JPH01200685A - よう素レーザー装置 - Google Patents

よう素レーザー装置

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JPH01200685A
JPH01200685A JP2458988A JP2458988A JPH01200685A JP H01200685 A JPH01200685 A JP H01200685A JP 2458988 A JP2458988 A JP 2458988A JP 2458988 A JP2458988 A JP 2458988A JP H01200685 A JPH01200685 A JP H01200685A
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iodine
oxygen generator
water vapor
disks
oxygen
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Hiroo Fujii
藤井 洋郎
Toshio Atsuta
稔雄 熱田
Masahiro Iizuka
飯塚 昌弘
Hiroshi Tsuji
辻 博
Hirotsuna Kuchiki
朽木 宏綱
Yoshiichirou Yoshida
吉田 賛一郎
Tomoo Fujioka
知夫 藤岡
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Kawasaki Heavy Industries Ltd
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IND RES INST JAPAN
Kawasaki Heavy Industries Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/041Arrangements for thermal management for gas lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/095Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using chemical or thermal pumping

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、長期間、連続安定なレーザー出力を得ること
ができるよう素レーザー装置に関するものである。
〔従来の技術〕
最近、化学励起よう素レーザー(che+m1call
ypu+wped Iodine Iaser:CPI
L)の研究がなされ、1゜315μ細波長の高出力レー
ザー発振に成功している。このCPILはレーザー発振
のためのポンピング源として電気エネルギを必要とせず
、化学燃料でレーザー発振でき比較的簡単な構造である
という利点を有している。
cpルの基本原理は次式によるエネルギ移乗反応である
q′(1Δ)+1(”Ps/g)β0t(3Σ)+I“
(”P+7g)・・・(1)(11式で左辺から右辺へ
の反応が速いため、効率良くポンピングが行われI”(
”PI/□)が生成される。
この!”(”Fizz)がレーザー媒質となり、波長1
.315μmのレーザー光を発生する。ここで最も重要
なことは、ボンピング源であるo:(IΔ)をいかに効
率よく発生するかである。現在知られている最も効率の
よい方法は、次式で示す過酸化水素の分解反応である。
HzOz + 2NaOH+c+、−q;+2HzO+
 2NaC1−(2)高濃度過酸化水素溶液に水酸化ナ
トリウム溶液を加えアルカリ性にした上で、この混合溶
液中に塩素ガスをバブリングすることによりo:CΔ)
は容易に発生する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来、励起酸素を発生させる酸素発生器と、レーザー共
振器とを主構成機器とする化学励起よう素レーザー装置
においては、アルカリ性過酸化水素溶液から発生する水
蒸気を氷として凝集させて除去するための水蒸気トラッ
プが設けられている。
しかし従来の水蒸気トラップはバッチ式で、導管内壁面
に氷が多量に付着・堆積した段階で操業を停止し、氷を
除去しなければならず、連続運転を行うことができない
という不都合点があった。また酸素発生器とレーザー共
振器とが水蒸気トラップおよびダクトを介して接続され
ていたので、励起酸素の失活率が増加するという不都合
点もあった。
本発明は上記の不都合点を解決するためになされたもの
で、定常的かつ連続的に付着・堆積した氷を除去・回収
することができ、かつ励起酸素の失活率の減少を図るこ
とができるよう素レーザー装置の提供を目的とするもの
である。
〔問題点を解決するための手段〕
本願の第1の発明のよう素レーザー装置を、図面を参照
して説明すれば、アルカリ性過酸化水素溶液と塩素また
は塩素化合物とを接触させて励起酸素を発生させる酸素
発生器1と、この励起酸素を導入しその中によう素を供
給して励起酸素からよう素へのエネルギ移乗反応により
よう素を励起し、レーザー発振を得るレーザー共振器3
とを主構成機器とする化学励起よう素レーザー装置にお
いて、 前記酸素発生器1内に水蒸気トラップ2を配設するとと
もに、酸素発生器1に密接してレーザー共振器3を連設
し、 前記水蒸気トラップ2は、略水平方向に設けられた円柱
状または円筒状の回転体4と、この回転体に略垂直に設
けられた多数のディスク5と、回転体内およびディスク
内に設けられた冷媒i1路6.7と、多数のディスク5
の間に固定・配設された付着氷掻落し部材8とからなっ
ている。
また本願の第2の発明のよう素レーザー装置を、図面を
参照して説明すれば、アルカリ性過酸化水素溶液と塩素
または塩素化合物とを接触させて励起酸素を発生させる
酸素発生器1と、この励起酸素を導入しその中によう素
を供給して励起酸素からよう素へのエネルギ移乗反応に
よりよう素を励起し、レーザー発振を得るレーザー共振
器3とを主構成機器とする化学励起よう素レーザー装置
において、 前記酸素発生器1内に水蒸気トラップ2を配設するとと
もに、酸素発生器1に密接してレーザー共振器3を連設
し、 前記水蒸気トラップ2は、略水平方向に設けられた円柱
状または円筒状の回転体4と、この回転体に略垂直に設
けられた多数のディスク5と、回転体内およびディスク
内に設けられた冷媒通路6.7と、多数のディスク5の
間に固定・配設された付着氷掻落し部材8とからなり、 さらに前記酸素発生器1の上流側に、新たに過酸化水素
、アルカリ、水を適量供給し予混合する溶液成分調整槽
26を設け、この溶液成分調整槽と酸素発生器とを、酸
素発生器で一部反応した溶液を回収できるように溶液循
環ライン27を介して接続して形成されている。
〔作用〕
酸素発生器1において、アルカリ性過酸化水素溶液と塩
素ガスまたは塩素化合物とを接触させて励起酸素を発生
させる。この励起酸素をレーザー共振器3に導入し、励
起酸素中によう素ガスをアルゴンガス、窒素ガスなどの
キャリアガスとともに供給して、励起酸素からよう素へ
のエネルギ移乗反応によりよう素を励起し、よう素原子
間に逆転分布を形成させることによってレーザー光を得
る。
酸素発生器1で発生した水蒸気は、水蒸気トラップ2の
ディスク5の表面および回転体4の表面で氷結し、この
氷を付着氷掻落し部材8で掻き落して、酸素発生器1内
の溶液中に落下・回収する。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を詳細に説
明する。ただしこの実施例に記載されている構成機器の
形状、その相対配置などは、とくに特定的な記載がない
限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のも
のではなく、単なる説明例にすぎない。
第1図および第2図は本発明の一実施例を示している。
1は励起酸素を発生させる酸素発生器で、この酸素発生
器内にディスク型の水蒸気トラップ2を配設するととも
に、酸素発生器に密接してレーザー共振器3を連設して
いる。
水蒸気トラップ2は、第3図および第4図に示すように
、略水平方向に設けられた円柱状の回転体4と、この回
転体に略垂直に設けられた多数のディスク5と、回転体
内およびディスク内に設けられた冷媒通路6.7と、多
数のディスク5の間に固定・配設された付着氷掻落し部
材8とからなっている。9は冷凍機である。なお回転体
を円筒状とすることも可能である。回転体4は酸素発生
器1の側板の外側において軸受10.11により支承さ
れ、駆動源(図示せず)に接続されたスプロケットホイ
ール12により5rpm前後の低速で回転駆動されるよ
うに構成されている。13は冷媒入口、14は冷媒出口
、15は回転継手、16は塩素ガスヘッダ、17は塩素
ガスバブリングチューブ、18は支持部材、20はNa
C1沈殿槽、21は?容液・NaC1抜出管、22はよ
う素インジェクタ、23.24は反射ミラーである。
上記のように構成されたよう素レーザー装置において、
酸素発生器1において、アルカリ性過酸化水素溶液25
中に塩素ガスバブリングチューブ17から塩素ガスをバ
ブリングさせて励起酸素を発生させる。この励起酸素中
には、前述の(2)式で示すように水蒸気が含まれ、こ
の水蒸気はよう素原子のエネルギを失活させるので、水
蒸気トラップ2で冷媒により冷却することにより氷とし
て除去する。すなわち、冷媒を低速回転している回転体
4内の通路6内、および低速回転しているディスク5内
の通路7内に流すことにより、回転体4およびディスク
5を冷却して、これらの表面に氷を付着・堆積させ、こ
の氷を回転しないで固定されている付着氷掻落し部材8
により掻き落として、酸素発生器1内の溶液中に落下さ
せる。付着氷掻落し部材8は溶液中に配置されているの
で、掻き落された氷がレーザー共振器3の方へ飛んで行
(のを防止することができる。
冷媒としては、−例として、アルコール、トリクロルエ
チレン、メタノール、フロン系物質などが用いられる。
水蒸気を除去した励起酸素をレーザー共振器3に導入し
、励起酸素中によう素ガスをよう素ガスのみまたはキャ
リアガス(アルゴンガス、窒素ガスなどの不活性ガス)
とともによう素インジェクタ22から供給して、励起酸
素からよう素へのエネルギ移乗反応によりよう素を励起
し、よう素原子間に逆転分布を形成させることによって
レーザー光が得られる。
つぎに第5図に基づいて本発明の他の実施例を説明する
。本例は第1図〜第4図に示す装置に加えて、酸素発生
器1の上流側に、新たに過酸化水素、アルカリおよび水
を適量供給し予混合する溶液成分調整槽26を設け、こ
の槽26と酸素発生器1とを、酸素発生器で一部反応し
た溶液を回収できるように溶液循環ライン27を介して
接続したものである。28は塩素ボンベ、30は窒素ボ
ンベ、31はよう素気化器、32は溶液循環ポンプ、3
3はNaC1)ラップ、34は水蒸気トラップ、35は
真空ポンプである。
酸素発生器1内で一部反応した溶液を溶液循環ライン2
7により溶液成分調整槽26に循環・回収し、この槽2
6内の回収溶液に新たに過酸化水素、アルカリ (Na
011、に0■など)および水を供給して所定の濃度に
調節する。したがって、本例は、運転とともに増加する
水を回収・循環し、酸素発生器内へ供給する溶液の成分
