JPH01184860A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device

Info

Publication number
JPH01184860A
JPH01184860A JP63005614A JP561488A JPH01184860A JP H01184860 A JPH01184860 A JP H01184860A JP 63005614 A JP63005614 A JP 63005614A JP 561488 A JP561488 A JP 561488A JP H01184860 A JPH01184860 A JP H01184860A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
tape
lead terminals
semiconductor device
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63005614A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryutaro Arakawa
竜太郎 荒川
Kimitaka Koseki
小関 公崇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
Priority to JP63005614A priority Critical patent/JPH01184860A/en
Publication of JPH01184860A publication Critical patent/JPH01184860A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16245Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To effectively manufacture a semiconductor device of chip multi-stage mounting type, by a method wherein, before ICs are not cut off from a film tape of tape carrier system, a plurality of corresponding lead terminals of ICs are connected with each other, and sealing is performed in this state. CONSTITUTION:The IC chip 1a of an IC memory 12 mounted on a film tape 6b is in the mirror image relation to the IC chip 1 of an IC memory 11 mounted on a tape 6a, with respect to internal circuits and electrodes except a chip selecting electrode. Each lead terminal 5 of the above IC chips is also in a mirror image relation. The film tape 6a mounting the IC memory 11 is turned over, and thereon the film tape 6b mounting the IC memory 12 is so stacked that the mutual lead terminals 5 face and neighbor with each other. In the state where the IC memories 11, 12 are on the film tapes 6a, 6b, respectively, the lead terminals 5 of the IC memories 11, 12 are mutually joined. The sealing is performed in this state.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、半導体装置の製造方法に関し、詳しくは、
フレキシブルな絶縁フィルムをベースとした、いわるテ
ープキャリア方式(TAB方式)により半導体を組立て
る半導体装置の製造方法において、接続不良等が発生し
難く、生産効率がよいチップ多段実装タイプのICの製
造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device.
A method for manufacturing a semiconductor device that assembles semiconductors using the so-called tape carrier method (TAB method) based on a flexible insulating film, and a method for manufacturing a multistage chip mounting type IC that is less likely to cause connection failures and has good production efficiency. Regarding.

[従来の技術] ROMlRAM等の半導体メモリで構成される従来の半
導体装置は、メモリ容量を増加させる場合、複数個のメ
モリチップを搭載することになるが、このとき複数個の
メモリチップ同士は、チップセレクト端子以外はすべて
各々対応する信号端子に共通に接続される。
[Prior Art] In order to increase the memory capacity of a conventional semiconductor device configured with a semiconductor memory such as ROM1RAM, a plurality of memory chips must be installed. All terminals other than the chip select terminal are commonly connected to their corresponding signal terminals.

そこで、メモリ容量が大きくなるにつれて基板上のメモ
IJ I C占有率が大きくなり、小型化が困難となる
上に、配線パターンも複雑となってくる。
Therefore, as the memory capacity increases, the memory IJIC occupancy rate on the board increases, making it difficult to downsize and also making the wiring pattern more complex.

その結果、同一の占有エリアでメモリ容量を増加させる
ためにメモリチップを積層する多段実装が行われる。
As a result, in order to increase memory capacity in the same occupied area, multi-stage mounting is performed in which memory chips are stacked.

TAB方式のメモU I Cを用いて多段実装する方法
としては、例えば、第6図のようなプロセスを経て行わ
れる。すなわち、テープキャリアされたメモリICをス
テップ100でパンチング・フォーミングして、余分な
チップセレクト端子(C8端子)を切断する。これと並
行してステップ101でも、同様にテープキャリアされ
たメモリICをパンチング・フォーミングして、余分な
C8端子を切断する。このようにして複数のメモリIC
素子をあらかじめ切出してお(。
As a method for multi-stage mounting using a TAB type memo UIC, for example, it is carried out through a process as shown in FIG. That is, the tape-carried memory IC is punched and formed in step 100 to cut off the excess chip select terminal (C8 terminal). In parallel with this, in step 101, the tape-carried memory IC is similarly punched and formed to cut off the excess C8 terminal. In this way, multiple memory ICs
Cut out the elements in advance (.

これらとは別に、ステップ102でプリント基板にクリ
ームはんだ(クリームハンダ)を塗り付けるクリームハ
ンダ印刷を行い、次にステップ103において、先のス
テップ100で得たメモリICを基板側に持って来て、
そのリード端子と基板端子との位置合わせさせをしく位
置合わせ(1))、ステップ104で基板に搭載する。
Separately, in step 102, cream solder printing is performed to coat the printed circuit board with cream solder, and then in step 103, the memory IC obtained in step 100 is brought to the board side.
The lead terminals and the board terminals are properly aligned (1)) and mounted on the board in step 104.

