JPH01168886A - フラビン修飾電極 - Google Patents
フラビン修飾電極Info
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- JPH01168886A JPH01168886A JP62325525A JP32552587A JPH01168886A JP H01168886 A JPH01168886 A JP H01168886A JP 62325525 A JP62325525 A JP 62325525A JP 32552587 A JP32552587 A JP 32552587A JP H01168886 A JPH01168886 A JP H01168886A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D475/00—Heterocyclic compounds containing pteridine ring systems
- C07D475/12—Heterocyclic compounds containing pteridine ring systems containing pteridine ring systems condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D475/14—Benz [g] pteridines, e.g. riboflavin
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は修飾電極を形成するための導電性基板修飾剤
に関する。
に関する。
従来、電子伝達タンパク質を効率的に還元するための修
飾電極を形成するための修飾剤としては、例えば雑誌(
J、 ImChem、 Soc、 、101 、p44
61(1979) )に示された4、4I−ビピリジル
などのプロモータがある。また雑誌(J、 Am、 C
hem、 Soc、 、 105.p181(1983
))に示されたフェロセン誘導体などのメデイエータが
ある。
飾電極を形成するための修飾剤としては、例えば雑誌(
J、 ImChem、 Soc、 、101 、p44
61(1979) )に示された4、4I−ビピリジル
などのプロモータがある。また雑誌(J、 Am、 C
hem、 Soc、 、 105.p181(1983
))に示されたフェロセン誘導体などのメデイエータが
ある。
なお、第5図(a)は4,4′−ビピリジルの化学構造
式を示す図、第5図(b)はフェロセン誘導体の化学構
造式を示す図である。
式を示す図、第5図(b)はフェロセン誘導体の化学構
造式を示す図である。
次に動作について説明する。第5図(a)に示したプロ
モータを金に修飾して得られた修飾電極を、電子伝達タ
ンパク質の一種であるチトクロームCの水溶液に浸せき
したときのサイクリックポルタモグラムを第6図に示す
。チトクロームCの還元及び酸化に伴うピークが観察さ
れ、この電極を用いてチトクロームCを酸化および還元
できることがわかる。また、第5図(b)に示したメデ
イエータを白金に修飾して得られる修飾電極を用いても
同様にチトクロームCを酸化および還元できる。なお、
図において、縦軸は電流(μA)横軸は電圧(mv)を
示す。
モータを金に修飾して得られた修飾電極を、電子伝達タ
ンパク質の一種であるチトクロームCの水溶液に浸せき
したときのサイクリックポルタモグラムを第6図に示す
。チトクロームCの還元及び酸化に伴うピークが観察さ
れ、この電極を用いてチトクロームCを酸化および還元
できることがわかる。また、第5図(b)に示したメデ
イエータを白金に修飾して得られる修飾電極を用いても
同様にチトクロームCを酸化および還元できる。なお、
図において、縦軸は電流(μA)横軸は電圧(mv)を
示す。
従来のプロモータ修飾電極は以上のように構成されてい
るので、チトクロームCと電極との間で双方向の電子移
動が起こり、そのため電極からチトクロームCへの電子
の流れを一方向のみに制御できない。またメデイエータ
修飾電極では修飾法が繁雑であるし、また、フェロセン
とチトクロームCとの組み合わのような、修飾剤と電子
伝達タンパク質の酸化還元電位の差が小さい場合、プロ
モータ修飾電極の場合と同様に双方向の電子移動が起こ
り、電子の流れの方向を制御できない。
るので、チトクロームCと電極との間で双方向の電子移
動が起こり、そのため電極からチトクロームCへの電子
の流れを一方向のみに制御できない。またメデイエータ
修飾電極では修飾法が繁雑であるし、また、フェロセン
とチトクロームCとの組み合わのような、修飾剤と電子
伝達タンパク質の酸化還元電位の差が小さい場合、プロ
モータ修飾電極の場合と同様に双方向の電子移動が起こ
