JPS62502088A - 高周波励起を利用した連続波中間赤外線ガスレ−ザ− - Google Patents

高周波励起を利用した連続波中間赤外線ガスレ−ザ−

Info

Publication number
JPS62502088A
JPS62502088A JP61504252A JP50425286A JPS62502088A JP S62502088 A JPS62502088 A JP S62502088A JP 61504252 A JP61504252 A JP 61504252A JP 50425286 A JP50425286 A JP 50425286A JP S62502088 A JPS62502088 A JP S62502088A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
discharge
electrodes
gas
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61504252A
Other languages
English (en)
Inventor
ワング,ジヨン・ジー・エス
パラント,ジヨセフ・エヌ
ウイリアムス,ラリー
Original Assignee
ヒュ−ズ・エアクラフト・カンパニ−
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ヒュ−ズ・エアクラフト・カンパニ− filed Critical ヒュ−ズ・エアクラフト・カンパニ−
Publication of JPS62502088A publication Critical patent/JPS62502088A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 高周波励起を利用した連続波中間赤外線ガスレーザー関連特許出願の参考 「トランスバースガスフローを用いた高周波励起赤外線レーザー」と称する特許 出願(米国特許出願番号470.409 )は、ジョン H,S、ワンプ等によ って1983年2月28日に出願され、ヒユーズ エアクラフト カンパニー  に譲受された。
この出願には本願が改良をするレーザーが記述され、クレームされている。
従来技術 1、技術分野 本発明は、トランスバースガスフロー高周波(radi。
frequency )励起導波管レーザーに係り、特に、連続波中間赤外線レ ーザーに関する。
2、関連技術の説明 トランスバースガスフロー高周波励起放電導波管レーザー技術開発においては、 赤外線C02ガスレーザーのための連続波やパルス励起、およびパルス励起中間 赤外線化学的レーザーが含まれている。
特に、このようなレーザーの開発は、10.6μの波長の遠赤外線を用いて連続 波モードで稼動される高周波導波管Co2ガスレーザーから始まった。その後、 この高周波導波管レーザーは、io、eμの波長の遠赤外線を用いてパルスモー ドで稼動されるC02ガスレーザーとして利用された。ついで、中間赤外線を用 いてパルスモードで稼動される高周波導波管レーザーはHF(弗化水素)および DF(弗化重水素)を用いて実施された。そして、最終的に、トランスバースガ スフロー高周波導波管レーザーが開発された。これは、種々の実施態様、たとえ ば、CO2ガスレーザーのための10.6μの波長の遠赤外線を用いたパルスお よび連続波モード、HFやDFガスレーザーのための2.7μや3.8μの波長 の遠赤外線を用いたパルスモード、中間赤外線ガスレーザーのための/<ルスモ ードで稼動させることができる。
発明の概要 本発明の目的は、連続波モード中間赤外線ガスレーザーとして稼動させることが できるトランスバースガスフロー高周波放電導波管レーザーを提供することにあ る。
本発明の他の目的は、妨害ガスの増加する補充比と同様にレーザー媒体および電 極の冷却を効果的に高めるために比較的速いガス流速でレーザーを駆動し、これ により単位長さ当木発明のさらに他の目的は、ガスレーザーとしての弗化水素ま たは弗化重水素レーザーを提供することにある。
図面の簡単な説明 図面は本発明の一実施例を示すもので、第1a図、第1b図および第1C図は、 トランスバースガスフロー中間赤外線連続波高周波励起ガスレーザーシステムを 概略的に示す図、 第2図は、第1a図、第1b図および第1C図に示されるレーザーシステムにお ける総流速に対する化学的なレーザー出力を説明する図、 第3図はコンパクト再循環ガスDFレーザーパッケージを示す図である。
好適実施例の説明 第1a図、第1b図、第1c図、第2図および第3図には、この発明の目的を達 成するためのレーザーシステムが図示されている。
従来の特許出願(米国出願番号470,409 ”)においては、第1a図およ び第1b図に図示するように、トランスバースガスフローレーザーシステムが詳 細に記述されている。このレーザーシステムは固体の金属性本体1を有している 。この本体1はガス再循環ポンプ6に連結された2個のガス循環用出入り口3, 5を有している。金属性の網目フィルタ7は、放電領域13でガスが一様に流れ るように、高周波励起電極9゜11から離間して配置されている。上側の電極9 は絶縁部材12内に設けられ、これにより電極9は金属性の本体1から絶縁され る。下側の電極11は、接地されるようにレーザ一本体15に取付けられている 。光学系は、全反射部材すなわちミラー21および部分的反射部材23からなる 。電極の表面は回折および散乱による損失が最小になるように滑らかに磨き上げ られている。光学系はそのボアから離間して配置されている。これにより、その 結合が最小になり、反射部材21.23への放電が防止される。
