JPH0119534B2 - - Google Patents
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- JPH0119534B2 JPH0119534B2 JP20950981A JP20950981A JPH0119534B2 JP H0119534 B2 JPH0119534 B2 JP H0119534B2 JP 20950981 A JP20950981 A JP 20950981A JP 20950981 A JP20950981 A JP 20950981A JP H0119534 B2 JPH0119534 B2 JP H0119534B2
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- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 18
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
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-
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- G01N2021/4704—Angular selective
- G01N2021/4711—Multiangle measurement
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Description
【発明の詳細な説明】
(1) 発明の分野
本発明は、例えば半導体のアルミニウム蒸着膜
へのワイヤのボンデイング性の良否を評価するた
めのボンデイング性評価方法に関する。
へのワイヤのボンデイング性の良否を評価するた
めのボンデイング性評価方法に関する。
(2) 従来の技術
半導体製品の製造において、アルミニウム蒸着
膜の形成は不可欠の工程である。すなわち、個別
デバイスと外部端子との接続のために、アルミニ
ウム又は金の細線が用いられるが、これらの細線
がボンデイングされる薄膜として、アルミニウム
蒸着膜が用いられている。したがつて、アルミニ
ウム蒸着膜は、常に安定したボンデイング性が要
求されるが、一般、アルミニウム蒸着膜のボンデ
イング性は、アルミニウム蒸着膜の表面状態によ
り左右される。ボンデイング性が不良となる程度
のアルミニウム蒸着膜の表面状態を悪化する主因
としては、蒸着時における残留ガスの影響がある
が、この場合、アルミニウム蒸着膜は、平滑性を
失いその外観が白濁するので、従来においてはボ
ンデイング性の良否を外観の白濁の有無により判
別している。
膜の形成は不可欠の工程である。すなわち、個別
デバイスと外部端子との接続のために、アルミニ
ウム又は金の細線が用いられるが、これらの細線
がボンデイングされる薄膜として、アルミニウム
蒸着膜が用いられている。したがつて、アルミニ
ウム蒸着膜は、常に安定したボンデイング性が要
求されるが、一般、アルミニウム蒸着膜のボンデ
イング性は、アルミニウム蒸着膜の表面状態によ
り左右される。ボンデイング性が不良となる程度
のアルミニウム蒸着膜の表面状態を悪化する主因
としては、蒸着時における残留ガスの影響がある
が、この場合、アルミニウム蒸着膜は、平滑性を
失いその外観が白濁するので、従来においてはボ
ンデイング性の良否を外観の白濁の有無により判
別している。
(3) 従来技術の問題点
蒸着膜が結晶成長した場合においても、ボンデ
イング性には問題がないにもかかわらず、やはり
上記残留ガスの影響を受けた場合と同様に表面が
粗れ外観が白濁する。その結果、目視検査におい
て両者をしばしば混同してしまい、ボンデイング
性は「良」であるにもかかわらず「不良」と誤判
別していた。そこで、上記両者を定量的に評価で
きる装置が要望されていた。
イング性には問題がないにもかかわらず、やはり
上記残留ガスの影響を受けた場合と同様に表面が
粗れ外観が白濁する。その結果、目視検査におい
て両者をしばしば混同してしまい、ボンデイング
性は「良」であるにもかかわらず「不良」と誤判
別していた。そこで、上記両者を定量的に評価で
きる装置が要望されていた。
(4) 発明の目的
本発明は、アルミニウム蒸着膜へのワイヤボン
デイング性の良否を定量的かつ正確に評価するこ
とのできるボンデイング性評価方法を提供するこ
とにある。
デイング性の良否を定量的かつ正確に評価するこ
とのできるボンデイング性評価方法を提供するこ
とにある。
(5) 発明の要点
基体に被着されたアルミニウム蒸着膜へのワイ
ヤのボンデイング性の良否を評価するボンデイン
グ性評価方法において、上記アルミニウム蒸着膜
に対してほぼ直交する方向に平行光線を投射する
第1工程と、上記アルミニウム蒸着膜への上記平
行光線の投射位置を中心とする球面上の大円に沿
つて上記アルミニウム蒸着膜からの反射光を受光
し受光量を示す電気信号に変換する第2工程と、
反射率の異なる複数の校正用試料に上記平行光線
を投射するとともにこのときの反射光を受光し受
光量を示す電気信号に変換する第3工程と、この
第3工程にて得られた電気信号に基づいて上記第
2工程で得られた電気信号が示す電圧値を反射強
度に変換する変換直線を求める第4工程と、上記
変換直線及び上記第2工程にて得られた電気信号