り、電子の流れの方向を制御できない。
又、チトクロームC等の電子伝達タンパク質の標準酸化
還元電位より負側に小さい標準酸化還元電位を有するフ
ラビン誘導体を用いると可能となるが、市販のリボフラ
ビンやルミフラビンを用いての導電性基板の修飾は困難
であった。
還元電位より負側に小さい標準酸化還元電位を有するフ
ラビン誘導体を用いると可能となるが、市販のリボフラ
ビンやルミフラビンを用いての導電性基板の修飾は困難
であった。
この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、例えばチトクロムCなどのフラビン誘導体の標準酸
化還元電位より正側に大きい標準化還元電位を有する電
子タンパク質を効率的に還元できるように、導電性基板
を安定に修飾するための導電性基板修飾剤を得ることを
目的とする。
で、例えばチトクロムCなどのフラビン誘導体の標準酸
化還元電位より正側に大きい標準化還元電位を有する電
子タンパク質を効率的に還元できるように、導電性基板
を安定に修飾するための導電性基板修飾剤を得ることを
目的とする。
この発明の導電性基板修飾剤は、
一般式
%式%
(式中、R1は水素原子またはアシル基を、R2、R3
は水素原子または成業数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示されるフラビン誘導体から成るものである。
は水素原子または成業数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示されるフラビン誘導体から成るものである。
この発明のフラビン誘導体を用いて修飾したフラビン修
飾電極は、この発明におけるフラビン誘導体の標準酸化
還元電位より正側に大きい標準酸化還元電位を有する電
子伝達タンパク質を還元することができるが、酸化する
ことはできないため、電子移動を一方向のみに制御する
ことができる。
飾電極は、この発明におけるフラビン誘導体の標準酸化
還元電位より正側に大きい標準酸化還元電位を有する電
子伝達タンパク質を還元することができるが、酸化する
ことはできないため、電子移動を一方向のみに制御する
ことができる。
この特徴を利用して、この修飾電極はダイオード、トラ
ンジスタ、光スイツチ素子等の機能性素子への応用が可
能となる。
ンジスタ、光スイツチ素子等の機能性素子への応用が可
能となる。
この発明の導電性基板修飾剤としての一般式%式%
(式中、R1は水素原子またはアシル基を、R2、R3
は水素原子または炭素数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示される新規なフラビン誘導体中、R1がチオシアナ
ト基でめる6−チオシアナトフラビン誘導体は、文献と
既知の6−アミノフラビン誘導体(バイオケミストリイ
、 19.2537(1980)等)を15〜40%の
硫酸もしくは塩酸酸性水溶液中、1.5〜5倍モルの亜
硝酸ナトリウムと作用させ、6−ジアシフラビン誘導体
を生じさせた後、これを単離することなくチオシアン酸
カリウムと作用させることにより合成出来る。
は水素原子または炭素数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示される新規なフラビン誘導体中、R1がチオシアナ
ト基でめる6−チオシアナトフラビン誘導体は、文献と
既知の6−アミノフラビン誘導体(バイオケミストリイ
、 19.2537(1980)等)を15〜40%の
硫酸もしくは塩酸酸性水溶液中、1.5〜5倍モルの亜
硝酸ナトリウムと作用させ、6−ジアシフラビン誘導体
を生じさせた後、これを単離することなくチオシアン酸
カリウムと作用させることにより合成出来る。
また6−チオシアナトフラビン誘導体を水溶液中、還元
剤(例えばハイドロサルファイドナトリウム、水素化ホ
ウ素ナトリウム、ジチオスレイトールなど)と作用させ
るか、または光照射下にEDTAと作用させることによ
り目的とする上記−般式中、R4がメルカプト基である
6−メルカプトフラビン誘導体が合成出来る。6−チオ
シアナトフラビン誘導体、および6−メルカプトフラビ
ン誘導体の何れも通常の再結晶法または分子ふるい、シ
リカゲルカラム、樹脂カラム等の精製法により単離する
ことが可能である。
剤(例えばハイドロサルファイドナトリウム、水素化ホ
ウ素ナトリウム、ジチオスレイトールなど)と作用させ
るか、または光照射下にEDTAと作用させることによ
り目的とする上記−般式中、R4がメルカプト基である
6−メルカプトフラビン誘導体が合成出来る。6−チオ
シアナトフラビン誘導体、および6−メルカプトフラビ
ン誘導体の何れも通常の再結晶法または分子ふるい、シ
リカゲルカラム、樹脂カラム等の精製法により単離する
ことが可能である。