第1c図には電気回路が図示されている。この電気回路は、連続波モードで稼動 させる5θΩ高周波電源130を有している。ここで使用されるオフザシエルフ 連続波電源はアンプリフイア−リサーチ(AmpHf’ier Re5earc h )によって100 LM9というモデル番号で製造され、高周波増1幅器と 呼ばれている。それは、使用可能な周波数が1〜200 M z 。
最大出力が線形高周波において200W、最小ゲインが53db。
フラットネスが±1゜5dbである。
エネルギは、°アパーチャー132を通り、50Ωのリード線が取付けられた高 周波循環器130に伝達され、そこから連続波透過7反”射パワーメーター13 8へ′伝達される。このパワーメーター138はレーザーキャビティ13からマ ツチングネットワーク140および高周波スイッチ142を通る透過および反射 された波をモニターするのに使用される。整合ネットワーク140は、レーザー 媒体中に有効なパワーを結合させるために、キャビティ13のインダクタンスを 電源130に整合させる。ガスに吸収されたパワーは測定することができるけれ ど、以後述べられる効率は全て電源130からの高周波出力による。
非常に速いガスの流れはレーザーガスを再循環させることによって達成されると いうことが認められる。このような再循環ガスレーザー装置は第3図に図示され ている。この装置は、第1a図に示す電極9,11、化学的除去/熱交換器30 、ガス再循環器32、ガス供給容器34、高周波電源装置を有するシャシ−36 を具備している。ガス補充比が増加すると、レーザー出力が大きく改良される。
発生されたHFまたはDF分子を除去する除去器は、SF6およびH2またはD 2の補充とともに要求される。
連続波(CW)の振動は、トランスバースフロー(TF)ハイブリッド導波管レ ーザー装置を利用することによって、第1a図〜第1c図に示す弗化水素(HF )レーザーシステムについては波長2.7μで、弗化重水素(DF)レーザシス テムについては波長3.8μで得られる。この装置は、既に記述したようにパル ス励起された2、7μの波長のHFおよび3.8μの波長のDFの両方について 効果的なレーザー発生(lasing)を証明するために使用された。トランス バースフロー装置では連続波稼動に必要なレーザーの高い補充比が得られる。シ ステムの補充比はガス流速とガスが流出領域13内で進む距離とによって決めら れる。したがって、導波管装置における比較される補充比は、ボアの小さなりロ ス領域と放電領域13に沿う大きな圧力降下とのために得ることが難しい。この 高い補充比は、化学的反応の間中発生される、レーザー発生領域から除去される べき妨害的なHFまたはDFを許容するために必要である。例をあげると、HF システムについては、そのレーザーガスはSF6、HeおよびH2からなる。一 方、DFシステムについては、レーザーガスはst’6、He、およびD2から なる。DFシステムについては、高周波放電は、弗化物原子を作るためにSF6 を分離する。この弗化原子は、振動している励磁されたDF分子を作るためにD 2と繰返し反応する。励起された分子が基底状態に緩和されると、3.7〜4. 0μの波長の光エネルギを放射する。上記のことは下式で表わされる。
SF6 +e 4 SF5 十F+e F+D2 → DF (v)+D DF (v) −DF (v−1) +bv (3,7−4,Ou”)発生され た基底状態の分子は、特にローJ(v−1−>0)遷移において、レーザーが振 動するのを防止する。ガス流速を増加し補充比を増加することによって、効率は 増加するが、パル支モード効率に達しない。期待される電気的最大効率は2%で ある。
波長が3.8μのDFレーザーは連続波高周波技術を用いることによって実証さ れた。その連続波高周波技術において、最大出力電力0.25Wが達成された。
!alc図に示す装置でおよそ45Wが戻される85Wの入力電力はレーザーを 特徴付けるのに使用された。レーザーガス比 He : SF6 : 02が2 00 : 1 : 0.5で、レーザー発生のための流れ比が変化された。この レーザー発生において、レーザーは200cm発生長さを有し、キャビティ13 での放電はその長さの至るところで均一である。その出力は、第2図に示すよう に、速度すなわち流れ比の増加とともに増加した。これは、増加する速度すなわ ち増加する補充比による。レーザーガステムの稼動圧力は60トルと80トルと の間で、流れ比とともに変化していた。
流速はレーザーシステムにおける圧力に直接比例するということが認められる。
レーザー発生は高い効率のために低温で持続されなければならないことは自明で ある。温度が上がると、v2振動モードにおける密度は増加し、レーザー効率は 減少する。改良されたレーザーガスの冷却はそのガスが流れることによって行わ れる。効率の多少の減少はより高い効率を考慮するためのレーザー発生による混 合物をできるだけ能率的に利用することによって回復することができる。
上記されたようなシステムは中間赤外線波長において比較的小型でコンパクトな 連続波レーザーとして利用することができるということが認められる。
なお、この発明は上記実施例に限定されることはなく、種々変形実施可能なこと は勿論である。