次のステップ105で、同様に、ステップ101で得た
メモU I Cを基板側に持って来て、そのリード端子
と基板端子との位置合わせさせをしく位置合わせ(2)
 ) 、ステップ106で基板に2つ口のメモリICを
搭載して、ステップ107でこれら2つのメモリICの
リード端子と基板端子とを同時にはんだ接合して基板上
に実装する。
In the next step 105, similarly, bring the memo UIC obtained in step 101 to the board side and properly align the lead terminal and the board terminal (2).
) In step 106, two memory ICs are mounted on the board, and in step 107, the lead terminals of these two memory ICs and the board terminals are simultaneously soldered and mounted on the board.

[解決しようとする課題] このような従来゛の方法では、次のような欠点がある。[Issue to be solved] This conventional method has the following drawbacks.

(1)U−ド端子が十分固定されておらず、ICチップ
部分が露出した状態で基板等に搭載することが必要であ
って、そのハンドリング機構が複雑となり、しかもその
取扱いを簡単に行い難い。
(1) The U-card terminal is not fixed sufficiently, and it is necessary to mount it on the board etc. with the IC chip part exposed, making the handling mechanism complicated and difficult to handle easily. .

(2)フィルムテープよりメモリICを切離して、その
後、基板端子とリード端子の位置合わせを行うが、複数
のメモリICを多段に積層するため、上のメモリICの
リード端子の位置合わせが困難である。
(2) After separating the memory IC from the film tape, the board terminals and lead terminals are aligned, but since multiple memory ICs are stacked in multiple stages, it is difficult to align the lead terminals of the upper memory IC. be.

(3)上下に配置されたICのリード端子のフォーミン
グ形状がそれぞれ異なるため、パンチング・フォーミン
グの金型が多段に重ねるICの数に対 −応する数だけ
の種類が必要になる。
(3) Since the forming shapes of the lead terminals of the ICs arranged above and below are different, the number of types of punching/forming molds corresponding to the number of ICs stacked in multiple stages is required.

(4)フォーミング形状のばらつきでICを多段にした
とき、すべてのリード端子にきちんとしたフォーミング
ができず、応力集中の起こるリード端子が生じる。
(4) When IC is multi-staged due to variations in forming shape, proper forming cannot be performed on all lead terminals, resulting in lead terminals where stress concentration occurs.

この発明は、このような従来の半導体装置の製造方法が
持っている製造工程における取扱い上の各種の問題点を
解決し、生産効率がよいチップ多段実装タイプの半導体
装置の製造方法を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a chip multi-stage mounting type semiconductor device with high production efficiency by solving various handling problems in the manufacturing process that the conventional semiconductor device manufacturing method has. With the goal.

[課題を解決するための手段] このような目的を達成するためのこの発明の半導体装置
は、テープキャリア方式で実装された半導体チップを上
下方向に多段に実装する半導体装置の製造方法において
、半導体チップを搭載したテープを上下に配置し、これ
ら上下のテープに搭載されたそれぞれの半導体チップに
接続された対応するリード端子同士をアウターリードと
なるリード部材を介して又は直接電気的に接続して、こ
の対応するリード端子同士が接続された半導体チップ複
数を封l卜するものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor device of the present invention for achieving the above-mentioned object is a method for manufacturing a semiconductor device in which semiconductor chips mounted using a tape carrier method are vertically mounted in multiple stages. Chip-mounted tapes are arranged one above the other, and the corresponding lead terminals connected to the respective semiconductor chips mounted on the upper and lower tapes are electrically connected to each other via a lead member serving as an outer lead or directly. , for sealing a plurality of semiconductor chips whose corresponding lead terminals are connected to each other.

[作用] このように、テープキャリア方式で実装されたICチッ
プを多段実装する時に、そのフィルムテープよりICを
切り離す前に複数個のICチップの対応するリード端子
同士を接続し、この状態で封止するようにしているため
、その後のICの取扱いは、パッケージ状態となって、
非常に扱い易くなる。
[Function] In this way, when mounting IC chips mounted using the tape carrier method in multiple stages, the corresponding lead terminals of the multiple IC chips are connected to each other before the IC chips are separated from the film tape, and sealed in this state. Since the IC is then handled in a packaged state,
It becomes very easy to handle.

その結果、基板等に搭載するような場合には、基板との
位置合わせがし易く、リード端子に曲がりが発生し難く
なる。また、その他の使用にあってもフィルムテープか
らパッケージ化された形で半導体装置が切出せるので、
その後のハンドリング処理が簡単となり、チップ多段実
装タイプの半導体装置を生産効率よく製造することがで
きる。
As a result, when mounted on a board or the like, alignment with the board is easy and lead terminals are less likely to bend. Also, for other uses, semiconductor devices can be cut out from film tape in packaged form.
The subsequent handling process becomes simple, and a chip multi-stage mounting type semiconductor device can be manufactured with high production efficiency.

[実施例コ 以下、この発明の一実施例について図面を参照して詳細
に説明する。
[Embodiment] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、この発明による製造方法の一実施例の示す半
導体製造工程のフローチャートであり、第2図(a)、
(b)は、その各製造過程においてテープキャリアされ
るメモリICの断面図とテープキャリアから切出された
パッケージの断面図、第3図は、テープキャリアされる
メモリICの平面図、第4図は、リード端子枝別れ部を
説明する平面図及びその部分拡大図、第5図(a)、(
b)は、それぞれ他の実施例における切出されたパッケ
ージの断面図である。なお、各図において、同等のもの
は同一の符号で示す。
FIG. 1 is a flowchart of a semiconductor manufacturing process shown in an embodiment of the manufacturing method according to the present invention, and FIG. 2(a),
(b) is a cross-sectional view of a memory IC that is tape-carried in each manufacturing process and a cross-sectional view of a package cut out from the tape carrier; FIG. 3 is a plan view of the memory IC that is tape-carried; and FIG. FIG.
b) is a sectional view of a cut-out package in each of the other embodiments; In addition, in each figure, equivalent parts are indicated by the same reference numerals.

第2図(a)に示すように、ICチップ1とリード端子
5からなるメモリICIIを搭載し、裏返しにされたフ
ィルムテープ6aと、その上に同様にICチップ1aと
リード端子5からなるメモU I C12を搭載したフ
ィルムテープ6bとを相互のリード端子5が対面しかつ
隣接するように重ねて配置し、メモリICII、12が
それぞれのフィルムテープ8a、eb上にある状態で、
ICメモリ11と12とのリード端子5同士を接合する
As shown in FIG. 2(a), a memory ICII consisting of an IC chip 1 and lead terminals 5 is mounted, a film tape 6a is turned over, and a memory IC II consisting of an IC chip 1a and lead terminals 5 is placed on top of it. The film tapes 6b on which the U I C12 are mounted are placed one on top of the other so that the lead terminals 5 face each other and are adjacent to each other, and with the memories ICII and 12 on the respective film tapes 8a and eb,
The lead terminals 5 of the IC memories 11 and 12 are joined together.

ここで、フィルムテープ6bに搭載されているメモリI
C12のICチップlaは、フィルムテープ6aに搭載
されているメモリtct tのICチップ1に対して、
チップセレクト電極を除いてその内部回路及び電極が鏡
像関係にあって、その各リード端子5も鏡像関係の配置
となっている。
Here, the memory I mounted on the film tape 6b
The IC chip la of C12 is connected to the IC chip 1 of the memory tct t mounted on the film tape 6a.
Except for the chip select electrode, its internal circuits and electrodes are in a mirror image relationship, and each lead terminal 5 is also arranged in a mirror image relationship.

そこで、第2図(a)に示すように裏返し状態のフィル
ムテープ6aに対して上に裏返さない状態でフィルムテ
ープ6bを対向配置することで、各メモリIC11,1
2のリード端子5同士がそれぞれ相互に対応することに
なる。
Therefore, as shown in FIG. 2(a), by arranging the film tape 6b facing the turned-over film tape 6a without turning it over, each memory IC 11, 1
The two lead terminals 5 correspond to each other.

このようにICメモリのICチップが相互に鏡像関係に
あることを除いては、フィルムテープ6aと6bとは、
同様な構成を採るので、これらをフィルムテープ6とし
て第3図に従ってこれを説明する。
Except for the fact that the IC chips of the IC memory are mirror images of each other, the film tapes 6a and 6b are
Since they have similar configurations, these will be described as film tapes 6 in accordance with FIG.

フィルムテープ6は、そのほぼ中央部に設けられた開口
部4の内側にメモリ1cit又は12が配置され、その
複数のリード端子5がフィルムテープの送り方向に対し
て前後方向両側に配置され、開口部4の対応する辺の周
囲に固定されている。
The film tape 6 has a memory 1cit or 12 disposed inside an opening 4 provided approximately in the center thereof, and a plurality of lead terminals 5 thereof are disposed on both sides in the front and back direction with respect to the feeding direction of the film tape. It is fixed around the corresponding side of part 4.

したがって、メモリICII(12)は、その両側のリ
ード端子5によりブリッジされた形でフィルムテープ6
に支持されていて、各リード端子5とそのICチップl
(又はICチップla)の各電極とはバンプ3を介して
接続されている。
Therefore, the memory ICII (12) is bridged by the lead terminals 5 on both sides of the film tape 6.
each lead terminal 5 and its IC chip l.
(or each electrode of the IC chip la) via bumps 3.

フィルムテープ6の前後の周辺には、スプロケットホー
ル14が設けられていて、スプロケットを介してスプロ
ケットホール14により、例えば±20μm程度の範囲
の誤差で正確に送ることができ、2つのフィルムテープ
6a、8bを第2図(a)のように上下に配置した状態
で搬送できる。
A sprocket hole 14 is provided around the front and rear of the film tape 6, and the sprocket hole 14 allows the film tape 6 to be accurately fed through the sprocket with an error within a range of, for example, ±20 μm, so that the two film tapes 6a, 8b can be transported in a vertically arranged state as shown in FIG. 2(a).

したがって、このように上下に配置されたメモリICI
I、12のそれぞれのリード端子5同士の位置合わせは
極めて正確に行える。
Therefore, the memory ICI arranged vertically in this way
The positioning of the respective lead terminals 5 of I and 12 can be performed extremely accurately.

そこで、第1図に示すような製造工程を経て、フィルム
テープ6a、(3b上でリード端子5同士を接合して、
その後、これら対応するリード端子同士が接合された2
つのメモリICII、12を同時に封lヒして接合され
たリード端子5の一部又はリードフレームのリード端子
をアウタリードとしてパッケージ化し、パッケージ化さ
れた状態でフィルムテープ8 a e 8 bから切出
して第2図(b)に示すようなパッケージ13とその内
部に2つのメモリICII、12とを有する半導体装置
を製造する。なお、7は、リード端子5同士を接合して
形成されたアウターリードである。
Therefore, through the manufacturing process shown in FIG. 1, the lead terminals 5 are joined together on the film tapes 6a and 3b.
After that, these corresponding lead terminals are joined to each other.
The two memories ICII, 12 are simultaneously sealed and a part of the connected lead terminals 5 or the lead terminals of the lead frame are packaged as outer leads, and the packaged state is cut out from the film tape 8 a e 8 b. 2. A semiconductor device having a package 13 as shown in FIG. 2(b) and two memories ICII and 12 inside the package 13 is manufactured. Note that 7 is an outer lead formed by joining the lead terminals 5 together.

以下、その製造方法について説明すると、第1図のステ
ップ111でテープキャリア上のメモリICII、12
の余分なチップセレクト端子(C8端子)を打ち抜き、
これとは別に、ステップ112で同様に別のテープキャ
リア上のメモリIC12の余分なC8端子を打ち抜き、
2つのメモリICII、12を搭載したフィルムテープ
6.6を、第2図(a)に示すようにな形態で上下2段
に近接して配置して送る。
The manufacturing method will be explained below. In step 111 of FIG.
Punch out the extra chip select terminal (C8 terminal) of
Separately, in step 112, similarly punch out the extra C8 terminal of the memory IC 12 on another tape carrier,
The film tape 6.6 on which the two memories ICII, 12 are mounted is arranged and fed close to each other in two stages, upper and lower, as shown in FIG. 2(a).

そして、ステップ113でフィルムテープ6a。Then, in step 113, the film tape 6a is removed.

6bの2つのメモリICl1.12のリード端子同上の
位置合わせして、第2図(a)に示すような状態に位置
付ける。なお、これは、このテープキャリアの対象とな
る2つのメモリICII、12を実装したフィルムテー
プ8a、8bを2つのリール用いて、一つは上に、一つ
は下でがっ裏返しとなるようにセットすることで行われ
る。
The lead terminals of the two memories ICl1.12 of 6b are aligned and positioned as shown in FIG. 2(a). Note that this uses two reels of film tapes 8a and 8b on which the two memories ICII and 12 that are the targets of this tape carrier are mounted, one on top and one on the bottom so that they are turned over. This is done by setting it to .

次に、ステップ114で、フィルムテープ8 a +6
bの2つのメモリICII、12の対応するリード端子
5同士を接合する。この場合、位置合わせの後、」1下
のリード端子5を接合することになるが、その接合方法
としては、リード端子5の上1分をS nメツキ、下半
分をAuメツキして、これらを分離しておくと、接合時
点でAu−3n接合が形成される。又は、下のメモリI
Cのリード端子5上に印刷によりハンダ層を形成すると
pbSn接合となる。
Next, in step 114, the film tape 8 a +6
The corresponding lead terminals 5 of the two memories ICII, 12 of b are joined together. In this case, after alignment, the lower lead terminal 5 will be joined.The method for joining is to plate the upper half of the lead terminal 5 with Sn plating and the lower half with Au plating. If these are separated, an Au-3n junction is formed at the time of bonding. Or lower memory I
When a solder layer is formed by printing on the lead terminal 5 of C, a pbSn junction is formed.

次に、ステップ115において、先のステップ114で
得た、対応するリード端子5同士が接合された2つのメ
モリICl1.12に対し、その接合されたリード端子
5の部分を外部に出すようにして、上下方向に配置され
た水平方向で2分割されたパッケージ金型枠を上下から
装着して、これらのメモリICをカバーする。そして、
ステップ116でエポキシ樹脂等をパッケージ金型枠に
流込み、トランスファーモールドレジン封止を行う。そ
して、最後に切断してパッケージ11を切出すと、第2
図(b)に示すような2つのメモリICl1.12を内
蔵するメモリICパッケージ15が得られる。
Next, in step 115, for the two memories ICl1.12 obtained in the previous step 114, in which the corresponding lead terminals 5 are joined, the parts of the joined lead terminals 5 are exposed to the outside. A package mold frame divided into two horizontally arranged vertically is mounted from above and below to cover these memory ICs. and,
In step 116, epoxy resin or the like is poured into the package mold frame to perform transfer mold resin sealing. Then, when the package 11 is finally cut out, the second
A memory IC package 15 having two built-in memories ICl1 and 12 as shown in Figure (b) is obtained.

このメモリICパッケージ15は、従来とほぼ同じ面積
で2倍の容量のメモリICとなる。そこで、次にステッ
プ118でこのメモリICパッケージ15をプリント基
板に搭載したり、そのまま他の工程に移したりして利用
できる。なお、ステップ118において、プリント基板
に実装するときには、切出したパッケージのリード端子
を単にフォーミングして実装すればよい。
This memory IC package 15 becomes a memory IC with approximately the same area and twice the capacity as the conventional one. Therefore, in step 118, this memory IC package 15 can be mounted on a printed circuit board or used as it is by being transferred to other processes. Note that when mounting on a printed circuit board in step 118, the lead terminals of the cut out package may be simply formed and mounted.

ところで、前記のメモリICII又は12を実装したフ
ィルムテープ6a、8bは、ポリイミド等のフレキシブ
ルなフィルムテープ上にCu箔でリード端子5を形成し
ておき、バンプ3 (Auバンプ)を形成したメモリの
ICチップ1とリード端子5を接合したものである。な
お、必要に応じてICチップ1とリード端子5の接合部
をあらかじめ封止樹脂で覆ったものであってもよい。
By the way, the film tapes 6a and 8b on which the memories ICII or 12 are mounted are formed by forming lead terminals 5 with Cu foil on a flexible film tape such as polyimide, and forming bumps 3 (Au bumps) on the film tapes 6a and 8b. An IC chip 1 and lead terminals 5 are bonded together. Note that, if necessary, the joint portion between the IC chip 1 and the lead terminals 5 may be covered in advance with a sealing resin.

ここで、2つのメモリICを重ねた場合にチップセレク
ト端子の処理が必要であるが、例えば、このチップセレ
クト端子は、第4図及びその拡大図に示すように、リー
ド端子5の先端が複数に枝別れているリード端子を使用
することができる。
Here, when two memory ICs are stacked, it is necessary to process the chip select terminal. For example, as shown in FIG. 4 and its enlarged view, the tip of the lead terminal 5 is Lead terminals with branches can be used.

すなわち、8は、リード端子5のうちのチップセレクト
端子であって、フィルムテープ6a、6bに搭載された
上下のメモリIC11,12のうちのチップセレクト端
子8の1つは打抜き穴9、もう1つは打抜き穴10の位
置(リード端子の根元近傍)でパンチングを行い、チッ
プセレクト端子8の1本のみを導通状態として使用し、
他のチップセレクト端子は非導通状態にする。このよう
にすれば、上下に配置された、フィルムテープ6a、B
b上に実装されたメモリICII、12のチップセレク
ト端子8の位置を相違させることができる。その後、第
2図(a)に示すように、上のメモリICIIのリード
端子5と下のメモリIC12のリード端子5の位置合わ
せを行えばよい。
That is, 8 is a chip select terminal among the lead terminals 5, and one of the chip select terminals 8 of the upper and lower memory ICs 11 and 12 mounted on the film tapes 6a and 6b has a punched hole 9, and the other one has a punched hole 9. One is to punch at the position of the punched hole 10 (near the base of the lead terminal) and use only one of the chip select terminals 8 in a conductive state.
The other chip select terminals are made non-conductive. In this way, the film tapes 6a and B disposed above and below
The positions of the chip select terminals 8 of the memory ICII, 12 mounted on the memory ICII, b can be made different. Thereafter, as shown in FIG. 2(a), the lead terminals 5 of the upper memory ICII and the lead terminals 5 of the lower memory IC12 may be aligned.

このとき、チップセレクト端子8は、前記のパンチング
によりそれぞれのメモリICII、12で独立し、相違
した位置に位置付けられる。
At this time, the chip select terminals 8 are positioned independently and at different positions in each of the memories ICII and 12 by the punching described above.