上記フラビン誘導体は、導電性基板に修飾でき、次にそ
の修飾法について述べる。上記のようにして合成したフ
ラビン誘導体を例えばo、1mg/I〜100mg/l
の濃度で水または緩衝液に溶解し、この溶液中に、水ま
たは濃い酸または有機溶剤等で洗浄した金、銀、白金な
どの金属、酸化スズなどの金属酸化物、シリコンや炭素
などの半導体、等の導電性基板を0.1秒から1時間浸
せきすることによって、フラビン修飾電極を得ることが
できる。
の修飾法について述べる。上記のようにして合成したフ
ラビン誘導体を例えばo、1mg/I〜100mg/l
の濃度で水または緩衝液に溶解し、この溶液中に、水ま
たは濃い酸または有機溶剤等で洗浄した金、銀、白金な
どの金属、酸化スズなどの金属酸化物、シリコンや炭素
などの半導体、等の導電性基板を0.1秒から1時間浸
せきすることによって、フラビン修飾電極を得ることが
できる。
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明す ・るが
、これに限定されない。
、これに限定されない。
実施例1
6−チオジアナトー2/ 、 3/ 、 4/ 、 5
/−テトラアセチルリボフラビンの合成6−アミノ−2
1、3/ 、 41゜5′−テトラアセチルリボフラビ
ン1.00g (1,79mr。
/−テトラアセチルリボフラビンの合成6−アミノ−2
1、3/ 、 41゜5′−テトラアセチルリボフラビ
ン1.00g (1,79mr。
ole )を、濃硫酸10m1および氷水30m1の0
°0混液中に懸濁する。97%亜硝酸ナトリウム190
.5mg(168mno le )をOυで添加後、1
5分間同温で攪拌する。尿素195.5mgを0℃で添
加し、過剰の亜硝酸ナトリウムを分解して、さらに15
分間攪拌する。
°0混液中に懸濁する。97%亜硝酸ナトリウム190
.5mg(168mno le )をOυで添加後、1
5分間同温で攪拌する。尿素195.5mgを0℃で添
加し、過剰の亜硝酸ナトリウムを分解して、さらに15
分間攪拌する。
充分に分解させた後、飽和チオシアン酸カリウム水溶液
0.85m1をOυで加え、窒素ガスの発生が止むまで
(約30分)攪拌する。
0.85m1をOυで加え、窒素ガスの発生が止むまで
(約30分)攪拌する。
25%アンモニア水30 m lを内温15℃以下で、
最終溶液性がpH2になるようにする。反応液をクロロ
ホルムの50m1で3回、合計150m1で抽出を行い
、合わせたクロロホルム溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥させる。減圧下溶媒を留去させた後、残渣をシリカゲ
ルカラム(溶出液:アセトン−ベンゼン=1:5)に付
し、目的のフラクションを合わせ、減圧下溶媒を留去す
る。残留物をクロロホルムとヘキサンの混合物より再結
晶することにより、目的の6−チオジアナトー2/ 、
3/ 、 4/ 、 5/−テトラアセチルリボフラ
ビンの黄色結晶367mgがえられる。収率341% なお、上記化合物の以下に示す測定結果により、目的化
合物であることを同定した。
最終溶液性がpH2になるようにする。反応液をクロロ
ホルムの50m1で3回、合計150m1で抽出を行い
、合わせたクロロホルム溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥させる。減圧下溶媒を留去させた後、残渣をシリカゲ
ルカラム(溶出液:アセトン−ベンゼン=1:5)に付
し、目的のフラクションを合わせ、減圧下溶媒を留去す
る。残留物をクロロホルムとヘキサンの混合物より再結
晶することにより、目的の6−チオジアナトー2/ 、
3/ 、 4/ 、 5/−テトラアセチルリボフラ
ビンの黄色結晶367mgがえられる。収率341% なお、上記化合物の以下に示す測定結果により、目的化
合物であることを同定した。
融点 138°−142℃
元素分析(96)計算値C,51,92、H,452、
N、 11.62実測値C,51,65、H,4,52
、N、 11.52赤外線吸収スペクトルI R(KB
r s cm−’) 3470 。
N、 11.62実測値C,51,65、H,4,52
、N、 11.52赤外線吸収スペクトルI R(KB
r s cm−’) 3470 。
2150.1740,1580,1535,1215核
磁気共鳴NMR(CDC1m 1δppm ) 1.8
2.19.121、λ66、λ76 (each 3H
,1s )、425、t44(eachtH。
磁気共鳴NMR(CDC1m 1δppm ) 1.8
2.19.121、λ66、λ76 (each 3H
,1s )、425、t44(eachtH。
d)、5.41(4H,broad)、5.60 (t
H,broad )、 7.77、&61 (each
