JPH01201021A - 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス - Google Patents
熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラスInfo
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- JPH01201021A JPH01201021A JP2472288A JP2472288A JPH01201021A JP H01201021 A JPH01201021 A JP H01201021A JP 2472288 A JP2472288 A JP 2472288A JP 2472288 A JP2472288 A JP 2472288A JP H01201021 A JPH01201021 A JP H01201021A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
良束上夏机反立夏
本発明は、建築物や自動車の窓等に適用される熱線遮蔽
ガラス（ここで、ガラスは、ガラス材にて形成されてい
るもの、透明プラスチック材にて形成されているもの、
更に両者の複合体よりなるものを含む広義の意味で用い
る）の製造に好適に用いられる熱線遮蔽材料及び熱線遮
蔽ガラスに関する。
ガラス（ここで、ガラスは、ガラス材にて形成されてい
るもの、透明プラスチック材にて形成されているもの、
更に両者の複合体よりなるものを含む広義の意味で用い
る）の製造に好適に用いられる熱線遮蔽材料及び熱線遮
蔽ガラスに関する。
従来の技術及び ＩＩが解 しようとするＵ最近におい
て、エネルギー節約等の見地から建築物や自動車の窓に
熱線遮蔽ガラスを使用することが要求されているが、こ
のような熱線遮蔽ガラスの製造には、可視光はよく透過
させる一方、近赤外から中・遠赤外線（熱線）を効果的
に遮蔽する材料が必要である。
て、エネルギー節約等の見地から建築物や自動車の窓に
熱線遮蔽ガラスを使用することが要求されているが、こ
のような熱線遮蔽ガラスの製造には、可視光はよく透過
させる一方、近赤外から中・遠赤外線（熱線）を効果的
に遮蔽する材料が必要である。
従来、透過率の急峻な変化を実現させるものとしては、
精密多層膜による干渉法が知られているが、これは主に
精密光学機器等に適用されるものであり、今考えている
建築物、自動車の窓用等の大面積のものに低コストで適
用するのは難しい。
精密多層膜による干渉法が知られているが、これは主に
精密光学機器等に適用されるものであり、今考えている
建築物、自動車の窓用等の大面積のものに低コストで適
用するのは難しい。
このため、このような用途に使用される熱線遮蔽ガラス
としては、ガラス材や透明プラスチック材の表面に銀等
の金属薄層（数百人）を形成することが行なわれている
。しかし、この種の金属薄層を形成したガラスは、熱線
遮蔽効果は大きいものの、同時に可視光の透過も妨げて
しまい、金属薄層を形成した面が鏡面のように光って見
え、このためこれをビルの窓などに使用するとビル全体
がまぶしく光ってしまうというようなある種の公害を引
き起こす。
としては、ガラス材や透明プラスチック材の表面に銀等
の金属薄層（数百人）を形成することが行なわれている
。しかし、この種の金属薄層を形成したガラスは、熱線
遮蔽効果は大きいものの、同時に可視光の透過も妨げて
しまい、金属薄層を形成した面が鏡面のように光って見
え、このためこれをビルの窓などに使用するとビル全体
がまぶしく光ってしまうというようなある種の公害を引
き起こす。
これに対し、このような金属薄膜と異なり、可視光域の
高透過率を維持しつつ熱線遮蔽効果が期待されるものと
しては透明導電膜があり、代表的なものとして５ｎｏ２
やインジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）が知られて
いる。しかし、ＳｎＯ２は抵抗率が高く（〜１０−３Ω
・ｃｍ）、即ち導電性が小さく、ＩＴＯは高価である等
の問題があり、このため５ｎｏ２やＩＴＯに代わる透明
導電膜として最近酸化亜鉛（ＺｎＯ）が注目されている
。
高透過率を維持しつつ熱線遮蔽効果が期待されるものと
しては透明導電膜があり、代表的なものとして５ｎｏ２
やインジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）が知られて
いる。しかし、ＳｎＯ２は抵抗率が高く（〜１０−３Ω
・ｃｍ）、即ち導電性が小さく、ＩＴＯは高価である等
の問題があり、このため５ｎｏ２やＩＴＯに代わる透明
導電膜として最近酸化亜鉛（ＺｎＯ）が注目されている
。
また、従来よりＺｎＯにＡＱ等を添加した透明導電性膜
も知られている〔文献Ａ「ジャパニーズ・ジャーナル・
オブ・アプライド・フィジックス（Ｊｐｎ、Ｊ 、Ａ
ｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、Ｌｅｔｔ、）２ ４ （１９８５
）Ｌ７８１に文献Ｂ「マグネトロンスパッタ法によるＺ
ｎＯ透明導電性膜の作成」（電気通信学会ＣＰＭ８４−
８）；文献Ｃ「シン・ソリド・フィルムス（Ｔｈｉｎ
５ｏｌｉｄ Ｆｉｌ＋＊ｓ）１２４（１９８５）４３」
：特開昭６１−９６６０９号公報など〕。
も知られている〔文献Ａ「ジャパニーズ・ジャーナル・
オブ・アプライド・フィジックス（Ｊｐｎ、Ｊ 、Ａ
ｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、Ｌｅｔｔ、）２ ４ （１９８５
）Ｌ７８１に文献Ｂ「マグネトロンスパッタ法によるＺ
ｎＯ透明導電性膜の作成」（電気通信学会ＣＰＭ８４−
８）；文献Ｃ「シン・ソリド・フィルムス（Ｔｈｉｎ
５ｏｌｉｄ Ｆｉｌ＋＊ｓ）１２４（１９８５）４３」
：特開昭６１−９６６０９号公報など〕。
しかしながら、上述した文献は透明導電性膜の性状につ
いて記載はあるものの、ＡＱ等を含有する７、 ｎ Ｏ
膜の熱線遮蔽材料としての利用については噴に可能性を
示唆した程度であり、かかるＡＱ等を含有するＺｎＯ膜
を使用した具体的な熱線遮蔽材料、実際にＡＱ等を含有
するＺｎＯ膜を熱線遮蔽材料として用いる場合の材料パ
ラメーターについては示されていない。
いて記載はあるものの、ＡＱ等を含有する７、 ｎ Ｏ
膜の熱線遮蔽材料としての利用については噴に可能性を
示唆した程度であり、かかるＡＱ等を含有するＺｎＯ膜
を使用した具体的な熱線遮蔽材料、実際にＡＱ等を含有
するＺｎＯ膜を熱線遮蔽材料として用いる場合の材料パ
ラメーターについては示されていない。
実際、本発明者らの検討によると、かかるＡＱ等を含有
するＺｎＯ膜を熱線遮蔽材料として使用した場合、４０
０ｎｍ〜８００ｎｍの可視域における透過性は良好であ
るが、８００ｎｍ〜２４の近赤外域の波長をかなり透過
させ、また２Ｐ〜４−の中赤外域や４−〜１ｍの遠赤外
域の波長の遮蔽性も十分でない場合があり、なお効果が
不十分な場合があることがわかった。
するＺｎＯ膜を熱線遮蔽材料として使用した場合、４０
０ｎｍ〜８００ｎｍの可視域における透過性は良好であ
るが、８００ｎｍ〜２４の近赤外域の波長をかなり透過
させ、また２Ｐ〜４−の中赤外域や４−〜１ｍの遠赤外
域の波長の遮蔽性も十分でない場合があり、なお効果が
不十分な場合があることがわかった。
熱線といっても熱源によりその強度のスペクトル分布は
非常に広い波長範囲に亘っており、例えば太陽光では可
視域は勿論、８００ｎｍ〜２−の近赤外域にまで及んで
おり、また各種暖房器具では中赤外域から遠赤外域にか
けて拡がっており、従って熱線遮蔽材料としては可視領
域の透過性は保持したまま、中・遠赤外線を効果的に遮
蔽する一方、熱効果の大きい近赤外領域の透過を可及的
に遮断することが望まれる。
非常に広い波長範囲に亘っており、例えば太陽光では可
視域は勿論、８００ｎｍ〜２−の近赤外域にまで及んで
おり、また各種暖房器具では中赤外域から遠赤外域にか
けて拡がっており、従って熱線遮蔽材料としては可視領
域の透過性は保持したまま、中・遠赤外線を効果的に遮
蔽する一方、熱効果の大きい近赤外領域の透過を可及的
に遮断することが望まれる。
するだめの−Ｌ生爪
このため、本発明者らは、ＡＱ等を含有するＺｎＯ膜を
熱線遮蔽材料として有効に使用することについて更に検
討を進めた結果、ＺｎＯ膜中のＡＱ等の量に加えてその
膜厚が重要なパラメーターであることを知見した。
熱線遮蔽材料として有効に使用することについて更に検
討を進めた結果、ＺｎＯ膜中のＡＱ等の量に加えてその
膜厚が重要なパラメーターであることを知見した。
即ち、熱線遮蔽材料にとって最も重要な特性はどこの波