なお、リード端子5同士が接合される部分は、第2図(
b)に見るように、リード端子5の根元からではなく、
前記打抜き穴9,10より外側となる。また、メモリI
Cが2段以上に重ねられた場合は、チップセレクト端子
8は、重ねるICチップの数だけ枝分かれさせれば済む
。さらに、以上の工程は、2つのフィルムテープ6a、
Elb上で、これらを巻き取りながら連続して行うこと
ができる。
The parts where the lead terminals 5 are joined are shown in Fig. 2 (
As shown in b), not from the base of the lead terminal 5,
It is located outside the punched holes 9 and 10. Also, memory I
When C is stacked in two or more stages, the chip select terminals 8 need only be branched by the number of stacked IC chips. Furthermore, the above process includes two film tapes 6a,
This can be done continuously while winding these up on the Elb.

i5図(a)は、第2図(a)の2つのフィルムテープ
6a、8bの間にFe−N1合金、Cu合金等で形成さ
れたリードフレームを介在させ、各フィルムテープ8 
a e 8 bに搭載されているメモリIC11,12
のリード端子5を短くして、これらをそれぞれ前記のリ
ードフレームによるリード端子7aのインナーリード部
分7bの両面に接合したものである。なお、この場合、
チップセレクト端子8については、いずれか一方のみが
り−ド端子7aのインナーリード部分7bに選択的に接
続されることになる。
Figure i5 (a) shows that a lead frame made of Fe-N1 alloy, Cu alloy, etc. is interposed between the two film tapes 6a and 8b of Figure 2 (a), and each film tape 8
Memory IC11, 12 installed in ae8b
The lead terminals 5 are shortened and these are respectively joined to both sides of the inner lead portion 7b of the lead terminal 7a formed by the lead frame. In this case,
The chip select terminal 8 is selectively connected to the inner lead portion 7b of one of the polished terminals 7a.

第5図(b)は、フィルムテープ6b側をフィルムテー
プ6aと置き換えて、2つのフィルムテープ8a+6a
を共に裏返しにして、メモリIC11,12の外側の位
置からリード端子5同士を接合したものである。なお、
この場合には、各ICチップが鏡像関係にはない。
In FIG. 5(b), the film tape 6b side is replaced with the film tape 6a, and two film tapes 8a+6a are used.
Both are turned over, and the lead terminals 5 are joined to each other from positions outside the memory ICs 11 and 12. In addition,
In this case, the IC chips are not mirror images.

以上説明してきたが、実施例では、2つのメモリICの
リード端子をテープ上において、上下で接合しているが
、さらに多くのフィルムテープを重ねてメモリICを多
層化してもよい。
As described above, in the embodiment, the lead terminals of two memory ICs are placed on a tape and joined at the top and bottom, but more film tapes may be stacked to make the memory IC multilayered.

リード端子同士の接続は、チップセレクト端子を除いて
対応するリード端子を接続することになるが、これはI
Cチップの各電極に接続されたすべてのリード端子を意
味するものではなく、対応しないものがあれば、それを
除いた部分の対応するものだけを接続すれば済むもので
ある。
Connections between lead terminals are made by connecting corresponding lead terminals except for the chip select terminal, but this is
This does not mean all the lead terminals connected to each electrode of the C chip, and if there is a non-corresponding lead terminal, it is sufficient to connect only the corresponding parts except for the lead terminal.

また、その接合の仕方は、例えば、下側にあるフィルム
テープ6のメモリICのリード端子には、クリームハン
ダを印刷しておき、はんだは、低融点はんだ等を用い、
フィルムテープの耐熱温度より低い温度で加熱するよう
なことでもよい。
In addition, the method of joining is, for example, by printing cream solder on the lead terminals of the memory IC of the film tape 6 on the lower side, and using low melting point solder etc. as the solder.
Heating may also be done at a temperature lower than the heat resistant temperature of the film tape.

実施例では、メモリICを中心に説明しているが、この
発明は、メモリICに限定されるものではなく、半導体
装置の製造一般に適用できるものである。
Although the embodiments mainly describe memory ICs, the present invention is not limited to memory ICs, but can be applied to the manufacturing of semiconductor devices in general.

[発明の効果] 以上説明から理解できるように、この発明では、テープ
キャリア方式で実装されたICチップを多段実装する時
に、そのフィルムテープよりICを切り離す前に複数個
のICチップの対応するリード端子同士を接続し、との
状態で封止するようにしているため、その後のICの取
扱いは、パッケージ状態となって、非常に扱い易くなる
[Effects of the Invention] As can be understood from the above description, in this invention, when IC chips mounted using a tape carrier method are mounted in multiple stages, the corresponding leads of a plurality of IC chips are removed before separating the ICs from the film tape. Since the terminals are connected and sealed in this state, the IC is in a packaged state and becomes very easy to handle.

その結果、基板等に搭載するような場合には、基板との
位置合わせがし易<、リード端子に曲がりが発生し難く
なる。また、その他の使用にあってもフィルムテープか
らパッケージ化された形で半導体装置が切出せるので、
その後のハンドリング処理が簡単となり、チップ多段実
装タイプの半導体装置を生産効率よく製造することがで
きる。
As a result, when mounted on a board or the like, alignment with the board is easy and lead terminals are less likely to bend. Also, for other uses, semiconductor devices can be cut out from film tape in packaged form.
The subsequent handling process becomes simple, and a chip multi-stage mounting type semiconductor device can be manufactured with high production efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明による製造方法の一実施例の示す半
導体製造工程のフローチャートであり、第2図(a)、
(b)は、その各製造過程においてテープキャリアされ
るメモリICの断面図とテープキャリアから切出された
パッケージの断面図、第3図は、テープキャリアされる
メモリICの平面図、第4図は、リード端子枝別れ部を
説明する平面図及びその部分拡大図、第5図(a)、(
b)は、それぞれ他の実施例における切出されたパッケ
ージの断面図、第6図は、従来の製造方法のフローチャ
ートである。 1・・・ICチップ、2・・・封止樹脂、3・・・バン
プ、4・・・アウタリード、5・・・リード端子、6・
・・ポリイミドテープ、7・・・リードフレームによる
リード端子、8・・・チップセレクト端子、9・・・打
抜き穴、10−・・打抜き穴、11.12・・・メモリ
IC,13・・・パッケージ、15・・・メモリICパ
ッケージ。 特許出願人 日立マクセル株式会社 代理人 弁理士 梶 山 拮 是
FIG. 1 is a flowchart of a semiconductor manufacturing process shown in an embodiment of the manufacturing method according to the present invention, and FIG. 2(a),
(b) is a cross-sectional view of a memory IC that is tape-carried in each manufacturing process and a cross-sectional view of a package cut out from the tape carrier; FIG. 3 is a plan view of the memory IC that is tape-carried; and FIG. FIG.
b) is a cross-sectional view of the package cut out in each of the other embodiments, and FIG. 6 is a flowchart of the conventional manufacturing method. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... IC chip, 2... Sealing resin, 3... Bump, 4... Outer lead, 5... Lead terminal, 6...
... Polyimide tape, 7... Lead terminal by lead frame, 8... Chip select terminal, 9... Punching hole, 10-... Punching hole, 11.12... Memory IC, 13... Package, 15...Memory IC package. Patent Applicant Hitachi Maxell Co., Ltd. Agent Patent Attorney Kore Kajiyama

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)テープキャリア方式で実装された半導体チップを
上下方向に多段に実装する半導体装置の製造方法におい
て、前記半導体チップを搭載したテープを上下に配置し
、これら上下のテープに搭載されたそれぞれの前記半導
体チップに接続された対応するリード端子同士をアウタ
ーリードとなるリード部材を介して又は直接電気的に接
続して、この対応するリード端子同士が接続された前記
半導体チップ複数を封止することを特徴とする半導体装
置の製造方法。
(1) In a method for manufacturing a semiconductor device in which semiconductor chips mounted using a tape carrier method are mounted vertically in multiple stages, tapes carrying the semiconductor chips are arranged one above the other, and each of the tapes mounted on the upper and lower tapes is Corresponding lead terminals connected to the semiconductor chips are electrically connected to each other via a lead member serving as an outer lead or directly, and the plurality of semiconductor chips to which the corresponding lead terminals are connected are sealed. A method for manufacturing a semiconductor device, characterized by:
(2)上下のテープに搭載されたそれぞれの前記半導体
チップに接続された対応するリード端子同士を直接接合
して、接合したリード端子同士の先端側がアウターリー
ドとなっていることを特徴とする請求項1記載の半導体
装置の製造方法。
(2) A claim characterized in that corresponding lead terminals connected to each of the semiconductor chips mounted on the upper and lower tapes are directly joined to each other, and the ends of the joined lead terminals serve as outer leads. Item 1. A method for manufacturing a semiconductor device according to item 1.
(3)上側に配置される半導体チップと下側に配置され
る半導体チップとは、チップセレクト電極を除いた各電
極が鏡像関係になっていて、上下の半導体チップの前記
各電極に接続されたリード同士が相互に対面するように
配置されて接合されることを特徴とする請求項1又は請
求項2記載の半導体装置の製造方法。
(3) The semiconductor chips arranged on the upper side and the semiconductor chips arranged on the lower side have each electrode other than the chip select electrode in a mirror image relationship, and are connected to the respective electrodes of the upper and lower semiconductor chips. 3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the leads are arranged and bonded so as to face each other.
(4)テープに形成されリード端子の少なくとも1本の
先端は複数本に枝別れして形成され、上下に配置された
テープにおいて枝分かれした前記リード端子の枝別れし
た部分のうち異なる枝が上下の前記テープにおいてそれ
ぞれ切断され、対応するリード端子同士が接合されるこ
とを特徴とする請求項3記載の半導体装置の製造方法。
(4) At least one tip of the lead terminal formed on the tape is formed by branching into multiple branches, and different branches among the branched portions of the lead terminal branched on the tape arranged above and below are formed on the tape. 4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein the tape is cut and the corresponding lead terminals are joined together.
(5)半導体チップはメモリ素子であることを特徴とす
る請求項1乃至請求項4のうちから選択された1項記載
の半導体装置の製造方法。
(5) The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1 selected from claims 1 to 4, wherein the semiconductor chip is a memory element.
JP63005614A 1988-01-13 1988-01-13 Manufacture of semiconductor device Pending JPH01184860A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63005614A JPH01184860A (en) 1988-01-13 1988-01-13 Manufacture of semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63005614A JPH01184860A (en) 1988-01-13 1988-01-13 Manufacture of semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01184860A true JPH01184860A (en) 1989-07-24

