオ
ルガノクロルジシランからテトラアルキルホスホニウム
ハロゲン化物又はテトラアルキルアンモニウムハロゲン
化物から製造可能である（米国特許第４２９８５５８号
明細書、英国特許第２０２４７８９号明細書）にの製造
法によれば、前記重合体は著しい量の珪素原子に結合し
た塩素を含有する。該重合体を更に加工して炭化珪素に
する際にはハロゲン含有ガスの発生を阻止するために、
このハロゲン含量を低下させねばならない。バーネイ（
Ｒ，Ｈ，Ｂａｎｅｙ）他著、”Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ
ｌｉｃｓ １９８３（２）、８５９〜８６４”には、ハ
ロゲン含有ポリカルボシラン及びポリシランとグリニヤ
ール試薬、アルコール、リチウムアラナートもしくは第
一級アミンと反応させることが記載されている。バーネ
イは、更にポリハロシランとへキサメチレンジシランと
の、溶剤としての強酸及びトルエンの存在下での反応を
も開示した（米国特許第４３１０４８１号明細書、発行
日１９８２年１万１２日、ＤｏＷＣｏｒｎｉｎｇ Ｃｏ
ｒｐｏｒａｔｉｏｎ）。
るだめの貴重な中間体である。ポリシランは、例えばオ
ルガノクロルジシランからテトラアルキルホスホニウム
ハロゲン化物又はテトラアルキルアンモニウムハロゲン
化物から製造可能である（米国特許第４２９８５５８号
明細書、英国特許第２０２４７８９号明細書）にの製造
法によれば、前記重合体は著しい量の珪素原子に結合し
た塩素を含有する。該重合体を更に加工して炭化珪素に
する際にはハロゲン含有ガスの発生を阻止するために、
このハロゲン含量を低下させねばならない。バーネイ（
Ｒ，Ｈ，Ｂａｎｅｙ）他著、”Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ
ｌｉｃｓ １９８３（２）、８５９〜８６４”には、ハ
ロゲン含有ポリカルボシラン及びポリシランとグリニヤ
ール試薬、アルコール、リチウムアラナートもしくは第
一級アミンと反応させることが記載されている。バーネ
イは、更にポリハロシランとへキサメチレンジシランと
の、溶剤としての強酸及びトルエンの存在下での反応を
も開示した（米国特許第４３１０４８１号明細書、発行
日１９８２年１万１２日、ＤｏＷＣｏｒｎｉｎｇ Ｃｏ
ｒｐｏｒａｔｉｏｎ）。
発明が解決しようとする課題
本発明の課題は、使用装置が簡単であり、しかも廉価で
ありかったいした安全対策を講じることなく取り扱うこ
とができる試薬を使用して実施することができ、並びに
好ましくない生成物及び過剰の試薬を当該反応の後に簡
単に除去することができる、ハロゲン含有ポリシラン及
びポリカルボシランのハロゲン含量を低下させる方法を
提供することであった。
ありかったいした安全対策を講じることなく取り扱うこ
とができる試薬を使用して実施することができ、並びに
好ましくない生成物及び過剰の試薬を当該反応の後に簡
単に除去することができる、ハロゲン含有ポリシラン及
びポリカルボシランのハロゲン含量を低下させる方法を
提供することであった。
課題を解決するための手段
前記課題は、本発明により、前記ポリシラン及び／又は
ポリカルボシランを一般式：％式％ ［式中、Ｒは相互に無関係に水素原子、１−１０個の炭
素原子を有するアルキル基、ビニル基、アリル基又はフ
ェニル基を表す］で示される化合物と接触させることに
より解決することができる。
ポリカルボシランを一般式：％式％ ［式中、Ｒは相互に無関係に水素原子、１−１０個の炭
素原子を有するアルキル基、ビニル基、アリル基又はフ
ェニル基を表す］で示される化合物と接触させることに
より解決することができる。
一般式：Ｒ３５ｉＯＨで示される化合物は、自体公知方
法に基づきかつ例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第
１９５１８１９号明細書に記載に基づき製造される。
法に基づきかつ例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第
１９５１８１９号明細書に記載に基づき製造される。
一般式：Ｒ３５ｉＯＨで示される化合物の例は、トリメ
チルシラノール、トリエチルシラノール、トリプロピル
シラノール、トリブチルシラノール、゛トリフェニルシ
ラノール、ジメチルビニルシラノール、ジメチルプロペ
ニルシラノール、ジメチルフェニルシラノール及びジフ
ェニルメチルシラノールである。
チルシラノール、トリエチルシラノール、トリプロピル
シラノール、トリブチルシラノール、゛トリフェニルシ
ラノール、ジメチルビニルシラノール、ジメチルプロペ