長の光（電磁波）から遮蔽することができるかという遮
蔽波長であるが、これを示す指標はプラズマ波長である
。プラズマ波長λｐは、分光分度針で入射光を短波長か
ら長波長に変化させて行く時、短波長側では光の透過率
が１００〜９０％であったものが、ある波長から急に透
過率が低下しはじめ、透過曲線が急に折れ曲がりをはじ
める波長の位置を決定するが、プラズマ波長λｐは電子
密度Ｎの値に大きく依存し、電子密度Ｎが遮蔽波長を支
配すること、従ってより短波長の光（電磁波）から遮蔽
する必要がある場合は電子密度Ｎを大きな値にする必要
がある。
長の光（電磁波）から遮蔽することができるかという遮
蔽波長であるが、これを示す指標はプラズマ波長である
。プラズマ波長λｐは、分光分度針で入射光を短波長か
ら長波長に変化させて行く時、短波長側では光の透過率
が１００〜９０％であったものが、ある波長から急に透
過率が低下しはじめ、透過曲線が急に折れ曲がりをはじ
める波長の位置を決定するが、プラズマ波長λｐは電子
密度Ｎの値に大きく依存し、電子密度Ｎが遮蔽波長を支
配すること、従ってより短波長の光（電磁波）から遮蔽
する必要がある場合は電子密度Ｎを大きな値にする必要
がある。
なお、体積固有抵抗ρは、プラズマ波長λｐでの透過曲
線の勾配を決定しており、体積固有抵抗ρが小さくなる
程勾配は急になり、よりシャープに光を遮蔽することが
できるが、熱線遮蔽性能に及ぼす影響では、電子密度Ｎ
の方が体積固有抵抗ρよりも大きく、それ放熱線遮蔽効
果の点からは電子密度Ｎを大きくすることが要求される
。
線の勾配を決定しており、体積固有抵抗ρが小さくなる
程勾配は急になり、よりシャープに光を遮蔽することが
できるが、熱線遮蔽性能に及ぼす影響では、電子密度Ｎ
の方が体積固有抵抗ρよりも大きく、それ放熱線遮蔽効
果の点からは電子密度Ｎを大きくすることが要求される
。
ところで、上述した文献Ｂ「マグネトロンスパッタ法に
よるＺｎＯ透明導電性膜の作成」（電気通信学会ＣＰＭ
８４−８）にはＺｎＯにＡＱを添加した場合におけ
る体積固有抵抗ρと電子密度Ｎと移動度μとの関係が記
述されており、ＡＱを添加したＺｎＯ膜はその膜Ｊｌｄ
が厚くなると体積固有抵抗ρが減少すると共に移動度μ
が増大し、電子密度Ｎは膜厚ｄと関係なく一定となるこ
とが示されている。従って、従来はＡＱ等を含有するＺ
ｎＯ膜の膜厚は電気特性である体積固有抵抗に関係する
（実際には膜厚と移動度が関係するものであるが）とし
ても電子密度には関係せず、それ故光学特性である熱線
遮蔽特性には関係しないと考えられてきたものであるが
、本発明者らの検討によると、後述する実験の結果から
も明らかな通り、意外にも第■族金属元素や第■族金属
元素を含有するＺｎＯ膜の膜厚が熱線遮蔽特性を大きく
規定していること、この場合膜厚が２０００人より薄い
と近赤外域はもとより中・遠赤外域においても十分な熱
線遮蔽効果がないにもかかわらず、膜厚が２０００Å以
上、特に３０００Å以上では熱線遮蔽特性が急激に向上
し、中・遠赤外線を有効に遮蔽すると共に、かなり波長
の短い近赤外線をも効果的に遮蔽することを知見した。
よるＺｎＯ透明導電性膜の作成」（電気通信学会ＣＰＭ
８４−８）にはＺｎＯにＡＱを添加した場合におけ
る体積固有抵抗ρと電子密度Ｎと移動度μとの関係が記
述されており、ＡＱを添加したＺｎＯ膜はその膜Ｊｌｄ
が厚くなると体積固有抵抗ρが減少すると共に移動度μ
が増大し、電子密度Ｎは膜厚ｄと関係なく一定となるこ
とが示されている。従って、従来はＡＱ等を含有するＺ
ｎＯ膜の膜厚は電気特性である体積固有抵抗に関係する
（実際には膜厚と移動度が関係するものであるが）とし
ても電子密度には関係せず、それ故光学特性である熱線
遮蔽特性には関係しないと考えられてきたものであるが
、本発明者らの検討によると、後述する実験の結果から
も明らかな通り、意外にも第■族金属元素や第■族金属
元素を含有するＺｎＯ膜の膜厚が熱線遮蔽特性を大きく
規定していること、この場合膜厚が２０００人より薄い
と近赤外域はもとより中・遠赤外域においても十分な熱
線遮蔽効果がないにもかかわらず、膜厚が２０００Å以
上、特に３０００Å以上では熱線遮蔽特性が急激に向上
し、中・遠赤外線を有効に遮蔽すると共に、かなり波長
の短い近赤外線をも効果的に遮蔽することを知見した。
更に、膜厚が２０００人より薄いと体積固有抵抗が１０
