JPH01191853A - Pellicle film - Google Patents

Pellicle film

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JPH01191853A
JPH01191853A JP63016320A JP1632088A JPH01191853A JP H01191853 A JPH01191853 A JP H01191853A JP 63016320 A JP63016320 A JP 63016320A JP 1632088 A JP1632088 A JP 1632088A JP H01191853 A JPH01191853 A JP H01191853A
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JP
Japan
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fluorine
pellicle
thin film
meth
ether oxygen
Prior art date
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Application number
JP63016320A
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Japanese (ja)
Inventor
Tokinori Ago
時則 吾郷
Masahide Tanaka
正秀 田中
Hitomi Matsuzaki
仁美 松崎
Takamasa Tsumoto
高政 津本
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent generation of interference light, to enhance ray transmittance and to increase the adhesive power between a thin transparent film and antireflection layer by forming the antireflection layer consisting of fluorine- contained poly(meth)acrylate. CONSTITUTION:The antireflection layer consisting of the fluorine-contained poly(meth)acrylate which is a copolymer of one kind of the monomer selected from formula I and at least one kind of the monomer selected from formula II is formed on one face of the thin transparent film. In formulas I and II, R<1> denotes H or methyl group, R<2> denotes a straight chain fluoroalkyl group without contg. ether oxygen; R<3> denotes H or methyl group; R<4> denotes a straight chain fluoroalkyl group contg. ether oxygen or branch fluoroalkyl group which may contain the ether oxygen. The polymer of a desired fluorine content is obtd. by properly changing the kinds of the substituents of R<1>-R<4>, copolymer compsn., etc.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はフォトマスクやレチクルの防塵カバーとしての
ペリクルに使用される反射防止層を有するペリクル膜に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a pellicle film having an antireflection layer used in a pellicle as a dustproof cover for a photomask or reticle.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体露光工程において、ペリクルと称する防塵カバー
をフォトマスクまたはレチクルと組合わせて使用するこ
とによって、塵による露光工程への影響を防止し、生産
性を向上する方法が提案されている(特公昭54−28
716号)。ペリクルはペリクル枠の一側面にペリクル
膜を張った構造であり、フォトマスクやレチクルに重ね
て使用される。
In the semiconductor exposure process, a method has been proposed for preventing the influence of dust on the exposure process and improving productivity by using a dustproof cover called a pellicle in combination with a photomask or reticle (Japanese Patent Publication No. 54 -28
No. 716). A pellicle has a structure in which a pellicle film is stretched on one side of a pellicle frame, and is used over a photomask or reticle.

このようなペリクルを構成するペリクル膜としては、従
来ニトロセルロースの単層薄膜が主として利用されてい
るが、露光工程におけるスループットの向上等を目的と
してニトロセルロースの透明薄膜上に反射防止層を設け
たペリクル膜が提案されている(特開昭60−2374
50号、特開昭61−53601号あるいは特開昭61
−209449号)。
Conventionally, a single-layer thin film of nitrocellulose has been mainly used as the pellicle membrane that makes up such a pellicle, but in order to improve throughput in the exposure process, an anti-reflection layer is provided on a transparent thin film of nitrocellulose. A pellicle membrane has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-2374
No. 50, JP-A-61-53601 or JP-A-61
-209449).

このうち特開昭60−237450号には、フッ素系ポ
リマーまたはシリコン系ポリマーを反射防止層として利
用することが記載されているが、フッ素系ポリマーとし
て示されているのはテトラフルオロエチレン・ビニリデ
ンフルオライドコポリマーまたはテトラフルオロエチレ
ン・ビニリデンフルオライド・ヘキサフルオロプロピレ
ンコポリマーである。また特開昭61−53601号に
も、フッ素系ポリマーやシリコン系ポリマーを反射防止
層として使用できることが示されているが、フッ素系ポ
リマーとして具体的に示されているものはテトラフルオ
ロエチレン・ビニリデンフルオライド・ヘキサフルオロ
プロピレンコポリマーである。特開昭61−20944
9号には、 ポリフルオロ(メタ)アクリレートを含む
フッ素系ポリマーが反射防止層として使用できると記載
されているが、具体的に説明されているのは前記と同じ
くテトラフルオロエチレン・ビニリデンフルオライド・
ヘキサフルオロプロピレンポリマーである。
Among these, JP-A No. 60-237450 describes the use of fluorine-based polymers or silicone-based polymers as antireflection layers, but the fluorine-based polymers shown are tetrafluoroethylene vinylidene fluorocarbons. Ride copolymer or tetrafluoroethylene-vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer. JP-A-61-53601 also indicates that fluorine-based polymers and silicone-based polymers can be used as antireflection layers, but the fluorine-based polymers specifically shown are tetrafluoroethylene, vinylidene, etc. It is a fluoride/hexafluoropropylene copolymer. Japanese Patent Publication No. 61-20944
No. 9 states that a fluorine-based polymer containing polyfluoro(meth)acrylate can be used as an antireflection layer, but the specific explanation is similar to the above, such as tetrafluoroethylene vinylidene fluoride.
It is a hexafluoropropylene polymer.

