JPH01190275A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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JPH01190275A
JPH01190275A JP1381588A JP1381588A JPH01190275A JP H01190275 A JPH01190275 A JP H01190275A JP 1381588 A JP1381588 A JP 1381588A JP 1381588 A JP1381588 A JP 1381588A JP H01190275 A JPH01190275 A JP H01190275A
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JP
Japan
Prior art keywords
positioning
superconducting thin
superconductive
superconducting
extraction electrodes
Prior art date
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Pending
Application number
JP1381588A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Takahara
博司 高原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1381588A priority Critical patent/JPH01190275A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高精度に物体を位置決めする位置決め装置に関
するものである。
従来の技術 以下、図面を参照しながら従来の位置決め装置について
説明する。第6図(alは従来の位置決め装置の平面図
であり、第6図(b)は第6図(a)のBB’線での断
面図である。第6図(al (blにおいて、10は固
定台、11は位置決め物体を積載するための位置決め台
、12は固定具、13は位置調整ネジ、14はバネ、1
5はバネの圧力が位置決め台11に均一にかかるように
するためのバネおさえである。
以下、位置決め方法について説明する。まず位置決め台
11を位置調整ネジ7とバネおさえ10の間にはさみこ
む。次に加工物などの位1決め物体を位置決め台11上
に積載する。次に位置調整ネジ13をまわし、所定位置
に位置決め台11を移動させることにより、位置決め台
11上に積載された位置決め物体の位置決めをおこなう
発明が解決しようとする課題 しかしながら従来の位1決め装置では機械的な要素を含
むため微小な位置決めには限界がある。
通常機械的な要素を含む場合1μm以下の位置決めは不
可能に近い。また長期的な使用により位置調整用ネジの
摩耗などが生じ、位置決め精度が落ちるという課題があ
った。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するため本発明の位置決め装置は、マイ
スナー効果を有する超電導体材料からなる超電導薄膜の
両端が全体として軸上に配置され、前記超電導薄膜の両
端に引き出し電極が形成された物体位置決め手段と前記
位置決め手段上に磁束を発生する手段を有する位置決め
物体積載台を配置したものである。
作用 本発明は物体位置決め手段を構成する超電導薄膜の有す
るマイスナー効果により、前記物体位置決め手段上に配
置された主として永久磁石などからなる位置決め物体積
載台を磁気浮上させる。今、物体位置決め手段の任意の
引き出し電極間に電流を印加し、前記引き出し電極間に
形成されている超電導薄膜の超電導状態を破壊する。す
ると位置決め物体積載台は磁束がつりあう方向に移動す
る。
以上の動作により位置決め物体積載台に積載された物体
の位置決めをおこなうことができる。
実施例 以下、本発明の位置決め装置について図面を参照しなが
ら説明する。
第1図(alは本発明の第1の実施例における位置決め
装置の構成要素である物体位置決め手段の平面図であり
、第1図(b)は第1図(a)のAA’線での断面図で
ある。第1図(al (b)において1a〜1pおよび
3はマイスナー効果を有する超電導材料からなる超電導
薄膜、23〜2pは超電導薄膜の両端に形成された引き
出し電極、4はセラミックなどの基板である。第1図(
a) (b)で明らかなように複数の超電8m膜を全体
として輪状に並ぶように形成し、前記超電導薄膜の両端
に引き出し電極を形成する。また中央部にも超電導薄膜
3を形成しておく。
第2図は第1図(a)の位置・決め手段上に永久磁石な
ど磁束を発生する物質からなる位置決め物体積載台5を
配置し、AA’線で切断したときの平面図である。第2
図において5!よ位置決め物体積載台(以後位置決め台
と呼ぶ。)、6は磁束の軌跡である。なお前記位置決め
台上に、レンズ、ミラー、加工物などの位置決め対象物
を積載する。第2図で明らかなように位置決め台が発生
する磁束は位置決め手段を構成する超電導薄膜のマイス
ナー効果により反発され、前記位置決め台は磁気浮上を
する。
以下、本発明の第1の実施例における位置決め装置の位
置決め方法について説明する。第3図は本発明の位置決
め装置の位置決め方法を説明するための説明図である。
今、引き出し電極2hと2j間に電流を印加させ、超電
導薄膜1hおよび11の超電導状態を破壊する。すると
前記超電導薄膜には磁束が進入するようになる。そこで
位置決め台5は磁気的につりあうように図に示すように
下方に移動する。通常、超電導薄膜は数十以上と多くし
、かつ前記超電導薄膜が全体として円状の形成する円の
直径は10m以下と小さく作製されるため1μm以下の
位置決めを容易におこなうことができる。
次に本発明の第2の実施例における位置決め装置につい
て説明する。第4図(alは本発明の第2の実施例にお
ける位置決め装置の構成要素である物体位置決め手段の
平面図であり、第4図(blは第4図+a)のBB’線
での断面図である。第4図(a) (b)において7a
〜7xは引き出し電極、8a〜8p、9a〜9hは超電
導薄膜である。第2の実施例では9a〜9hの超電導薄
膜にて全体として一つの輪を形成し、8a〜8pの超電
導薄膜にて全体としてもう一つの輪を形成している。ま
た引き出し電極7a〜7xはそれぞれの超電導薄膜に接
続され、電流を印加することによりそれぞれの超電導薄
膜の超電導状態を破壊することができる。第5図は第4
図(a)上に位置決め台5を配置し、BB’線で切断し
たときの断面図である。
第2の実施例では超電導薄膜が形成する輪を2重とする
ことにより、第1の実施例と比較して、さらに柔軟に超
電導薄膜の超電導状態を制御することができ、したがっ
てより微細な位置決めをおこなうことができる。
なお、本発明の実施例では超電導薄膜の形状をおうぎ形
としたがこれに限るものではな(、たとえば矩形であっ
てもよい。
また、上記実施例中、超電導体材料としては、たとえば
、いわゆる常温超電導体を用いるか、または、超電導臨
界温度が室温と液体窒素の沸点の間の材料を用いて液体
窒素で冷却するか(図示せず)、もしくは超電導臨界温
度が液体窒素の沸点以下の材料を用いて液体ヘリウムで
冷却するか(図示せず)をすればよい。常温超電導体の
一例としては、組成としてストロンチウム(Sr)、バ
リウム(Ba)、イツトリウム(Y)および銅(Cu)
を夫々1:1:1:3の比率で含有するセラミック酸化
物がある。その製造方法の一例としては、出発原料とし
て5rCO,、BaC0,、Y203 、CuOの夫々
の粉体を所定量混合し、粉砕し、空気中において920
℃で5時間焼成する。
この焼成、粉砕を3回繰り返し、均質性を高める。
このようにして処理した混合粉体を冷間圧縮成型した後
、空気中において1000℃で5時間焼成し、徐冷する
ことにより製造する。
発明の効果 本発明の位置決め装置は、マイスナー効果を有する超電
導材料からなる複数の超電導薄膜が全体として輪状に配
置され、前記超電導薄膜の両端に引き出し電極が形成さ
れた物体位置決め手段と前記物体位置決め手段上に磁束
を発生する手段を有する位置合を配置したものである。
したがって位置決め台を磁気浮上させ、物体位置決め手
段の任意の引き出し電極間に電流を印加し、前記引き出
し電極間に形成されている超電導薄膜の超電導状態を破
壊する。すると位置決め台は磁束がつりあう方向に移動
する。前記複数の超電導薄膜が形作る輪の直径および超
電導薄膜数を数10個以上とすることにより非常に微細
に位置決め台の位置決め、つまり位置決め台上に積載さ
れた物体の位置決めを非接触におこなうことができる。
また、位置決めに要する時間も1 m5ec以下と・非
常に高速におこなうことができ、その効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) (b)は本発明の第1の実施例における
位置決め装置の一構成要素である物体位置決め手段の平
面図および断面図、第2図は本発明の第1の実施例にお
ける位置決め装置の断面図、第3図は本発明の位置決め
装置の位置決め方法を説明するための説明図、第4図(
al (b)は本発明の第2の実施例における位置決め
装置の一構成要素である物体位置決め手段の示面図およ
び断面図、第5図は本発明の第2の実施例における位置
決め装置の断面図、第6図(a) (blは従来の位置
決め装置の平面図および断面図である。 1 a〜1 p、 8 a〜8 p、 93〜9 h、
 3+t*+++超電導薄膜、2a〜2p、7a〜7x
・・・・・・引き出し電極、4・・・・・・基板、5.
11・・・・・・位置決め台、6・・・・・・磁束の軌
跡、10・・・・・・固定台、12・・・・・・固定具
、13・・・・・・位置調整ネジ、14・・・・・・バ
ネ、15・・・・・・バネおさえ。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名城    
      1 第3図 2ρ T〜7z−−−31う七し電慰 の           ( 城 10−E叉も )5−バ$′J−3:!ん