に基づき反射角と反射強度との関係を示し且つ正
反射領域とこの正反射領域の両側にある拡散反射
領域からなる反射分布曲線を得る第5工程と、こ
の第5工程にて得られた反射分布曲線に基づき上
記アルミニウム蒸着膜のボンデイング性の良否を
判定する第6工程とを具備し、上記ボンデイング
性の評価を高精度かつ高能率で行うことができる
ようにしたものである。
ヤのボンデイング性の良否を評価するボンデイン
グ性評価方法において、上記アルミニウム蒸着膜
に対してほぼ直交する方向に平行光線を投射する
第1工程と、上記アルミニウム蒸着膜への上記平
行光線の投射位置を中心とする球面上の大円に沿
つて上記アルミニウム蒸着膜からの反射光を受光
し受光量を示す電気信号に変換する第2工程と、
反射率の異なる複数の校正用試料に上記平行光線
を投射するとともにこのときの反射光を受光し受
光量を示す電気信号に変換する第3工程と、この
第3工程にて得られた電気信号に基づいて上記第
2工程で得られた電気信号が示す電圧値を反射強
度に変換する変換直線を求める第4工程と、上記
変換直線及び上記第2工程にて得られた電気信号
に基づき反射角と反射強度との関係を示し且つ正
反射領域とこの正反射領域の両側にある拡散反射
領域からなる反射分布曲線を得る第5工程と、こ
の第5工程にて得られた反射分布曲線に基づき上
記アルミニウム蒸着膜のボンデイング性の良否を
判定する第6工程とを具備し、上記ボンデイング
性の評価を高精度かつ高能率で行うことができる
ようにしたものである。
(6) 発明の実施例
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述
する。
する。
第1図は、この実施例のボンデイング性評価方
法に用いられるボンデイング性評価装置を示して
いる。この装置において外光を遮断する暗箱とな
り、かつ、図示せぬ扉により開閉自在な筐体1の
内側の底部に被測定物2(本実施例においてはア
ルミニウムを蒸着したウエハ)を載置する載置台
3が設けられている。上記載置台3の上板中央部
には、貫通孔4が設けられていて、この貫通孔4
を含む筐体1の外側上部には、両端が密閉されて
外光を完全に遮断する円筒状の光路体5が取付け
られている。この光路体5内部の一部には光源6
が設けられ、光路体5の中央部分には、光源6か
らの光を断面が円形をなす平行光線にするための
2個のレンズ7a,7bが設けられている。上記
光路体5の他端側の筐体1の上部に接触する部分
は、開口していて貫通孔4に連通している。そし
て、光路体5の他端には、レンズ7a,7bを通
過した平行光線が、貫通孔4からウエハ2表面に
垂直に入射するように、ミラー8が一定角度傾斜
して設けられている。そして、上記光路体5、光
源6、レンズ7a,7b、ミラー8は、投光部を
構成している。さらに、筐体1の内側上部には、
ウエハ2上において円形をなす光源6からの平行
光線の中心Cに立てた法線Pを中心に45゜間隔で
等配され(第2図参照)、かつ、フレーム9a,
9b…を介して、中心Cを中心とする円弧に形成
された8個の棒状の支持体10a,10b…が取
付けられている。すなわち、支持体10a,10
bはX方向に、支持体10c,10dはY方向
に、支持体10e,10fはR方向に、支持体1
0g,10hはR方向になるように配設され、こ
れら支持体10a,10b,10c,10d,1
0e,10f,10g,10hは、中心Cを中心
とする同一の球面上にのるように配置されてい
る。すなわち、各支持体10a,10b…は、中
心Cを中心とする球の大円の一部をなしている。
上記各支持体10a,10b…には、上記法線P
を0゜として10゜おきにフオト・ダイオードや太陽
電池等の受光素子11−i(ただし、iは受光素
子の特定のためのもので、i=1、2、…、40で
ある。以下同じ。)が、被測定物2からの拡散反
射光を受光するように嵌設されている。したがつ
て、ある受光素子11を特定することにより、法
線Pからの反射角が明らかになるようになつてい
る。そして、筐体1、載置台3、支持体10a,
10b…、受光素子11−iは受光部14を構成
している。第3図において、上記受光素子11−
iは、増幅器12−i(ただし、i=1、2、…、
40)を介して、例えばマルチプレクサなどのよう
な電気的に切換操作を行う切換スイツチ13の入
力側に各別に接続されている。上記受光素子11
−iは、受光部14を構成している。上記切換ス
イツチ13の出力側は、増幅器15を介してアナ
ログ−デイジタル(A/D)変換器16に接続さ
れている。このA/D変換器16は、インターフ
エイス17を介してCPU(中央処理装置)18に
電気的に接続されている。このCPU18は、イ
ンターフエイス19を介して演算結果を表示する
ために、CRT又はプリンタ等の表示部20に電
気的に接続されている。また、CPU18は制御
信号を伝送するための制御バスによりA/D変換
器16及び切換スイツチ13の入力側に接続され
ている。さらに、CPU18は、システムバス2
1を介して、RAM(Random Access Memory)
22及びROM(Read Only Memory)23に電
気的に接続されている。ROM23には、後述す
るように、校正用試料に対する各受光素子11−
iの基準値及び計算プログラムが格納されてい
る。すなわちROM23には、例えば第4図に示
したようなアルミニウム蒸着膜の表面が鏡面の場
合()、残留ガスにより白濁した場合()、お