tHlS ) 金蒸着電極上へのチオシアナトテトラアセチルリボフラ
ビンの修飾 第2図の金電極の正面図に示すように金を蒸着したガラ
ス基板を蒸留水で洗浄した後、濃硝酸中に10分間浸せ
きして洗浄金電極とする。また、6−チオジアナトー2
/ 、 31 、41 、5/−テトラアセチルリボフ
ラビンをリン酸緩衝液(pH7,0、20mM )中に
10mg/ 1の濃度に溶解する。この水溶液に上述の
洗浄金電極を10分間浸せきした後、水洗して、安定な
フラビン修飾電極を得た。
H,broad )、 7.77、&61 (each
tHlS ) 金蒸着電極上へのチオシアナトテトラアセチルリボフラ
ビンの修飾 第2図の金電極の正面図に示すように金を蒸着したガラ
ス基板を蒸留水で洗浄した後、濃硝酸中に10分間浸せ
きして洗浄金電極とする。また、6−チオジアナトー2
/ 、 31 、41 、5/−テトラアセチルリボフ
ラビンをリン酸緩衝液(pH7,0、20mM )中に
10mg/ 1の濃度に溶解する。この水溶液に上述の
洗浄金電極を10分間浸せきした後、水洗して、安定な
フラビン修飾電極を得た。
なお、図において、(1)はガラス基板、(2)は金蒸
着膜、囚はs o mm 1G3)は3trm 、 (
C)は10 mm s (Dは2mmを示す。
着膜、囚はs o mm 1G3)は3trm 、 (
C)は10 mm s (Dは2mmを示す。
サイクリックポルタンメトリによる修飾電極の安定性試
験 リン酸緩衝液(pH7,0、20mM )中に過塩素酸
ナトリウムを100mMの濃度に溶解し、アルゴン通気
により脱酸素し、これを電解液として上記修飾電極のサ
イクリックポルタンメトリを(θ〜−600mV vs
。
験 リン酸緩衝液(pH7,0、20mM )中に過塩素酸
ナトリウムを100mMの濃度に溶解し、アルゴン通気
により脱酸素し、これを電解液として上記修飾電極のサ
イクリックポルタンメトリを(θ〜−600mV vs
。
Ag/AgC1、掃引速度somV/s )測定し、こ
のときのサイクルによる還元ピークの高さの変化を示す
特性図を第3図に示す。3サイクル以降、還元ピークの
高さは、はとんど変化せず、6−チオジアナトー27
、3/ 、 4/ 、 s/−テトラアセチルリボフラ
ビンが安定に金表面に吸着していることを示すものであ
る。なお、図において、縦軸はピーク電流値(μA)を
横軸はサイクル0回)を示す。
のときのサイクルによる還元ピークの高さの変化を示す
特性図を第3図に示す。3サイクル以降、還元ピークの
高さは、はとんど変化せず、6−チオジアナトー27
、3/ 、 4/ 、 s/−テトラアセチルリボフラ
ビンが安定に金表面に吸着していることを示すものであ
る。なお、図において、縦軸はピーク電流値(μA)を
横軸はサイクル0回)を示す。
チトクロームCの還元
チトクロームCを330μmの濃度になるように上記電
解液に溶解し、この溶液中で上記フラビン修飾電極を用
いてサイクリックポルタンメトリを行った結果を、チト
クロームCを含まない場合と比較して第1図のサイクリ
ックポルタモグラムに示す。
解液に溶解し、この溶液中で上記フラビン修飾電極を用
いてサイクリックポルタンメトリを行った結果を、チト
クロームCを含まない場合と比較して第1図のサイクリ
ックポルタモグラムに示す。
酸化ピークは認められず、大きく還元電流が流れるよう
になることから、この修飾電極を用いることによって、
チトクロームCを還元はできるが酸化はできないように
すること、すなわち、電極からチトクロームCへの一方
向の電子移動のみ起こすこと、が可能になることがわか
る。
になることから、この修飾電極を用いることによって、
チトクロームCを還元はできるが酸化はできないように
すること、すなわち、電極からチトクロームCへの一方
向の電子移動のみ起こすこと、が可能になることがわか
る。
図において、(E)はチトクロームCを含まない時のサ
イクリックポルタモグラム、(F)はチトクロームCを
含むサイクリックポルタモグラムを示す。
イクリックポルタモグラム、(F)はチトクロームCを
含むサイクリックポルタモグラムを示す。
又、縦軸は電流(μA)を、横軸はAg /Ag CI
!電極に対する電圧(mV)を示す。
!電極に対する電圧(mV)を示す。
実施例2
実施例1により得られた6−チオジアナトー2′。
3/ 、 4/ 、 5/−テトラアセチルリボフラビ
ンの0.05Mりん酸2水素カリウムーりん酸2ナトリ
ウム緩衝液(pH7,0)を用いた5、10xlO’M
濃度の溶液を調整した後、安定剤としてEDTA 2ナ
トリウムを1.0X10 Mとなるように加え試料
溶液とする。
ンの0.05Mりん酸2水素カリウムーりん酸2ナトリ
ウム緩衝液(pH7,0)を用いた5、10xlO’M
濃度の溶液を調整した後、安定剤としてEDTA 2ナ
