JP2576581B2 - High light-transmitting dust-proof film and method of manufacturing the same - Google Patents

High light-transmitting dust-proof film and method of manufacturing the same

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JP2576581B2 JP9033588A JP9033588A JP2576581B2 JP 2576581 B2 JP2576581 B2 JP 2576581B2 JP 9033588 A JP9033588 A JP 9033588A JP 9033588 A JP9033588 A JP 9033588A JP 2576581 B2 JP2576581 B2 JP 2576581B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はフォトマスクやレクチルの防塵カバーとして
のペリクルに使用される反射防止層を有する高光透過性
防塵膜に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a highly light-transmitting dustproof film having an antireflection layer used for a pellicle as a dustproof cover of a photomask or a reticle.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体露光工程において、ペリクルと称する防塵膜を
フォトマスクまたはレチクルと組合わせて使用すること
によって、塵による露光工程への影響を防止し、生産性
を向上する方法が提案されている(特公昭54−28716
号)。ペリクルはペリクル枠の一側面に防塵膜を張った
構造であり、フォトマスクやレチクルに重ねて使用され
る。
In a semiconductor exposure process, a method has been proposed in which a dustproof film called a pellicle is used in combination with a photomask or a reticle to prevent dust from affecting the exposure process and improve productivity (Japanese Patent Publication No. Sho 54). −28716
issue). The pellicle has a structure in which a dust-proof film is provided on one side of the pellicle frame, and is used by being superposed on a photomask or a reticle.

このようなペリクルを構成する防塵膜としては、従来
ニトロセルロースの単層薄膜が主として利用されている
が、露光工程におけるスループットの向上等を目的とし
てニトロセルロースの透明薄膜上に高屈折率ポリマーお
よび低屈折率ポリマーの積層膜からなる反射防止層を設
けた防塵膜が提案されている(特開昭60−237450号、特
開昭61−53601号、特開昭61−209449号、特開昭62−127
801号)。
Conventionally, a single-layer thin film of nitrocellulose is mainly used as a dustproof film constituting such a pellicle, but a high-refractive-index polymer and a low-refractive-index polymer are formed on a transparent thin film of nitrocellulose for the purpose of improving the throughput in the exposure step. Dustproof films provided with an antireflection layer comprising a laminated film of a refractive index polymer have been proposed (JP-A-60-237450, JP-A-61-53601, JP-A-61-209449, and JP-A-61-209449). −127
No. 801).

ここでは反射防止層を形成する高屈折率ポリマーとし
てポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリフェニレンエーテル、ポリカーボネート、芳香
族ポリエステル等があげられているが、これらの物質を
使用して反射防止層を形成しても屈折率が低いため、40
0〜450nmの最大光透過率と最小光透過率の差が大きい防
塵膜しか得られない。
Here, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene ether, polycarbonate, aromatic polyester and the like are mentioned as the high refractive index polymer forming the antireflection layer. These substances are used to form the antireflection layer. Even with a low refractive index, 40
Only a dustproof film having a large difference between the maximum light transmittance and the minimum light transmittance of 0 to 450 nm can be obtained.

特開昭62−127801号には、高屈折率ポリマーとしてポ
リビニルナフタレンが開示されているが、ポリビニルナ
フタレンを塗布した上に低屈折率ポリマーとしてフッ素
掛ポリマーをコーティングすると、ポリビニルナフタレ
ンの層が剥離するという欠点がある。
JP-A-62-127801 discloses polyvinyl naphthalene as a high-refractive-index polymer.However, when polyvinyl naphthalene is applied and a fluorine-capped polymer is coated as a low-refractive-index polymer, a layer of polyvinyl naphthalene is peeled off. There is a disadvantage that.

低屈折率ポリマーとしては、特開昭60−237450号に
は、フッ素系ポリマーまたはシリコン系ポリマーを反射
防止層として利用することが記載されているが、フッ素
系ポリマーとして示されているのはテトラフルオロエチ
レン/ビニリデンフルオライドコポリマーまたはテトラ
フルオロエチレン/ビニリデンフルオライド/ヘキサフ
ルオロプロピレンコポリマーである。特開昭61−53601
号にも、フッ素系ポリマーやシリコン系ポリマーを反射
防止層として使用できることが示されているが、フッ素
系ポリマーとして具体的に示されているものはテトラフ
ルオロエチレン/ビニリデンフルオライド/ヘキサフル
オロプロピレンコポリマーである。特開昭61−209449号
には、ポリフルオロ(メタ)アクリレートを含むフッ素
系ポリマーが反射防止層として使用できると記載されて
いるが、具体的に説明されているのは前記と同じくテト
ラフルオロエチレン/ビニリデンフルオライド/ヘキサ
フルオロプロピレンポリマーである。
As a low refractive index polymer, JP-A-60-237450 describes that a fluorine-based polymer or a silicon-based polymer is used as an anti-reflection layer. It is a fluoroethylene / vinylidene fluoride copolymer or a tetrafluoroethylene / vinylidene fluoride / hexafluoropropylene copolymer. JP-A-61-53601
Also discloses that a fluorine-based polymer or a silicon-based polymer can be used as the anti-reflection layer, but the specific examples of the fluorine-based polymer include tetrafluoroethylene / vinylidene fluoride / hexafluoropropylene copolymer It is. JP-A-61-209449 discloses that a fluoropolymer containing polyfluoro (meth) acrylate can be used as an antireflection layer, but the specific description is made of tetrafluoroethylene as described above. / Vinylidene fluoride / hexafluoropropylene polymer.