−”〜１０−３Ω・■と大きいが、２０００Å以上にな
ると導電性が急に向上し、１０−４Ω・】オーダーとな
ること、その電子密度の測定から第■族又は第■族金属
元素含有ＺｎＯ膜の電子密度は高い膜厚依存性を有して
いること、膜厚が２０００Å以上では電子密度が飛躍的
に増大して５Ｘ１０”／ａ＋？以上に達すること、それ
故第■族又は第■族金属元素含有ＺｎＯ膜は従来技術の
予測とは全く異なり、その膜厚と電子密度が正の相関関
係を有し、膜厚が２０００Å以上になると電子密度も５
Ｘ １０”／ｃｏｉ以上に増大し、熱線遮蔽効果が顕著
に増大すること、しかも膜厚が２００ｏÅ以上になって
も可視光透過率は維持され、６０００人の膜厚でも９０
％以上であることを知見した。
−”〜１０−３Ω・■と大きいが、２０００Å以上にな
ると導電性が急に向上し、１０−４Ω・】オーダーとな
ること、その電子密度の測定から第■族又は第■族金属
元素含有ＺｎＯ膜の電子密度は高い膜厚依存性を有して
いること、膜厚が２０００Å以上では電子密度が飛躍的
に増大して５Ｘ１０”／ａ＋？以上に達すること、それ
故第■族又は第■族金属元素含有ＺｎＯ膜は従来技術の
予測とは全く異なり、その膜厚と電子密度が正の相関関
係を有し、膜厚が２０００Å以上になると電子密度も５
Ｘ １０”／ｃｏｉ以上に増大し、熱線遮蔽効果が顕著
に増大すること、しかも膜厚が２００ｏÅ以上になって
も可視光透過率は維持され、６０００人の膜厚でも９０
％以上であることを知見した。
即ち、上述した文献においてはＡＱ等を含有するＺｎＯ
膜の熱線遮蔽材料への応用は単に可能性を示唆した程度
のものであり、熱線遮蔽材料としての材料パラメーター
、特に膜厚については全く示されていないものであった
が、膜厚を２０００Å以上にすると熱線遮蔽特性が飛躍
的に向上するという上述した本発明者らの知見に基づき
、更に第■族、第■族金属元素の添加量の検討から、第
１１１族元素及び第■族元素から選ばれる１種又は２種
以上の金属元素を亜鉛に対して０．１〜ｌＯ原子％含有
するＺｎＯ膜を２０００Å以上形成することにより、建
築物や自動車の窓等の熱線遮蔽ガラスに実際に使用され
るのに適し、可視光をよく透過させる一方、かなり波長
の短い近赤外線から中・遠赤外線をも効果的に遮断し、
熱線遮蔽効果に優れた熱線遮蔽材料が得られることを見
い出し、本発明をなすに至ったものである。
膜の熱線遮蔽材料への応用は単に可能性を示唆した程度
のものであり、熱線遮蔽材料としての材料パラメーター
、特に膜厚については全く示されていないものであった
が、膜厚を２０００Å以上にすると熱線遮蔽特性が飛躍
的に向上するという上述した本発明者らの知見に基づき
、更に第■族、第■族金属元素の添加量の検討から、第
１１１族元素及び第■族元素から選ばれる１種又は２種
以上の金属元素を亜鉛に対して０．１〜ｌＯ原子％含有
するＺｎＯ膜を２０００Å以上形成することにより、建
築物や自動車の窓等の熱線遮蔽ガラスに実際に使用され
るのに適し、可視光をよく透過させる一方、かなり波長
の短い近赤外線から中・遠赤外線をも効果的に遮断し、
熱線遮蔽効果に優れた熱線遮蔽材料が得られることを見
い出し、本発明をなすに至ったものである。
従って、本発明は第■族元素及び第■族元濃から選ばれ
る１種又は２種以上の金属元素を亜鉛に対してＯ，１〜
１０原子％含有する酸化亜鉛膜からなり、かつ該膜の厚
さが２ｏ００Å以上であることを特徴とする熱線遮蔽材
料及び該材料を用いた熱線遮蔽ガラスを提供する。
る１種又は２種以上の金属元素を亜鉛に対してＯ，１〜
１０原子％含有する酸化亜鉛膜からなり、かつ該膜の厚
さが２ｏ００Å以上であることを特徴とする熱線遮蔽材
料及び該材料を用いた熱線遮蔽ガラスを提供する。
本発明の熱線遮蔽材料は、このように第■族。
第■族金属元素をＺｎＯ膜中に含有させるものであるが
、かかる金属元素としては八〇、 Ｉｎ、 Ｇａ。
、かかる金属元素としては八〇、 Ｉｎ、 Ｇａ。
ＳＬ、ＴＩＴ Ｚｒ、Ｈｆ＋ Ｇｅ等が好適に用いられ
、中でもＡＱ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅが最も好ましい。なお
、これらの金属元素は元素単体として含有させても酸化
物等の化合物として含有させてもよい。これら元素の含
有量は０．１〜１０原子％であるが、より好ましくは２
