JP2748413B2 - Low reflection processing agent - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ガラスまたは透明なプラスチックなどの基
材の表面に処理することによって、該基材の表面反射を
低下し、視認性の向上及び可視光線エネルギーの有効活
用化に有用な低反射加工剤に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention reduces the surface reflection of a substrate, such as glass or transparent plastic, by treating the surface of the substrate, thereby improving visibility. The present invention relates to a low-reflection processing agent useful for effectively utilizing visible light energy.
[従来の技術] 建築物や車輌の窓、ドアー、ショーウインド、ショー
ケース、光学レンズ、眼鏡レンズ、サングラスなどはガ
ラスあるいは透明プラスチックなどの透明材料の使用が
不可欠である。しかしながら、かかる透明材料の表面は
太陽光、照明光の反射によるギラツキや眩しさ、あるい
は周囲の景観が映ることにより、材料に特有な透明性や
透視性が損なわれるという欠点がある。また、太陽光の
利用などにおいて、例えば太陽熱温水器は集熱効果を向
上せしめるために集熱部に用いる透明材料の反射損失を
除去、または低減化させ、大量のエネルギーを通過させ
ることが必要である。[Prior Art] Transparent materials such as glass or transparent plastic are indispensable for windows, doors, show windows, show cases, optical lenses, spectacle lenses, sunglasses, etc. of buildings and vehicles. However, the surface of such a transparent material has a drawback in that the transparency and transparency inherent to the material are impaired due to glare and glare caused by reflection of sunlight and illumination light, or the surrounding scenery is reflected. In addition, in the use of sunlight, for example, a solar water heater needs to remove or reduce the reflection loss of a transparent material used for a heat collecting part in order to improve a heat collecting effect, and pass a large amount of energy. is there.
従来から、ガラスや透明プラスチックなどの透明基体
の表面の反射防止は光学部品を中心に開発が進められて
きている。例えば、ガラス表面の可視光の反射防止には
MgF2,氷晶石などからなる単層膜が、また赤外用にはSi
O,CeO2,ZnSなどからなる単層膜、SiO−MgF2、三硫化ひ
素ガラス−WO2−氷晶石などからなる複層膜が、更に紫
外用にはSiO2,LiFなどからなる単層膜が反射防止膜とし
て真空蒸着法あるいはスパッタリング法によって形成さ
れ、光学レンズ、メガネレンズ、フィルターなどに実用
化されている。最近は、それら反射防止膜の形成方法は
板ガラスにおいて熱線反射ガラスにも応用されている。Hitherto, development of antireflection on the surface of a transparent substrate such as glass or transparent plastic has been promoted mainly for optical components. For example, to prevent reflection of visible light on the glass surface
Single-layer film made of MgF 2 , cryolite, etc.
A single-layer film made of O, CeO 2 , ZnS, etc .; a multi-layer film made of SiO-MgF 2 , arsenic trisulfide glass-WO 2- cryolite; and a monolayer film made of SiO 2 , LiF, etc. for ultraviolet. A layer film is formed as an antireflection film by a vacuum evaporation method or a sputtering method, and has been put to practical use in optical lenses, eyeglass lenses, filters, and the like. Recently, these antireflection film forming methods have been applied to heat ray reflective glass in sheet glass.
一方、ガラスや透明プラスチックなどの透明基体の表
面に、高分子物質からなる低反射処理剤を塗布、吹付
け、あるいは処理剤中に浸漬することにより低反射性の
塗膜を形成するための低反射処理剤あるいは処理方法が
提案されている。On the other hand, a low-reflection treatment agent composed of a polymer substance is applied to the surface of a transparent substrate such as glass or transparent plastic, sprayed, or dipped in the treatment agent to form a low-reflection coating film. Reflection treatment agents or treatment methods have been proposed.
しかしながら、前記の真空蒸着法あるいはスパッタリ
ング法は装置の機構上及びコスト面から適応物品は比較
的小型の精密光学部品に限定され、また連続的生産には
適してはいない。低反射処理剤の塗膜を塗布、吹付け、
あるいは浸漬などの方法によって形成する方法において
は透明基材と低反射処理剤との接着力が弱く、形成され
た低反射処理剤の耐久性に問題があり、例えば、形成さ
れた低反射膜は汚染され易く、汚染に対する洗浄作業な
どによって損傷を受け、容易に剥離するなど硬度や耐久
性に欠点がある。However, the above-mentioned vacuum deposition method or sputtering method is limited to relatively small precision optical parts in view of the mechanism of the apparatus and cost, and is not suitable for continuous production. Apply and spray a coating of low reflection treatment agent,
Alternatively, in the method of forming by a method such as immersion, the adhesive strength between the transparent substrate and the low-reflection treatment agent is weak, and there is a problem in the durability of the formed low-reflection treatment agent. It is easily contaminated, is damaged by washing work for contamination, and has a defect in hardness and durability such as easy peeling.