トリウムを1.0X10 Mとなるように加え試料
溶液とする。
これに、ジチオスレイトールを8.0X10 ’Mにな
るように加える。室温下、2時間攪拌すると目的の6−
メルカプト−2/ 、 3/ 、 4/ 、 5/−テ
トラアセチルリボフラビンが生じる。第4図に可視紫外
吸収スペクトル図を示す。
るように加える。室温下、2時間攪拌すると目的の6−
メルカプト−2/ 、 3/ 、 4/ 、 5/−テ
トラアセチルリボフラビンが生じる。第4図に可視紫外
吸収スペクトル図を示す。
このようにして合成した6−メルカプト−2′。
31.4/ 、51−テトラアセチルリボフラビンも実
施例1と同様に導電性基板の修飾剤として用いることが
でき同様の効果が得られる。
施例1と同様に導電性基板の修飾剤として用いることが
でき同様の効果が得られる。
実施例3
実施例2におけるEDTA 2ナトリウムを加えない以
外は実施例と同様に試料溶液を調整した後、窒素雰囲気
下、ハイドロサルファイドナトリウムを8.0xlO−
’ Mになるように加え室温で1時間30分攪拌する。
外は実施例と同様に試料溶液を調整した後、窒素雰囲気
下、ハイドロサルファイドナトリウムを8.0xlO−
’ Mになるように加え室温で1時間30分攪拌する。
本操作により生じた6−メルカプト−27,37,4/
、5/−テトラアセチルリボフラビンの紫外吸収スペ
クトルは実施例2のそれと一致した。
、5/−テトラアセチルリボフラビンの紫外吸収スペ
クトルは実施例2のそれと一致した。
このようにして合成した6−メルカブトー2′、3/。
4′、5/−テトラアセチルリボフラビンも実施例1と
同様に導電性基板の修飾剤として用いることができ、同
様の効果が得られる。
同様に導電性基板の修飾剤として用いることができ、同
様の効果が得られる。
また、上記実施例では、6−チオジアナトー2′。
3/ 、41.51−テトラアセチルリボフラビンおよ
び6−メルカプト−2/ 、 3/ 、 4/ 、 5
/−テトラアセチルリボフラビンについて説明したが、
メルカプト基またはチオシアナト基を導入したフラビン
誘導体であれば導電性基板を安定に修飾でき、上記実施
例と同様の効果を奏する。
び6−メルカプト−2/ 、 3/ 、 4/ 、 5
/−テトラアセチルリボフラビンについて説明したが、
メルカプト基またはチオシアナト基を導入したフラビン
誘導体であれば導電性基板を安定に修飾でき、上記実施
例と同様の効果を奏する。
又、上記実施例では、電子伝達タンパク質としてチトク
ロームCを用いた場合について述べたが、他の例えばル
ブレドキシン等を用いた場合も同様の効果を示す。
ロームCを用いた場合について述べたが、他の例えばル
ブレドキシン等を用いた場合も同様の効果を示す。
以上説明したとおり、この発明は
一般式
%式%
(式中、R1は水素原子またはアシル基を、R2、R3
は水素原子または炭素数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示されるフラビン誘導体から成るものを用いることに
より、フラビン誘導体の標準酸化還元電位より正側に大
きい標準酸化還元電位を有する電子タンパク質を効率的
に還元できるように、導電性基板を安定に修飾するため
の導電性基板修飾を得ることができ、例えばダイオード
、トランジスタ、光スイツチ素子等の機能性素子への応
用が可能となる。
は水素原子または炭素数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示されるフラビン誘導体から成るものを用いることに
より、フラビン誘導体の標準酸化還元電位より正側に大
きい標準酸化還元電位を有する電子タンパク質を効率的
に還元できるように、導電性基板を安定に修飾するため
の導電性基板修飾を得ることができ、例えばダイオード
、トランジスタ、光スイツチ素子等の機能性素子への応
用が可能となる。
第1図は、この発明の一実施例の導電性基板修飾剤によ
る修飾電極を用いたサイクロポルタモグラム、第2図は
、導電性基板としての金電極の正面図、第3図は、この
発明の一実施例の導電性基板修飾剤による修飾電極のサ
イクル(回)による還元ピークの高さ(μA)変化を示
す特性図、第4図は、この発明の他の実施例の導電性基
板修飾剤の可視紫外吸収スペクトル図、第5図(a)お
よび(b)は各々従来の修飾剤の化学構造式を示す図、
第6図は従来の修飾電極を用いたサイクリックポルタモ
グラムである。 図において、(QはチトクロームCを含まないサイクリ
ックポルタモグラム、(F)はチトクロームCを含むサ
イクリックポルタモグラムである。 第1図 1し圧(77?V) 第2図 第3図 サイクル(団) 第4図 C皮表(n机) 貿 第6図 電圧(mV) 手続補正書(自発) 昭和/3年12−月収臼