〔発明が解決しようする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、このような従来の反射防止層を有するペ
リクル膜は光線透過率が低いうえ、透明薄膜と反射防止
層の接着力が弱いという問題点があった。このため基板
上に形成されたペリクル膜を基板から剥離する際、水中
で膨潤剥離する必要があり、乾燥時にペリクル膜にシワ
が発生するおそれがあるうえ、生産性も悪い。
However, such a conventional pellicle film having an antireflection layer has problems in that it has low light transmittance and the adhesive strength between the transparent thin film and the antireflection layer is weak. Therefore, when the pellicle film formed on the substrate is peeled off from the substrate, it is necessary to swell and peel it off in water, which may cause wrinkles in the pellicle film when drying, and also has poor productivity.

本発明の目的は、光の反射を防止することにより干渉光
の発生を防止することが可能で、高い光線透過率を有す
るとともに、透明薄膜との接着力が大きく、かつ粘着性
の低いペリクル膜を提供することである。
An object of the present invention is to provide a pellicle film that can prevent the generation of interference light by preventing light reflection, has high light transmittance, has high adhesive strength with a transparent thin film, and has low adhesiveness. The goal is to provide the following.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

すなわち本発明は、透明薄膜の少なくとも一方の面に、
一般式 %式%(1) 〔但し、R1はHまたはメチル基、R2はエーテル酸素
を含まない直鎖状のフルオロアルキル基である。〕から
選ばれる少なくとも1種のモノマーと。
That is, in the present invention, on at least one surface of a transparent thin film,
General formula % Formula % (1) [However, R1 is H or a methyl group, and R2 is a linear fluoroalkyl group containing no ether oxygen. ] and at least one monomer selected from the following.

一般式 %式%() 〔但し、R3はHまたはメチル基、R4はエーテル酸素
を含む直鎖状のフルオロアルキル基またはエーテル酸素
を含んでいてもよい分岐状のフルオロアルキル基である
。〕 から選ばれる少なくとも1種の七ツマ−との共重合体で
ある含フツ素ポリ(メタ)アクリレートからなる反射防
止層が形成されていることを特徴とする反射防止型ペリ
クル膜である。
General formula % Formula % () [However, R3 is H or a methyl group, and R4 is a linear fluoroalkyl group containing ether oxygen or a branched fluoroalkyl group which may contain ether oxygen. ] This is an antireflection type pellicle film characterized in that an antireflection layer is formed of a fluorine-containing poly(meth)acrylate that is a copolymer with at least one type of heptamine selected from the following.

本発明において、ペリクル膜の本体となる透明薄膜とし
ては、露光に採用される350〜450nmの波長にお
ける平均光線透過率の大きいものであればよいが、ニト
ロセルロース、エチルセルロース、プロピオン酸セルロ
ース等のセルロース誘導体薄膜が好ましい、これらのう
ちでも、350〜4501間の平均光線透過率および膜
強度の面がら、ニトロセルロースが好ましい。ニトロセ
ルロースは11〜12.5%、特に11.5〜12.2
%の硝化度(N%)、および150,000〜350,
000、特4.−170,000〜320.000ノ平
均分子葉(重量平均、My)を有するものが好ましい。
In the present invention, the transparent thin film serving as the main body of the pellicle membrane may be any film having a high average light transmittance at a wavelength of 350 to 450 nm used for exposure, but cellulose such as nitrocellulose, ethylcellulose, cellulose propionate, etc. Derivative thin films are preferred, and among these, nitrocellulose is preferred from the viewpoint of average light transmittance between 350 and 4501 and film strength. Nitrocellulose is 11-12.5%, especially 11.5-12.2
% nitrification degree (N%), and 150,000 to 350,
000, special 4. Those having an average molecular weight (weight average, My) of -170,000 to 320,000 are preferred.

ここで平均光線透過率とは、350〜450nmの間で
起こる光線透過率の干渉波の山部と谷部を同数とり平均
した値である。
Here, the average light transmittance is a value obtained by taking the same number of peaks and valleys of interference waves of light transmittance occurring between 350 and 450 nm and averaging them.

透過薄膜の厚みは、350〜450n−間の目的とする
波長に対する透過率が高くなるように選択されるが、現
在使用されている露光波長の436nm+405na+
 +365nmに対する透過率を高くするには通常2.
85μm、また436nmに対する透過率を高くするに
は0.865μ−が選択される。
The thickness of the transparent thin film is selected so that the transmittance for the target wavelength between 350 and 450n is high, but the currently used exposure wavelength of 436nm+405n+
To increase the transmittance for +365 nm, 2.
In order to increase the transmittance to 85 μm and 436 nm, 0.865 μ- is selected.