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、上述した従来技術が有していた問題
点の認識に基づいて、ガラスや透明プラスチックなどの
透明基体の透明性、透視性を損なうことなく、該基体の
表面上に塗布、吹付け、あるいは浸漬などの既知の方法
によって該基体の表面を低反射性とし、且つその性能が
長期にわたって持続し得る耐久性の良好な低反射加工剤
を提供することを目的とするものである。[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to provide a transparent base such as glass or transparent plastic without impairing the transparency and transparency thereof, based on the recognition of the above-mentioned problems of the conventional technology. The present invention provides a low-reflection processing agent having good durability, which makes the surface of the substrate low-reflective by a known method such as coating, spraying, or dipping on the surface of the substrate, and whose performance can be maintained for a long time. It is intended to do so.
[課題を解決するための手段] 本発明者は、前述の目的のもとに鋭意検討を重ねた結
果、含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーが高い透明
性および低屈折率を有し、且つ基材表面への塗膜形成性
に優れた低反射加工剤として有用であることを新規に見
出すに至った。[Means for Solving the Problems] As a result of intensive studies based on the above-mentioned objects, the present inventors have found that a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure has high transparency and a low refractive index, and The inventors have newly found that they are useful as a low-reflection processing agent excellent in film formability on a substrate surface.
かくして本発明は、上記知見に基いて完成されたもの
であり、透明な基材の表面に処理する低反射加工剤が主
鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーからなるこ
とを特徴とする低反射加工剤、および、透明な基材の表
面に、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーか
らなる反射防止膜を有するガラスまたは透明プラスチッ
ク製品を新規に提供するものである。Thus, the present invention has been completed on the basis of the above findings, and is characterized in that the low-reflection processing agent for treating the surface of a transparent substrate is made of a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain. Another object of the present invention is to provide a glass or transparent plastic product having a low-reflection processing agent and an antireflection film made of a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain on the surface of a transparent substrate.
本発明において、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有す
るポリマーとしては、従来より公知乃至周知のものを含
めて広範囲にわたって例示され得る。In the present invention, the polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain can be exemplified in a wide range including conventionally known or well-known polymers.
の如き環構造を有するものが挙げられる。これらの内、
次の如き環構造を有するポリマーが代表的である。ただ
し、本発明の内容はこれらのみに限定されるものではな
い。 And those having a ring structure such as Of these,
A polymer having the following ring structure is typical. However, the content of the present invention is not limited only to these.
これら重合体の製造法を示すと、次の2通りである。た
だし、これら製造法に限定されるものではない。 The methods for producing these polymers are as follows. However, it is not limited to these production methods.
1.環化重合によるもの 2.環状モノマーを使用するもの(USP 3978030) 上記では、パーフルオロ脂肪族環構造を有するポリマ
ーを例示したが、本発明においては、上記例示のフッ素
原子の一部が他の水素原子や有機基で置換されたもの、
あるいはメタセシス重合で得られる の如き環構造を有するものなども挙げられる。1.By cyclopolymerization 2. Using cyclic monomers (USP 3978030) In the above, a polymer having a perfluoroaliphatic ring structure is exemplified, but in the present invention, a polymer in which part of the above-described fluorine atoms is substituted with another hydrogen atom or an organic group,
Or obtained by metathesis polymerization And the like having a ring structure such as
而して、本発明における特定の環構造を有するポリマ
ーは、上記の如き環化重合により円滑有利に得られる
が、特に、分子内に重合性の異なる二つの重合性基を有
し且つこれら二つの重合性基を連結する連結鎖の直鎖部
分の原子数が2〜7個であるモノマーを用いることによ
り、超高圧条件や大希釈条件を採用しなくても、ゲル化
の副生を抑えて円滑有利に環化重合を進行せしめ得るも
のである。Thus, the polymer having a specific ring structure in the present invention can be smoothly and advantageously obtained by the cyclization polymerization as described above. In particular, the polymer having two polymerizable groups having different polymerizabilities in the molecule and having these two polymerizable groups. By using a monomer in which the number of atoms in the linear portion of the linking chain connecting two polymerizable groups is 2 to 7, it is possible to suppress the by-product of gelation without employing ultrahigh pressure conditions or large dilution conditions. Cyclization polymerization can proceed smoothly and advantageously.