しかしながら前述のような高屈折率ポリマーと低屈折
率ポリマーとを積層して反射防止層を形成すると、高光
透過率が得られる範囲が狭く、また高屈折率ポリマーの
剥離、破壊により異物が発生するという問題点があっ
た。
However, when an antireflection layer is formed by laminating a high-refractive-index polymer and a low-refractive-index polymer as described above, the range in which a high light transmittance can be obtained is narrow, and foreign matter is generated due to peeling and destruction of the high-refractive index polymer. There was a problem.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明の目的は、上記問題点を解決するため、高屈折
率ポリマーおよび低屈折率ポリマーを積層することによ
り、高光透過率が得られる範囲が広い高光透過性防塵膜
が提供することである。
An object of the present invention is to provide a high light-transmitting dustproof film having a wide range in which a high light transmittance can be obtained by laminating a high refractive index polymer and a low refractive index polymer to solve the above problems.

本発明の他の目的は、高屈折率ポリマーの剥離および
破壊を防止し、高光透過性の防塵膜を製造できる方法を
提案することである。
Another object of the present invention is to propose a method capable of preventing the peeling and destruction of a high refractive index polymer and producing a dustproof film having high light transmittance.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は次の高光透過性防塵膜およびその製造方法で
ある。
The present invention relates to the following highly light-transmitting dustproof film and a method for producing the same.

(1)透明薄膜からなる基材の片面または両面に高屈折
率ポリマー、およびさらにその上に低屈折率ポリマーを
コーティングした低屈折率ポリマー/高屈折率ポリマー
/基材からなる三層構造、または低屈折率ポリマー/高
屈折率ポリマー/基材/高屈折率ポリマー/低屈折率ポ
リマーからなる五層構造の高光透過性防塵膜において、
高屈折率ポリマーとして、一般式 (式中、R1は−CH=CH2または である。) から選ばれる少なくとも一種のナフタレン誘導体モノマ
ーと、一般式 (式中、R2は−CH=CH2または R3はH、炭素数1〜10のアルキル基、 である。) から選ばれる少なくとも1種のベンゼン誘導体モノマー
との95/5〜60/40(モル比)共重合体を用いることを特
徴とする高光透過性防塵膜。
(1) a three-layer structure consisting of a low-refractive-index polymer / high-refractive-index polymer / substrate in which a high-refractive-index polymer is coated on one or both sides of a substrate made of a transparent thin film, and a low-refractive-index polymer is further coated thereon, or In a five-layer high light-transmitting dustproof film composed of a low refractive index polymer / high refractive index polymer / substrate / high refractive index polymer / low refractive index polymer,
As a high refractive index polymer, the general formula (Wherein R 1 is —CH = CH 2 or It is. And at least one naphthalene derivative monomer selected from (Wherein R 2 is —CH = CH 2 , Or R 3 is H, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, It is. A highly light-transmitting dustproof film characterized by using a 95/5 to 60/40 (molar ratio) copolymer with at least one benzene derivative monomer selected from the group consisting of:

(2)基材がセルロース誘導体であることを特徴とする
上記(1)記載の高光透過性防塵膜。
(2) The highly light-transmitting dustproof film according to (1), wherein the substrate is a cellulose derivative.

(3)低屈折率ポリマーが一般式 (式中、R4はHまたは−CH3、R5は間にエーテル酸素原
子を含んでいてもよいフルオロアルキル基である。) から選ばれる少なくとも1種のモノマーを含有する含フ
ッ素ポリ(メタ)アクリレートであることを特徴とする
上記(1)または(2)記載の高光透過性防塵膜。
(3) The low refractive index polymer has the general formula (Wherein, R 4 is H or —CH 3 , and R 5 is a fluoroalkyl group optionally containing an ether oxygen atom therebetween.) A fluorine-containing poly (meta) containing at least one monomer selected from the group consisting of ) The highly light-transmitting dustproof film according to the above (1) or (2), which is an acrylate.

(4)基材上に、高屈折率ポリマーを沸点120〜200℃の
溶媒に溶解した溶液を供給して回転製膜法により製膜し
た後、その上に低屈折率ポリマーの溶液を供給して、式 (式中、Mは高屈折率ポリマーの分子量である。) 以下の回転立上速度で回転製膜法により積層製膜する
ことを特徴とする上記(1)ないし(3)のいずれかに
記載の高光透過性防塵膜の製造方法。
(4) A solution prepared by dissolving a high-refractive-index polymer in a solvent having a boiling point of 120 to 200 ° C. is supplied on a substrate to form a film by a rotary film-forming method, and then a low-refractive-index polymer solution is supplied thereon. And the expression (In the formula, M is the molecular weight of the high refractive index polymer.) The method according to any one of the above (1) to (3), wherein the multilayer film is formed by a rotary film forming method at the following rotation speed. For producing a highly light-transmitting dust-proof film.

上記一般式〔II〕においてR3で表わされるアルキル基
としては、−CH3、−CH2CH3、−CH2CH2CH3−CH2CH2CH2CH3、−CH2CH2CH2CH2CH2CH3等があげられ
る。
The alkyl group represented by R 3 in the above general formula (II), -CH 3, -CH 2 CH 3 , -CH 2 CH 2 CH 3, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , etc. -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 and the like.

本発明において、防塵膜の本体となる基材は透明薄膜
からなるものであり、露光に採用される350〜450nmの波
長において吸収の無いものであればよいが、ニトロセル
ロース、エチルセルロース、プロピオン酸セルロース、
アセチルセルロース等のセルロース誘導体薄膜が好まし
い。これらのうちでも膜強度の面から、ニトロセルロー
スが好ましい。ニトロセルロースは11〜12.5%、特に1
1.5〜12.2%の硝化度(N%)、および150,000〜350,00
0、特に170,000〜320,000の平均分子量(重量平均、
w)を有するものが好ましい。基材の厚さは光線透過率
の面からは自由であるが、厚くなると露光時の収差が大
きくなるので、5μm以下が好ましい。
In the present invention, the substrate serving as the main body of the dust-proof film is formed of a transparent thin film, and may be any material that does not absorb light at a wavelength of 350 to 450 nm used for exposure, but may be nitrocellulose, ethyl cellulose, or cellulose propionate. ,
A cellulose derivative thin film such as acetyl cellulose is preferred. Among these, nitrocellulose is preferable from the viewpoint of film strength. Nitrocellulose is 11-12.5%, especially 1
1.5 to 12.2% nitrification degree (N%), and 150,000 to 350,00
0, especially an average molecular weight of 170,000-320,000 (weight average,
Those having w) are preferred. The thickness of the substrate is free from the viewpoint of the light transmittance, but the thickness is preferably 5 μm or less since the thicker the substrate, the greater the aberration at the time of exposure.

基材の片面または両面にコーティングする高屈折率ポ
リマーおよび比屈折率ポリマーの屈折率は、基材の屈折
率をn、高屈折率ポリマーの屈折率をn1、低屈折率ポリ
マーの屈折率をn2とした場合、 で表わされるn1、n2が好ましい。例えば基材がニトロセ
ルロースの場合、n=1.5であり、現在一般的に使用可
能な低屈折率ポリマーの屈折率n2は1.35〜1.36であるこ
とから、これに対応する高屈折率ポリマーの屈折率は1.
65〜1.67となる。このような条件を満す高屈折率ポリマ
ーとしてビニルナフタレンポリマーがあるが、ビニルナ
フタレンポリマーの上に低屈折率ポリマーを塗布する時
または加工時に、ビニルナフタレンポリマーは破壊さ
れ、塵埃となるため使用できない。
The refractive index of the high refractive index polymer and the specific refractive index polymer coated on one or both sides of the base material is n, the refractive index of the high refractive index polymer is n 1 , and the refractive index of the low refractive index polymer is n. If n 2 N 1 and n 2 represented by are preferred. For example, if the substrate is a nitrocellulose, a n = 1.5, the refractive index n 2 of the current commonly available low refractive index polymer is refracted because it is from 1.35 to 1.36, the high refractive index polymers corresponding thereto The rate is 1.
65 to 1.67. There is a vinyl naphthalene polymer as a high refractive index polymer that satisfies such conditions, but when applying or processing a low refractive index polymer on the vinyl naphthalene polymer, the vinyl naphthalene polymer is destroyed and cannot be used because it becomes dust. .

本発明において基材の片面または両面にコーティング
する高屈折率ポリマーは、前記一般式〔I〕で表わされ
るナフタレン誘導体モノマーと、一般式〔II〕で表わさ
れるベンゼン誘導体モノマーとの95/5〜60/40(モル
比)共重合体であり、上記屈折率を満足するものが得ら
れる。ナフタレン誘導体モノマーおよびベンゼン誘導体
モノマーはそれぞれ1種単独で、または2種以上組合せ
て共重合させることができる。ナフタレン誘導体モノマ
ーとベンゼン誘導体モノマーのモル比が95/5より小さい
場合は、低屈折率ポリマーの塗布時に、高屈折率ポリマ
ーの破壊が起こり、60/40より大きくなると屈折率が低
下し、好ましい光透過性が得られない。
In the present invention, the high refractive index polymer coated on one or both sides of the substrate is a naphthalene derivative monomer represented by the general formula (I) and a benzene derivative monomer represented by the general formula (II) of 95/5 to 60 / 40 (molar ratio) copolymer which satisfies the above refractive index is obtained. The naphthalene derivative monomer and the benzene derivative monomer can be copolymerized alone or in combination of two or more. When the molar ratio between the naphthalene derivative monomer and the benzene derivative monomer is less than 95/5, the high refractive index polymer is destroyed when the low refractive index polymer is applied. No permeability is obtained.

基材の片面または両面にコーティングした高屈折率ポ
リマー層の上にさらに積層コーティングする低屈折率ポ
リマーとしては、前記一般式〔III〕から選ばれる少な
くとも1種のモノマーを含み、かつ重合体中のフッ素含
有率が50重量%以上の含フッ素ポリ(メタ)アクリレー
トが好ましい。
The low-refractive-index polymer to be further laminated and coated on the high-refractive-index polymer layer coated on one or both sides of the base material includes at least one monomer selected from the general formula (III), and Fluorine-containing poly (meth) acrylate having a fluorine content of 50% by weight or more is preferable.

前記一般式〔III〕におけるR5としては、炭素数2〜1
4の、間にエーテル酸素原子を含んでいてもよいフルオ
ロアルキル基が好ましく、具体的には、−CH2CF3,−CH2
C2F5,−CH2C3F7,−CH2C4F9,−CH2C5F11,−CH2C7F15,−C
H2C8F17,−CH2C9F19,−CH2C10F21,−CH2CH2CF3,−CH2CH
2C2F5,−CH2CH2C3F7,−CH2CH2C4F9,−CH2CH2C5F11,−CH
2CH2C7F15,−CH2CH2C8F17,−CH2CH2C9F19,−CH2CH2C10F
21,−CH2(CF22H,−CH2(CF24H,−CH2(CF26H,−
CH2(CF28H,−CH2(CF210H,CH(CF32,−CH2CF2CH
FCF3,−CH2CF2CHF(CF26H,−CH2−CF(CF3)CHFCF(C
F32,−CH2CF(C2F5)CH(CF32,−CH2C6HF12,−C6HF
12,−CH2C10HF20,−CH2−C5F8H,−(CH25OCF(C
F32,−(CH211OCF(CF32,−CH2(CF22OCF3,−C
H2(CF22OC2F5,−CH2(CF22OC3F7, などが例示できる。
R 5 in the general formula (III) has 2 to 1 carbon atoms
4 is preferably a fluoroalkyl group which may contain an ether oxygen atom in between, specifically, -CH 2 CF 3 , -CH 2
C 2 F 5, -CH 2 C 3 F 7, -CH 2 C 4 F 9, -CH 2 C 5 F 11, -CH 2 C 7 F 15, -C
H 2 C 8 F 17, -CH 2 C 9 F 19, -CH 2 C 10 F 21, -CH 2 CH 2 CF 3, -CH 2 CH
2 C 2 F 5 , −CH 2 CH 2 C 3 F 7 , −CH 2 CH 2 C 4 F 9 , −CH 2 CH 2 C 5 F 11 , −CH
2 CH 2 C 7 F 15 , −CH 2 CH 2 C 8 F 17 , −CH 2 CH 2 C 9 F 19 , −CH 2 CH 2 C 10 F
21, -CH 2 (CF 2) 2 H, -CH 2 (CF 2) 4 H, -CH 2 (CF 2) 6 H, -
CH 2 (CF 2 ) 8 H, -CH 2 (CF 2 ) 10 H, CH (CF 3 ) 2 , -CH 2 CF 2 CH
FCF 3 , -CH 2 CF 2 CHF (CF 2 ) 6 H, -CH 2 -CF (CF 3 ) CHFCF (C
F 3) 2, -CH 2 CF (C 2 F 5) CH (CF 3) 2, -CH 2 C 6 HF 12, -C 6 HF
12 , -CH 2 C 10 HF 20 , -CH 2 -C 5 F 8 H,-(CH 2 ) 5 OCF (C
F 3 ) 2 , − (CH 2 ) 11 OCF (CF 3 ) 2 , −CH 2 (CF 2 ) 2 OCF 3 , −C
H 2 (CF 2) 2 OC 2 F 5, -CH 2 (CF 2) 2 OC 3 F 7, And the like.

含フッ素ポリ(メタ)アクリレートは上記モノマー1
種の単独重合体でもよく、2種以上の共重合体でもよ
い。共重合体の場合、エーテル酸素原子を含まない直鎖
状のフルオロアルキル基と、エーテル酸素原子を含む直
鎖状のフルオロアルキル基またはエーテル酸素原子を含
んでいてもよい分岐状のフルオロアルキル基とを組合せ
ると、光透過率が高くなるので好ましい。
Fluorine-containing poly (meth) acrylate is the above monomer 1
It may be a homopolymer of one kind or a copolymer of two or more kinds. In the case of a copolymer, a linear fluoroalkyl group containing no ether oxygen atom, and a linear fluoroalkyl group containing an ether oxygen atom or a branched fluoroalkyl group that may contain an ether oxygen atom, Is preferable because the light transmittance increases.

また含フッ素ポリ(メタ)アクリレートは前記一般式
〔III〕のモノマーと他のモノマーとの共重合体であっ
てもよい。一般式〔III〕のモノマーと共重合させる他
のモノマーとしては特に限定されないが、 一般式 (式中、R6はHまたは−CH3、R7はエーテル酸素原子を
含んでいてもよいアルキル基である。) から選ばれる少なくとも1種のモノマーが好ましい。
Further, the fluorinated poly (meth) acrylate may be a copolymer of the monomer of the general formula [III] and another monomer. The other monomer to be copolymerized with the monomer of the general formula (III) is not particularly limited, (Wherein, R 6 is H or —CH 3 , and R 7 is an alkyl group which may contain an ether oxygen atom).

一般式〔V〕におけるR7としては、炭素数1〜50、好
ましくは4〜24のアルキル基が好ましく、具体的には、
−CH3,−C2H5,−C4H9,−C6H13,−C8H17,−C9H19,−C10H
21,−C12H25,−C17H35,−C18H37,−C24H49,−C34H69
どが例示でき、エーテル酸素原子を含んでいてもよい。
As R 7 in the general formula [V], an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, preferably 4 to 24 carbon atoms is preferable, and specifically,
-CH 3, -C 2 H 5, -C 4 H 9, -C 6 H 13, -C 8 H 17, -C 9 H 19, -C 10 H
21 , -C 12 H 25 , -C 17 H 35 , -C 18 H 37 , -C 24 H 49 , -C 34 H 69 and the like, and may contain an ether oxygen atom.

一般式〔III〕の含フッ素(メタ)アクリレートモノ
マーと組合わせる一般式〔V〕のアルキル基含有(メ
タ)アクリレート等の他のモノマーの混合割合は70モル
%以下、好ましくは1〜20モル%が好ましい。
The mixing ratio of the other monomer such as the alkyl group-containing (meth) acrylate of the general formula [V] combined with the fluorine-containing (meth) acrylate monomer of the general formula [III] is 70 mol% or less, preferably 1 to 20 mol%. Is preferred.

含フッ素ポリ(メタ)アクリレートは、重合体のフッ
素含有率が50〜70重量%になるのが好ましい。上記範囲
にある場合に、透明で、層間の乱れによる色ムラや白化
が生じない層が得られる。重合体中のフッ素含有率が50
重量%未満になると、屈折率が高くなり、好ましい光透
過率の膜が得られなくなる。
The fluorine-containing poly (meth) acrylate preferably has a polymer fluorine content of 50 to 70% by weight. When it is in the above range, a layer that is transparent and does not cause color unevenness or whitening due to disorder between layers can be obtained. The fluorine content in the polymer is 50
When the content is less than the weight percentage, the refractive index increases, and a film having a preferable light transmittance cannot be obtained.

反射防止層となる上記高屈折率ポリマーおよび低屈折
率ポリマーは、それぞれセルロース誘導体等の透明薄膜
からなる基材の片面または両面に形成され、低屈折率ポ
リマー/高屈折率ポリマー/基材からなる三層構造、ま
たは低屈折率ポリマー/高屈折率ポリマー/基材/高屈
折率ポリマー/低屈折率ポリマーからなる五層構造の高
光透過性防塵膜が形成される。高屈折率ポリマーおよび
低屈折率ポリマーの膜厚は、それぞれターゲットとする
光の波長の1/4n(nは屈折率)とするのが好ましい。
The high-refractive-index polymer and the low-refractive-index polymer serving as the antireflection layer are respectively formed on one or both sides of a substrate made of a transparent thin film such as a cellulose derivative, and are composed of a low-refractive-index polymer / high-refractive-index polymer / substrate. A highly light-transmitting dustproof film having a three-layer structure or a five-layer structure composed of a low refractive index polymer / high refractive index polymer / substrate / high refractive index polymer / low refractive index polymer is formed. The thickness of each of the high refractive index polymer and the low refractive index polymer is preferably / 4n (n is a refractive index) of the wavelength of the target light.

本発明の反射防止層を有する高光透過性防塵膜の製造
方法は、スピンナーを用いて回転製膜法により形成した
基材の片面または両面に、高屈折率ポリマーの溶液を供
給して回転製膜法により製間した後、その上に低屈折率
ポリマーの溶液を供給して、前記〔IV〕式以下の回転立
上速度で回転製膜法により積層製膜する。
The method for producing a highly light-transmitting dustproof film having an antireflection layer according to the present invention comprises the steps of: supplying a solution of a high refractive index polymer to one or both surfaces of a substrate formed by a spinning method using a spinner; After the production by the method, a solution of a low-refractive index polymer is supplied thereon, and the film is laminated by a rotational film-forming method at a rotational start-up speed of the formula [IV] or lower.

例えば基材としてセルロース誘導体を用いた三層構造
の片面反射防止型防塵膜の製造は次のように行われる。
すなわち、まずスピンナーに取付けたガラス等の平滑な
基板上にセルロース誘導体溶液を供給し、スピンナーを
回転させて回転製膜法によりセルロース誘導体の透明薄
膜からなる基材を形成する。セルロース誘導体は溶媒に
溶解し、濾過等の精製を行った溶液を使用する。溶媒と
してはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル等の低級脂肪酸エステル類、および
前述のケトンまたはエステルとイソプロピルアルコール
等との混合溶媒が使用される。形成される基材の厚さ
は、溶液粘度や基板の回転速度を変化させることにより
適宜変化させることができる。
For example, a three-layered single-sided antireflection type dustproof film using a cellulose derivative as a substrate is produced as follows.
That is, first, a cellulose derivative solution is supplied onto a smooth substrate such as glass attached to a spinner, and the spinner is rotated to form a substrate made of a transparent thin film of the cellulose derivative by a rotary film forming method. The cellulose derivative is dissolved in a solvent, and a purified solution such as filtration is used. As the solvent, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, lower fatty acid esters such as butyl acetate and isobutyl acetate, and a mixed solvent of the aforementioned ketone or ester and isopropyl alcohol are used. The thickness of the formed base material can be appropriately changed by changing the solution viscosity or the rotation speed of the substrate.

基板上に形成されたセルロース誘導体透明薄膜からな
る基材は、熱風や赤外線ランプ照射等の手段によって乾
燥させ、残存溶媒を除去する。
The substrate made of the cellulose derivative transparent thin film formed on the substrate is dried by means such as hot air irradiation or infrared lamp irradiation to remove the residual solvent.

次いで、乾燥された基材上に高屈折率ポリマーの溶液
を供給して、再びスピンナーを回転させ、回転製膜法に
より高屈折率ポリマー層を形成する。高屈折率ポリマー
を溶解させる溶媒は沸点120〜200℃、好ましくは130〜1
80℃の溶媒であり、高屈折率ポリマーを溶解でき、かつ
基材を溶解または膨潤させないものが好ましい。このよ
うな溶媒として例えばキシレン、エチルベンゼン、クメ
ン、プソイドクメン等が使用でき、特にエチルベンゼン
が好ましい。高屈折率ポリマー溶液の濃度は0.5〜4重
量%が好ましい。
Next, a solution of the high refractive index polymer is supplied onto the dried substrate, and the spinner is rotated again to form a high refractive index polymer layer by a rotary film forming method. The solvent for dissolving the high refractive index polymer has a boiling point of 120 to 200 ° C., preferably 130 to 1
A solvent at 80 ° C. that can dissolve the high refractive index polymer and does not dissolve or swell the substrate is preferable. As such a solvent, for example, xylene, ethylbenzene, cumene, pseudocumene and the like can be used, and ethylbenzene is particularly preferable. The concentration of the high refractive index polymer solution is preferably 0.5 to 4% by weight.