このような透明薄膜上に形成される反射防止層は一般式 %式%) 〔但し、R1はHまたはメチル基、R2はエーテル酸素
を含まない直鎖状のフルオロアルキル基である。〕から
選ばれる少なくとも1種のモノマーと。
The antireflection layer formed on such a transparent thin film has the general formula (%) (where R1 is H or a methyl group, and R2 is a linear fluoroalkyl group containing no ether oxygen. ] and at least one monomer selected from the following.

一般式 %式%() 〔但し、R3はHまたはメチル基、R4はエーテル酸素
を含む直鎖状のフルオロアルキル基またはエーテル酸素
を含んでいてもよい分岐状のフルオロアルキル基である
。〕 から選ばれる少なくとも1種のモノマーとの共重合体で
ある含フツ素ポリ(メタ)アクリレートからなるもので
あり、R1ないしR4の置換基の種類。
General formula % Formula % () [However, R3 is H or a methyl group, and R4 is a linear fluoroalkyl group containing ether oxygen or a branched fluoroalkyl group which may contain ether oxygen. ] It consists of a fluorine-containing poly(meth)acrylate which is a copolymer with at least one monomer selected from the following, and the types of substituents R1 to R4.

共重合組成等を適宜変化させることによって所望のフッ
素含有率のポリマーを製造することができる。
A polymer having a desired fluorine content can be produced by appropriately changing the copolymer composition and the like.

前記一般式(1)におけるR2としては、炭素数2〜1
4の直鎖状のフルオロアルキル基が好ましく。
R2 in the general formula (1) has 2 to 1 carbon atoms;
4 is preferably a linear fluoroalkyl group.

具体的には、−CH2CF、、 −CH,C2F、、 
−CH2C,F7゜−co、 C4Fs、−C11□C
,F工z−−CHFCFzs−−CHFCF□7゜−C
I12C,Fl、、−CI12C,。F21、−CH,
CH2CF、 。
Specifically, -CH2CF, -CH,C2F,,
-CH2C, F7゜-co, C4Fs, -C11□C
, F engineeringz--CHFCFzs--CHFCF□7゜-C
I12C,Fl, -CI12C,. F21, -CH,
CH2CF, .

−CH,Cl2C,F、、 −C)12CI2C3F、
、 −C112C82C4F、。
-CH,Cl2C,F,, -C)12CI2C3F,
, -C112C82C4F,.

−CH,C112C,Fユ、、 −CI(、CH,C,
F□st −CH,CH2C,F□7゜−CH,CH,
C,Fl、、−C112CI12C工。F2□、−CH
I (CF2 )2 u 。
-CH,C112C,Fyu,, -CI(,CH,C,
F□st -CH, CH2C, F□7゜-CH, CH,
C, Fl, -C112CI12C Eng. F2□, -CH
I(CF2)2u.

−C1l、(CF2)、H,−CH,(CF、)、H,
−CH,(CF2)、H。
-C1l, (CF2), H, -CH, (CF, ), H,
-CH, (CF2), H.

−CHI2(CF、)10)1.−CH,CF、CHF
CF3゜−CH,CF2CHF (CF、 )s Hな
どが例示できる。
-CHI2(CF,)10)1. -CH, CF, CHF
Examples include CF3°-CH, CF2CHF (CF, )sH, and the like.

また一般式(n)におけるR4としては、炭素数3〜1
4の、エーテル酸素を含む直鎖状のフルオロアルキル基
またはエーテル酸素を含んでいてもよい分岐状のフルオ
ロアルキル基が好ましく、具体的には、 −CH(CF、 )2.−(CIl□)s OCF (
CF、 )2 。
In addition, R4 in the general formula (n) has 3 to 1 carbon atoms.
A linear fluoroalkyl group containing an ether oxygen or a branched fluoroalkyl group that may contain an ether oxygen is preferable, and specifically, -CH(CF, )2. −(CIl□)s OCF (
CF, )2.

−(CI、 )、 、 OCF (CF、 )! 。-(CI, ), , OCF (CF, )! .

−C142CF(CF、)CIIFCF(CF3)2.
−CH2CF(C,F5)CH(CF3)2゜−CF(
CF、)CHFCF(CF3)、、 −CF(C,F、
)CI(CF、)、。
-C142CF(CF,)CIIFCF(CF3)2.
-CH2CF(C,F5)CH(CF3)2゜-CF(
CF, )CHFCF(CF3), -CF(C,F,
)CI(CF,),.

−C)l、 CF (C,F? )CH(CF3)CF
 (CF3)2 。
-C)l, CF (C,F?)CH(CF3)CF
(CF3)2.

−CH2C(CF3> (C4Fs )CH(CF、 
)! 。
-CH2C(CF3>(C4Fs)CH(CF,
)! .

−CH,CF(C,F工1 )CH(CF3 )2 。-CH, CF (C, F engineering 1) CH (CF3) 2.

−C1(2CF(CF、)CI(CF3)C(CF3)
(C,F、)、。
-C1(2CF(CF,)CI(CF3)C(CF3)
(C,F,),.