ニルシラノール、ジメチルフェニルシラノール及びジフ
ェニルメチルシラノールである。
本発明に基づき使用−さる有利な化合物は、トリエチル
シラノール及びジメチルビニルシラノールである。
シラノール及びジメチルビニルシラノールである。
珪素原子に直接的に結合されたハロゲン原子を含有する
ポリシランは、例えば冒頭に引用した文献から公知であ
る。これらは式： ％式％（） の単位から構成されており、但し上記式中、Ｒ１は同じ
か又は異なったハロゲン原子及び／又は１〜１８個の炭
素原子を有する炭化水素基、特に塩素原子及び／又はメ
チル基を表し、ｎはＯ，１，２又は３の数値の整数であ
る、かつ該単位は５ｉ−Ｓｉ結合を介して相互に結合さ
れている。
ポリシランは、例えば冒頭に引用した文献から公知であ
る。これらは式： ％式％（） の単位から構成されており、但し上記式中、Ｒ１は同じ
か又は異なったハロゲン原子及び／又は１〜１８個の炭
素原子を有する炭化水素基、特に塩素原子及び／又はメ
チル基を表し、ｎはＯ，１，２又は３の数値の整数であ
る、かつ該単位は５ｉ−Ｓｉ結合を介して相互に結合さ
れている。
珪素原子に直接的に結合されたハロゲン原子を含有する
ポリカルボシランも同様に公知テする、その製法は、例
えばノール（Ｗ、 Ｍａｉｌ）著、“Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ５ｉｌｉｃ
ｏｎｅｓ −Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、 ０ｒｌ
ａｎｄｏ、 １９６８． ｐ、３５６”３６４に記載
されている。これらは式； ％式％（） の単位から構成されており、但しその際上記式中、Ｒ１
及びｎは式（Ｉ）に関して定義した前記のものを表し、
かつ Ｒ２は１−１８個の炭素原子を有する２価の炭化水素基
、特にフェニル基、及び式：％式％） ［上記式中、・ｍは１〜８の整数を表す］で示される基
を表す。
ポリカルボシランも同様に公知テする、その製法は、例
えばノール（Ｗ、 Ｍａｉｌ）著、“Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ５ｉｌｉｃ
ｏｎｅｓ −Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、 ０ｒｌ
ａｎｄｏ、 １９６８． ｐ、３５６”３６４に記載
されている。これらは式； ％式％（） の単位から構成されており、但しその際上記式中、Ｒ１
及びｎは式（Ｉ）に関して定義した前記のものを表し、
かつ Ｒ２は１−１８個の炭素原子を有する２価の炭化水素基
、特にフェニル基、及び式：％式％） ［上記式中、・ｍは１〜８の整数を表す］で示される基
を表す。
このようなポリカルボシランは、特にジメチルジクロル
シランと１．６−ジクロルヘキサンとの反応により入手
される（前記文献、ｐ、３７５参照）。
シランと１．６−ジクロルヘキサンとの反応により入手
される（前記文献、ｐ、３７５参照）。
本発明による方法は、勿論珪素原子に直接的に接続され
たハロゲン原子を含有する全ての重合体に適用すること
ができる。そのような重合体は、例えばアルキルクロル
シランを４００〜７００℃で熱分解することにより又は
ＨＳ １ｃＩ２３．５ｉ（ｊ２４又はＳ ｉ ２Ｃ４６
を１０００〜１３００°Ｃに加熱した珪素上に導入する
ことにより製造することができる。 ′ 冒頭及び請求項１記載の用語“ポリシラン及び／又はポ
リカルボシラン”は、又分子中に式（Ｉ）の単位並びに
文武（ｎ）の単位を支持するような重合体であると理解
されるべきである。そのようなものは、ポリシランの混
合物、ポリカルボシランの混合物、並びに少なくとも１
種のポリシランと少なくとも１種のポリカルボシランと
の混合物が上記用語に数えられる。
たハロゲン原子を含有する全ての重合体に適用すること
ができる。そのような重合体は、例えばアルキルクロル
シランを４００〜７００℃で熱分解することにより又は
ＨＳ １ｃＩ２３．５ｉ（ｊ２４又はＳ ｉ ２Ｃ４６
を１０００〜１３００°Ｃに加熱した珪素上に導入する
ことにより製造することができる。 ′ 冒頭及び請求項１記載の用語“ポリシラン及び／又はポ
リカルボシラン”は、又分子中に式（Ｉ）の単位並びに
文武（ｎ）の単位を支持するような重合体であると理解
されるべきである。そのようなものは、ポリシランの混
合物、ポリカルボシランの混合物、並びに少なくとも１
種のポリシランと少なくとも１種のポリカルボシランと
の混合物が上記用語に数えられる。
本発明による方法が基礎とする化学反応は、以下の反応