〜４原子％である。更に、膜厚は２０００Å以上である
が、より好ましくは３０００Å以上、特に３５００Å以
上である。
、中でもＡＱ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅが最も好ましい。なお
、これらの金属元素は元素単体として含有させても酸化
物等の化合物として含有させてもよい。これら元素の含
有量は０．１〜１０原子％であるが、より好ましくは２
〜４原子％である。更に、膜厚は２０００Å以上である
が、より好ましくは３０００Å以上、特に３５００Å以
上である。
ここで、ＡＱ等の第■族又は第■族金３元素を含有する
ＺｎＯ膜を製膜する方法としては、プラズマドライプロ
セスが優れており、これには蒸看法、イオンブレーティ
ング法、ＣＶＤ法も含まれるが、特に各種スパッタリン
グ法が好適に採用される。このスパッタリング法の中に
は、直流の二極又は二極又は四極スパッタ方式、高周波
スパッタ方式、直流又は高周波のマグネトロンスパッタ
方式、更にイオンビームスパッタ方式等が含まれる。
ＺｎＯ膜を製膜する方法としては、プラズマドライプロ
セスが優れており、これには蒸看法、イオンブレーティ
ング法、ＣＶＤ法も含まれるが、特に各種スパッタリン
グ法が好適に採用される。このスパッタリング法の中に
は、直流の二極又は二極又は四極スパッタ方式、高周波
スパッタ方式、直流又は高周波のマグネトロンスパッタ
方式、更にイオンビームスパッタ方式等が含まれる。
ＺｎＯへの第■族又は第■族金属元素の添加法としては
、スパッタリング法においてはターゲット中に金属元素
を添加してお（ことで行なわれる。この場合、ターゲッ
トがＺｎ○焼結体の時にはＡ１２２０１等の酸化物の形
で添加し、金属ＺｎＯ時には金属ＡＱ等の金属元素単体
の形で添加するのがよく、この際スパッタリングは直流
又は高周波で行なわれるが、ターゲットが前者の場合は
Ａｒガスでスパッタし、後者の場合はＡｒとｏ２の混合
ガスで反応性スパッタを行なうことが好適である。
、スパッタリング法においてはターゲット中に金属元素
を添加してお（ことで行なわれる。この場合、ターゲッ
トがＺｎ○焼結体の時にはＡ１２２０１等の酸化物の形
で添加し、金属ＺｎＯ時には金属ＡＱ等の金属元素単体
の形で添加するのがよく、この際スパッタリングは直流
又は高周波で行なわれるが、ターゲットが前者の場合は
Ａｒガスでスパッタし、後者の場合はＡｒとｏ２の混合
ガスで反応性スパッタを行なうことが好適である。
なお、金属元素を添加する方法としては、無添加のＺｎ
Ｏ膜を作り、その表面にＡ［等の金属元素単体を蒸着し
て熱拡散させる方法や、あるいはテトラメチルアルミニ
ウム、テトラエチルアルミニウムのような化合物ガスで
製膜中に導入する方法等も採用することができる。
Ｏ膜を作り、その表面にＡ［等の金属元素単体を蒸着し
て熱拡散させる方法や、あるいはテトラメチルアルミニ
ウム、テトラエチルアルミニウムのような化合物ガスで
製膜中に導入する方法等も採用することができる。
上記の第■族又は第■族金属元素含有ＺｎＯ膜は、その
用途等に応じた適宜な基板上に製膜されて用いられる。
用途等に応じた適宜な基板上に製膜されて用いられる。
例えば、建築物や自動車用窓等の熱線遮蔽ガラスを得る
場合であれば、ガラス材や透明プラスチック材などに製
膜することができる。
場合であれば、ガラス材や透明プラスチック材などに製
膜することができる。
この場合、スパッタリング法を採用して製膜するに際し
ては、ＳｎＯ，やＩＴＯに比べ低温基板での製膜がより
容易であるため、プラスチックフィルム上へも簡単に製
膜することができる。例えば、ポリエステルフィルムの
ような厚みが１ｍ以下、特に数十−から数百−の透明プ
ラスチックフィルム上に上記の方法で２０００Å以上の
膜厚の第■族又は第■族金属元素含有ＺｎＯ膜を形成す
ることが容易である。なお、基板材料として使用し得る
プラスチック材としては、ポリエステル、ポリアミド、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン。
ては、ＳｎＯ，やＩＴＯに比べ低温基板での製膜がより
容易であるため、プラスチックフィルム上へも簡単に製
膜することができる。例えば、ポリエステルフィルムの
ような厚みが１ｍ以下、特に数十−から数百−の透明プ
ラスチックフィルム上に上記の方法で２０００Å以上の