−CH2(CF2)、 0CF1. −CH2(CF2
)、 QC,Fs。
-CH2(CF2), 0CF1. -CH2(CF2
), QC, Fs.

−C11□(CF2 )20C,F、 。-C11□(CF2)20C,F,.

などが例示できる。特に好ましいR4としては。For example, Particularly preferable R4 is R4.

(但し、R’、R@はHまたはメチル基で、それぞれ同
一でも異なっていてもよく、R7、R1、C、Hlll
は−F、 −CF、、 −CF2CF、、 −CF(C
F、)2.−CF、CF(CF、)2、または−CF 
(CF、 )CF (CF3)、で、それぞれ同一でも
異なっていてもよいが、R7とR1または8%、 R2
Oがともに−Fであることはない、〕 がある。具体的には −CH2−CF (CF、 )CHFCF (CF、 
)、 。
(However, R', R@ are H or methyl groups, and may be the same or different, respectively, R7, R1, C, Hllll
is -F, -CF,, -CF2CF,, -CF(C
F,)2. -CF, CF(CF, )2, or -CF
(CF, )CF (CF3), which may be the same or different, R7 and R1 or 8%, R2
Both O's cannot be -F. Specifically, -CH2-CF (CF, )CHFCF (CF,
), .

−CIl、 CF (C2Fs)CH(CF、 )z 
-CIl, CF (C2Fs)CH(CF, )z
.

などが例示できる。このようなR4は、ヘキサフルオロ
プロピレンの二または三量体から誘導される分岐状のフ
ルオロアルキル基である。
For example, Such R4 is a branched fluoroalkyl group derived from a di- or trimer of hexafluoropropylene.

一般式(1)の含フッ素(メタ)アクリレートモノマー
と組合わせる一般式(II)のアルキル基含有(メタ)
アクリレートモノマーの混合割合は70モル%以下、好
ましくは5〜40モル%が好ましい。特に共重合体のフ
ッ素含有率が50重量%以上になる範囲が好ましく、こ
の範囲にある場合に、透明で平均光線透過率が高く、か
つ眉間の乱れによる色ムラや白化が生じない層が得られ
る。
Alkyl group-containing (meth) of general formula (II) combined with fluorine-containing (meth)acrylate monomer of general formula (1)
The mixing ratio of acrylate monomers is preferably 70 mol% or less, preferably 5 to 40 mol%. In particular, a range in which the fluorine content of the copolymer is 50% by weight or more is preferable; in this range, a layer that is transparent, has a high average light transmittance, and does not cause color unevenness or whitening due to glabellar disorder can be obtained. It will be done.

共重合体中のフッ素含有率が50重量%未満になると、
セルロース誘導体等の透明薄膜の製膜時に侵されて色ム
ラを生じ、350〜4500鳳間の波長における最低光
線透過率が90%を下回って、平均光線透過率が低下す
るとともに、干渉光による透過率変動のうねりがシャー
プとなり、透過率の波長依存性が強くなる。
When the fluorine content in the copolymer is less than 50% by weight,
When a transparent thin film such as a cellulose derivative is formed, it is attacked and color unevenness occurs, and the minimum light transmittance at wavelengths between 350 and 4500 is less than 90%, the average light transmittance decreases, and the transmission by interference light is reduced. The undulation of the rate fluctuation becomes sharper, and the wavelength dependence of the transmittance becomes stronger.

反射防止層となる上記含フツ素ポリ(メタ)ア  ゛ク
リレートは、セルロース誘導体等の透明薄膜の片面もし
くは両面に形成されるが、その際の膜厚はターゲットと
する光の波長の1/4n (nは屈折率)とするのが好
ましい。
The above-mentioned fluorine-containing poly(meth)acrylate, which becomes the antireflection layer, is formed on one or both sides of a transparent thin film such as a cellulose derivative, and the film thickness is 1/4 nm of the wavelength of the target light. (n is the refractive index) is preferable.

本発明の反射防止層を有するペリクル膜を製造するには
、セルロース誘導体透明薄膜の場合を例にとって説明す
ると、片面反射防止型ペリクル膜の場合次のように行わ
れる。
In order to manufacture a pellicle film having an antireflection layer according to the present invention, taking the case of a cellulose derivative transparent thin film as an example, in the case of a single-sided antireflection type pellicle film, the process is performed as follows.

すなわち、まずガラス等の平滑な基板上にセルロース誘
導体溶液を供給し、回転製膜法によってセルロース誘導
体の透明薄膜を形成する。セルロース誘導体は良溶媒に
溶解し、濾過等の精製を行った溶液を使用する。溶媒と
してはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル等の低級脂肪酸エステル類、および
前述のケトンまたはエステルとイソプロピルアルコール
等との混合溶媒が使用される。形成される透明薄膜の厚
みは、溶液粘度や基板の回転速度を変化させることによ
り適宜変化させることができる。
That is, first, a cellulose derivative solution is supplied onto a smooth substrate such as glass, and a transparent thin film of the cellulose derivative is formed by a rotational film forming method. The cellulose derivative is dissolved in a good solvent, and a solution that has been purified by filtration or the like is used. As a solvent, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, lower fatty acid esters such as butyl acetate and isobutyl acetate, and mixed solvents of the aforementioned ketones or esters with isopropyl alcohol and the like are used. The thickness of the transparent thin film formed can be changed as appropriate by changing the viscosity of the solution and the rotation speed of the substrate.