式に基づいて進行する： 重合体Ｘ ＋ Ｒ３５ｉＯＨ−重合体０ＳｉＲ３＋ＨＣ
ｆｆ上記式中、Ｘは直接的に珪素原子に結合したハロゲ
ン原子、有利には塩素原子を表す。
式に基づいて進行する： 重合体Ｘ ＋ Ｒ３５ｉＯＨ−重合体０ＳｉＲ３＋ＨＣ
ｆｆ上記式中、Ｘは直接的に珪素原子に結合したハロゲ
ン原子、有利には塩素原子を表す。
本発明による方法は、２０〜３００℃、特に５０〜２０
０℃の温度で実施するのが有利である。
０℃の温度で実施するのが有利である。
前記反応は、周囲の大気圧、即ち０．１０２Ｍｐａ（絶
対）又は約０ 、 Ｉ Ｏ，２Ｍｐａ（絶対）の圧力で
実施することができるが、しかし又より高いか又は低い
圧力で実施することもできる。０゜Ｏ１〜２Ｍｐａ（絶
対）の圧力が有利である。
対）又は約０ 、 Ｉ Ｏ，２Ｍｐａ（絶対）の圧力で
実施することができるが、しかし又より高いか又は低い
圧力で実施することもできる。０゜Ｏ１〜２Ｍｐａ（絶
対）の圧力が有利である。
反応時間は、有利には ０．１〜ＩＯ時間、特に１〜５
時間である。
時間である。
本発明による方法は、不活性溶剤を添加して実施するこ
とができる。このような溶剤の例は、芳香族化合物及び
置換された芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン；
脂肪族炭化水素及びそれらの混合物、例えばｎ−オクタ
ン、ｎ−デカン、オクタン異性体混合物、種々の沸点範
囲の石油エーテル及びそれらに類似のものである。その
他の例は、エーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ＴＨＦ又は
ジオキサンである。
とができる。このような溶剤の例は、芳香族化合物及び
置換された芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン；
脂肪族炭化水素及びそれらの混合物、例えばｎ−オクタ
ン、ｎ−デカン、オクタン異性体混合物、種々の沸点範
囲の石油エーテル及びそれらに類似のものである。その
他の例は、エーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ＴＨＦ又は
ジオキサンである。
本発明による方法は、塩基の存在下に、特に塩基性窒素
を含有する化合物の存在下に実施するのが有利である。
を含有する化合物の存在下に実施するのが有利である。
塩基は有利には過剰で又は除去すべき塩素に対して等量
に対して等モル量で使用する。
に対して等モル量で使用する。
塩基性窒素を含有する化合物の例は、第一級、第二級及
び第三級ア′ミン、尿素、複素環式化合物例えばピリジ
ン、ピロール、ピロリジン、イミダゾール、キノリン、
キナゾリン、キノキサリン、ｓ−）リアジン、１．２．
４−）リアールである。
び第三級ア′ミン、尿素、複素環式化合物例えばピリジ
ン、ピロール、ピロリジン、イミダゾール、キノリン、
キナゾリン、キノキサリン、ｓ−）リアジン、１．２．
４−）リアールである。
特に、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ
−ブチルアミン、ピリジン、ピコリン、コリジン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン１．
４−ジアザビシクロ（２，２，２）シラン及び１．８−
ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセ−７−エンが使
−用される。
−ブチルアミン、ピリジン、ピコリン、コリジン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン１．
４−ジアザビシクロ（２，２，２）シラン及び１．８−
ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセ−７−エンが使
−用される。
本発明に基づき製造されるポリシラン及び／又はポリカ
ルボシランは、自体公知方法に基づきＳｉＣ，例えばＳ
ｉＣ含有セラミック材料、ＳｉＣ繊維又はＳｉＣ含有セ
ラミック保護層を製造するために使用される。このよう
な方法の概要は、ウェスト（Ｒ，Ｗｅｓｔ）著、“Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ ３００．３２７＝３４６（１９８６）
”に記載されている。この場合には、本発明に基づき得
られたポリシラン及び／又はポリカルボシランは不活性
雰囲気内で又は真空中で７００〜１３００°Ｃの温度で
熱分解する。