よび結晶成長により白濁した場合()の予め測
定された標準的な反射分布曲線を示すデータが、
あらかじめ格納されている。この反射分布曲線
は、横軸が法線Pを基準とした反射角、縦軸が反
射強度を示している。しかして、CPU18から
の反射強度を示すデータはインターフエイス19
を介して表示部20へ送られ、必要に応じてデー
タ表示が行なわれる。また、RAM22には、後
述するように、実際のデータが格納される。上記
RAM22及びROM23は記憶装置24を構成
している。また、インターフエイス17,19、
CPU18、RAM22、ROM23はマイクロコ
ンピユータ等の演算制御部25を構成している。
法に用いられるボンデイング性評価装置を示して
いる。この装置において外光を遮断する暗箱とな
り、かつ、図示せぬ扉により開閉自在な筐体1の
内側の底部に被測定物2(本実施例においてはア
ルミニウムを蒸着したウエハ)を載置する載置台
3が設けられている。上記載置台3の上板中央部
には、貫通孔4が設けられていて、この貫通孔4
を含む筐体1の外側上部には、両端が密閉されて
外光を完全に遮断する円筒状の光路体5が取付け
られている。この光路体5内部の一部には光源6
が設けられ、光路体5の中央部分には、光源6か
らの光を断面が円形をなす平行光線にするための
2個のレンズ7a,7bが設けられている。上記
光路体5の他端側の筐体1の上部に接触する部分
は、開口していて貫通孔4に連通している。そし
て、光路体5の他端には、レンズ7a,7bを通
過した平行光線が、貫通孔4からウエハ2表面に
垂直に入射するように、ミラー8が一定角度傾斜
して設けられている。そして、上記光路体5、光
源6、レンズ7a,7b、ミラー8は、投光部を
構成している。さらに、筐体1の内側上部には、
ウエハ2上において円形をなす光源6からの平行
光線の中心Cに立てた法線Pを中心に45゜間隔で
等配され(第2図参照)、かつ、フレーム9a,
9b…を介して、中心Cを中心とする円弧に形成
された8個の棒状の支持体10a,10b…が取
付けられている。すなわち、支持体10a,10
bはX方向に、支持体10c,10dはY方向
に、支持体10e,10fはR方向に、支持体1
0g,10hはR方向になるように配設され、こ
れら支持体10a,10b,10c,10d,1
0e,10f,10g,10hは、中心Cを中心
とする同一の球面上にのるように配置されてい
る。すなわち、各支持体10a,10b…は、中
心Cを中心とする球の大円の一部をなしている。
上記各支持体10a,10b…には、上記法線P
を0゜として10゜おきにフオト・ダイオードや太陽
電池等の受光素子11−i(ただし、iは受光素
子の特定のためのもので、i=1、2、…、40で
ある。以下同じ。)が、被測定物2からの拡散反
射光を受光するように嵌設されている。したがつ
て、ある受光素子11を特定することにより、法
線Pからの反射角が明らかになるようになつてい
る。そして、筐体1、載置台3、支持体10a,
10b…、受光素子11−iは受光部14を構成
している。第3図において、上記受光素子11−
iは、増幅器12−i(ただし、i=1、2、…、
40)を介して、例えばマルチプレクサなどのよう
な電気的に切換操作を行う切換スイツチ13の入
力側に各別に接続されている。上記受光素子11
−iは、受光部14を構成している。上記切換ス
イツチ13の出力側は、増幅器15を介してアナ
ログ−デイジタル(A/D)変換器16に接続さ
れている。このA/D変換器16は、インターフ
エイス17を介してCPU(中央処理装置)18に
電気的に接続されている。このCPU18は、イ
ンターフエイス19を介して演算結果を表示する
ために、CRT又はプリンタ等の表示部20に電
気的に接続されている。また、CPU18は制御
信号を伝送するための制御バスによりA/D変換
器16及び切換スイツチ13の入力側に接続され
ている。さらに、CPU18は、システムバス2
1を介して、RAM(Random Access Memory)
22及びROM(Read Only Memory)23に電
気的に接続されている。ROM23には、後述す
るように、校正用試料に対する各受光素子11−
iの基準値及び計算プログラムが格納されてい
る。すなわちROM23には、例えば第4図に示
したようなアルミニウム蒸着膜の表面が鏡面の場
合()、残留ガスにより白濁した場合()、お
よび結晶成長により白濁した場合()の予め測
定された標準的な反射分布曲線を示すデータが、
あらかじめ格納されている。この反射分布曲線
は、横軸が法線Pを基準とした反射角、縦軸が反
射強度を示している。しかして、CPU18から
の反射強度を示すデータはインターフエイス19
を介して表示部20へ送られ、必要に応じてデー
タ表示が行なわれる。また、RAM22には、後
述するように、実際のデータが格納される。上記
RAM22及びROM23は記憶装置24を構成
している。また、インターフエイス17,19、
CPU18、RAM22、ROM23はマイクロコ
ンピユータ等の演算制御部25を構成している。
つぎに、上記構成のボンデイング性評価装置を
用いてこの実施例のボンデイング性評価方法につ
いて説明する。
用いてこの実施例のボンデイング性評価方法につ
いて説明する。
まず、筐体1中の載置台3の傾斜角並びに光源
16、ミラー8及びレンズ7,7について、光源
6からの光が、載置台3に載置された被測定物2