次いで、前記と同様に乾燥された高屈折率ポリマー層
の上に低屈折率ポリマー溶液を供給し、前記〔IV〕式以
下の回転立上速度でスピンナーを回転させて、回転製膜
法により低屈折率ポリマー層を形成する。低屈折率ポリ
マーを溶解する溶媒は、低屈折率ポリマーを溶解でき、
高屈折率ポリマーおよび基材を溶解または膨潤させない
溶媒で、沸点40〜220℃、好ましくは60〜150℃の範囲の
ものが好ましく、例えばキシレンヘキサフルオライド、
ベンゾトリフルオライド、五フッ化プロパノール等が使
用できる。低屈折率ポリマー溶液の濃度は0.3〜3重量
%が好ましい。このときスピンナーの回転立上速度を
〔IV〕式以下とすることにより、高屈折率ポリマー層の
剥離、破壊は防止され、高光透過性の反射防止層が形成
される。
Next, a low-refractive-index polymer solution is supplied onto the high-refractive-index polymer layer dried in the same manner as described above, and a spinner is rotated at a rotational start-up speed of the formula (IV) or lower, and the low-refractive index is formed by a rotary film forming method. Form a refractive index polymer layer. The solvent that dissolves the low refractive index polymer can dissolve the low refractive index polymer,
A solvent that does not dissolve or swell the high refractive index polymer and the substrate, preferably having a boiling point of 40 to 220 ° C, preferably 60 to 150 ° C, for example, xylene hexafluoride,
Benzotrifluoride, propanol pentafluoride and the like can be used. The concentration of the low refractive index polymer solution is preferably from 0.3 to 3% by weight. At this time, by setting the spinning speed of the spinner to be equal to or less than the formula [IV], peeling and destruction of the high refractive index polymer layer are prevented, and an antireflection layer having high light transmittance is formed.

次いで前記と同様に乾燥した後、反射防止層を形成し
た基材を基板から剥離して三層構造の防塵膜を得る。
Next, after drying in the same manner as described above, the substrate on which the antireflection layer is formed is peeled off from the substrate to obtain a dustproof film having a three-layer structure.

基材の両面に反射防止層を有する防塵膜は、上記によ
って得られた三層構造の防塵膜を反転してスピンナーに
取付け、前記と同様の操作により、基材の反対側の層に
高屈折率ポリマーおよび低屈折率ポリマーを積層コーテ
ィングして製造される。
The dustproof film having antireflection layers on both sides of the base material is obtained by reversing the three-layer structure dustproof film obtained above and attaching it to a spinner, and by the same operation as described above, a high refractive index is applied to the layer on the opposite side of the base material. It is manufactured by layer coating of a high refractive index polymer and a low refractive index polymer.

こうして製造された防塵膜は高光透過率が得られる範
囲が広い。三層構造の防塵膜の場合、400〜450nmの最大
透過率は96%以上、最小透過率は95%以上、五層構造の
場合、最大透過率は100%、最小透過率は99.5%以上が
要求されているが、本発明で製造される防塵膜はその要
求を満足するものが得られる。
The dustproof film thus manufactured has a wide range in which a high light transmittance can be obtained. For a three-layer dustproof film, the maximum transmittance of 400 to 450 nm is 96% or more and the minimum transmittance is 95% or more. For a five-layer structure, the maximum transmittance is 100% and the minimum transmittance is 99.5% or more. Although required, the dustproof film produced by the present invention can satisfy the requirement.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上の通り、本発明の防塵膜は高光透過率の得られる
範囲が広い。また本発明の製造方法によれば、高屈折率
ポリマーの剥離および破壊を防止して、高光透過率の防
塵膜を製造することができる。
As described above, the dustproof film of the present invention has a wide range in which high light transmittance can be obtained. Further, according to the production method of the present invention, it is possible to produce a dustproof film having a high light transmittance by preventing peeling and destruction of the high refractive index polymer.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について説明する。スピンナー
に取付けた石英基板上にセルロース誘導体のメチルイソ
ブチルケトン溶液を滴下してスピンナーを回転させ、回
転塗布法により透明薄膜を形成し、その後熱処理で透明
薄膜を乾燥した。
Hereinafter, examples of the present invention will be described. A methyl isobutyl ketone solution of a cellulose derivative was dropped on a quartz substrate attached to a spinner, and the spinner was rotated to form a transparent thin film by a spin coating method, and then dried by a heat treatment.

この上に高屈折率ポリマーの溶液を滴下し、同様に回
転塗布法により高屈折率ポリマー層を形成した。さらに
その上に低屈折率ポリマーの溶液を滴下し、同様に回転
塗布法で三層膜を製膜した。
A high-refractive-index polymer solution was dropped thereon, and a high-refractive-index polymer layer was similarly formed by a spin coating method. Further, a solution of a low refractive index polymer was dropped thereon, and a three-layer film was formed in the same manner by a spin coating method.

五層構造の場合は、前記で製膜した膜を仮枠に取り、
仮枠を反転してスピンナーに取付け、前記と同様の方法
で高屈折率ポリマーおよび低屈折率ポリマーの溶液を塗
布して製膜した。結果を第1表に示す。
In the case of a five-layer structure, the film formed above is taken in a temporary frame,
The temporary frame was inverted and attached to a spinner, and a solution of a high-refractive-index polymer and a low-refractive-index polymer was applied in the same manner as described above to form a film. The results are shown in Table 1.

以上の結果より、実施例のものはいずれも透過率、膜
面とも優れた結果が得られている。これに対し比較例
1、2では回転立上速度が〔IV〕式より大きいため膜面
に流れが発生し、比較例3ではビニルナフタレン/スチ
レンのモル比が小さいため最小光透過率が低く、比較例
4では高屈折率ポリマーの溶媒の沸点が低いため膜面に
オレンジピルが発生した。
From the above results, all of the examples obtained excellent results in both transmittance and film surface. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, a flow was generated on the film surface because the rotation rise speed was higher than the formula [IV]. In Comparative Example 3, the minimum light transmittance was low because the molar ratio of vinylnaphthalene / styrene was small. In Comparative Example 4, an orange pill was generated on the film surface because the solvent of the high refractive index polymer had a low boiling point.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 正秀 山口県玖珂郡和木町和木6丁目1番2号 三井石油化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−209449(JP,A) 特開 昭60−237450(JP,A) 特開 平1−16873(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masahide Tanaka 61-2, Waki, Waki-cho, Kuga-gun, Yamaguchi Prefecture Inside Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd. (56) References JP-A-61-209449 (JP, A JP-A-60-237450 (JP, A) JP-A-1-16873 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明薄膜からなる基材の片面または両面に
高屈折率ポリマー、およびさらにその上に低屈折率ポリ
マーをコーティングした低屈折率ポリマー/高屈折率ポ
リマー/基材からなる三層構造、または低屈折率ポリマ
ー/高屈折率ポリマー/基材/高屈折率ポリマー/低屈
折率ポリマーからなる五層構造の高光透過性防塵膜にお
いて、高屈折率ポリマーとして、一般式 (式中、R1は−CH=CH2または である。) から選ばれる少なくとも一種のナフタレン誘導体モノマ
ーと、一般式 (式中、R2は−CH=CH2または R3はH、炭素数1〜10のアルキル基、 である。) から選ばれる少なくとも1種のベンゼン誘導体モノマー
との95/5〜60/40(モル比)共重合体を用いることを特
徴とする高光透過性防塵膜。
1. A three-layer structure comprising a low-refractive-index polymer / high-refractive-index polymer / substrate in which a high-refractive-index polymer is coated on one or both sides of a substrate made of a transparent thin film, and a low-refractive-index polymer is further coated thereon. Or a high light-transmitting dustproof film having a five-layer structure of low refractive index polymer / high refractive index polymer / substrate / high refractive index polymer / low refractive index polymer; (Wherein R 1 is —CH = CH 2 or It is. And at least one naphthalene derivative monomer selected from (Wherein R 2 is —CH = CH 2 , Or R 3 is H, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, It is. A highly light-transmitting dustproof film characterized by using a 95/5 to 60/40 (molar ratio) copolymer with at least one benzene derivative monomer selected from the group consisting of:
【請求項2】基材がセルロース誘導体であることを特徴
とする請求項(1)記載の高光透過性防塵膜。
2. The highly light-transmitting dustproof film according to claim 1, wherein the substrate is a cellulose derivative.
【請求項3】低屈折率ポリマーが一般式 (式中、R4はHまたは−CH3、R5は間にエーテル酸素原
子を含んでいてもよいフルオロアルキル基である。) から選ばれる少なくとも1種のモノマーを含有する含フ
ッ素ポリ(メタ)アクリレートであることを特徴とする
請求項(1)または(2)記載の高光透過性防塵膜。
3. The low refractive index polymer has a general formula (Wherein, R 4 is H or —CH 3 , and R 5 is a fluoroalkyl group optionally containing an ether oxygen atom therebetween.) A fluorine-containing poly (meta) containing at least one monomer selected from the group consisting of 3.) The highly light-transmitting dustproof film according to claim 1, wherein the film is acrylate.
【請求項4】基材上に、高屈折率ポリマーを沸点120〜2
00℃の溶媒に溶解した溶液を供給して回転製膜法により
製膜した後、その上に低屈折率ポリマーの溶液を供給し
て、式 (式中、Mは高屈折率ポリマーの分子量である。) 以下の回転立上速度で回転製膜法により積層製膜するこ
とを特徴とする請求項(1)ないし(3)のいずれかに
記載の高光透過性防塵膜の製造方法。
4. A high refractive index polymer having a boiling point of 120 to 2
After supplying a solution dissolved in a solvent at 00 ° C. to form a film by a rotary film forming method, a solution of a low refractive index polymer is supplied thereon, and the formula (Wherein, M is the molecular weight of the high refractive index polymer). The method according to any one of claims (1) to (3), wherein the film is laminated by a rotational film forming method at the following rotational speed. The method for producing a highly light-transmitting dustproof film according to the above.
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