ルボシランは、自体公知方法に基づきＳｉＣ，例えばＳ
ｉＣ含有セラミック材料、ＳｉＣ繊維又はＳｉＣ含有セ
ラミック保護層を製造するために使用される。このよう
な方法の概要は、ウェスト（Ｒ，Ｗｅｓｔ）著、“Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ ３００．３２７＝３４６（１９８６）
”に記載されている。この場合には、本発明に基づき得
られたポリシラン及び／又はポリカルボシランは不活性
雰囲気内で又は真空中で７００〜１３００°Ｃの温度で
熱分解する。
更に、本発明に基づき製造されたポリシラン及び／又は
ポリカルボシランは、例えばＳｉＣ、Ｓ ｉ３Ｎ４．
Ｂ４Ｃ，ＢＮ、 Ｔ ｉ Ｃ，Ｔ ｉ Ｎの焼結の際に
結合剤として使用される。
ポリカルボシランは、例えばＳｉＣ、Ｓ ｉ３Ｎ４．
Ｂ４Ｃ，ＢＮ、 Ｔ ｉ Ｃ，Ｔ ｉ Ｎの焼結の際に
結合剤として使用される。
実施例
以下の実施例は、他にことわりのないかぎり、Ｏ，ｌＯ
ＭＰａ（絶対）の圧力で実施した。温度は、他にことわ
りのないかぎり、２０℃であった。パーセンテージは、
その都度のポリシランもしくはポリカルボシランの重量
に基づく。
ＭＰａ（絶対）の圧力で実施した。温度は、他にことわ
りのないかぎり、２０℃であった。パーセンテージは、
その都度のポリシランもしくはポリカルボシランの重量
に基づく。
例１
メチルクロルシランのロフー（Ｒｏｃｈｏｖ）合成（７
）際に副生成物として生成したジシランフラクション２
００ｇにテトラブチルアンモニウムプロミド４ｇを加え
かつ５時間以内で２５０℃の搭底部温度に加熱した、そ
の際揮発性メチルクロルシランは留去された。冷却後に
、Ｓｉ結合した塩素３５重量％を含有するポリシラン樹
脂３７ｇが得られた。その３０ｇを、引続きトルエン１
５０ｍＱ及びピリジン５１ｍ＜２から成る混合物に溶か
しかつ還流加熱した。３０分間以内で、ビニルジメチル
シラノール３６ｇ（４２，５ｍｌを滴加し、尚還流で１
時間加熱しかつ最後に形成された塩酸塩沈澱物を濾別し
た。該濾液を濃縮して、脆弱な固体の重合体１６．９９
が得られ、該重合体は部分的にトルエン、Ｔ）ＩＦ。
）際に副生成物として生成したジシランフラクション２
００ｇにテトラブチルアンモニウムプロミド４ｇを加え
かつ５時間以内で２５０℃の搭底部温度に加熱した、そ
の際揮発性メチルクロルシランは留去された。冷却後に
、Ｓｉ結合した塩素３５重量％を含有するポリシラン樹
脂３７ｇが得られた。その３０ｇを、引続きトルエン１
５０ｍＱ及びピリジン５１ｍ＜２から成る混合物に溶か
しかつ還流加熱した。３０分間以内で、ビニルジメチル
シラノール３６ｇ（４２，５ｍｌを滴加し、尚還流で１
時間加熱しかつ最後に形成された塩酸塩沈澱物を濾別し
た。該濾液を濃縮して、脆弱な固体の重合体１６．９９
が得られ、該重合体は部分的にトルエン、Ｔ）ＩＦ。
ｃｃ１２４ 、 ＣＨＣＭ３中に可溶性であった。塩素
含量は、１６０％であった。
含量は、１６０％であった。
例２
その有機基がメチル基である、Ｓｉ結合した塩素３５重
量％を含有するポリシラン樹脂３０９をトルエン１３０
ｍＱ及びピリジン ４０．５ｍｆｆ中で還流下に加熱し
た。引続き、トリメチルシラノール３９．５ｍｆｆを緩
慢に滴加した。尚１時間還流下に加熱しかつ形成された
塩酸塩沈澱物を濾別した。溶剤を除去した後に、固体の
、透明な、全黄色の重合体２７９が得られ、該重合体を
１１５°Ｃで溶融し、トルエン、テトラヒドロフラン、
ＣＨ２ｃａ２ 、ＣＨＣｌ４及びＣＨＣｌ２ａ中に可溶
でありかつ塩素含量 １．８％を有していた。
量％を含有するポリシラン樹脂３０９をトルエン１３０
ｍＱ及びピリジン ４０．５ｍｆｆ中で還流下に加熱し
た。引続き、トリメチルシラノール３９．５ｍｆｆを緩
慢に滴加した。尚１時間還流下に加熱しかつ形成された
塩酸塩沈澱物を濾別した。溶剤を除去した後に、固体の
、透明な、全黄色の重合体２７９が得られ、該重合体を
１１５°Ｃで溶融し、トルエン、テトラヒドロフラン、
ＣＨ２ｃａ２ 、ＣＨＣｌ４及びＣＨＣｌ２ａ中に可溶
でありかつ塩素含量 １．８％を有していた。
例３
その有機基がメチル基である、Ｓｉ結合した塩素３５重
量％を含有するポリシラン樹脂３０ζをトルエン１３０
ｍ（２中に溶かしかつピリジン４、０ ｍＱを加えた。
量％を含有するポリシラン樹脂３０ζをトルエン１３０
ｍ（２中に溶かしかつピリジン４、０ ｍＱを加えた。
還流煮沸下に、トルエン１５０ ｍＱ中のトリフェニル
シラノール９６．７ｇを滴加した。１時間還流煮沸した
後に、濾別しかっ濾液を濃縮した。黄色の固体８３９が
