JPH01183406A - 金属硫化物の製造方法 - Google Patents
金属硫化物の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 abstract description 8
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 abstract description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 abstract 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 6
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 6
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 4
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KQNKJJBFUFKYFX-UHFFFAOYSA-N acetic acid;trihydrate Chemical compound O.O.O.CC(O)=O KQNKJJBFUFKYFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L calcium acetate Chemical compound [Ca+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001639 calcium acetate Substances 0.000 description 1
- 229960005147 calcium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000011092 calcium acetate Nutrition 0.000 description 1
- JGIATAMCQXIDNZ-UHFFFAOYSA-N calcium sulfide Chemical compound [Ca]=S JGIATAMCQXIDNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930007927 cymene Natural products 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 1
- IWZKICVEHNUQTL-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogen phthalate Chemical compound [K+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O IWZKICVEHNUQTL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZYKBQUWMPUVEN-UHFFFAOYSA-N zafuleptine Chemical compound OC(=O)CCCCCC(C(C)C)NCC1=CC=C(F)C=C1 YZYKBQUWMPUVEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/20—Methods for preparing sulfides or polysulfides, in general
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は金属硫化物の新規な製造方法に関するものであ
る。
る。
(従来の技術)
金属硫化物は複写機用感光体あるいは太陽電池、二次電
池正極材料などとして利用されている。
池正極材料などとして利用されている。
従来、この種金属硫化物は金属あるいは金属の酸化物と
硫黄を混合し、石英などの反応容器に封入し、加熱する
方法や、金属塩の水溶液中に硫化水素ガスを吹き込み、
硫化物を製造する方法などにより製造されている。
硫黄を混合し、石英などの反応容器に封入し、加熱する
方法や、金属塩の水溶液中に硫化水素ガスを吹き込み、
硫化物を製造する方法などにより製造されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、石英は高価でかつ破損しやすく、この密
閉容器を用いた場合、生産コストが高くなる。また、水
溶液中で金属硫化物を析出させる方法ではろ過が困難で
あったり、乾燥時に固化し、粉砕工程を要するなどの欠
点があった。
閉容器を用いた場合、生産コストが高くなる。また、水
溶液中で金属硫化物を析出させる方法ではろ過が困難で
あったり、乾燥時に固化し、粉砕工程を要するなどの欠
点があった。
したがって、本発明は石英容器のような高価な密閉容器
を必要とせずろ過が容易で、かつ乾燥時に固結を生じな
い金属硫化物の製造方法を提供することを目的とするも
のである。
を必要とせずろ過が容易で、かつ乾燥時に固結を生じな
い金属硫化物の製造方法を提供することを目的とするも
のである。
帽1を解決するための手段)
本発明の上記目的は金属塩水溶液を、硫化水素雰囲気中
で水の沸点よりも高い温度に保持されている水と非相溶
性の、溶媒(I)中へその溶媒(I)の還流下に滴下あ
るいは噴霧することを特徴とする金属硫化物の製造方法
により達成された。
で水の沸点よりも高い温度に保持されている水と非相溶
性の、溶媒(I)中へその溶媒(I)の還流下に滴下あ
るいは噴霧することを特徴とする金属硫化物の製造方法
により達成された。
次に本発明の詳細な説明する。
金属塩水溶液としては、カドミウム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、コバルト、鉛などの硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、アセ
チルアセトナート塩、アルコキシドを水に溶かしたもの
などを用いることがてきる。その濃度は制限はなく、溶
解度までの範囲で適宜室められる。
