JPH01166996A - Method of transferring irregular pattern and transfer sheet used for said method - Google Patents

Method of transferring irregular pattern and transfer sheet used for said method

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JPH01166996A
JPH01166996A JP32573987A JP32573987A JPH01166996A JP H01166996 A JPH01166996 A JP H01166996A JP 32573987 A JP32573987 A JP 32573987A JP 32573987 A JP32573987 A JP 32573987A JP H01166996 A JPH01166996 A JP H01166996A
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JP
Japan
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ionizing radiation
transfer
layer
sheet
curable resin
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Application number
JP32573987A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Goto
英夫 後藤
Osamu Takeatsu
竹厚 修
Hiroshi Tanaka
宏 田中
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To transfer a sharp cubic pattern excellent in durability easily by composing a transfer layer provided on a peelable surface of a thermosetting resin or an ionizing radiation curing resin which is thermoplastic and takes solid state under uncured state. CONSTITUTION: A basic material 6 to be transferred with an irregular pattern, an ionizing radiation shielding pattern 4, and a transfer sheet 1 having a transfer layer 3 of thermosetting resin or an ionizing radiation curing resin which is thermoplastic and takes solid state under uncured state are laminated through an ionizing radiation curing resin 5 and irradiated with ionizing radiation 7. An ionizing radiation transmitting sheet 2 in the transfer sheet 1 is then peeled off and uncured resin is removed by adhering thereto thus forming a recess. On the other hand, a protrusion is formed of a cured resin layer 9 and a layer transferred thereon and the irregular pattern is transferred to the basic material. According to the arrangement, a sharp irregular pattern excellent in durability can be formed easily.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は凹凸模様を転写する方法及びその方法に使用す
る転写シートに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for transferring an uneven pattern and a transfer sheet used in the method.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by conventional technology and invention]

従来、平滑な表面に設けた絵柄に立体感を持たせるため
に、模様自体に厚みを持たせることが行われているが、
模様に厚みを持たせるためには特殊な印刷方法を必要と
する上、シャープな盛り上がりを形成することが困難で
あり、美麗な立体模様を容易に形成できないという問題
があった。
Traditionally, in order to give a three-dimensional effect to a pattern on a smooth surface, the pattern itself was made thicker.
In order to give the pattern thickness, a special printing method is required, and it is difficult to form sharp bulges, so there is a problem that beautiful three-dimensional patterns cannot be easily formed.

本発明は上記従来技術の欠点を解決するためになされた
もので、シャープで且つ耐久性に優れた立体模様を容易
に転写形成することのできる凹凸模様を転写する方法及
びその方法に使用する転写シートを提供することを目的
とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and provides a method for transferring an uneven pattern that can easily transfer a three-dimensional pattern that is sharp and has excellent durability, and a transfer method used in the method. The purpose is to provide sheets.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、 「下記(a)〜(d)の工程を順に行うことを特徴とす
る凹凸模様の形成方法。
The present invention provides a method for forming an uneven pattern, characterized in that the following steps (a) to (d) are performed in order.

(a)  表面が剥離性を有する電離放射線透過性シー
トの剥離性面に転写層が設けられ、且つ上記シートの表
裏いずれかの面若゛シ<は転写層の表面に電離放射線遮
蔽性模様が設けられた転写シートであって、上記転写層
を熱硬化性樹脂、又は未硬化の状態では常温で固体であ
り且つ熱可塑性である電離放射線硬化性樹脂にて形成し
てなる転写シートを準備する工程。
(a) A transfer layer is provided on the releasable surface of an ionizing radiation transparent sheet having a releasable surface, and either the front or back surface of the sheet has an ionizing radiation shielding pattern on the surface of the transfer layer. Prepare a transfer sheet in which the transfer layer is formed of a thermosetting resin or an ionizing radiation-curable resin that is solid at room temperature and thermoplastic in an uncured state. Process.

(b)  上記転写シートと被転写基材とを、電離放射
線硬化性樹脂層を介して重ね合わせる工程。
(b) A step of overlapping the transfer sheet and the transfer target substrate with an ionizing radiation curable resin layer interposed therebetween.

(c)  電離放射線透過性シート側より電離放射線を
照射して電離放射線遮蔽性模様のない部分に相当する電
離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。
(c) A step of curing the ionizing radiation-curable resin layer corresponding to the portion without the ionizing radiation-shielding pattern by irradiating ionizing radiation from the ionizing radiation-transparent sheet side.

(d)  電離放射線透過性シートを剥がして電離放射
線硬化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シー
トに付着させて除去すると共に、転写層の密着した硬化
部を形成する工程。」を要旨とするものであり、また本
発明は、[表面が剥離性を有する電離放射線透過性シー
トの剥離性面に転写層が設けられ、且つ上記シートの表
裏いずれかの面若しくは転写層の表面に電離放射線遮蔽
性模様が設けられた転写シートにおいて、上記転写層を
熱硬化性樹脂、又は未硬化の状態では常温で固体であり
且つ熱可塑性である電離放射線硬化性樹脂にて形成して
なることを特徴とする凹凸模様を転写する方法に使用す
る転写シート。」 を要旨とするものである。
(d) A step of peeling off the ionizing radiation-transparent sheet and removing a portion of the resin in the uncured portion of the ionizing radiation-curable resin layer by adhering to the transparent sheet, and forming a tightly adhered cured portion of the transfer layer. . ”, and the present invention provides a method in which a transfer layer is provided on the releasable surface of an ionizing radiation transparent sheet having a releasable surface, and either the front or back surface of the sheet or the transfer layer is In the transfer sheet having an ionizing radiation shielding pattern on the surface, the transfer layer is formed of a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin that is solid at room temperature and thermoplastic in an uncured state. A transfer sheet used in a method for transferring an uneven pattern. ” is the gist.