得られ、該固体物質はトルエン、ＴＨＦＳＣＣα４、ｃ
Ｈｃａ３、ＣＨ２ｃＱ２中に可溶であった。
シラノール９６．７ｇを滴加した。１時間還流煮沸した
後に、濾別しかっ濾液を濃縮した。黄色の固体８３９が
得られ、該固体物質はトルエン、ＴＨＦＳＣＣα４、ｃ
Ｈｃａ３、ＣＨ２ｃＱ２中に可溶であった。
塩素含量：＜０．５％
例４
ＨＳ ｉ （ｊ２ａを１１００°Ｃで熱分解することに
より製造した重合体の（Ｓ ４０Ｍ２）ｘ ２５９をト
ルエン２００ｍＱ中に溶かした。ピリジン４０９（４１
ｍＱ）を添加した後に、該混合物を還流に加熱しかつ１
時間以内゛でトリメチルシラノール４５ｇ（５６，２ｍ
Ｑ）を滴加した。２時間還流煮沸した後に、濾別しかつ
濾液を濃縮した。黄色の、可溶性固体物質４１９が得ら
れ、該物質は７５℃の融点を有していた。
より製造した重合体の（Ｓ ４０Ｍ２）ｘ ２５９をト
ルエン２００ｍＱ中に溶かした。ピリジン４０９（４１
ｍＱ）を添加した後に、該混合物を還流に加熱しかつ１
時間以内゛でトリメチルシラノール４５ｇ（５６，２ｍ
Ｑ）を滴加した。２時間還流煮沸した後に、濾別しかつ
濾液を濃縮した。黄色の、可溶性固体物質４１９が得ら
れ、該物質は７５℃の融点を有していた。
例５
トルエン２５ＯｍＱ中のＨ２Ｓ ｉ Ｃ０２２５ｇの溶
液を、ジアセチルアセトン酸白金 ２．５＋１９の存在
下にアセチレンと５０℃で反応させた。アセチレンを５
時間導入した後に、該ガス流を停止しかつピリジン４０
ｇ（４１ｍ１２）を加えた。３０分間で、トリメチル
シラノール４５９ （５６，２ｍ１２）を加えかつ尚２
時間還流に加熱した。次いで、濾別しかつ濾液を濃縮し
た。油状の、部分的に結晶質を含んだ物質５４９が得ら
れ、該物質は有機溶剤中に可溶性でありかつ塩素含量２
．１％を有していた。
液を、ジアセチルアセトン酸白金 ２．５＋１９の存在
下にアセチレンと５０℃で反応させた。アセチレンを５
時間導入した後に、該ガス流を停止しかつピリジン４０
ｇ（４１ｍ１２）を加えた。３０分間で、トリメチル
シラノール４５９ （５６，２ｍ１２）を加えかつ尚２
時間還流に加熱した。次いで、濾別しかつ濾液を濃縮し
た。油状の、部分的に結晶質を含んだ物質５４９が得ら
れ、該物質は有機溶剤中に可溶性でありかつ塩素含量２
．１％を有していた。
例６
例１〜５で得られた重合体を、流動するアルゴン中で１
０００℃で１時間以内でＳｉＣに熱分解した。以下の表
には、それぞれのセラミックの収率を示す。
０００℃で１時間以内でＳｉＣに熱分解した。以下の表
には、それぞれのセラミックの収率を示す。
表：
Claims (9)
- １．珪素原子に直接的に結合されたハロゲンを含有する
ポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロゲン含量
を低下させる方法において、前記ポリシラン及び／又は
ポリカルボシランを一般式： Ｒ＿３ＳｉＯＨ ［式中、Ｒは相互に無関係に水素原子、１〜１０個の炭
素原子を有するアルキル基、ビニル基、アリル基又はフ
ェニル基を表す］で示される化合物と接触させることを
特徴とする、珪素原子に直接的に結合されたハロゲンを
含有するポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロ
ゲン含量を低下させる方法。 - ２．２０〜３００℃の温度で実施する請求項１記載の方
法。 - ３．塩基の存在下に実施する請求項１又は２記載の方法
。 - ４．塩基性窒素を含有する化合物の存在下に実施する請
求項１から３までのいずれか１項記載の方法。 - ５．請求項１から４までのいずれか１項記載に基づいて
製造したポリシラン及び／又はポリカルボシランを使用
することを特徴とする、炭化珪素の製法。 - ６．請求項１から４までのいずれか１項記載に基づいて
製造したポリシラン及び／又はポリカルボシランを使用
することを特徴とする、Ｓｉ結合したセラミック材料の
製法。 - ７．請求項１から４までのいずれか１項記載に基づいて
製造したポリシラン及び／又はポリカルボシランを使用
することを特徴とする、ＳｉＣ含有繊維の製法。 - ８．請求項１から４までのいずれか１項記載に基づいて
製造したポリシラン及び／又はポリカルボシランを使用
することを特徴とする、ＳｉＣ含有セラミック保護層の
製法。 - ９．請求項１から４までのいずれか１項記載に基づいて
製造したポリシラン及び／又はポリカルボシランから成
ることを特徴とする、焼結用結合剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3743595.7 | 1987-12-22 | ||