Family

ID=11616066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63005614A Pending JPH01184860A (en) 1988-01-13 1988-01-13 Manufacture of semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01184860A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02290048A (en) * 1989-02-15 1990-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laminated semiconductor mounted body
WO1991014282A1 (en) * 1990-03-15 1991-09-19 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips
JPH04116860A (en) * 1990-09-06 1992-04-17 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPH05183010A (en) * 1991-06-01 1993-07-23 Goldstar Electron Co Ltd Laminated type semiconductor package
US5332922A (en) * 1990-04-26 1994-07-26 Hitachi, Ltd. Multi-chip semiconductor package
JPH06232327A (en) * 1993-02-01 1994-08-19 Nec Corp Flexible printed circuit tape and package for semiconductor chip using the same
US5530292A (en) * 1990-03-15 1996-06-25 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips
JPH08213546A (en) * 1994-10-27 1996-08-20 Samsung Electron Co Ltd Laminar package

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02290048A (en) * 1989-02-15 1990-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laminated semiconductor mounted body
JPH0514427B2 (en) * 1989-02-15 1993-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd
WO1991014282A1 (en) * 1990-03-15 1991-09-19 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips
EP0473796A4 (en) * 1990-03-15 1994-05-25 Fujitsu Ltd Semiconductor device having a plurality of chips
US5463253A (en) * 1990-03-15 1995-10-31 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips
US5530292A (en) * 1990-03-15 1996-06-25 Fujitsu Limited Semiconductor device having a plurality of chips
US5332922A (en) * 1990-04-26 1994-07-26 Hitachi, Ltd. Multi-chip semiconductor package
JPH04116860A (en) * 1990-09-06 1992-04-17 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPH05183010A (en) * 1991-06-01 1993-07-23 Goldstar Electron Co Ltd Laminated type semiconductor package
JPH06232327A (en) * 1993-02-01 1994-08-19 Nec Corp Flexible printed circuit tape and package for semiconductor chip using the same
JPH08213546A (en) * 1994-10-27 1996-08-20 Samsung Electron Co Ltd Laminar package

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6589810B1 (en) BGA package and method of fabrication
US6710437B2 (en) Semiconductor device having a chip-size package
US6717264B2 (en) High density integrated circuit package
US5061990A (en) Semiconductor device and the manufacture thereof
US6486551B1 (en) Wired board and method of producing the same
US7772107B2 (en) Methods of forming a single layer substrate for high capacity memory cards
US5614443A (en) Method of producing a frame made of connected semiconductor die mounting substrates
JPH10289932A (en) Carrier film and integrated circuit device using thereof
US20060278962A1 (en) Microelectronic loop packages
JPH01184860A (en) Manufacture of semiconductor device
JP2631665B2 (en) Manufacturing method of stacked semiconductor device
JPH079953B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
CN117038623B (en) Carrier assembly for routing chips to a frame and chip routing method
US20020003308A1 (en) Semiconductor chip package and method for fabricating the same
JPH0831868A (en) Bga semiconductor device
KR20010011310A (en) Method for manufacturing stack package
JP2513724B2 (en) Carrier tape for semiconductor device
JPH0740576B2 (en) Film carrier semiconductor device electrical test method
JP3490601B2 (en) Film carrier and laminated mounting body using the same
JP2652222B2 (en) Substrate for mounting electronic components
JPS63185035A (en) Semiconductor device
JPH02134859A (en) Multi-chip semiconductor device and manufacture
JP3398556B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP3262262B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP2836208B2 (en) Film carrier tape