上記の如き環化重合に好適なモノマーとしては、まず
第一に、重合性の異なる炭素−炭素多重結合を二つ有す
ることが望ましい。通常は炭素−炭素二重結合が採用さ
れ、種類あるいは構造などの異なる二つの多重結合が採
用される。例えば、左右対称構造でない二つの多重結合
を有する含フッ素単量体、ビニル基とアリル基、ビニル
エーテル基とビニル基、含フッ素多重結合と炭化水素多
重結合、パーフルオロ多重結合と部分フッ素化多重結合
の如きが挙げられる。第二に、これら二つの炭素−炭素
多重結合を連結する連結鎖の直鎖部分の原子数が2〜7
であることが望ましい。連結鎖の直鎖部分の原子数が0
〜1個の場合には環化重合が生起し難く、また8個以上
の場合にも同様である。通常好ましくは、この原子数が
2〜5個の場合である。また、連結鎖は直鎖状に限られ
ず、側鎖構造あるいは環構造を有していても良く、さら
に構成原子は炭素原子に限られず、O,S,Nの如きヘテロ
原子を含んでいても良い。第三に、フッ素含有率が10重
量%以上のものが望ましい。フッ素含有率が余りに少な
い場合には、フッ素原子の有する特異性が発揮され難く
なる。当然のことであるが、パーフルオロ単量体が好適
に採用される。First, as a monomer suitable for the above-mentioned cyclization polymerization, it is desirable to have two carbon-carbon multiple bonds having different polymerizabilities. Usually, a carbon-carbon double bond is employed, and two multiple bonds having different types or structures are employed. For example, fluorine-containing monomers having two multiple bonds that are not bilaterally symmetric, vinyl and allyl groups, vinyl ether and vinyl groups, fluorine-containing multiple bonds and hydrocarbon multiple bonds, perfluoro multiple bonds and partially fluorinated multiple bonds And the like. Second, the number of atoms in the linear portion of the connecting chain connecting these two carbon-carbon multiple bonds is 2-7.
It is desirable that The number of atoms in the linear portion of the connecting chain is 0
In the case of 1 to 1, cyclization polymerization hardly occurs, and the same applies to the case of 8 or more. Usually preferably, the number of atoms is 2 to 5. Further, the connecting chain is not limited to a straight chain, and may have a side chain structure or a ring structure, and the constituent atoms are not limited to carbon atoms, and may include hetero atoms such as O, S, and N. good. Third, those having a fluorine content of 10% by weight or more are desirable. If the fluorine content is too low, the specificity of the fluorine atom is hardly exhibited. As a matter of course, perfluoro monomers are preferably employed.
上記の特定の含フッ素単量体の具体例としては、 CF2=CFOCF2CF=CF2,CF2=CFOCF2CF2CF=CF2, CF2=CFOCF2CF=CH2, CF2=CFOCF2OCF2CF=CF2,CF2=CFOCF2CF2CH=CH2, などが例示され得る。本発明においては、CF2=CFO−な
るビニルエーテル基を一つ有するものが重合反応性、環
化重合性、ゲル化抑制などの点で好ましく採用され、特
にパーフルオロアリルビニルエーテル(CF2=CFOCF2CF
=CF2)及びパーフルオロブテニルビニルエーテル(CF2
=CFOCF2CF2CF=CF2)が好適な例として挙げられる。Specific examples of the above specific fluorine-containing monomer include CF 2 = CFOCF 2 CF = CF 2 , CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF = CF 2 , CF 2 = CFOCF 2 CF = CH 2 , CF 2 = CFOCF 2 OCF 2 CF = CF 2 , CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CH = CH 2 , And the like. In the present invention, those having one vinyl ether group of CF 2 CCFO— are preferably employed in terms of polymerization reactivity, cyclopolymerization, suppression of gelation, etc., and in particular, perfluoroallyl vinyl ether (CF 2 CCFOCF 2) CF
= CF 2 ) and perfluorobutenyl vinyl ether (CF 2
= CFOCF 2 CF 2 CF = CF 2 ) is a preferred example.
上記の如き単量体成分は単独で又は二種以上で使用さ
れ得ると共に、さらにはこれらの成分の本質を損なわな
い程度に他の共重合成分と併用して共重合しても何ら差
し支えがないし、必要ならば何らかの方法でポリマーを
架橋しても良い。The monomer components as described above can be used alone or in combination of two or more types.Furthermore, there is no problem even if copolymerization is carried out in combination with other copolymerization components to such an extent that the essence of these components is not impaired. If necessary, the polymer may be cross-linked by any method.
共重合せしめる他の単量体としては、ラジカル重合性
を有するモノマーであれば、特に限定されずに含フツ素
系、炭化水素系その他が広範囲にわたって例示され得
る。当然のことであるが、これら他の単量体は一種単独
で前記特定の環構造を導入し得るモノマーとラジカル共
重合せしめても良く、あるいは適宜の2種類以上を併用
して上記共重合反応を行なわせても良い。本発明におい
ては、通常は他の単量体としてフルオロオレフィン、フ
ルオロビニルエーテルなどの含フッ素系モノマーを選定
するのが望ましい。例えば、テトラフルオロエチレン、
パーフルオロメチルビニルエーテル、パーフルオロプロ
ピルビニルエーテル、あるいはカルボン酸基やスルホン
酸基の如き官能基を含有するパーフルオロビニルエーテ
ルなどは好適な具体例であり、弗化ビニリデン、弗化ビ
ニル、クロロトリフルオロエチレンなども例示され得
る。The other monomer to be copolymerized is not particularly limited as long as it is a monomer having radical polymerizability, and a wide range of fluorine-containing, hydrocarbon-based, and the like can be exemplified. Naturally, these other monomers may be used alone to form a radical copolymer with the monomer capable of introducing the specific ring structure, or the above copolymerization reaction may be carried out by using two or more kinds in combination. May be performed. In the present invention, it is usually desirable to select a fluorinated monomer such as fluoroolefin or fluorovinyl ether as the other monomer. For example, tetrafluoroethylene,
Perfluoromethyl vinyl ether, perfluoropropyl vinyl ether, or perfluorovinyl ether containing a functional group such as a carboxylic acid group or a sulfonic acid group are preferred specific examples, such as vinylidene fluoride, vinyl fluoride, and chlorotrifluoroethylene. May also be exemplified.
共重合体組成としては、本発明で目的とする特定含フ
ッ素脂肪族環構造の特性を生かすために、環状構造の組
成が20%以上であることが好ましく、更に好ましくは40
%以上であることが望ましいが、低反射加工剤としては
形成される塗膜の屈折率と接着性との関係において適宜
選択される。As the copolymer composition, the composition of the cyclic structure is preferably at least 20%, more preferably 40%, in order to make use of the characteristics of the specific fluorinated aliphatic ring structure aimed at in the present invention.
% Is desirable, but the low-reflection processing agent is appropriately selected depending on the relationship between the refractive index of the coating film to be formed and the adhesiveness.
本発明における特定の環構造を有するポリマーは、フ
ッ素系溶剤などに可溶なため、透明基材への処理形態と
して溶液を用いることができる。Since the polymer having a specific ring structure in the present invention is soluble in a fluorine-based solvent or the like, a solution can be used as a treatment form for the transparent substrate.
用いられる溶媒としては、上記ポリマーを溶解するも
のであれば限定はないが、パーフルオロベンゼン、“ア
フルード”(商品名:旭硝子社製のフッ素系溶剤)、
“フロリナート”(商品名:3M社製のパーフルオロ(2
−ブチルテトラヒドロフラン)を含んだ液体)、トリク
ロロトリフルオロエタン等が好適である。当然のことで
あるが、適宜の2種類以上を併用して溶媒として用いる
ことができる。特に混合溶媒の場合、炭化水素系、塩化
炭化水素、弗塩化炭化水素、アルコール、その他の有機
溶媒も併用できる。溶液濃度は0.01wt%〜50wt%で、好
ましくは0.1wt%〜20wt%である。The solvent to be used is not limited as long as it dissolves the above polymer, but is not limited to perfluorobenzene, "Aflud" (trade name: a fluorine-based solvent manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.),
"Fluorinert" (trade name: Perfluoro (2M manufactured by 3M)
-Butyltetrahydrofuran), trichlorotrifluoroethane and the like. As a matter of course, two or more of them can be used in combination as a solvent. In particular, in the case of a mixed solvent, hydrocarbons, chlorinated hydrocarbons, fluorinated hydrocarbons, alcohols, and other organic solvents can be used in combination. The solution concentration is 0.01 wt% to 50 wt%, preferably 0.1 wt% to 20 wt%.
透明基材への処理方法は特に限定されることなく、通
常のはけ塗り、ロール塗り、吹付け、浸漬法及びスピン
キャスト法などのよって塗布される。The method for treating the transparent substrate is not particularly limited, and the transparent substrate is applied by usual brushing, roll coating, spraying, dipping, spin casting, or the like.
本発明の低反射加工剤はガラスや透明プラスチックな
どの透明基材上に直接処理することによって実用に耐え
る接着性を有する被膜が得られるが、透明基材の種類に
よっては接着性は劣ったり、あるいは更に接着を強固な
ものとするために透明基材上にあらかじめシランカップ
リング剤等のプライマーによって形成された塗膜上へ処
理することもできる。また、接着性基を有する単層体を
共重合させて接着性を更に高めることも可能である。The low-reflection processing agent of the present invention can obtain a film having adhesiveness that can withstand practical use by directly treating on a transparent substrate such as glass or transparent plastic, but depending on the type of the transparent substrate, the adhesiveness is poor or Alternatively, in order to further strengthen the adhesion, a treatment can be performed on a coating film which has been previously formed on a transparent substrate with a primer such as a silane coupling agent. Further, it is also possible to further improve the adhesiveness by copolymerizing a monolayer having an adhesive group.
本発明の低反射加工剤を用いて透明基材の表面に反射
防止膜を形成させるにおいて、基材上に低屈折率の含フ
ッ素ポリマー塗膜の単一層を形成させても十分な反射防
止効果は得られるが、更に、含フッ素ポリマーよりも高
屈折率の塗膜を基材と含フッ素ポリマー層との間に設け
て多層化し、反射防止性能を高めることも可能である。In forming an anti-reflection film on the surface of a transparent substrate using the low-reflection processing agent of the present invention, a sufficient anti-reflection effect can be obtained even if a single layer of a fluoropolymer coating film having a low refractive index is formed on the substrate. However, it is also possible to provide a coating film having a higher refractive index than that of the fluoropolymer between the substrate and the fluoropolymer layer to form a multilayer, thereby enhancing the antireflection performance.
本発明の低反射加工剤によって形成された被膜はそれ
自身が実用的な強度を有するが非常に薄い膜や耐擦傷性
等が必要とされる場合には、架橋反応により硬化せしめ
ることができる。The coating formed by the low-reflection processing agent of the present invention itself has practical strength, but can be cured by a cross-linking reaction when a very thin film or scratch resistance is required.
本発明の低反射加工剤に用いられる含フッ素ポリマー
の架橋方法としては、通常行なわれている方法などを適
宜用いることができる。例えば、架橋部位をもつ単量体
を共重合させて架橋せしめたり、架橋剤を添加して架橋
せしめたり、あるいは放射線などを用いて架橋せしめる
ことができる。As a method for crosslinking the fluoropolymer used in the low-reflection processing agent of the present invention, an ordinary method or the like can be appropriately used. For example, it is possible to crosslink by copolymerizing a monomer having a crosslinkable site, to add a crosslinking agent to crosslink, or to crosslink using radiation or the like.
本発明の低反射加工剤はガラスはもとより透明プラス
チック、例えばポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート、ポリスチレン、不飽和ポリエス
テルなどに好適に使用され、処理物品の用途は特に限定
されることなく、建築物の窓、ドアー、ショーウイン
ド、ショーケース、車輌の窓・風防、光学レンズ、メガ
ネレンズ、安全メガネ、フィルター、テレビジョン・デ
ィスプレー前面防眩、時計ガラス、太陽光集光部材、そ
の他のガラスあるいは透明プラスチック製品に用いるこ
とができる。The low-reflection processing agent of the present invention is suitably used not only for glass but also for transparent plastics such as polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polydiethylene glycol bisallyl carbonate, polystyrene, and unsaturated polyester. Building windows, doors, show windows, showcases, vehicle windows and windshields, optical lenses, spectacle lenses, safety glasses, filters, television display anti-glare, clock glass, sunlight collection It can be used for components, other glass or transparent plastic products.
[作用] 本発明において、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有す
るポリマーは、結晶性が小さいか又は殆ど結晶性がない
ために、フッ素樹脂であるにもかかわらず高い透明性を
示し且つ高い光線透過率を示すものであり、また含フッ
素ポリマーであるが故に、通常の炭化水素系の樹脂より
も低屈折率で耐湿性,耐候性,耐薬品性にも優れている
ものと考えられる。ただし、かかる説明は本発明の理解
の助けとするものであり、本発明を何ら限定するもので
ないことは勿論である。[Action] In the present invention, the polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain exhibits high transparency and high transparency despite being a fluororesin because of low crystallinity or little crystallinity. It shows light transmittance and is considered to have a lower refractive index and better moisture resistance, weather resistance, and chemical resistance than ordinary hydrocarbon-based resins because it is a fluoropolymer. However, such description is intended to help the understanding of the present invention, and is not intended to limit the present invention.