を適正に調整することができるという利点を有している
槽26から排出される気体は、水蒸気トラップ34で水
蒸気を除去した後、真空ポンプ35に導入される。一方
、レーザー共振器3から排出される気体は、よう素トラ
ップ(図示せず)でよう素を除去した後、真空ポンプ3
5に導入され、真空ポンプ35から酸素ガスと塩素ガス
との混合ガスとして排気される。この混合ガスは塩素ト
ラップ(図示せず)に導入されて処理される。なお塩素
トラップをよう素トラップと真空ポンプとの間に設ける
場合もある。
真空ポンプ35の入口の圧力は、通常I Torr前後
、レーザー共振器3内では1.2Torr前後、酸素発
生器1内では1.4 Torryi?I後である。また
酸素発生器1内の温度は一20℃前後、槽26内の温度
も酸素発生器とほぼ同程度の温度にコントロールされる
〔発明の効果〕
本発明は上記のように構成されているので、つぎのよう
な効果を有している。
+11  水蒸気トラップを、定常的に氷を除去・回収
できる構成としたので、長時間運転を行うことができ、
かつ安定出力を得ることができる。
(2)酸素発生器とレーザー共振器との距離が短かいの
で、励起酸素の失活率が減少する。
(3)  このため高圧操業が可能となり、真空ポンプ
を従来の真空ポンプの数分の1と小型化することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のよう素レーザー装置の一実施例を示す
縦断面説明図、第2図は第1図におけるA−A線断面説
明図、第3図は第1図におけるディスク型水蒸気トラッ
プの縦断面説明図(第4図におけるB−B線縮小断面説
明図)、第4図は同拡大横断面説明図、第5図は本発明
のよう素レーザー装置の他の実施例を示す斜視説明図で
ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 アルカリ性過酸化水素溶液と塩素または塩素化合物
    とを接触させて励起酸素を発生させる酸素発生器と、こ
    の励起酸素を導入しその中によう素を供給して励起酸素
    からよう素へのエネルギ移乗反応によりよう素を励起し
    、レーザー発振を得るレーザー共振器とを主構成機器と
    する化学励起よう素レーザー装置において、 前記酸素発生器内に水蒸気トラップを配設するとともに
    、酸素発生器に密接してレーザー共振器を連設し、 前記水蒸気トラップは、略水平方向に設けられた円柱状
    または円筒状の回転体と、この回転体に略垂直に設けら
    れた多数のディスクと、回転体内およびディスク内に設
    けられた冷媒通路と、多数のディスクの間に固定・配設
    された付着氷掻落し部材とからなることを特徴とするよ
    う素レーザー装置。 2 アルカリ性過酸化水素溶液と塩素または塩素化合物
    とを接触させて励起酸素を発生させる酸素発生器と、こ
    の励起酸素を導入しその中によう素を供給して励起酸素
    からよう素へのエネルギ移乗反応によりよう素を励起し
    、レーザー発振を得るレーザー共振器とを主構成機器と
    する化学励起よう素レーザー装置において、 前記酸素発生器内に水蒸気トラップを配設するとともに
    、酸素発生器に密接してレーザー共振器を連設し、 前記水蒸気トラップは、略水平方向に設けられた円柱状
    または円筒状の回転体と、この回転体に略垂直に設けら
    れた多数のディスクと、回転体内およびディスク内に設
    けられた冷媒通路と、多数のディスクの間に固定・配設
    された付着氷掻落し部材とからなり、 さらに前記酸素発生器の上流側に、新たに過酸化水素、
    アルカリ、水を適量供給し予混合する溶液成分調整槽を
    設け、この溶液成分調整槽と酸素発生器とを、酸素発生
    器で一部反応した溶液を回収できるように溶液循環ライ
    ンを介して接続したことを特徴とするよう素レーザー装
    置。
JP2458988A 1988-02-04 1988-02-04 よう素レーザー装置 Granted JPH01200685A (ja)

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JPH01200685A true JPH01200685A (ja) 1989-08-11
JPH0416955B2 JPH0416955B2 (ja) 1992-03-25

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996016732A1 (de) * 1994-11-29 1996-06-06 Deutsche Forschungsanstalt für Luft- und Raumfahrt e.V. Generator und verfahren zur erzeugung eines produktgases
JP2006269499A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Miki Pulley Co Ltd 化学励起酸素‐沃素レーザ装置用励起酸素発生装置
WO2015114682A1 (ja) * 2014-01-30 2015-08-06 究 武久 酸素分子レーザ発振器

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Publication number Publication date
JPH0416955B2 (ja) 1992-03-25

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