る修飾電極を用いたサイクロポルタモグラム、第2図は
、導電性基板としての金電極の正面図、第3図は、この
発明の一実施例の導電性基板修飾剤による修飾電極のサ
イクル(回)による還元ピークの高さ(μA)変化を示
す特性図、第4図は、この発明の他の実施例の導電性基
板修飾剤の可視紫外吸収スペクトル図、第5図(a)お
よび(b)は各々従来の修飾剤の化学構造式を示す図、
第6図は従来の修飾電極を用いたサイクリックポルタモ
グラムである。 図において、(QはチトクロームCを含まないサイクリ
ックポルタモグラム、(F)はチトクロームCを含むサ
イクリックポルタモグラムである。 第1図 1し圧(77?V) 第2図 第3図 サイクル(団) 第4図 C皮表(n机) 貿 第6図 電圧(mV) 手続補正書(自発) 昭和/3年12−月収臼
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1は水素原子またはアシル基を、R2、R3
は水素原子または炭素数1〜4個の低級アルキル基を、
R4はチオシアナト基またはメルカプト基を表わす) で示されるフラビン誘導体から成る導電性基板修飾剤。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62325525A JPH01168886A (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | フラビン修飾電極 |
US07/444,946 US4965133A (en) | 1987-12-24 | 1989-12-04 | Modifying agent for conductive substrate |
US07/587,470 US5149811A (en) | 1987-12-24 | 1990-09-21 | Flavin modifying agent for conductive substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62325525A JPH01168886A (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | フラビン修飾電極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01168886A true JPH01168886A (ja) | 1989-07-04 |
JPH0232358B2 JPH0232358B2 (ja) | 1990-07-19 |
Family
ID=18177849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62325525A Granted JPH01168886A (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | フラビン修飾電極 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4965133A (ja) |
JP (1) | JPH01168886A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2778304B2 (ja) * | 1991-09-17 | 1998-07-23 | 三菱電機株式会社 | 有機電子素子材料 |
US20230102721A1 (en) * | 2019-12-26 | 2023-03-30 | I-Sens, Inc | Novel organic electron transfer mediator and device comprising same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3274723D1 (en) * | 1981-09-25 | 1987-01-29 | Ici Plc | Method of applying thin films to substrates |
-
1987
- 1987-12-24 JP JP62325525A patent/JPH01168886A/ja active Granted
-
1989
- 1989-12-04 US US07/444,946 patent/US4965133A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0232358B2 (ja) | 1990-07-19 |
US4965133A (en) | 1990-10-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |