JPH01174507A - ポリプロピレンインパクト共重合体反応制御方法 - Google Patents
ポリプロピレンインパクト共重合体反応制御方法Info
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- JPH01174507A JPH01174507A JP29541487A JP29541487A JPH01174507A JP H01174507 A JPH01174507 A JP H01174507A JP 29541487 A JP29541487 A JP 29541487A JP 29541487 A JP29541487 A JP 29541487A JP H01174507 A JPH01174507 A JP H01174507A
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
第2図はゾ田ピジンイン/セクト共重合体を製造する反
応器内でEe及びFeを制御する装置を例示し【いる。
応器内でEe及びFeを制御する装置を例示し【いる。
第2図に示されているのは第2反応器RX−2であり、
これは流動床でありうる。反応器RX−2は2反応器式
プロピレンインパクト共重合体重合装置(第1図に示し
たもの)の第2反応器でありうる。別法として、第2友
応器RX−2は多反応器(3以上の反応器を有するもの
)システムにおける最終または中間反応器であっても良
い。本書での説明の目的には、第2反応器は2反応器装
置における第2反応器とする。
これは流動床でありうる。反応器RX−2は2反応器式
プロピレンインパクト共重合体重合装置(第1図に示し
たもの)の第2反応器でありうる。別法として、第2友
応器RX−2は多反応器(3以上の反応器を有するもの
)システムにおける最終または中間反応器であっても良
い。本書での説明の目的には、第2反応器は2反応器装
置における第2反応器とする。
第2図の例において、約20〜1000 ppmの活性
触媒を含有するプロピレン単独重合体またはランダム共
重合体の供給流20が第2反応器RX−2に供給される
。供給流21はエチレン、プロピレン等の追加原料を供
給しうる。一般に、第2及応器RX−2内の温度は約4
0〜120℃、圧力は約40〜500 psia (i
lL28〜35に9/cm”)である。
触媒を含有するプロピレン単独重合体またはランダム共
重合体の供給流20が第2反応器RX−2に供給される
。供給流21はエチレン、プロピレン等の追加原料を供
給しうる。一般に、第2及応器RX−2内の温度は約4
0〜120℃、圧力は約40〜500 psia (i
lL28〜35に9/cm”)である。
第2反応器RX−2における反応すなわち生成速度は、
すべての触媒が第2及応器RX−1からの固形物と共に
流入するため、C2及びC3の再分圧に依存する。反応
器RX−2で生成される生成分の分率He (エチレン
含有率)は反応器RX−2中の05/C2分圧比に依存
する。再分圧のいずれが変動しても生成速度及びEcに
影會があり、これらの量を制御すると強い相互作用があ
る。
すべての触媒が第2及応器RX−1からの固形物と共に
流入するため、C2及びC3の再分圧に依存する。反応
器RX−2で生成される生成分の分率He (エチレン
含有率)は反応器RX−2中の05/C2分圧比に依存
する。再分圧のいずれが変動しても生成速度及びEcに
影會があり、これらの量を制御すると強い相互作用があ
る。
本発明は、Fe及びEaの制御と同時に、エチレン分圧
とプロピレン分圧の相互作用を「脱結合」ないし「脱相
互作用」することにより、インパクト共重合体の製造プ
ロセスを正確に制御する方法及び装置を与える。この「
脱結合」操作を説明する前に、Fc及びEcを監視し、
制御する方法を先ず説明しておく。
とプロピレン分圧の相互作用を「脱結合」ないし「脱相
互作用」することにより、インパクト共重合体の製造プ
ロセスを正確に制御する方法及び装置を与える。この「
脱結合」操作を説明する前に、Fc及びEcを監視し、
制御する方法を先ず説明しておく。
Feの制御に関しては、圧力、温度、流量、及び組成な
ど第2反応器RX−2の各穐動作条件を取り出して、生
成速度計igV22(第2図の矢印25参照)に与え、
そこで反応器RX−2内の実際の生成速度を計算する。
ど第2反応器RX−2の各穐動作条件を取り出して、生
成速度計igV22(第2図の矢印25参照)に与え、
そこで反応器RX−2内の実際の生成速度を計算する。
この値は当技術分野に周知の熱及び物質収支計算技術を
用いて計算しうる。
用いて計算しうる。
計算された反応器RX−2の生成速度は、それを生成速
度設定点と比較するために比較制御器24に与えられる
。この設定点は、処方器2Bに与えられている目標Fa
及び第1反応器の生成速度計算器25によって算出され
た第1反応器の生成速度に基づいて、生成速度設定点計
算器26において計算される。別法として、生成速度設
定点は例えばコンピュータ入力などにより使用者が直接
に入力しても良い。生成速度設定点は比較制御u 24
において、生成速度計算器22からの実際の生成速度
と比較される。
度設定点と比較するために比較制御器24に与えられる
。この設定点は、処方器2Bに与えられている目標Fa
及び第1反応器の生成速度計算器25によって算出され
た第1反応器の生成速度に基づいて、生成速度設定点計
算器26において計算される。別法として、生成速度設
定点は例えばコンピュータ入力などにより使用者が直接
に入力しても良い。生成速度設定点は比較制御u 24
において、生成速度計算器22からの実際の生成速度
と比較される。
生成速度の計算及び比較と並行して、予測EcがEe計
算器30で計算され、一方でEC比較制御器32でEe
設定点と比較され、他方で予測歴史ファイル38に貯え
られる。Ee設定点は処方器28からの目標Eaに基づ
いてEe設定点計算器34で計算され、所望されるEc
を達成する。別法とじてEa設定点は例えばコンピュー
タ入力から使用者により直接入力されても良い。
算器30で計算され、一方でEC比較制御器32でEe
設定点と比較され、他方で予測歴史ファイル38に貯え
られる。Ee設定点は処方器28からの目標Eaに基づ
いてEe設定点計算器34で計算され、所望されるEc
を達成する。別法とじてEa設定点は例えばコンピュー
タ入力から使用者により直接入力されても良い。
公知のEe測定技術は長時間(2〜8時間程度)を要す
るので、平均のEeが第2図の例では予測される。周期
的に(例えば5分間隔)に瞬間Be値が較正済みのプロ
セスモデルを用いた測定プロセスパラメータから予測さ
れる。次いで現在の平均値Eaが、瞬間EC値と予測歴
史ファイル38に記慣されたデータとから、当分舒に周
知の現想的な猜拌タンク混合モデルを用いて計算される
。
るので、平均のEeが第2図の例では予測される。周期
的に(例えば5分間隔)に瞬間Be値が較正済みのプロ
セスモデルを用いた測定プロセスパラメータから予測さ
れる。次いで現在の平均値Eaが、瞬間EC値と予測歴
史ファイル38に記慣されたデータとから、当分舒に周
知の現想的な猜拌タンク混合モデルを用いて計算される
。
工程中周期的に(例えば1時間おきVC)、反応器RX
−2の抽出器35から試料抽出が行われ、周知の実験室
分析器36により実際のEeが測定される。試料抽出時
に予測平均Eeが予測歴史ファイル38から引出されて
比較器40で実測のEcと比較される。歴史的予測Ea
及び実測Be間の誤差は周知の数学フィルタ42により
一過される。
−2の抽出器35から試料抽出が行われ、周知の実験室
分析器36により実際のEeが測定される。試料抽出時
に予測平均Eeが予測歴史ファイル38から引出されて
比較器40で実測のEcと比較される。歴史的予測Ea
及び実測Be間の誤差は周知の数学フィルタ42により
一過される。
この濾過された誤差の値は、Ec予測モデムを再較正す
るのに使用され、この再較正されたそデルは予測歴史フ
ァイル38の修正に用いられる。予測Ec計算器30か
らの現在の床平均Ee値はEC比較制御器32に与えら
れて、Ee設定点34と比較される。
るのに使用され、この再較正されたそデルは予測歴史フ
ァイル38の修正に用いられる。予測Ec計算器30か
らの現在の床平均Ee値はEC比較制御器32に与えら
れて、Ee設定点34と比較される。
第2図に示した予測歴史技術は、長い試料分析時間が減
少し、適時的な正確なEeの予測を与えるので望ましい
。しかし、本発明は実測Be値を直接比較制御器32に
供給する(予測歴史ファイル等を用いないで)ことによ
っても有効に動作する。測定技術が改善されて速くなれ
ば、このような予測の必要も減少するであろう。
少し、適時的な正確なEeの予測を与えるので望ましい
。しかし、本発明は実測Be値を直接比較制御器32に
供給する(予測歴史ファイル等を用いないで)ことによ
っても有効に動作する。測定技術が改善されて速くなれ
ば、このような予測の必要も減少するであろう。
予測1cとEc設定点とをEC比較制御器32で比較し
、また計算された実際の生成速度と生成速度設定点とを
生成速度比較制御器24で比較することにより、これら
設定点と計算値との差がそれぞれ算出され、これらの差
を用いてEe−生成速度設定点計算器50においズエチ
ジン(C2)及び/又はプロピレン(C3)分圧の調整
値が計算されてEc及び/又は生成速度の調整が行われ
る。
、また計算された実際の生成速度と生成速度設定点とを
生成速度比較制御器24で比較することにより、これら
設定点と計算値との差がそれぞれ算出され、これらの差
を用いてEe−生成速度設定点計算器50においズエチ
ジン(C2)及び/又はプロピレン(C3)分圧の調整
値が計算されてEc及び/又は生成速度の調整が行われ
る。
これらの調整値は、第2図の例の場合、エチレン及びプ
ロピレン濃度の設定点にそれぞれ変換される。
ロピレン濃度の設定点にそれぞれ変換される。
その後、それぞれの設定点の値はエチレン及びプロピレ
ン濃度制御器44.46にそれぞれ与えられ、反応器R
X−2に供給されるエチレン及びプロピレンの相対値を
調整し、それによりEc及びFcを制御する。
ン濃度制御器44.46にそれぞれ与えられ、反応器R
X−2に供給されるエチレン及びプロピレンの相対値を
調整し、それによりEc及びFcを制御する。
第2図に示したように、EC比較制御器32の出力は、
C5/C2分圧比であり、生成速度比較制御器24の出
力は以下に詳述する脱結合制御の関数を考慮した尺度に
された分圧である。これらの値は脱結合計算器に供給さ
れる。
C5/C2分圧比であり、生成速度比較制御器24の出
力は以下に詳述する脱結合制御の関数を考慮した尺度に
された分圧である。これらの値は脱結合計算器に供給さ
れる。
計算器50で所望の分圧を正確に計算するには、C5/
C2反応性比及び反応器の圧力を計算モデルに含める。
C2反応性比及び反応器の圧力を計算モデルに含める。
C5/C2反応性比は実験的に決定しうるが、圧力は直
接に決定される。例えば、1例として、反応性比が0.
277(CBの反応性を02の反応性で除した値)程度
であり、反応器圧力は40〜500 psla((L2
8〜55kp/6n冨)の範囲である。一般に、使用さ
れる重合触媒の型により、選択率や動作条件などの反応
特性が異なる。
接に決定される。例えば、1例として、反応性比が0.
277(CBの反応性を02の反応性で除した値)程度
であり、反応器圧力は40〜500 psla((L2
8〜55kp/6n冨)の範囲である。一般に、使用さ
れる重合触媒の型により、選択率や動作条件などの反応
特性が異なる。
C2及び/又はC5分圧が変わると、生成速度及びE@
が変動するから、本発明では、生成速度比較制御器24
及びEe比較制御器32から得られる個々の制御出力か
ら所望の分圧設定点を計算する。
が変動するから、本発明では、生成速度比較制御器24
及びEe比較制御器32から得られる個々の制御出力か
ら所望の分圧設定点を計算する。
C5/C2の反応性比が計算に含まれているC5及びC
2の分圧の間の相互作用を補償するようになっている。
2の分圧の間の相互作用を補償するようになっている。
第3図はC3、C2分圧が生成速度及びEeに及ぼす影
響を脱結合(消失)するための制御図を示す。第3図の
アルゴリズムは計算器50の内部&lるコンピュータの
ソフトウェアに記録されている。
響を脱結合(消失)するための制御図を示す。第3図の
アルゴリズムは計算器50の内部&lるコンピュータの
ソフトウェアに記録されている。
第5図のアルゴリズムに用いられる関係式の導出方法を
次に説明する。単量体aの重合反応を表わすKは次の運
動方程式が使用できる。
次に説明する。単量体aの重合反応を表わすKは次の運
動方程式が使用できる。
W=Kp −P a ・((TM) ・Vr)/(to
+Kd −(THETA))ここに、 W=単量体aの反応速度(iqI/時)Kp=単量単量
体重合速度定数(IC9,乍/(枦−)/(7Mモル)
) Pa−単量体aの分圧(kv/cm” )(TM)=触
媒中の活性遷移金属濃度(MOL/?FL’)Vr=反
応器体積(m3) Kd=重合速度減衰定数(i7時) THETA=反応器中の反応器間(時)反応器RX−2
中の総合重合速度は、C2と05の反応より成るから、
上記の式はこれらの2構成分に適用して生成速度を計算
するのに適用できる。
+Kd −(THETA))ここに、 W=単量体aの反応速度(iqI/時)Kp=単量単量
体重合速度定数(IC9,乍/(枦−)/(7Mモル)
) Pa−単量体aの分圧(kv/cm” )(TM)=触
媒中の活性遷移金属濃度(MOL/?FL’)Vr=反
応器体積(m3) Kd=重合速度減衰定数(i7時) THETA=反応器中の反応器間(時)反応器RX−2
中の総合重合速度は、C2と05の反応より成るから、
上記の式はこれらの2構成分に適用して生成速度を計算
するのに適用できる。
PP2=KC3・IC32・((TM)−Vr)/(t
o+Kd ・(THETA))+KC2・IC22・(
(TM)−Vr)/(tO+Kd−THETA) ここに、PH1−反応器RX−2での全反応速度(kg
7時) KC3=CsHs Ti重合速度定数kg/時/(kg
/cm”)/(7Mモル)) KC23CIH,重合速度定数(# # ) PC52=CsH@分圧(i9/cm” )PC22=
C2Ha分圧(lq/cIR” )移項して分圧を含む
項につい【解くと、KO2・PP2=KC3・IC22
=PR2・(i+Kd−THETA)/CTM) ・V
r−KO2で割ってRR=KC3/KC2、及びPPR
=PC52/PC22と置くと、IC22・(tO+R
R−PPR)=PR2・(to+Kd−THETA/(
[:TM] Vr −KO2) さて、定常状態において、項(to+Kd−THETA
/((TM)・VrKC2)はほぼ一定と仮定して良い
から、上式は次のようになる。
o+Kd ・(THETA))+KC2・IC22・(
(TM)−Vr)/(tO+Kd−THETA) ここに、PH1−反応器RX−2での全反応速度(kg
7時) KC3=CsHs Ti重合速度定数kg/時/(kg
/cm”)/(7Mモル)) KC23CIH,重合速度定数(# # ) PC52=CsH@分圧(i9/cm” )PC22=
C2Ha分圧(lq/cIR” )移項して分圧を含む
項につい【解くと、KO2・PP2=KC3・IC22
=PR2・(i+Kd−THETA)/CTM) ・V
r−KO2で割ってRR=KC3/KC2、及びPPR
=PC52/PC22と置くと、IC22・(tO+R
R−PPR)=PR2・(to+Kd−THETA/(
[:TM] Vr −KO2) さて、定常状態において、項(to+Kd−THETA
/((TM)・VrKC2)はほぼ一定と仮定して良い
から、上式は次のようになる。
P R2=X・(IC22・(io+ua−ppa))
ただし、X=((TM) ・Vr −KO2)/(to
+Kd −THETA)この式は生成速度と尺度変更し
た分圧(上式右辺)の正比例関係を示す。従って、これ
は脱結合の計算の基礎として使用しうる。
ただし、X=((TM) ・Vr −KO2)/(to
+Kd −THETA)この式は生成速度と尺度変更し
た分圧(上式右辺)の正比例関係を示す。従って、これ
は脱結合の計算の基礎として使用しうる。
Ee比較制御器の出力は、論理的に分圧比(すなわち、
上に定義したPPR)と解釈され、生成速度比較制御器
の出力は尺度変更した分圧値、すなわち[X−IC22
・(to+RR−PPR)]と解釈される。
上に定義したPPR)と解釈され、生成速度比較制御器
の出力は尺度変更した分圧値、すなわち[X−IC22
・(to+RR−PPR)]と解釈される。
比較制御器24.52の出力をこのように定義すれば、
脱結合計算はC2及びC5の分・圧の設定点を得るため
に反応性比に対する値を用いて定餞できる。反応性比(
又は相対反応性)は通常反応器またはオフライン実験か
ら得たデータから計算される。
脱結合計算はC2及びC5の分・圧の設定点を得るため
に反応性比に対する値を用いて定餞できる。反応性比(
又は相対反応性)は通常反応器またはオフライン実験か
ら得たデータから計算される。
Ec比較制御器の出力はその後反応性比RRに乗じ、次
いでtoを加算し、ざらにXを乗じて上式の項 (to+RR−PPR)・X を得る。
いでtoを加算し、ざらにXを乗じて上式の項 (to+RR−PPR)・X を得る。
生成速度比較制御器の出力をこの項で割れば先きの式か
ら明らかなように所望の分圧C2(PC2’)が得られ
る。Xの量は本発明の計算中にそれ自体で除されるから
、数学的には表面に出て来ないのでそれらを明示的に決
める必要はない。
ら明らかなように所望の分圧C2(PC2’)が得られ
る。Xの量は本発明の計算中にそれ自体で除されるから
、数学的には表面に出て来ないのでそれらを明示的に決
める必要はない。
Ea比較制御器の出力PPRに02の分圧を乗じると所
望のC3分圧が得られる。
望のC3分圧が得られる。
PC3’=PC2’−PPR
最後に、両分圧を現在の反応器全圧PTで除すと、濃度
設定点 %C3=100・PCB’/PT %C2=100・PC2//PT が得られる。 。
設定点 %C3=100・PCB’/PT %C2=100・PC2//PT が得られる。 。
計算器SO(第2図)の動作を第3図を参照して説明す
る。第3図に例示した各段−は計算器50のためのコン
一二一タにより実行しつる。
る。第3図に例示した各段−は計算器50のためのコン
一二一タにより実行しつる。
所望のEcと計算したEe (第2図の比較制御器32
のEe)の間に差があれば、これはプロピレンC5/エ
チレンC2の比が正しくないことを示す。従って、所定
の動作が行われてプロピレン分圧(PO2)のエチレン
分圧(PO2)に対する比の調整、従って、He比較制
御器32の出力の調整値を計算する。Eeが変動したと
きに生成速度が変動するのを回避するために、He比較
制御器52の出力はC5の分圧(PCB)とC2の分圧
(PO2)の比(PPR)の形で計算器50に供給され
る。次いで計算器50は正しいC3分圧とC2分圧を計
算して、生成速度を変化させることなく所望のEeを達
成する。
のEe)の間に差があれば、これはプロピレンC5/エ
チレンC2の比が正しくないことを示す。従って、所定
の動作が行われてプロピレン分圧(PO2)のエチレン
分圧(PO2)に対する比の調整、従って、He比較制
御器32の出力の調整値を計算する。Eeが変動したと
きに生成速度が変動するのを回避するために、He比較
制御器52の出力はC5の分圧(PCB)とC2の分圧
(PO2)の比(PPR)の形で計算器50に供給され
る。次いで計算器50は正しいC3分圧とC2分圧を計
算して、生成速度を変化させることなく所望のEeを達
成する。
所望の生成速度と計算生成速度(第2図の生成速度比較
制御器24の出力)の間に差があると、これはC3分圧
及びC2分圧が正しくないことを示している。従って、
所定の動作が行われてプロピレン分圧(PO2)とエチ
レン分圧(PO2)の調整値が計算される。
制御器24の出力)の間に差があると、これはC3分圧
及びC2分圧が正しくないことを示している。従って、
所定の動作が行われてプロピレン分圧(PO2)とエチ
レン分圧(PO2)の調整値が計算される。
生成速度が変動したときにEeの変動を回避するために
、生成速度比較制御器24の出力が計算器50に尺度変
更した分圧値(8PC2)の形で供給される。次いで計
算器50は正しいC3及び02分圧を計算して、Ecを
変化させることなく所望の生成速度を達成する。
、生成速度比較制御器24の出力が計算器50に尺度変
更した分圧値(8PC2)の形で供給される。次いで計
算器50は正しいC3及び02分圧を計算して、Ecを
変化させることなく所望の生成速度を達成する。
若しも、生成速度及びEeのいずれもが所望値から外れ
る七、両方の#1整が同時に行われる。
る七、両方の#1整が同時に行われる。
第3図の工程■は第2図のHe比較制御@32からのP
CB/PC2=PPR(分圧比)の入カニ程である。分
圧比PPRは次いで工程■において所定の反応性比(R
R)を乗ぜられる。次いで、1の値が工程Vにおいて檀
RRXPPRに加算されて脱結合式の導出の説明で述べ
た関係(i+PPXPPR)を導出する。
CB/PC2=PPR(分圧比)の入カニ程である。分
圧比PPRは次いで工程■において所定の反応性比(R
R)を乗ぜられる。次いで、1の値が工程Vにおいて檀
RRXPPRに加算されて脱結合式の導出の説明で述べ
た関係(i+PPXPPR)を導出する。
生成速度比較制御器24の出力は尺度変更した分圧値8
PC2=PC2X(tQ+RRXPPR)(7)形テ供
給されて、特定の分圧比に対する特定の全反応を与える
(工程■)。この尺度変更した分圧値は脱結合工程にお
いて元の尺度に戻される。つまり、尺度変更した分圧値
は工程■において工程Vからの出力(to+uRXpp
u)で除されて所望の02分圧値PC2’を生じる。工
程■において、所望の02分圧値PC2/及びPPRは
乗算されて所望のC3分圧(PC3’)を算出する。C
2及びC3の%濃度(%C2、%cg)が、その後C2
、C3分圧値PC2’、PC3’をそれぞれ工程■及び
Xで全圧PTで割ることにより算出される。これらの新
たな濃度値PC2’/PT及びPCB’/PTはそれぞ
れ濃度制御器46.44(第2図)K供給されて反応器
へ供給されるC2、C3の流れを調整してKc及びFa
を所望の値に補正する。
PC2=PC2X(tQ+RRXPPR)(7)形テ供
給されて、特定の分圧比に対する特定の全反応を与える
(工程■)。この尺度変更した分圧値は脱結合工程にお
いて元の尺度に戻される。つまり、尺度変更した分圧値
は工程■において工程Vからの出力(to+uRXpp
u)で除されて所望の02分圧値PC2’を生じる。工
程■において、所望の02分圧値PC2/及びPPRは
乗算されて所望のC3分圧(PC3’)を算出する。C
2及びC3の%濃度(%C2、%cg)が、その後C2
、C3分圧値PC2’、PC3’をそれぞれ工程■及び
Xで全圧PTで割ることにより算出される。これらの新
たな濃度値PC2’/PT及びPCB’/PTはそれぞ
れ濃度制御器46.44(第2図)K供給されて反応器
へ供給されるC2、C3の流れを調整してKc及びFa
を所望の値に補正する。
上記の計算は周期的に反復される。
C5及びC2の分圧を調整して反応器RX−2の生成速
度を制御するため、及び2つの分圧の比を調整してEa
を制御するには(第3図参照)、コンピュータ制御を行
うことができる。システムコンピュータにより反応器R
X−2の流動床の発生熱、第1反応器RX−1からの固
形供給部、及び反応サイクル中のガス相のプ四ピレンー
エチレン平衡などを監視することも可能である。特定の
プロセスから集めたデータ、動作又は/及び構造パラメ
ータから、流動反応床の現在の反応ないし生産速度が計
算できる。
度を制御するため、及び2つの分圧の比を調整してEa
を制御するには(第3図参照)、コンピュータ制御を行
うことができる。システムコンピュータにより反応器R
X−2の流動床の発生熱、第1反応器RX−1からの固
形供給部、及び反応サイクル中のガス相のプ四ピレンー
エチレン平衡などを監視することも可能である。特定の
プロセスから集めたデータ、動作又は/及び構造パラメ
ータから、流動反応床の現在の反応ないし生産速度が計
算できる。
第2図には、コンピュータソフトウェアに容易に適合で
きる装置要素が図の水平鎖線よりも上に「コンピュータ
」と表示した部分に示されている。
きる装置要素が図の水平鎖線よりも上に「コンピュータ
」と表示した部分に示されている。
これらは単一又は複数のコンピュータにより実現しうる
。また反応器要素は図の水平鎖線よりも下に「現場」と
表示した部分に示されている。
。また反応器要素は図の水平鎖線よりも下に「現場」と
表示した部分に示されている。
本発明は上記のようにプ四ピレンーエチレン共重合体の
製造装置に関連して説明したが、プロピレン−ブテン、
プロピレン−ヘキセン等の他の共重合にも容易に適用し
うる。
製造装置に関連して説明したが、プロピレン−ブテン、
プロピレン−ヘキセン等の他の共重合にも容易に適用し
うる。
第1図は本発明を具体化しうる2反応器によるポリプロ
ピレンインパクト共重合体の重合装置を示す図式図、第
2図は上記装置においてEa及びFeを制御する本発明
の実施例による装置を示す図式図、第3図は本発明に従
つ【生成速度のデータとEcのデータとをプロピレン及
びエチレンの濃度設定点に、プロピレンとエチレンの分
圧の相互作用が脱結合されるようにして変換する方法を
示す流れ図である。 図面の浄書(内容に変更なし) FIG、3
ピレンインパクト共重合体の重合装置を示す図式図、第
2図は上記装置においてEa及びFeを制御する本発明
の実施例による装置を示す図式図、第3図は本発明に従
つ【生成速度のデータとEcのデータとをプロピレン及
びエチレンの濃度設定点に、プロピレンとエチレンの分
圧の相互作用が脱結合されるようにして変換する方法を
示す流れ図である。 図面の浄書(内容に変更なし) FIG、3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、プロピレンと第2のアルファオレフィンの共重合体
を、プロピレン濃度制御器及び前記第2のアルファオレ
フィンの濃度制御器を備えた反応器において製造するに
際し、 (a)該反応器において製造される、前記第2のアルフ
アオレフインを含有すべき共重合体の目標分率を選択し
、 (b)前記反応器で製造すべき全共重合体の目標分率に
基づいて目標共重合体反応速度を選択し、 (c)前記反応器の流出物を測定して前記第2のアルフ
ァオレフィンを含有する前記反応器中の前記共取合体の
実際の分率を決定し、 (d)前記反応器の前記共重合体反応速度を算出し、 (e)前記測定した第2のアルファオレフィンの分率を
前記第2のアルファオレフィンの目標分率と比較し、 (f)前記測定した反応速度を前記目標反応速度と比較
し、 (g)前記工程(e)の比較で差が存在したら、前記第
2のアルファオレフィンを含有する前記共重合体の分率
を前記目標分率に向けて調整するために、第2のアルフ
ァオレフィンに対するプロピレンの分圧比を計算し、 (h)前記工程(f)の比較で差が決定されたら、共重
合体の反応速度を前記目標共重合体反応速度へ向けて調
整するために、前記第2のアルファオレフィンの分圧を
計算し、 (i)上記(g)で決定されたポリプロピレン/第2の
アルファオレフィン分圧比と上記(h)で決定された分
圧との関数として第2のオレフィンの前記目標分率と前
記目標反応速度に適合する結果となるように修正された
プロピレン及び第2のオレフィンの分圧を計算し、そし
て (j)前記(i)からの修正されたプロピレン及び第2
のアルファオレフィン分圧値を前記プロピレン濃度制御
器及び第2のアルファオレフィンの濃度制御器へ入力し
、それにより前記入力により前記反応器の動作条件を制
御するポリプロピレンインパクト共重合体の製造を制御
する方法。 2、工程(e)が (i)反応器からの生成物の試料を分析して第2のアル
ファオレフィンを含有する生成物の実際の分率を決定し
、 (ii)前記(i)で決定された実際の分率を、第2の
アルファオレフィンの分率のプロセス条件に関係した実
験的関係により予測された前のアルファオレフィン分率
の予測歴史ファイルから得られた予測された床平均第2
のアルファオレフィン分率と比較することを含んでいる
、前記第1項記載の方法。 3、第2のアルファオレフィンはエチレン、ブテン及び
ヘキセンより成る群から選ばれる前記第1項記載の方法
。 4 第2のアルファオレフィンはエチレン、ブテン及び
ヘキセンから選ばれる前記第2項記載の方法。 5、触媒の存在下、プロピレンと第2のアルフアオレフ
インとから共重合体を製造するポリプロピレンインパク
ト共重合体製造装置において、前記第2のアルフアオレ
フインを含む前記反応器中の共重合体の生成速度を計算
する第1手段、前記反応器中の共重合体分率を予測する
第2手段、前記第1手段によつて計算された生成速度と
目標生成速度とを比較して修正分圧を計算する生成速度
計算手段、前記第2手段により算出された分率と第2の
アルファオレフィンの目標分率とを比較してプロピレン
/第2のアルファオレフィンの修正分圧比を計算する第
2のアルファオレフィン計算手段、前記プロピレン及び
第2のアルファオレフィン分圧制御値を、前記修正プロ
ピレンと第2のアルファオレフィン分圧、及び前記修正
プロピレン/第2のアルファオレフィン分圧比が満足さ
れるように修正する手段、及び前記修正されたプロピレ
ン及び第2のアルファオレフィン制御値に従つて、前記
反応器の反応を調整する手段より成る、ポリプロピレン
インパクト共重合体反応器の制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29541487A JPH075669B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | ポリプロピレンインパクト共重合体反応制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29541487A JPH075669B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | ポリプロピレンインパクト共重合体反応制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01174507A true JPH01174507A (ja) | 1989-07-11 |
JPH075669B2 JPH075669B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=17820297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29541487A Expired - Lifetime JPH075669B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | ポリプロピレンインパクト共重合体反応制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH075669B2 (ja) |
-
1987
- 1987-11-25 JP JP29541487A patent/JPH075669B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH075669B2 (ja) | 1995-01-25 |
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Legal Events
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