[実施例] 次に、本発明の実施例について更に具体的に説明する
が、この説明が本発明を限定するものでないことは勿論
である。[Example] Next, an example of the present invention will be described more specifically. However, it goes without saying that this description does not limit the present invention.
合成例1 パーフルオロアリルビニルエーテルの35g,トリクロロ
トリフルオロエタン(以下、R−113と略記する)の5g,
イオン交換水の150g,及び重合開始剤として の35mgを、内容積200mlの耐圧ガラス製オートクレーブ
に入れた。系内を3回窒素で置換した後、26℃で23時間
懸濁重合を行った。その結果、重合体を28g得た。Synthesis Example 1 35 g of perfluoroallyl vinyl ether, 5 g of trichlorotrifluoroethane (hereinafter abbreviated as R-113),
150 g of ion-exchanged water and as a polymerization initiator Was placed in a pressure-resistant glass autoclave having an internal volume of 200 ml. After purging the system with nitrogen three times, suspension polymerization was performed at 26 ° C. for 23 hours. As a result, 28 g of a polymer was obtained.
この重合体の赤外線吸収スペクトルを測定したとこ
ろ、モノマーにあった二重結合に起因する1660cm-1,184
0cm-1付近の吸収はなかった。また、この重合体をパー
フルオロベンゼンに溶解し19FのNMRスペクトルを測定し
たところ、以下の繰り返し構造を示すスペクトルが得ら
れた。When the infrared absorption spectrum of this polymer was measured, the result was 1660 cm −1 , 184
There was no absorption around 0 cm -1 . Further, when this polymer was dissolved in perfluorobenzene and the 19 F NMR spectrum was measured, a spectrum showing the following repeating structure was obtained.
この重合体の固有粘度[η]は、“フロリナート"FC
−75(商品名:3M社製のパーフルオロ(2−ブチルテト
ラヒドロフラン)を主成分とした液体、以下、FC−75と
略記する)中30℃で0.530であった。重合体のガラス転
移点は69℃であり、室温ではタフで透明なガラス状の重
合体である。また10%熱分解温度は462℃であり、さら
にこの重合体は無色透明であり、屈折率は1.34と低く、
光線透過率は95%と高かった。 The intrinsic viscosity [η] of this polymer is "Fluorinert" FC
It was 0.530 at-30 ° C in -75 (trade name: liquid containing perfluoro (2-butyltetrahydrofuran) manufactured by 3M Company as a main component, hereinafter abbreviated as FC-75). The glass transition point of the polymer is 69 ° C., and it is a tough and transparent glassy polymer at room temperature. The 10% thermal decomposition temperature is 462 ° C., and the polymer is colorless and transparent, and has a low refractive index of 1.34,
The light transmittance was as high as 95%.
合成例2 1,1,2,4,4,5,5−ヘプタフルオロ−3−オキサ−1,6−
ヘプタジエンの20g及びR−113の40gを窒素置換した三
ッ口フラスコに入れ、重合開始剤として の20mgを加え、さらな系内を窒素置換した後に、18℃で
10時間重合した。その結果、重合体を10g得た。この重
合体はR−113に溶解するポリマーであり、メタキシレ
ンヘキサフルオライド中30℃での固有粘度[η]は0.96
であった。19F NMR及び1H NMRにより、主鎖に環状構造
を有する重合体であることを確認した。Synthetic Example 2 1,1,2,4,4,5,5-heptafluoro-3-oxa-1,6-
20 g of heptadiene and 40 g of R-113 were placed in a three-necked flask purged with nitrogen, and used as a polymerization initiator. 20 mg was added, and the inside of the system was further replaced with nitrogen.
Polymerized for 10 hours. As a result, 10 g of a polymer was obtained. This polymer is a polymer soluble in R-113 and has an intrinsic viscosity [η] at 30 ° C. of 0.96 in meta-xylene hexafluoride.
Met. 19 F NMR and 1 H NMR confirmed that the polymer had a cyclic structure in the main chain.
また、この重合体は無色透明であり、屈折率は1.36と
低く、光線透過率は93%と高かった。This polymer was colorless and transparent, had a low refractive index of 1.36, and had a high light transmittance of 93%.