に対して完全に垂直に入光するように微調整を行
う。さらに、受光素子11−iが中心Cを中心と
する同一球面上にあるように微調整する。そし
て、まず、CPU18によつてRAM22の内容を
クリアして、切換スイツチ13に切換制御信号
CBを送り、支持体10a上の最外側の受光素子
11−1からの出力をA/D変換器16を介して
取り込み、これをRAM22の先頭アドレスの記
憶位置に格納させる。したがつて、この最初のデ
ータは、支持体10a上で法線Pから50゜をなす
反射角のデータである。最初のデータが、RAM
22に格納されると、CPU18の切換制御信号
CBにより切換スイツチ13が切換えられて同時
にRAM22の2番目のアドレスが指定され、素
子11−2からのデータが2番目の記憶位置に格
納される。以下同様にして受光素子11−40ま
でのデータがRAM22に格納される。素子11
−1…11−40からの各反射角位置における受
光量を示すデータが、RAM22に格納される
と、CPU18は、ROM25から第4図に示した
標準反射分布曲線のデータを読み出して、表示部
20上に表示させる。つぎに、CPU18により
RAM22に格納されたウエハ2に関する測定デ
ータが読み出される。まず、50゜の反射角位置に
あるすべての受光素子11−1,11−10,1
1−11,11−20,11−21,11−3
0,11−31,11−40の出力電圧値データ
のうち、受光素子11−1,11−20,11−
21,11−31からの出力電圧値データの算術
平均値が、CPU18により計算された後、後述
する変換曲線により反射強度データに変換され、
表示部20上の−50゜の反射角位置にプロツトさ
れる。一方、受光素子11−10,11−11,
11−30,11−40からの出力電圧値、デー
タの算術平均値が計算されて、同様にして、反射
強度データが表示部20上の50゜の反射角位置に
プロツトされる。同様にして、支持体10a,1
0d,10e,10g上の40゜〜10゜の各反射角位
置の4個の受光素子出力電圧値の算術平均値が−
40゜、−30゜、−20゜、−10゜の位置にプロツトされる
。
支持体10b,10c,10f,10h上の各
40゜〜10゜の反射角位置の素子出力電圧値の平均値
もそれぞれ40゜、30゜、20゜、10゜の位置にプロツト
される。第1図及び第2図では、説明の便宜上、
各支持体10a…10hには5個の受光素子11
−iを設けたが、実際には10゜〜90゜の反射角に対
し、9個の受光素子を各支持体に設ければ、第4
図の標準曲線と測定値とをすべての角度について
対応させることができる。しかしながら、第4図
により明らかなように、各曲線〜の特徴的な
部分は、0゜〜50゜の間に含まれており、第1図及
び第2図の場合でも十分な評価はできる。さて、
RAM22から読み出して表示部20上にプロツ
トされた測定データの曲線が、曲線に近似して
いたものとすれば、これはウエハ2の表面が光沢
を有するほぼ鏡面状態にあることを示す。ただ
し、第4図の0゜付近のデータは、この実施例で
は、平行光線Aの通路に対応する位置に受光素子
が設けられていないので、得られないが、曲線
のように中央が非常に高いピークを示すようにな
ることは容易に推測できる。すなわち、曲線の
ようになるときは、アルミニウム蒸着膜が正常で
あり、ボンデイング性が良好なことがわかる。一
方、残留ガスによりアルミニウム蒸着面が荒れて
外観が白濁していると、反射角0゜において最大値
をとり、反射角が大きくなるに従つて反射量が漸
減する曲線に近似する測定曲線となる。この場
合は蒸着面はボンデイング性は不良であると評価
される。また、アルミニウム蒸着面が結晶成長面
であるときは、外観は残留ガスによる場合と同様
に白濁するが、測定曲線は曲線と近似した、反
射角が±30゜前後に極大値を有する曲線となる。
従つて、この場合は外観の白濁にかかわらず、ボ
ンデイング性良好な蒸着面として評価される。上
記の説明では、各角度位置の複数の受光素子11
−iの出力データの平均値を算出し、さらに、反
射強度に変換して、これを表示部20上にプロツ
トしたが、例えば、第2図のY−Y線上の受光素
子11−31…11−40の出力電圧値、データ
から求められた反射強度データをそのまま表示部
20上にそれぞれ−50゜から+50゜までの位置にプ
ロツトするようにしてもほぼ満足できる評価を蒸
着面に付いて与えることができる。ところで、前
記出力電圧値を反射強度に変換するための変換曲
線(第5図参照)は、第6図に示すフローチヤー
トに従つて、次のようにして求める。すなわち、
まず増幅器12−1,…,12−40の増幅率を
調整し均一化する。したがつて、マルチプレクサ
13に入力される受光素子11−iの出力は、同
一光量に対して同じ出力レベルとなる。この状態
で、載置台3上に、ウエハ2の代りに図示しない
校正用試料を置く(ステツプ(28))。この校正用
試料は、硫酸バリウムの粉末が表面に被着された
外観が白色の拡散反射板である。この反射板の表
面は、便宜上、反射強度が100であるとする。
しかして、この100%拡散反射板の表面に平行光
線Aを投射すると、入射光は、ほぼ100%拡散反
射され、受光素子11−iに受光される(ステツ
プ(29))。このとき各受光素子11−iからA/
D変換器16を介して実際に出力される電圧値は
Vi(100)となつている。したがつて、第5図に
示すように、縦軸に反射強度を、横軸に電圧値