膜厚の第■族又は第■族金属元素含有ＺｎＯ膜を形成す
ることが容易である。なお、基板材料として使用し得る
プラスチック材としては、ポリエステル、ポリアミド、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン。
ポリエチレン、エチレン−ビニルアセテート共重合体、
ケン化エチレン−ビニルアセテート共重合体、ポリメタ
クリル酸メチル、ポリビニルブチラール、エチレン−エ
チルアクリレート共重合体。
ケン化エチレン−ビニルアセテート共重合体、ポリメタ
クリル酸メチル、ポリビニルブチラール、エチレン−エ
チルアクリレート共重合体。
エチレン−メチルアクリレート共重合体、金属イオン架
橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリスチレン、ポ
リウレタン、ポリカーボネート、セルロース誘導体等含
まれるが、最も好ましいものはポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルムである。
橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリスチレン、ポ
リウレタン、ポリカーボネート、セルロース誘導体等含
まれるが、最も好ましいものはポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルムである。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的に説
明する。
明する。
〔実施例１．比較例〕
マグネトロンスパッタ装置により、直径１０ａ１１の円
形状でＡ（２，０，を３．４ＡＱ／Ｚｎ原子％含有する
ＺｎＯ焼結ターゲットを用い、圧力５ｍＴｏｒｒの条件
下に５００ＶＸ０．５Ａの直流で３〜３Ｑ分間スパッタ
を行ない、透明ポリエチレンテレフタート（ＰＥＴ）基
板（１００ｎｎＸ １００＋ｎｍＸ １００−）上に表
に示す膜厚のＡＱを含有するＺｎＯ膜からなる熱線遮蔽
材料を形成した。この場合、基板はターゲットの端にタ
ーゲットに対し垂直に配置し、加熱及びプレスパツタを
行なうことなく製膜を実施した。
形状でＡ（２，０，を３．４ＡＱ／Ｚｎ原子％含有する
ＺｎＯ焼結ターゲットを用い、圧力５ｍＴｏｒｒの条件
下に５００ＶＸ０．５Ａの直流で３〜３Ｑ分間スパッタ
を行ない、透明ポリエチレンテレフタート（ＰＥＴ）基
板（１００ｎｎＸ １００＋ｎｍＸ １００−）上に表
に示す膜厚のＡＱを含有するＺｎＯ膜からなる熱線遮蔽
材料を形成した。この場合、基板はターゲットの端にタ
ーゲットに対し垂直に配置し、加熱及びプレスパツタを
行なうことなく製膜を実施した。
次いで、得られた各熱線遮蔽材料につき光学的測定を行
なった。即ち、島津マルチパーパス自動分光光度計ＭＰ
Ｓ−５０００を用いて４００〜８００ｎｍの可視光領域
及び８００〜２５００ｎｍの近赤外領域の透過率を測定
し、また２、５〜３０癖の中・遠赤外領域については日
本分光赤外分光光度計Ａ−３と正反射測定装置ＲＦ−１
１を用いて反射率を測定した。結果を第１表〜第３表に
示す。
なった。即ち、島津マルチパーパス自動分光光度計ＭＰ
Ｓ−５０００を用いて４００〜８００ｎｍの可視光領域
及び８００〜２５００ｎｍの近赤外領域の透過率を測定
し、また２、５〜３０癖の中・遠赤外領域については日
本分光赤外分光光度計Ａ−３と正反射測定装置ＲＦ−１
１を用いて反射率を測定した。結果を第１表〜第３表に
示す。
第 １ 表 可視光透過率（％）
第１〜３表の結果から、ＡＱ含有ＺｎＯ膜からなる熱線
遮蔽材料は、光学特性、特に赤外領域における光学特性
がｙＡ厚依存性を示し、膜厚を２０００Å以上、特に３
０００Å以上にすることにより、中・遠赤外線を効果的
に遮蔽すると共に、近赤外線も可視域にかなり近い波長
のものを遮蔽することが認められ、またこの場合、膜厚
を厚くしても可視光を良好に透過させ１色づき等の問題
もないことが知見された。
遮蔽材料は、光学特性、特に赤外領域における光学特性
がｙＡ厚依存性を示し、膜厚を２０００Å以上、特に３
０００Å以上にすることにより、中・遠赤外線を効果的
に遮蔽すると共に、近赤外線も可視域にかなり近い波長
のものを遮蔽することが認められ、またこの場合、膜厚
を厚くしても可視光を良好に透過させ１色づき等の問題