実施例1 合成例1で得られた含フッ素ポリマーを“フロリナー
ト"FC−75に溶解し、1wt%の溶液を調整し、低反射加工
剤とした。10cm×10cm(厚さ2mm)のガラス板(ソーダ
ライムガラス)およびポリジエチレングリコールビスア
リルカーボネート板(以下、カーボネート板と称する)
を低反射加工剤中に浸漬し、20cm/minの速度で引き上げ
た後、60℃の温度で1晩乾燥して塗膜を形成した。形成
された膜の厚さはいずれも0.095μであった。これらの
板の全光透過率を旭光学社製MODEL304にて測定し、また
塗膜の平均反射率を日立製作所製自記分光光度計正反射
光測定付属装置323型を使用し波長400〜700nmの入射角
5゜において測定したところ、表1の様であった。Example 1 The fluoropolymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in "Fluorinert" FC-75, and a 1 wt% solution was prepared to obtain a low reflection processing agent. 10 cm x 10 cm (2 mm thick) glass plate (soda lime glass) and polydiethylene glycol bisallyl carbonate plate (hereinafter referred to as carbonate plate)
Was immersed in a low-reflection processing agent, pulled up at a speed of 20 cm / min, and dried overnight at a temperature of 60 ° C. to form a coating film. The thickness of each of the formed films was 0.095 μm. The total light transmittance of these plates was measured with Asahi Optical's MODEL304, and the average reflectance of the coating film was measured using a Hitachi Spectrophotometer regular reflection light measurement accessory type 323 with a wavelength of 400 to 700 nm. Table 1 shows the results measured at an incident angle of 5 °.
実施例2 3−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン5.0
部、メチルトリメトキシシラン4.8部、エチルトリエト
キシシラン1.1部およびジアセトンアルコール283.2部と
を混合し均一な溶液を得たのち、氷冷下(5℃)の温度
に維持した。次いでこの溶液に1%塩酸水溶液3.4部を
徐々に滴下し、滴下終了後、室温に戻し1昼夜放置、熟
成した。さらに得られた溶液に、メタノール分散コロイ
ド状アンチモン15.7部、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂(油化シェル社製EP 828)0.6部、アルミニウムアセ
チルアセトネート0.1部、シリコーン系界面活性剤0.4部
を添加し3日間熟成したのち濾過してコーティング組成
物を得た。 Example 2 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 5.0
And 4.8 parts of methyltrimethoxysilane, 1.1 parts of ethyltriethoxysilane and 283.2 parts of diacetone alcohol to obtain a uniform solution, and the mixture was maintained at a temperature of 5 ° C. under ice cooling. Next, 3.4 parts of a 1% aqueous hydrochloric acid solution was gradually added dropwise to this solution, and after completion of the addition, the mixture was returned to room temperature and left to stand for 24 hours to mature. Further, 15.7 parts of methanol-dispersed colloidal antimony, 0.6 part of a bisphenol A type epoxy resin (EP828 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.), 0.1 part of aluminum acetylacetonate, and 0.4 part of a silicone surfactant were added to the obtained solution. After aging for days, the mixture was filtered to obtain a coating composition.
このコーティング組成物中に実施例1と同様のガラス
板およびカーボネート板をそれぞれ浸漬し、9cm/minの
速度で引き上げ、100℃にて10分間焼成した。更にこの
うえに実施例1と同様な方法で低反射加工剤の塗膜を形
成させて、全光透過率および平均反射率を測定した。結
果を表2に示す。The same glass plate and carbonate plate as in Example 1 were immersed in this coating composition, pulled up at a speed of 9 cm / min, and fired at 100 ° C. for 10 minutes. Further, a coating film of a low reflection processing agent was formed thereon in the same manner as in Example 1, and the total light transmittance and the average reflectance were measured. Table 2 shows the results.
実施例3 3−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン5.0
部、メチルトリメトキシシラン2.4部、およびジアセト
ンアルコール561.4部とを混合し均一な溶液を得たの
ち、氷冷下(5℃)の温度に維持した。次いでこの溶液
に1%塩酸水溶液2.1部を徐々に滴下し、滴下終了後、
室温に戻し1昼夜放置、熟成した。さらに得られた溶液
に、メタノール分散コロイド状アンチモン47.2部、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製EP 828)
0.5部、アルミニウムアセチルアセトネート0.2部、シリ
コーン系界面活性剤0.4部を添加し3日間熟成したのち
濾過してコーティング組成物を得た。 Example 3 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 5.0
, 2.4 parts of methyltrimethoxysilane and 561.4 parts of diacetone alcohol to obtain a uniform solution, which was then maintained at a temperature of ice cooling (5 ° C). Next, 2.1 parts of a 1% aqueous hydrochloric acid solution was gradually added dropwise to this solution, and after completion of the addition,
The mixture was returned to room temperature and left for one day to mature. Further, 47.2 parts of colloidal antimony dispersed in methanol and bisphenol A type epoxy resin (EP 828 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) were added to the obtained solution.
0.5 parts, 0.2 parts of aluminum acetylacetonate and 0.4 parts of a silicone-based surfactant were added, the mixture was aged for 3 days, and then filtered to obtain a coating composition.
このコーティング組成物中に実施例1と同様のガラス
板およびカーボネート板をそれぞれ浸漬し、9cm/minの
速度で引き上げ、100℃にて10分間焼成した。更にこの
うえに実施例1と同様な方法で低反射加工剤の塗膜を形
成させて、全光透過率および平均反射率を測定した。結
果を表3に示す。The same glass plate and carbonate plate as in Example 1 were immersed in this coating composition, pulled up at a speed of 9 cm / min, and fired at 100 ° C. for 10 minutes. Further, a coating film of a low reflection processing agent was formed thereon in the same manner as in Example 1, and the total light transmittance and the average reflectance were measured. Table 3 shows the results.
[発明の効果] 本発明は主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するポリマ
ーを低反射加工剤として採用することにより、透明成形
体表面に低屈折率の被膜を形成させることができ、透明
成形体の光反射率を著しく減少させることが可能であ
る。 [Effect of the Invention] In the present invention, a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain is employed as a low-reflection processing agent, whereby a film having a low refractive index can be formed on the surface of a transparent molded article, and the transparent molded article It is possible to significantly reduce the light reflectance of the body.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G02B 1/11 G02B 1/10 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G02B 1/11 G02B 1/10 A
Claims (3)
が、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーから
なることを特徴とする低反射加工剤。1. A low-reflection processing agent characterized in that the low-reflection processing agent for treating the surface of a transparent substrate comprises a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in its main chain.
族環構造を有するポリマーからなる反射防止膜を有する
ガラスまたは透明プラスチック製品。2. A glass or transparent plastic product having an antireflection film made of a polymer having a fluorinated alicyclic structure in its main chain on the surface of a transparent substrate.
環構造を有するポリマーからなる反射防止膜との間に、
この反射防止膜よりも高屈折率の塗膜の層を有する請求
項2記載のガラスまたは透明プラスチック製品。3. The method according to claim 1, wherein the surface of the transparent substrate and an antireflection film made of a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure in its main chain,
3. The glass or transparent plastic product according to claim 2, further comprising a coating layer having a higher refractive index than the antireflection film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63168936A JP2748413B2 (en) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | Low reflection processing agent |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63168936A JP2748413B2 (en) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | Low reflection processing agent |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0219801A JPH0219801A (en) | 1990-01-23 |
JP2748413B2 true JP2748413B2 (en) | 1998-05-06 |
Family
ID=15877287
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63168936A Expired - Fee Related JP2748413B2 (en) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | Low reflection processing agent |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2748413B2 (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08234001A (en) * | 1995-02-24 | 1996-09-13 | Asahi Glass Co Ltd | Antireflection optical article |
JPH10111401A (en) | 1996-08-14 | 1998-04-28 | Daikin Ind Ltd | Article with antireflection treatment |
US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
JP3657869B2 (en) | 1999-10-29 | 2005-06-08 | 株式会社巴川製紙所 | Low reflection material |
JP4062392B2 (en) | 2000-08-04 | 2008-03-19 | 信越化学工業株式会社 | Silicone resin for coating composition, method for producing the same, coating composition and article having this cured film |
JP2003025510A (en) | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Multilayered laminate having reflection preventing properties and scratch resistance |
JP2004070033A (en) | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Topcon Corp | Optical fiber on which anti-reflective film is formed, and method of manufacturing the same |
JP2010181181A (en) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Canon Inc | Scale, displacement detection apparatus provided with the same, and imaging apparatus provided with the same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR940001852B1 (en) * | 1988-05-31 | 1994-03-09 | 이 아이 듀우판 디 네모아 앤드 캄파니 | Process for the stabilization of fluoro polymers |
-
1988
- 1988-07-08 JP JP63168936A patent/JP2748413B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0219801A (en) | 1990-01-23 |
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