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)マイスナー効果を有する超電導材料からなる複数
    の超電導薄膜が全体として輪状に配置され、前記超電導
    薄膜の両端に引き出し電極が形成された物体位置決め手
    段と前記物体位置決め手段上に磁束を発生する手段を有
    する位置決め物体積載台を配置したことを特徴とする位
    置決め装置。
  2. (2)任意の引き出し電極間に電流を印加し、前記引き
    出し電極間に形成された超電導薄膜の超電導状態を破壊
    することにより、位置決め物体積載台を移動させること
    を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の位置決め
    装置。
JP1381588A 1988-01-25 1988-01-25 位置決め装置 Pending JPH01190275A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1381588A JPH01190275A (ja) 1988-01-25 1988-01-25 位置決め装置

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JP1381588A JPH01190275A (ja) 1988-01-25 1988-01-25 位置決め装置

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JPH01190275A true JPH01190275A (ja) 1989-07-31

Family

ID=11843772

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JP1381588A Pending JPH01190275A (ja) 1988-01-25 1988-01-25 位置決め装置

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JP (1) JPH01190275A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008001496A (ja) * 2006-06-23 2008-01-10 Kochi Univ Of Technology 移動ユニット

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008001496A (ja) * 2006-06-23 2008-01-10 Kochi Univ Of Technology 移動ユニット

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