もないことが知見された。
次に、各熱線遮蔽材料から１０＋ｎｏ＋Ｘ１０ＩＩｍ＋
のサンプルを切り出し、ＢＩＯＲＡＤ社製ＨＡＬＬＭＥ
ＡＳＵＲＥＭＥＮ’ｌ’ ＳＹＳＴＥＭ ＨＬ２００
の装置を使用し、ファンデルパラ（ｖａｎ ｄｃｒ Ｐ
ａｕｖ）法により各熱線遮蔽材料の体積固有抵抗ρ及び
移動度μを測定した。結果を第４表に示す。
のサンプルを切り出し、ＢＩＯＲＡＤ社製ＨＡＬＬＭＥ
ＡＳＵＲＥＭＥＮ’ｌ’ ＳＹＳＴＥＭ ＨＬ２００
の装置を使用し、ファンデルパラ（ｖａｎ ｄｃｒ Ｐ
ａｕｖ）法により各熱線遮蔽材料の体積固有抵抗ρ及び
移動度μを測定した。結果を第４表に示す。
また、各熱線遮蔽材料の電子密度Ｎを測定し、その値よ
りプラズマ波長λｐを算出した。この場合、電子の有効
質量としてはｍ車＝０．４及びｍ＊＝１．０の２つの場
合について算出した。結果を第５表に示す。
りプラズマ波長λｐを算出した。この場合、電子の有効
質量としてはｍ車＝０．４及びｍ＊＝１．０の２つの場
合について算出した。結果を第５表に示す。
第 ４ 表
第４，５表の結果から明らかなように、ＡＱ含有ＺｎＯ
膜からなる熱線遮蔽材料の体積固有抵抗は大きな膜厚依
存性を有し、体積固有抵抗の変化に伴い移動度も変化す
ると共に、電子密度も膜厚依存性を有し、１１！３厚が
２０ｏＯÅ以上になると体積固有抵抗が非常に小さくな
り、移動度が大きくなること、また電子密度も大きくな
り、それにつれてプラズマ波長も約５μ前後から約１μ
＋１？Ｉ後へと大きくシフトしていることがわかる。
膜からなる熱線遮蔽材料の体積固有抵抗は大きな膜厚依
存性を有し、体積固有抵抗の変化に伴い移動度も変化す
ると共に、電子密度も膜厚依存性を有し、１１！３厚が
２０ｏＯÅ以上になると体積固有抵抗が非常に小さくな
り、移動度が大きくなること、また電子密度も大きくな
り、それにつれてプラズマ波長も約５μ前後から約１μ
＋１？Ｉ後へと大きくシフトしていることがわかる。
従って、上述した光学特性の結果から認められるように
、従来の予期に反して膜厚と電子密度とは正の相関関係
を有し、膜厚が大きくなると電子密度が増大し、しかも
体積固有抵抗が減少し、これにより２０００Å以上の膜
厚とすることにより熱線遮蔽効果が顕著に増大すること
が知見された。
、従来の予期に反して膜厚と電子密度とは正の相関関係
を有し、膜厚が大きくなると電子密度が増大し、しかも
体積固有抵抗が減少し、これにより２０００Å以上の膜
厚とすることにより熱線遮蔽効果が顕著に増大すること
が知見された。
〔実施例２〕
実施例１と同様にしてＡＱ含有量の異なるＺｎＯ膜から
なる熱線遮蔽材料を製造した。なおこの場合、膜厚は５
０００人とした。
なる熱線遮蔽材料を製造した。なおこの場合、膜厚は５
０００人とした。
次に、得られたサンプルの体積固有抵抗を測定した。結
果を第６表に示す。
果を第６表に示す。
第６表の結果から、ＡＱ含有量は２〜４ＡＱ／Ｚｎ原子
％がより好ましいことが知見された。
％がより好ましいことが知見された。
発明の効果
本発明に係る熱線遮蔽材料は、可視光線透過性に優れて
いると同時に、優れた熱線遮蔽効果を有し、従って建築
物や自動車用窓などの熱線遮蔽ガラスの製造に好適に用
いられると共に、得られた熱線遮蔽ガラスは熱線を効果
的に遮蔽し、可視光線を良好に透過させるものである。
いると同時に、優れた熱線遮蔽効果を有し、従って建築
物や自動車用窓などの熱線遮蔽ガラスの製造に好適に用
いられると共に、得られた熱線遮蔽ガラスは熱線を効果
的に遮蔽し、可視光線を良好に透過させるものである。
出願人 株式会社 ブリデストン
代理人 弁理士 小 島 隆 司
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、第III族元素及び第IV族元素から選ばれる１種又は
２種以上の金属元素を亜鉛に対して０．１〜１０原子％
含有する酸化亜鉛膜からなり、かつ該膜の厚さが２００
０Å以上であることを特徴とする熱線遮蔽材料。 ２、請求項１記載の熱線遮蔽材料を用いた熱線遮蔽ガラ
ス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2472288A JPH01201021A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2472288A JPH01201021A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201021A true JPH01201021A (ja) | 1989-08-14 |