ル、コバルト、鉛などの硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、アセ
チルアセトナート塩、アルコキシドを水に溶かしたもの
などを用いることがてきる。その濃度は制限はなく、溶
解度までの範囲で適宜室められる。
ガス出口管付還流器、ガス導入口、攪拌機、滴下管ある
いは噴霧器をとりつけた反応器中に、あらかじめ水より
沸点の高い溶媒(I)を入れ、加熱沸とうさせ、硫化水
素ガスを系内に通気する。
いは噴霧器をとりつけた反応器中に、あらかじめ水より
沸点の高い溶媒(I)を入れ、加熱沸とうさせ、硫化水
素ガスを系内に通気する。
硫化水素ガスは反応雰囲気中、溶媒中のいずれに吹き込
んでもよい、そのあと滴下管あるいは噴霧器に貯められ
た金属塩水溶液を滴下あるいは噴霧する。
んでもよい、そのあと滴下管あるいは噴霧器に貯められ
た金属塩水溶液を滴下あるいは噴霧する。
本発明において用いられる溶媒(I)は水よりも沸点が
高く、また実質的に溶は合わないものであればよく例え
ば、キシレン、デカン、トルエン、エチルベンゼン、シ
メン、デカリンなどの溶剤を挙げることができる。この
溶媒(I)は金属塩の種類などにより適宜選択できる。
高く、また実質的に溶は合わないものであればよく例え
ば、キシレン、デカン、トルエン、エチルベンゼン、シ
メン、デカリンなどの溶剤を挙げることができる。この
溶媒(I)は金属塩の種類などにより適宜選択できる。
金属塩水溶液としてたとえば酢酸亜鉛水溶液を用いた時
は、溶媒(I)としてはキシレンを用いることがてきる
。
は、溶媒(I)としてはキシレンを用いることがてきる
。
本発明において溶媒(I)を攪拌しながら、金属塩水溶
液を滴下あるいは噴霧すると粉末スラリーが生成する。
液を滴下あるいは噴霧すると粉末スラリーが生成する。
反応中、水は溶媒(I)よりも沸点が低く、かつ実質的
に溶は合わないので、蒸発し、還流器を通り、反応系か
ら排出される。溶媒(I)は還流器により冷却されても
どるように反応温度が設定される。
に溶は合わないので、蒸発し、還流器を通り、反応系か
ら排出される。溶媒(I)は還流器により冷却されても
どるように反応温度が設定される。
硫化水素と金属塩は等モルで反応させるのが好ましいが
、これに制限されるものではなく、いずれか一方を過剰
にして反応を行わせてもよい。
、これに制限されるものではなく、いずれか一方を過剰
にして反応を行わせてもよい。
反応が完了したあと、溶媒(I)と溶は合うより低沸点
の溶媒(II)で洗浄する。このような溶媒(II)と
しては、ヘキサン、エーテル、ペンタンなどを挙げるこ
とができる。
の溶媒(II)で洗浄する。このような溶媒(II)と
しては、ヘキサン、エーテル、ペンタンなどを挙げるこ
とができる。
洗浄後、ろ過、乾燥することにより目的の金属硫化物を
得る。
得る。
(発明の効果)
本発明による方法を、従来方法であるところの金属塩水
溶液に硫化水素を通気して得られた沈殿をろ過あるいは
遠心分離する方法を比較するとそのすぐれた点が明らか
になる。それを次に述べる。
溶液に硫化水素を通気して得られた沈殿をろ過あるいは
遠心分離する方法を比較するとそのすぐれた点が明らか
になる。それを次に述べる。
従来法では反応の進行と共に反応溶液の酸性度が上昇す
るので硫化物の生成が阻害されるのを防止するために水
素イオン濃度調整用のフタル酸水素カリウムや酢酸アン
モニウムなどの緩衝剤あるいは中和剤を用いなくてはな
らなかった。
るので硫化物の生成が阻害されるのを防止するために水
素イオン濃度調整用のフタル酸水素カリウムや酢酸アン
モニウムなどの緩衝剤あるいは中和剤を用いなくてはな
らなかった。
これに対して本発明の方法によると水は逐次。
系外に抜き出され、同時に生成するところの金属塩を構
成していた酸性物質、たとえば酢酸亜鉛を用いる時は酢
酸が系外に抜き出される。したがつて緩衝剤あるいは中
和剤を用いる必要かない、このことは製造コストの低下
に貢献すると共に、緩衝剤あるいは中和剤を用いること
に起因するところの不純物の混入を避けることができる
という利点を生む。
成していた酸性物質、たとえば酢酸亜鉛を用いる時は酢
酸が系外に抜き出される。したがつて緩衝剤あるいは中
和剤を用いる必要かない、このことは製造コストの低下
に貢献すると共に、緩衝剤あるいは中和剤を用いること
に起因するところの不純物の混入を避けることができる
という利点を生む。
本発明による方法は、生成金属硫化物沈殿の洗浄、ろ過
、乾燥工程の効果において飛躍的な向上をもたらす。
、乾燥工程の効果において飛躍的な向上をもたらす。
従来方法のように水溶液中で硫化物の製造を実施すると
、生成する沈殿が容易に沈降しなかったり、ろ過に長時
間を要したり、乾燥工程で水が容易に除去できないなど
の困難な点があった。これは生成する硫化物が比較的親
木性であるのと、表面吸着水の作用によるものと考えら
れる。
、生成する沈殿が容易に沈降しなかったり、ろ過に長時
間を要したり、乾燥工程で水が容易に除去できないなど
の困難な点があった。これは生成する硫化物が比較的親
木性であるのと、表面吸着水の作用によるものと考えら
れる。
本発明の方法によると、生成する硫化物は最終的に水を
実質的に含まない状態で得ることができるので、洗浄、
ろ過、乾燥工程の飛躍的な効率向上を達成することがで
きる。
実質的に含まない状態で得ることができるので、洗浄、
ろ過、乾燥工程の飛躍的な効率向上を達成することがで
きる。
本発明の方法は複合金属硫化物を製造する場合にも、こ
れまて述べてきたような利点を達成することができる。
れまて述べてきたような利点を達成することができる。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例1
ガス出口付還流器、攪拌機、滴下管、ガス通気口を備え
た容量100100Oガラス製反応容器にキシレンを3
00m1仕込む、系内を窒素ガスで置換したのち、硫化
水素ガスを吹き込み、攪拌を開始する0反応温度はヒー
ター加熱によりキシレンの還流温度(沸点136°C)
とする、ついで酢酸亜鉛二水和物22gを水100mj
Lに溶解させた水溶液をコック付滴下管にあらかじめ仕
込んでおいたものを滴下する。水溶液がキシレンと接触