国際調査報告 竹表昭62−502088 (5)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.中間赤外線高周波トランスバースガスフロー放電導波管を有するレーザーシ ステムであって、相互間に放電領域を規定するために互いに対向する一対の電極 手段と、 レーザー発生媒体として稼動させるために上記電極手段相互間のレーザー放電領 域で少なくとも部分的に閉じ込められるレーザーガス手段と、 放電領域において上記レーザーガス手段で電気的放出を為遂げるために上記電極 手段に連続波高周波エネルギを結合するための手段と、 互いに対向し、かつ、放電領域の長手方向を相互間に規定するための上記電極手 段の両側に配置された一対の光学手段と、 放電領域に上記レーザーガス手段を補充するように上記電極手段の放電領域の上 記長手方向を横切る方向に上記レーザーガス手段を流すための流通手段と、 を具備したことを特徴とするレーザーシステム。
  2. 2.上記レーザーガス手段は、一様に流れる弗化水素の混合ガスからなることを 特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザーシステム。
  3. 3.上記レーザーガス手段は、一様に流れる弗化重水素の混合ガスからなること を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザーシステム。
  4. 4.上記流通手段は、化学的除去器を通して上記レーザーガス手段を再循環させ ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザーシステム。
  5. 5.互いに対向し、相互間に放電領域を規定する一対の電極と、 上記2個の電極間のレーザー放電領域で少なくとも部分的に閉じ込められるレー ザーガス媒体と、放電領域の上記レーザーガス媒体で電気的放出を為遂げるため に上記2個の電極に連続波高周波エネルギを結合させるための手段と、 互いに対向し、かつ上記2個の電極の両側に配置され、しかも相互間に上記放電 領域の長手方向を規定する一対の先学部材と、 放電領域にレーザーガス媒体を補充するように放電領域の長手方向を横切る方向 に上記レーザーガス媒体を流す流通手段と、 を具備したことを特徴とする中間赤外線高周波トランスバースガスフロー放電導 波管装置。
  6. 6.上記レーザーガス媒体は、一様に流れるD2、SF6およびH2の混合ガス からなることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載のレーザー装置。
  7. 7.上記レーザーガス媒体は、一様に流れるD2、SF6およびHeの混合ガス からなることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載のレーザー装置。
  8. 8.上記流通手段は化学的除去器を通して上記レーザーガスを再循環させること を特徴とする特許請求の範囲第5項記載のレーザー装置。
  9. 9.中間赤外線領域で機能するように稼動させる高周波トラシスバースガスフロ ー放電導波管を有する連続波レーザー装置であって、 互いに対向し、かつ相互間に放電領域を規定する一対の伝導性の電極と、 上記2個の電極間にレーザー放電領域に少なくとも部分的に閉込められる弗化水 素レーザーガス媒体と、放電領域において上記弗化水素レーザーガス媒体で電気 的放出を為遂げるための上記2個の電極に連続波高周波エネルギを結合させるた めの手段と、 互いに対向し、かつ、上記2個の電極の両側に配置され、しかも相互間に放電領 域の長手方向を規定する一対の光学部材と、 放電領域で上記弗化水素レーザーガス媒体を補充するように放電領域の長手方向 を横切る方向に上記弗化水素レーザーガス媒体を流す流通手段と、 を具備したことを特徴とする連続波レーザー装置。
  10. 10.中間赤外線領域で連続波モードで機能するように稼動させる高周波トラン スバースガスフロー放電導波管であって、 互いに対向し、相互間に放電領域を規定する一対の電極と、これら2個の電極間 のレーザー放電領域で少なくとも部分的に閉込められる弗化重水素レーザーガス 媒体と、放電領域の上記弗化重水素レーザーガス媒体で電気的放出を為遂げるた めの上記2個の電極に連続波高周波エネルギを結合させるための手段と、 互いに対向し、かつ上記2個の電極の両側に配置され、しかも相互間に放電領域 の長手方向を規定する一対の光学部材と、 放電領域に上記弗化重水素を補充するように放電領域の長手方向を横切る方向に 弗化重水素レーザーガス媒体を流すための流通手段と、 を具備したことを特徴とする高周波トランスバースガスフロー放電導波管。
JP61504252A 1985-08-01 1986-07-18 高周波励起を利用した連続波中間赤外線ガスレ−ザ− Pending JPS62502088A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/761,274 US4686681A (en) 1985-08-01 1985-08-01 Continuous wave-mid-infrared gas laser utilizing RF excitation
US761274 1991-09-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62502088A true JPS62502088A (ja) 1987-08-13

Family

ID=25061735

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61504252A Pending JPS62502088A (ja) 1985-08-01 1986-07-18 高周波励起を利用した連続波中間赤外線ガスレ−ザ−

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4686681A (ja)
EP (1) EP0233912A1 (ja)
JP (1) JPS62502088A (ja)
IL (1) IL79373A (ja)
WO (1) WO1987000981A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5381436A (en) * 1993-05-28 1995-01-10 Honeywell, Inc. Ring laser gyro employing radio frequency for pumping of gain medium
US5353297A (en) * 1993-07-12 1994-10-04 Coherent, Inc. Gas slab laser with folded resonator structure
US6198762B1 (en) 1996-09-26 2001-03-06 Yuri Krasnov Supersonic and subsonic laser with RF discharge excitation
US6636545B2 (en) 1996-09-26 2003-10-21 Alexander V. Krasnov Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation
US5682400A (en) * 1995-09-27 1997-10-28 Krasnov; Alexander V. Supersonic and subsonic laser with high frequency discharge excitation
JP5215390B2 (ja) * 2007-06-29 2013-06-19 アリゾナ・ボード・オブ・リージェンツ・フォー・アンド・オン・ビハーフ・オブ・アリゾナ・ステイト・ユニバーシティー シリカ種の電気化学検出
US11095088B1 (en) 2018-02-21 2021-08-17 Zoyka Llc Multi-pass coaxial molecular gas laser

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3748594A (en) * 1972-06-22 1973-07-24 Avco Corp Radio frequency electrically excited flowing gas laser

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4031484A (en) * 1975-11-11 1977-06-21 United Technologies Corporation Portable chemical laser with gas recirculation

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3748594A (en) * 1972-06-22 1973-07-24 Avco Corp Radio frequency electrically excited flowing gas laser

Also Published As

Publication number Publication date
US4686681A (en) 1987-08-11
IL79373A (en) 1991-04-15
EP0233912A1 (en) 1987-09-02
WO1987000981A1 (en) 1987-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hodges et al. Waveguide laser for the far infrared (FIR) pumped by a CO2 laser
US5180378A (en) Laser surgery system
Koechner et al. Solid-state lasers: a graduate text
Fisher Basic laser physics and interaction of laser light with soft tissue
Popescu et al. A novel approach to a Brillouin–LIDAR for remote sensing of the ocean temperature
US6631153B2 (en) Light generating device and laser device using said light generating device
JPH06224500A (ja) 半導体レーザポンピング多重分子ガスレーザ
JPS62502088A (ja) 高周波励起を利用した連続波中間赤外線ガスレ−ザ−
US4651325A (en) RF-pumped infrared laser using transverse gas flow
Zhdanov et al. Continuous wave Cs diode pumped alkali laser pumped by single emitter narrowband laser diode
EP0599247A1 (en) Semiconductor laser pumped molecular gas lasers
US4905247A (en) High power tunable infrared mirrorless laser
US4344174A (en) Gas lasers
CN110739599A (zh) 一种基于微环谐振腔多折射率pt对称光栅激光器
JPH0690048A (ja) パルス波co2レーザー
JP4544606B2 (ja) レーザーシステム
WO1988008630A1 (en) Laser oscillator
CN111600179A (zh) 266nm激光治疗设备
RU2354019C1 (ru) Активная среда для электроразрядного со-лазера или усилителя и способ ее накачки
CN108123354A (zh) 激光装置和系统及其医用激光器治疗系统
Han et al. Optically pumped rare gas lasers
CN212323405U (zh) 一种基于分立式齿轮状蒸气池结构的三波长碱金属蒸气激光器
Kim et al. Understanding the Instruments: Intracorporeal Lithotripsy—Laser
RU2101745C1 (ru) Способ преобразования энергии электромагнитного излучения оптического или более низкочастотного диапазона в энергию волновых возбуждений нелинейной среды
Lüthy et al. Diode-pumped IR solid-state lasers