| DE19873743595 DE3743595A1 (de) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | Verfahren zur verringerung des halogengehaltes von halogenhaltigen polycarbosilanen und polysilanen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01203428A true JPH01203428A (ja) | 1989-08-16 |
Family
ID=6343304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63320792A Pending JPH01203428A (ja) | 1987-12-22 | 1988-12-21 | 珪素原子に直接的に結合されたハロゲンを含有するポリカルボシラン及び／又はポリシランのハロゲン含量を低下させる方法、炭化珪素、セラミツク材料、ＳｉＣ含有繊維及びＳｉＣ含有セラミツク保護層の製法並びに結合剤 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0329851A3 (ja) |
| JP (1) | JPH01203428A (ja) |
| DE (1) | DE3743595A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990007540A1 (en) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Canon Kabushiki Kaisha | New polysilane compound and electrophotographic photoreceptor produced therefrom |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4039519A1 (de) * | 1989-12-11 | 1991-06-13 | Canon Kk | Sperrschicht-photoelement mit einer aus einer polysilanverbindung gebildeten organischen halbleiterschicht |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2862117D1 (en) * | 1977-08-22 | 1983-01-13 | Ici Plc | Ammonia production process |
| US4310481A (en) * | 1980-07-23 | 1982-01-12 | Dow Corning Corporation | High yield silicon carbide pre-ceramic polymers |
-
1987
- 1987-12-22 DE DE19873743595 patent/DE3743595A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-12-21 JP JP63320792A patent/JPH01203428A/ja active Pending
- 1988-12-22 EP EP19880121491 patent/EP0329851A3/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990007540A1 (en) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Canon Kabushiki Kaisha | New polysilane compound and electrophotographic photoreceptor produced therefrom |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0329851A2 (de) | 1989-08-30 |
| DE3743595A1 (de) | 1989-07-13 |
| EP0329851A3 (de) | 1990-10-17 |
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