Family
ID=12146051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2472288A Pending JPH01201021A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01201021A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006090806A1 (ja) * | 2005-02-24 | 2006-08-31 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | ガリウム含有酸化亜鉛 |
| JP2009114538A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-28 | Hakusui Tech Co Ltd | 酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332806A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Hitachi Ltd | Production of damping material |
| JPS6196609A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-15 | 大阪特殊合金株式会社 | 透明導電膜 |
| JPS61205619A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Osaka Tokushu Gokin Kk | 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜 |
-
1988
- 1988-02-04 JP JP2472288A patent/JPH01201021A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332806A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Hitachi Ltd | Production of damping material |
| JPS6196609A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-15 | 大阪特殊合金株式会社 | 透明導電膜 |
| JPS61205619A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Osaka Tokushu Gokin Kk | 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006090806A1 (ja) * | 2005-02-24 | 2006-08-31 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | ガリウム含有酸化亜鉛 |
| JPWO2006090806A1 (ja) * | 2005-02-24 | 2008-07-24 | 積水化学工業株式会社 | ガリウム含有酸化亜鉛 |
| US7651640B2 (en) | 2005-02-24 | 2010-01-26 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Gallium containing zinc oxide |
| JP2009114538A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-28 | Hakusui Tech Co Ltd | 酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット |
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