Vをとると、100%拡散反射板の座標Pi(100)は
(Vi(100)、100)となり、RAM22中に格納さ
れる(ステツプ(30))。つぎに、100%拡散反射
板を、他の校正用試料である表面が鏡面をなす0
%反射板と交換する(ステツプ(31))。この0%
反射板は、入射した光をすべて正反射し、拡散反
射は生じないので、便宜上、反射強度が0であ
るとする。しかして、この0%反射板の表面に平
行光線Aを投射すると、入射光は、すべて正反射
する(ステツプ(32))。このとき受光素子11−
iからA/D変換器16を介して実際に出力され
る電圧値はVi(0)となつている。したがつて、
第5図における0%反射板の座標Pi(0)は(Vi
(0)、0)となり、RAM22中に格納される
(ステツプ(33))。かくして、第5図において、
座標Pi(0)、Pi(100)を結ぶ直線Liが、当該測定
時点において、受光素子11−iからA/D変換
器16を介して出力された電圧値Vi(M)を、反
射強度に変換する変換直線となる。この変換直
線Liは、次式により求められる。
16、ミラー8及びレンズ7,7について、光源
6からの光が、載置台3に載置された被測定物2
に対して完全に垂直に入光するように微調整を行
う。さらに、受光素子11−iが中心Cを中心と
する同一球面上にあるように微調整する。そし
て、まず、CPU18によつてRAM22の内容を
クリアして、切換スイツチ13に切換制御信号
CBを送り、支持体10a上の最外側の受光素子
11−1からの出力をA/D変換器16を介して
取り込み、これをRAM22の先頭アドレスの記
憶位置に格納させる。したがつて、この最初のデ
ータは、支持体10a上で法線Pから50゜をなす
反射角のデータである。最初のデータが、RAM
22に格納されると、CPU18の切換制御信号
CBにより切換スイツチ13が切換えられて同時
にRAM22の2番目のアドレスが指定され、素
子11−2からのデータが2番目の記憶位置に格
納される。以下同様にして受光素子11−40ま
でのデータがRAM22に格納される。素子11
−1…11−40からの各反射角位置における受
光量を示すデータが、RAM22に格納される
と、CPU18は、ROM25から第4図に示した
標準反射分布曲線のデータを読み出して、表示部
20上に表示させる。つぎに、CPU18により
RAM22に格納されたウエハ2に関する測定デ
ータが読み出される。まず、50゜の反射角位置に
あるすべての受光素子11−1,11−10,1
1−11,11−20,11−21,11−3
0,11−31,11−40の出力電圧値データ
のうち、受光素子11−1,11−20,11−
21,11−31からの出力電圧値データの算術
平均値が、CPU18により計算された後、後述
する変換曲線により反射強度データに変換され、
表示部20上の−50゜の反射角位置にプロツトさ
れる。一方、受光素子11−10,11−11,
11−30,11−40からの出力電圧値、デー
タの算術平均値が計算されて、同様にして、反射
強度データが表示部20上の50゜の反射角位置に
プロツトされる。同様にして、支持体10a,1
0d,10e,10g上の40゜〜10゜の各反射角位
置の4個の受光素子出力電圧値の算術平均値が−
40゜、−30゜、−20゜、−10゜の位置にプロツトされる
。
支持体10b,10c,10f,10h上の各
40゜〜10゜の反射角位置の素子出力電圧値の平均値
もそれぞれ40゜、30゜、20゜、10゜の位置にプロツト
される。第1図及び第2図では、説明の便宜上、
各支持体10a…10hには5個の受光素子11
−iを設けたが、実際には10゜〜90゜の反射角に対
し、9個の受光素子を各支持体に設ければ、第4
図の標準曲線と測定値とをすべての角度について
対応させることができる。しかしながら、第4図
により明らかなように、各曲線〜の特徴的な
部分は、0゜〜50゜の間に含まれており、第1図及
び第2図の場合でも十分な評価はできる。さて、
RAM22から読み出して表示部20上にプロツ
トされた測定データの曲線が、曲線に近似して
いたものとすれば、これはウエハ2の表面が光沢
を有するほぼ鏡面状態にあることを示す。ただ
し、第4図の0゜付近のデータは、この実施例で
は、平行光線Aの通路に対応する位置に受光素子
が設けられていないので、得られないが、曲線
のように中央が非常に高いピークを示すようにな
ることは容易に推測できる。すなわち、曲線の
ようになるときは、アルミニウム蒸着膜が正常で
あり、ボンデイング性が良好なことがわかる。一
方、残留ガスによりアルミニウム蒸着面が荒れて
外観が白濁していると、反射角0゜において最大値
をとり、反射角が大きくなるに従つて反射量が漸
減する曲線に近似する測定曲線となる。この場
合は蒸着面はボンデイング性は不良であると評価
される。また、アルミニウム蒸着面が結晶成長面
であるときは、外観は残留ガスによる場合と同様
に白濁するが、測定曲線は曲線と近似した、反
射角が±30゜前後に極大値を有する曲線となる。
従つて、この場合は外観の白濁にかかわらず、ボ
ンデイング性良好な蒸着面として評価される。上
記の説明では、各角度位置の複数の受光素子11
−iの出力データの平均値を算出し、さらに、反
射強度に変換して、これを表示部20上にプロツ
トしたが、例えば、第2図のY−Y線上の受光素
子11−31…11−40の出力電圧値、データ
から求められた反射強度データをそのまま表示部