すると水が急速に蒸発し、同時に白色の硫化亜鉛が生成
した。
た容量100100Oガラス製反応容器にキシレンを3
00m1仕込む、系内を窒素ガスで置換したのち、硫化
水素ガスを吹き込み、攪拌を開始する0反応温度はヒー
ター加熱によりキシレンの還流温度(沸点136°C)
とする、ついで酢酸亜鉛二水和物22gを水100mj
Lに溶解させた水溶液をコック付滴下管にあらかじめ仕
込んでおいたものを滴下する。水溶液がキシレンと接触
すると水が急速に蒸発し、同時に白色の硫化亜鉛が生成
した。
反応終了後、キシレン溶媒をデカンテーションで除去す
る。n−ヘキサンを100mJl加え、洗浄し、デカン
テーションによりn−ヘキサンを除去する操作を2回行
い、最後に窒素雰囲気中でガラスフィルターを用い減圧
ろ過した。全体にろ過は極めて効率よく行え固結は全く
起こさずに非常に微細な粉末生成物が得られた。得られ
た粉末を50℃で真空乾燥して硫化亜鉛9.2gを得た
。
る。n−ヘキサンを100mJl加え、洗浄し、デカン
テーションによりn−ヘキサンを除去する操作を2回行
い、最後に窒素雰囲気中でガラスフィルターを用い減圧
ろ過した。全体にろ過は極めて効率よく行え固結は全く
起こさずに非常に微細な粉末生成物が得られた。得られ
た粉末を50℃で真空乾燥して硫化亜鉛9.2gを得た
。
ケイ光X線分析ならびにX線回折により硫化亜鉛である
ことを確認した。
ことを確認した。
実施例2
酢酸亜鉛の代わりに塩化亜鉛14gを用いる以外は実施
例1と全く同様にして実施したところ、洗浄、ろ過、乾
燥工程の効率よく、硫化亜鉛粉末9.1gを得た。
例1と全く同様にして実施したところ、洗浄、ろ過、乾
燥工程の効率よく、硫化亜鉛粉末9.1gを得た。
実施例3
酢酸亜鉛の代わりに酢酸カドミラへ三水和物22gを用
いる以外は実施例1と全く同様にして実施したところ、
洗浄、ろ過、乾燥工程の効率よく、硫化カドミウム粉末
7.8gを得た。
いる以外は実施例1と全く同様にして実施したところ、
洗浄、ろ過、乾燥工程の効率よく、硫化カドミウム粉末
7.8gを得た。
実施例4
キシレンの代わりにエチルベンゼンを用いる以外は実施
例1と全く同様に実施したところ、洗浄、ろ過、乾燥工
程の効率よく、硫化亜鉛粉末9.3gを得た。
例1と全く同様に実施したところ、洗浄、ろ過、乾燥工
程の効率よく、硫化亜鉛粉末9.3gを得た。
実施例5
酢酸亜鉛の代わりに酢酸カルシウムを用いる以外は実施
例1と全く同様に実施したところ、洗浄、ろ過、乾燥工
程の効率よく、硫化カルシウム粉末8.7gを得た。
例1と全く同様に実施したところ、洗浄、ろ過、乾燥工
程の効率よく、硫化カルシウム粉末8.7gを得た。
実施例6
滴下管の代わりに噴霧ノズルをつけた反応容器を用い、
滴下するかわりに金属塩水溶液を噴霧する以外は実施例
1と全く同様に実施したところ。
滴下するかわりに金属塩水溶液を噴霧する以外は実施例
1と全く同様に実施したところ。
洗浄、ろ過1.乾燥工程の効率よく、硫化亜鉛粉末9.
1gを得た。
1gを得た。
Claims (2)
- (1)金属塩水溶液を、硫化水素雰囲気中で水の沸点よ
りも高い温度に保持されている水と非相溶性の、溶媒(
I )中へその溶媒( I )の還流下に滴下あるいは噴霧
することを特徴とする金属硫化物の製造方法。 - (2)生成した金属硫化物の沈殿を溶媒( I )と相溶
し、沸点がより低い溶媒(II)で洗浄する請求項第1項
記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP368288A JPH01183406A (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 金属硫化物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP368288A JPH01183406A (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 金属硫化物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01183406A true JPH01183406A (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=11564175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP368288A Pending JPH01183406A (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 金属硫化物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01183406A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011084438A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 硫化リチウム及びその製造方法 |
JP2016094341A (ja) * | 2011-01-27 | 2016-05-26 | 出光興産株式会社 | 硫化リチウムの製造方法 |
JP2020050566A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | リンテック株式会社 | 結晶性酸化チタンゲルの製造方法 |
-
1988
- 1988-01-13 JP JP368288A patent/JPH01183406A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011084438A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 硫化リチウム及びその製造方法 |
JP2016094341A (ja) * | 2011-01-27 | 2016-05-26 | 出光興産株式会社 | 硫化リチウムの製造方法 |
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