基板上に形成されたセルロース誘導体透明薄膜は、熱風
や赤外線ランプ照射等の手段によって乾燥させ、残存溶
媒を除去する。
The cellulose derivative transparent thin film formed on the substrate is dried by means such as hot air or infrared lamp irradiation to remove residual solvent.

次いで、乾燥されたセルロース誘導体薄膜上に前記含フ
ツ素ポリ(メタ)アクリレート共重合体溶液を供給し、
セルロース誘導体薄膜と同様に回転製膜法によりフッ素
ポリマーからなる反射防止層を形成する。この際、含フ
ツ素ポリ(メタ)アクリレート共重合体を溶解させる溶
媒は、芳香族ハロゲン化合物類、フルオロアルキル化ア
ルコール類、ヘキサフルオロプロピレンオリゴマー類、
フッ化環状エーテル化合物類などが用いられる。
Next, supplying the fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer solution onto the dried cellulose derivative thin film,
An antireflection layer made of a fluoropolymer is formed by the rotational film forming method in the same manner as the cellulose derivative thin film. At this time, the solvent for dissolving the fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer is aromatic halogen compounds, fluoroalkylated alcohols, hexafluoropropylene oligomers,
Fluorinated cyclic ether compounds and the like are used.

具体的には H(CF、)、CH,OH,CF、(CF、)、CH,
OH。
Specifically, H (CF, ), CH, OH, CF, (CF, ), CH,
Oh.

F(CF2−CF、)、CH2CH20H,CF3CF
2CH20H。
F(CF2-CF,), CH2CH20H, CF3CF
2CH20H.

などが例示でき、これらの中でもとくにメタキシレンヘ
キサフルオライド、五フッ化プロパツール、ペンシトリ
フルオライドなどが好ましい。
Among these, meta-xylene hexafluoride, propatool pentafluoride, pencitrifluoride and the like are particularly preferred.

これらの特定の溶媒を使用することにより、回転製膜性
の良好な含フツ素ポリ(メタ)アクリレート共重合体溶
液が得られるうえ、含フツ素ポリ(メタ)アクリレート
共重合体からなる反射防止層の形成時に、基層となるセ
ルロース誘瀉体薄膜を溶解させたり膨潤させたりする悪
影響を防止できる。
By using these specific solvents, a fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer solution with good rotary film forming properties can be obtained, and an antireflection solution made of a fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer can be obtained. When forming the layer, it is possible to prevent the adverse effects of dissolving or swelling the cellulose inducer thin film serving as the base layer.

反射防止層の厚みは、セルロース誘導体薄膜と同様に溶
液粘度、基板の回転速度等を適宜変化させることにより
制御できる。
The thickness of the antireflection layer can be controlled by appropriately changing the solution viscosity, the rotation speed of the substrate, etc., similarly to the cellulose derivative thin film.

一方、両面反射防止型ペリクル膜の場合には。On the other hand, in the case of a double-sided anti-reflection pellicle film.

ガラス等の平滑基板上に含フツ素ポリ(メタ)アクリレ
ート共重合体溶液(但し、溶媒はとくに前述の溶媒に限
定されず、同共重合体を溶解できるものであればよい)
を供給し、回転製膜法によって含フツ素ポリ(メタ)ア
クリレート共重合体薄膜を形成し、熱風や赤外線ランプ
照射等の手段によって乾燥させ、残存溶媒を除去する。
A fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer solution is placed on a smooth substrate such as glass (however, the solvent is not particularly limited to the above-mentioned solvents, and any solvent that can dissolve the copolymer may be used)
is supplied, a fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer thin film is formed by a rotary film forming method, and the remaining solvent is removed by drying by means such as hot air or infrared lamp irradiation.

その後、この薄膜上に前記と同様の操作を行って、含フ
ツ素ポリ(メタ)アクリレート共重合体/セルロース誘
導体/含フツ素ポリ(メタ)アクリレート共重合体の3
層構造の両面反射防止型ペリクル膜を製造できる。
Thereafter, the same operation as above was performed on this thin film to form a 3-layer mixture of fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer/cellulose derivative/fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer.
A double-sided anti-reflection pellicle film with a layered structure can be manufactured.