20上にそれぞれ−50゜から+50゜までの位置にプ
ロツトするようにしてもほぼ満足できる評価を蒸
着面に付いて与えることができる。ところで、前
記出力電圧値を反射強度に変換するための変換曲
線(第5図参照)は、第6図に示すフローチヤー
トに従つて、次のようにして求める。すなわち、
まず増幅器12−1,…,12−40の増幅率を
調整し均一化する。したがつて、マルチプレクサ
13に入力される受光素子11−iの出力は、同
一光量に対して同じ出力レベルとなる。この状態
で、載置台3上に、ウエハ2の代りに図示しない
校正用試料を置く(ステツプ(28))。この校正用
試料は、硫酸バリウムの粉末が表面に被着された
外観が白色の拡散反射板である。この反射板の表
面は、便宜上、反射強度が100であるとする。
しかして、この100%拡散反射板の表面に平行光
線Aを投射すると、入射光は、ほぼ100%拡散反
射され、受光素子11−iに受光される(ステツ
プ(29))。このとき各受光素子11−iからA/
D変換器16を介して実際に出力される電圧値は
Vi(100)となつている。したがつて、第5図に
示すように、縦軸に反射強度を、横軸に電圧値
Vをとると、100%拡散反射板の座標Pi(100)は
(Vi(100)、100)となり、RAM22中に格納さ
れる(ステツプ(30))。つぎに、100%拡散反射
板を、他の校正用試料である表面が鏡面をなす0
%反射板と交換する(ステツプ(31))。この0%
反射板は、入射した光をすべて正反射し、拡散反
射は生じないので、便宜上、反射強度が0であ
るとする。しかして、この0%反射板の表面に平
行光線Aを投射すると、入射光は、すべて正反射
する(ステツプ(32))。このとき受光素子11−
iからA/D変換器16を介して実際に出力され
る電圧値はVi(0)となつている。したがつて、
第5図における0%反射板の座標Pi(0)は(Vi
(0)、0)となり、RAM22中に格納される
(ステツプ(33))。かくして、第5図において、
座標Pi(0)、Pi(100)を結ぶ直線Liが、当該測定
時点において、受光素子11−iからA/D変換
器16を介して出力された電圧値Vi(M)を、反
射強度に変換する変換直線となる。この変換直
線Liは、次式により求められる。
Ii=100/Vi(100)−Vi(0)(Vi−Vi(0)) …
この式もRAM22中に格納される(ステツ
プ(33a))。上記座標Pi(0)、Pi(100)及び交換
直線Liは、各光電変換素子11−iごとに求めら
れRAM22に格納される。しかして、実際の測
定においては、まずウエハ2を載置台3上にセツ
トする(ステツプ(34))。しかして、このウエハ
2に光を投射し、そのときの反射光を各受光素子
11−iにて受光する(ステツプ(35))。このと
き各受光素子11−iからA/D変換器16を介
して出力された電圧値Vi(M)をいつたんRAM
22に格納する(ステツプ(36))。ついで、式
を用いて得られた電圧値Vi(M)を反射強度i
(M)に変換する(ステツプ(37))。これら変換
された反射強度i(M)データは表示部20に
て第4図に示すように表示される(ステツプ
(38))。ついで、表示部20にて表示された表示
曲線は、第4図の標準曲線〜と比較され、ウ
エハ2上に蒸着されたアルミニウム蒸着膜のボン
デイング性の良否が比較される。なお、上記変換
直線Liは、例えば、光源6のランプの光量変化、
増幅器15のゲイン変化、載置台3の傾き等に基
因して経時的に変化する。したがつて、変換直線
は、時間の経過とともに第5図、Li′,Li″,Li
…というように異なるものとなる。それゆえ、こ
の変換直線は、たとえば、ウエハ2を100回測定
するごとに、逐時更新し、新たに格納された変換
直線により、出力電圧値Vi(M)を反射強度i
に変換する。その結果、前述の経時的変動の影響
を受けない、反射分布曲線を得ることができる。
プ(33a))。上記座標Pi(0)、Pi(100)及び交換
直線Liは、各光電変換素子11−iごとに求めら
れRAM22に格納される。しかして、実際の測
定においては、まずウエハ2を載置台3上にセツ
トする(ステツプ(34))。しかして、このウエハ
2に光を投射し、そのときの反射光を各受光素子
11−iにて受光する(ステツプ(35))。このと
き各受光素子11−iからA/D変換器16を介
して出力された電圧値Vi(M)をいつたんRAM
22に格納する(ステツプ(36))。ついで、式
を用いて得られた電圧値Vi(M)を反射強度i
(M)に変換する(ステツプ(37))。これら変換
された反射強度i(M)データは表示部20に
て第4図に示すように表示される(ステツプ
(38))。ついで、表示部20にて表示された表示
曲線は、第4図の標準曲線〜と比較され、ウ
エハ2上に蒸着されたアルミニウム蒸着膜のボン
デイング性の良否が比較される。なお、上記変換
直線Liは、例えば、光源6のランプの光量変化、
増幅器15のゲイン変化、載置台3の傾き等に基
因して経時的に変化する。したがつて、変換直線
は、時間の経過とともに第5図、Li′,Li″,Li
…というように異なるものとなる。それゆえ、こ
の変換直線は、たとえば、ウエハ2を100回測定
するごとに、逐時更新し、新たに格納された変換
直線により、出力電圧値Vi(M)を反射強度i
に変換する。その結果、前述の経時的変動の影響
を受けない、反射分布曲線を得ることができる。
(7) 発明の変形例
上記実施例においては、反射率が0%及び100
%の校正用試料を用いたが、これに限ることなく
例えば反射率が20%及び80%の校正用試料を用い
てもよい。また、反射率の異なる三個以上の校正
用試料を用いて補正直線を最小二乗法により求め
得られた実際の受光量を補正するようにしてもよ
い。さらに、上記実施例においては、アルミニウ
ム蒸着膜のボンデイング性に対する適否の判定は
表示部20にて表示された反射分布曲線を検査員
が見て行つているが、これに限ることなく、判定
用のプログラムをROM23にあらかじめ格納し
てCPU18にて判定のための演算処理を行うよ
うにしてもよい。この場合において、判定基準と
なる理想的条件下で測定された反射分布曲線を
ROM23に記憶させ、一定期間経過後測定され
た反射分布曲線と上記ROM23に記憶された反
射分布曲線とを比較する場合でも、本発明におい
ては、経時的変動の影響が解消された反射分布曲
線と判定基準となる反射分布曲線の比較であるの
で、判定精度が顕著に向上する。また、受光素子
11−iは、各受光体10a,10b…上に設け
ているが、光フアイバーを用いることにより受光
素子11−iを筐体1外に設けることもできる。
さらに、各受光体10a,10b…上に複数の受
光素子11−iを固定することなく、1個の受光
素子11で各支持体10a,10b…上を走査す
るようにしてもよい。また、受光素子11−iを
10゜おきに配置したが、拡散反射分布形状さえわ
かるのであれば何度おきの配置でも良い。
%の校正用試料を用いたが、これに限ることなく
例えば反射率が20%及び80%の校正用試料を用い
てもよい。また、反射率の異なる三個以上の校正
用試料を用いて補正直線を最小二乗法により求め
得られた実際の受光量を補正するようにしてもよ
い。さらに、上記実施例においては、アルミニウ
ム蒸着膜のボンデイング性に対する適否の判定は
表示部20にて表示された反射分布曲線を検査員
が見て行つているが、これに限ることなく、判定
用のプログラムをROM23にあらかじめ格納し
てCPU18にて判定のための演算処理を行うよ
うにしてもよい。この場合において、判定基準と
なる理想的条件下で測定された反射分布曲線を
ROM23に記憶させ、一定期間経過後測定され
た反射分布曲線と上記ROM23に記憶された反
射分布曲線とを比較する場合でも、本発明におい
ては、経時的変動の影響が解消された反射分布曲
線と判定基準となる反射分布曲線の比較であるの
で、判定精度が顕著に向上する。また、受光素子
11−iは、各受光体10a,10b…上に設け
ているが、光フアイバーを用いることにより受光
素子11−iを筐体1外に設けることもできる。
さらに、各受光体10a,10b…上に複数の受
光素子11−iを固定することなく、1個の受光
素子11で各支持体10a,10b…上を走査す
るようにしてもよい。また、受光素子11−iを
10゜おきに配置したが、拡散反射分布形状さえわ
かるのであれば何度おきの配置でも良い。
(8) 発明の効果
本発明によれば、半導体ウエハのアルミニウム
蒸着膜へのワイヤのボンデイング性の良否の評価
を、長期間にわたる光源の光量変化、増幅部にお
ける増幅率の変化、筐体の傾き等の経時的変動の
影響を受けることなく、高精度かつ高能率に行う
ことができる。とくに、目視検査では一様に白濁
してみえるために混同してしまう、アルミニウム
蒸着膜が異常に結晶成長しているにもかかわらず
良品となる場合と、アルミニウム蒸着膜が残留ガ
スによつて表面荒れしているために不良品となる
場合とを正確に峻別することができる格別の効果
を奏することができ、誤判定による損失が低減し
製品歩留りが向上する。
蒸着膜へのワイヤのボンデイング性の良否の評価
を、長期間にわたる光源の光量変化、増幅部にお
ける増幅率の変化、筐体の傾き等の経時的変動の
影響を受けることなく、高精度かつ高能率に行う
ことができる。とくに、目視検査では一様に白濁
してみえるために混同してしまう、アルミニウム
蒸着膜が異常に結晶成長しているにもかかわらず
良品となる場合と、アルミニウム蒸着膜が残留ガ
スによつて表面荒れしているために不良品となる
場合とを正確に峻別することができる格別の効果
を奏することができ、誤判定による損失が低減し
製品歩留りが向上する。
第1図は本発明のボンデイング性評価方法に用
いられるボンデイング性評価装置の要部断面図、
第2図は第1図の受光部の受光素子の配列を示す
図、第3図は第1図の電気回路系統図、第4図は
各種の反射分布曲線を示す図、第5図は出力電圧
値を反射強度に変換するための変換直線を示す
図、第6図は本発明の一実施例のボンデイング性
評価方法を説明するためのフローチヤートであ
る。 1:筐体(遮光手段)、2:被測定物、6:光
源(投光手段)、11−i:受光素子(受光手
段)、14:受光部(−手段)、16:アナログ−
デイジタル(A/D)変換器(−手段)、18:
中央処理装置(演算手段)、24:記憶装置、2
5:演算制御部(演算手段)。
いられるボンデイング性評価装置の要部断面図、
第2図は第1図の受光部の受光素子の配列を示す
図、第3図は第1図の電気回路系統図、第4図は
各種の反射分布曲線を示す図、第5図は出力電圧
値を反射強度に変換するための変換直線を示す
図、第6図は本発明の一実施例のボンデイング性
評価方法を説明するためのフローチヤートであ
る。 1:筐体(遮光手段)、2:被測定物、6:光
源(投光手段)、11−i:受光素子(受光手
段)、14:受光部(−手段)、16:アナログ−
デイジタル(A/D)変換器(−手段)、18:
中央処理装置(演算手段)、24:記憶装置、2
5:演算制御部(演算手段)。
Claims (1)
- 1 基体に被着されたアルミニウム蒸着膜へのワ
イヤのボンデイング性の良否を評価するボンデイ
ング性評価方法において、上記アルミニウム蒸着
膜に対してほぼ直交する方向に平行光線を投射す
る第1工程と、上記アルミニウム蒸着膜への上記
平行光線の投射位置を中心とする球面上の大円に
沿つて上記アルミニウム蒸着膜からの反射光を受
光し受光量を示す電気信号に変換する第2工程
と、反射率の異なる複数の校正用試料に上記平行
光線を投射するとともにこのときの反射光を受光
し受光量を示す電気信号に変換する第3工程と、
この第3工程にて得られた電気信号に基づいて上
記第2工程で得られた電気信号が示す電圧値を反
射強度に変換する変換直線を求める第4工程と、
上記変換直線及び上記第2工程にて得られた電気
信号に基づき反射角と反射強度との関係を示し且
つ正反射領域とこの正反射領域の両側にある拡散
反射領域からなる反射分布曲線を得る第5工程
と、この第5工程にて得られた反射分布曲線に基
づき上記アルミニウム蒸着膜のボンデイング性の
良否を判定する第6工程とを具備し、上記第6工
程におけるボンデイング性の良否の判定は、上記
ボンデイング性が不良なアルミニウム蒸着膜が上
記ボンデイング性が良好なアルミニウム蒸着膜よ
りも上記反射分布曲線の拡散反射領域の受光量が
大きく且つ上記正反射領域の両側にて極大値を有
さない特性に従つて行うことを特徴とするボンデ
イング性評価方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56209509A JPS58111743A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | ボンディング性評価方法 |
US06/404,899 US4583861A (en) | 1981-08-12 | 1982-08-03 | Surface condition judging apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56209509A JPS58111743A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | ボンディング性評価方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58111743A JPS58111743A (ja) | 1983-07-02 |
JPH0119534B2 true JPH0119534B2 (ja) | 1989-04-12 |
Family
ID=16573971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56209509A Granted JPS58111743A (ja) | 1981-08-12 | 1981-12-26 | ボンディング性評価方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58111743A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4763134B2 (ja) * | 1998-12-21 | 2011-08-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | スキャッタメータ |
ES2235608B1 (es) * | 2003-07-15 | 2006-11-01 | Consejo Sup. De Invest. Cientificas | Metodo optico y dispositivo para la cuantificacion de la textura en celulas fotovoltaicas. |
DE202004011811U1 (de) * | 2004-07-28 | 2005-12-08 | Byk-Gardner Gmbh | Vorrichtung zur goniometrischen Untersuchung optischer Oberflächeneigenschaften |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5183587A (ja) * | 1974-12-06 | 1976-07-22 | Hycel Inc |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP56209509A patent/JPS58111743A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5183587A (ja) * | 1974-12-06 | 1976-07-22 | Hycel Inc |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58111743A (ja) | 1983-07-02 |
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