このようにして、基板上に形成された片面または両面反
射防止型ペリクル膜はペリクルとして使用するために基
板から剥離する。この場合、たとえば基板上に形成され
た積層膜の最外層すなわち外気と接している含フツ素ポ
リ(メタ)アクリレート共重合体薄膜上にセロハンテー
プや接着剤を塗布した枠状治具をあてがって接着し、セ
ロハンテープや枠状治具を手や機械的手段によって一端
から持ち上げることによって基板上から直接引き剥すこ
とができる。この際、セルロース誘導体層と含フツ素ポ
リ(メタ)アクリレート共重合体層の層間接着力が大き
いので、膜が分離することなく引き剥され、反射防止層
を有するペリクル膜が得られる。こうして製造されたペ
リクル膜はべりクル枠に張付けてペリクルが形成される
In this manner, the single-sided or double-sided antireflection pellicle film formed on the substrate is peeled off from the substrate for use as a pellicle. In this case, for example, a frame-shaped jig coated with cellophane tape or adhesive is applied to the outermost layer of a laminated film formed on a substrate, that is, a thin film of fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer that is in contact with the outside air. After adhering, it can be directly peeled off from the substrate by lifting cellophane tape or a frame-shaped jig from one end by hand or mechanical means. At this time, since the interlayer adhesive force between the cellulose derivative layer and the fluorine-containing poly(meth)acrylate copolymer layer is strong, the film is peeled off without separation, and a pellicle film having an antireflection layer is obtained. The pellicle membrane thus manufactured is attached to a frame to form a pellicle.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の反射防止層を有するペリクル膜は、350〜4
50nmの波長間における最低光線透過率が向上し、反
射光の干渉による光線透過率の変動も小さくなるので、
平均光線透過率も向上し、露光工程におけるスループッ
トが向上する。また透明薄膜と反射防止層間の接着力が
大きいので、製膜基板上から直接引き剥しても積層状態
で引き剥すことができる。さらに直鎖状のフルオロアル
キル基を含む含フッ素(メタ)アクリレートモノマーと
、分岐状のフルオロアルキル基を含む含フッ素(メタ)
アクリレートモノマーとの共重合体を用いるため、直鎖
状または分岐状のフルオロアルキル基のみを含む含フッ
素(メタ)アクリレートモノマーの重合体の場合よりも
光透過性が向上するとともに、低粘着性の反射防止膜が
形成され、ゴミ。
The pellicle film having the antireflection layer of the present invention has an antireflection layer of 350 to 4
The minimum light transmittance between wavelengths of 50 nm is improved, and fluctuations in light transmittance due to interference of reflected light are also reduced.
The average light transmittance is also improved, and the throughput in the exposure process is improved. In addition, since the adhesive force between the transparent thin film and the antireflection layer is strong, even if it is directly peeled off from the film-forming substrate, it can be peeled off in a laminated state. Furthermore, a fluorine-containing (meth)acrylate monomer containing a linear fluoroalkyl group and a fluorine-containing (meth)acrylate monomer containing a branched fluoroalkyl group
Since a copolymer with an acrylate monomer is used, the light transmittance is improved compared to the case of a polymer of a fluorine-containing (meth)acrylate monomer containing only a linear or branched fluoroalkyl group, and it has a low tackiness. An anti-reflective film is formed and dust is removed.

ホコリ等の異物が付着しにくい。Foreign matter such as dust is difficult to adhere to.

〔実施例〕〔Example〕

以下1本発明の実施例について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below.

実施例1、比較例1 ニトロセルロースをメチルイソブチルケトンに溶解させ
、6重量%溶液とした。一方、パーフルオロオクチルエ
チルアクリレート80モル%とへササフルオロプロピレ
ンの二量体から合成した分岐型のフルオロアルキル基を
もつ C)1.=CHC00C)l、CF(CF、)C)IF
cF(CF、)2 (l(FP−DA)の20モル%と
の共重合体〔フッ素含有率61.8重量%〕をメタキシ
レンヘキサフルオライドに溶解させ1.0重量%溶液と
した。
Example 1, Comparative Example 1 Nitrocellulose was dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 6% by weight solution. On the other hand, C) 1. has a branched fluoroalkyl group synthesized from a dimer of 80 mol% perfluorooctylethyl acrylate and hesafluoropropylene. =CHC00C)l, CF(CF,)C)IF
A copolymer with 20 mol% of cF(CF,)2(l(FP-DA) [fluorine content: 61.8% by weight]) was dissolved in meta-xylene hexafluoride to make a 1.0% by weight solution.

回転塗布法により、上記ニトロセルロース溶液を石英基
板に滴下してニトロセルロース薄膜を形成、乾燥させ、
この上に上記含フツ素ポリマー溶液を滴下し、500r
pmで60秒間回転させて乾燥させた。こうして得られ
たペリクル膜を基板より剥離して所定枠に枠取りし、片
面に反射防止層を有するペリクルを得た。
By a spin coating method, the above nitrocellulose solution is dropped onto a quartz substrate to form a nitrocellulose thin film, and dried.
The above fluorine-containing polymer solution was dropped onto this, and
Dry by spinning for 60 seconds at pm. The pellicle film thus obtained was peeled off from the substrate and framed in a predetermined frame to obtain a pellicle having an antireflection layer on one side.

上記ペリクルについて1反射防止膜の分光光度計(島津
製作所11UV−240)による分光特性測定から、光
線透過率を第1図に示し、350〜450nmでの最低
光線透過率および平均透過率の測定結果を表1に示す。
The light transmittance of the above pellicle was measured using a spectrophotometer (Shimadzu 11UV-240) for the anti-reflection coating, and the light transmittance is shown in Figure 1, and the minimum light transmittance and average transmittance at 350 to 450 nm are measured. are shown in Table 1.

また上記ペリクル膜をニトロセルロース膜面を固定板に
向けて反射防止層面が大気側となるように固定板上には
りつけ、反射防止層面に対して7′/14の鋼球を31
.6gの押付力で50秒間押し付けた。
In addition, the above pellicle membrane was attached to the fixing plate with the nitrocellulose membrane surface facing the fixing plate and the antireflection layer side facing the atmosphere, and a 7'/14 steel ball was attached to the antireflection layer surface at 31°C.
.. It was pressed for 50 seconds with a pressing force of 6 g.

その後この鋼球を引き離し、これに要する力をセンサー
(山水式押付型タック測定装置)で測定して粘着力とし
た。この方法で10回測定した平均値を表1に示す。
Thereafter, the steel ball was pulled apart, and the force required to pull it apart was measured with a sensor (Sansui-type push-type tack measuring device) and determined as the adhesive force. Table 1 shows the average values measured 10 times using this method.

一方、ニトロセルロース単独からなるペリクル(比較例
1)の分光特性測定から、光線透過率を第、2図に示す
。最低光線透過率は84%で、平均透過率は92%であ
った。
On the other hand, FIG. 2 shows the light transmittance obtained by measuring the spectral characteristics of a pellicle made solely of nitrocellulose (Comparative Example 1). The minimum light transmittance was 84% and the average transmittance was 92%.

比較例2 実施例1の含フツ素共重合体にトリフルオロエチルアク
リレート(67モル%)とパーフルオロオクチルエチル
アクリレート(33モル%)〔フッ素含有率52.8重
量%〕を用いた以外は実施例1と同様な方法で、片面単
層型反射防止層をニトロセルロース膜の片面に形成した
ペリクルを得た。その分光特性測定結果および実施例1
と同様な方法で測定した粘着力の結果を表1に示す。
Comparative Example 2 The same procedure was carried out except that trifluoroethyl acrylate (67 mol%) and perfluorooctylethyl acrylate (33 mol%) [fluorine content 52.8% by weight] were used in the fluorine-containing copolymer of Example 1. In the same manner as in Example 1, a pellicle was obtained in which a single-layer antireflection layer was formed on one side of a nitrocellulose membrane. The spectral characteristic measurement results and Example 1
Table 1 shows the results of adhesive strength measured in the same manner as above.

表1 実施例2 実施例1において、含フツ素共重合体にパーフルオロオ
クチルエチルアクリレート90モル%とIIFP−DA
 10モル%〔フッ素含有率62.1重量%〕を用いた
以外は実施例1と同様にして行った。その最低光線透過
率は91.5%、平均透過率は96%、粘着力は4.5
gであった。
Table 1 Example 2 In Example 1, 90 mol% of perfluorooctylethyl acrylate and IIFP-DA were added to the fluorine-containing copolymer.
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 10 mol% [fluorine content: 62.1% by weight] was used. Its minimum light transmittance is 91.5%, average transmittance is 96%, and adhesive strength is 4.5
It was g.

実施例3 実施例1において、含フツ素共重合体にパーフルオロオ
クチルエチルアクリレート90モル%と、テトラフルオ
ロエチレンオリゴマーから合成したCH2=C(CH,
)C00C)12CF(CF、)CH(CF、)C(C
2Fs)2CF310モル%〔フッ素含有率62.5重
量%〕を用いた以外は実施例1と同様にして行った。そ
の最低光線透過率は92%、平均透過率は96〜97%
、粘着力は5.2gであった。
Example 3 In Example 1, CH2=C(CH,
)C00C)12CF(CF,)CH(CF,)C(C
2Fs) The same procedure as in Example 1 was carried out except that 10 mol% of 2CF3 (fluorine content: 62.5% by weight) was used. Its minimum light transmittance is 92%, average transmittance is 96-97%
The adhesive force was 5.2 g.

実施例4 実施例1において含フツ素共重合体にパーフル重量%〕
(ロ)mを用いた以外は実施例1と同様にして行った。
Example 4 Purful weight% in the fluorine-containing copolymer in Example 1]
(b) The same procedure as in Example 1 was carried out except that m was used.

その最低光線透過率は90.5%、平均透過率は94.
5%、粘着力は3.1gであった。
Its minimum light transmittance is 90.5% and average transmittance is 94.
5%, and the adhesive strength was 3.1 g.

実施例5 ニトロセルロースをメチルイソブチルケトンに溶解させ
6重量%溶液とした。またパーフルオロオクチルエチル
アクリレート80モル%とIIFP−DA20モル%の
共重合体〔フッ素含有率61.8重量%〕をメタキシレ
ンへキサフルオライドに溶解させ1.0重量%溶液とし
た。
Example 5 Nitrocellulose was dissolved in methyl isobutyl ketone to make a 6% by weight solution. Further, a copolymer of 80 mol% perfluorooctylethyl acrylate and 20 mol% IIFP-DA [fluorine content 61.8% by weight] was dissolved in meta-xylene hexafluoride to form a 1.0% by weight solution.

石英基板を用いて回転塗布法により、まず基板上に上記
含フツ素ポリマー溶液を滴下して500rpmで60秒
間回転させた後乾燥した。この上にニトロセルロース溶
液を滴下して薄膜を形成した後乾燥し、さらにこの上か
ら含フツ素ポリマー溶液を滴下して500rpmで60
秒間回転させ、後乾燥した。この両面単層反射防止層を
有するペリクルは、基板からスムーズに剥離できた。こ
のペリクルの分光特性測定結果は、350〜450r+
mでの最低光線透過率が95%であり、平均透過率は9
7〜98%であった。
Using a spin coating method using a quartz substrate, the fluorine-containing polymer solution was first dropped onto the substrate, rotated at 500 rpm for 60 seconds, and then dried. A nitrocellulose solution was dropped onto this to form a thin film, which was then dried, and a fluorine-containing polymer solution was further dropped onto this to form a thin film at 500 rpm.
Rotate for a second and then dry. This pellicle having single-layer antireflection layers on both sides could be peeled off smoothly from the substrate. The spectral characteristics measurement results of this pellicle are 350~450r+
The minimum light transmittance at m is 95%, and the average transmittance is 9
It was 7-98%.

また粘着力は4.7gであった。Moreover, the adhesive strength was 4.7 g.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は光線透過率を示す線図である。 代理人 弁理士 柳 原   成 FIGS. 1 and 2 are diagrams showing light transmittance. Agent: Patent attorney Sei Yanagi Hara

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)透明薄膜の少なくとも一方の面に、一般式▲数式
、化学式、表等があります▼・・・( I ) 〔但し、R^1はHまたはメチル基、R^2はエーテル
酸素を含まない直鎖状のフルオロアルキル基である。〕
から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔但し、R^3はHまたはメチル基、R^4はエーテル
酸素を含む直鎖状のフルオロアルキル基またはエーテル
酸素を含んでいてもよい分岐状のフルオロアルキル基で
ある。〕 から選ばれる少なくとも1種のモノマーとの共重合体で
ある含フッ素ポリ(メタ)アクリレートからなる反射防
止層が形成されていることを特徴とする反射防止型ペリ
クル膜。
(1) On at least one side of the transparent thin film, there is a general formula▲mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼...(I) [However, R^1 is H or a methyl group, and R^2 contains ether oxygen. It is a straight-chain fluoroalkyl group. ]
At least one monomer selected from general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (II) [However, R^3 is H or a methyl group, and R^4 is a linear fluorocarbon containing ether oxygen. It is a branched fluoroalkyl group which may contain an alkyl group or an ether oxygen. ] An antireflection type pellicle film comprising an antireflection layer made of fluorine-containing poly(meth)acrylate which is a copolymer with at least one monomer selected from the following.
(2)透明薄膜がセルロース誘導体薄膜である特許請求
の範囲第1項記載のペリクル膜。
(2) The pellicle membrane according to claim 1, wherein the transparent thin film is a cellulose derivative thin film.
(3)セルロース誘導体がニトロセルロース、エチルセ
ルロースまたはプロピオン酸セルロースである特許請求
の範囲第2項記載のペリクル膜。
(3) The pellicle membrane according to claim 2, wherein the cellulose derivative is nitrocellulose, ethylcellulose, or cellulose propionate.
(4)一般式〔II〕において、R^4が ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^5、R^6はHまたはメチル基で、それぞ
れ同一でも異なっていてもよく、R^7、R^8、R^
9、R^1^0は−F、−CF_3、−CF_2CF_
3、−CF(CF_3)_2−CF_2CF(CF_3
)_2、または−CF(CF_3)CF(CF_3)_
2で、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、R^7
とR^8またはR^9、R^1^0がともに−Fである
ことはない。〕 で表わされるものである特許請求の範囲第1項ないし第
3項のいずれかに記載のペリクル膜。
(4) In the general formula [II], R^4 is a ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. [However, R^5 and R^6 are H or a methyl group, and may be the same or different, R^7, R^8, R^
9, R^1^0 is -F, -CF_3, -CF_2CF_
3, -CF(CF_3)_2-CF_2CF(CF_3
)_2, or -CF(CF_3)CF(CF_3)_
2, each may be the same or different, but R^7
and R^8, R^9, and R^1^0 cannot both be -F. ] The pellicle membrane according to any one of claims 1 to 3, which is represented by:
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