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、電離放射線遮蔽性模様のある部分では
、被転写基材上の電離放射線硬化性樹脂が硬化せずに電
離放射線透過性シートの剥離によって除去され、電離放
射線遮蔽性模様のない部分では電離放射線硬化性樹脂が
硬化して残ると共にこの部分のみ転写層が転写され、こ
の結果、凹凸模様形成用の被転写基材上にシャープな凹
凸模様が形成される。
According to the present invention, the ionizing radiation-curable resin on the transferred substrate is removed by peeling off the ionizing radiation-transparent sheet without curing in the area with the ionizing radiation-shielding pattern, and the ionizing radiation-curable resin on the transfer substrate is removed by peeling off the ionizing radiation-transparent sheet. The ionizing radiation curable resin is cured and remains in the portions, and the transfer layer is transferred only to these portions, and as a result, a sharp uneven pattern is formed on the transfer substrate for forming the uneven pattern.

また本発明によれば、形成される凹凸模様の表面には熱
硬化性樹脂、又は未硬化の状態では常温で固体であり且
つ熱可塑性である電離放射線硬化性樹脂にて形成し、硬
化させてなる転写層が転写されるため、優れた耐久性を
有する凹凸模様が得られる。
Further, according to the present invention, the surface of the uneven pattern to be formed is formed with a thermosetting resin, or an ionizing radiation curable resin that is solid at room temperature and thermoplastic in an uncured state, and is cured. Since the transfer layer is transferred, an uneven pattern with excellent durability can be obtained.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図面に基き説明する。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図は本発明で使用する転写シートの一実施例を示す
もので、本発明の転写シート1は電離放射線透過性シー
ト2、転写層3及び電離放射線遮蔽性模様4を有する構
造からなる。
FIG. 1 shows an embodiment of the transfer sheet used in the present invention. The transfer sheet 1 of the present invention has a structure including an ionizing radiation transparent sheet 2, a transfer layer 3, and an ionizing radiation shielding pattern 4.

電離放射線透過性シート2は、電離放射線透過性を有す
るシート又はフィルムよりなり、電離放射線が紫外線の
場合には、例えばポリエステル、ポリアミド(ナイロン
等)、ポリプロピレン、フッ素系樹脂のシート又はフィ
ルム等が挙げられるが、紫外線透過性に影響のある顔料
等を含まないものが好ましい。電離放射線が電子線の場
合には、電子線の透過性が高いのであまり制約がなく、
上記した紫外線を透過する性質のあるシート又はフィル
ムは原則的に使用でき、更に紙等も使用できる。
The ionizing radiation-transparent sheet 2 is made of a sheet or film that is transparent to ionizing radiation, and when the ionizing radiation is ultraviolet rays, examples include sheets or films made of polyester, polyamide (such as nylon), polypropylene, and fluororesin. However, it is preferable that it does not contain pigments that affect ultraviolet transmittance. When the ionizing radiation is an electron beam, there are not many restrictions because the electron beam has high transparency.
In principle, the above-mentioned sheets or films that transmit ultraviolet rays can be used, and paper and the like can also be used.

電離放射線透過性シート2は転写層3を転写可能に支持
するため、少なくとも転写層を支持する側の面は剥離性
を有する剥離性面である必要があり、素材自体が剥離性
を有さない場合には’AM性の樹脂もしくは組成物を塗
布する等して表面剥離性として使用する。シート2の厚
みは5〜200μm、特に25〜100μmが好ましい
Since the ionizing radiation transparent sheet 2 supports the transfer layer 3 in a transferable manner, at least the surface supporting the transfer layer must be a releasable surface that has releasability, and the material itself does not have releasability. In some cases, it is used as a surface removable material by applying an AM resin or composition. The thickness of the sheet 2 is preferably 5 to 200 μm, particularly preferably 25 to 100 μm.

転写N3は、被転写基村上に凹凸模様と同時に所望の機
能をもつ層を転写形成するためのものであり、例えば着
色や模様等を施した着色模様層、本発明により形成され
る凹凸模様の表面保護を図るための保護層として構成し
たものである。転写層を保護層として構成した場合、核
層は透明なものであっても、着色したものであってもよ
い。
Transfer N3 is for transferring and forming a layer having a desired function on the substrate to be transferred at the same time as the uneven pattern. It is constructed as a protective layer for surface protection. When the transfer layer is configured as a protective layer, the core layer may be transparent or colored.

この転写N3は熱硬化性樹脂、又は未硬化の状態では常
温で固体であり且つ熱可塑性である電離放射線硬化性樹
脂にて形成される。熱硬化性樹脂としては、アルキッド
樹脂、ブチル化アミノアルデヒド樹脂、フェノール樹脂
、フタル酸系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、
メラミン樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリシロキ
サン系樹脂等が挙げられ、これらの樹脂には必要に応じ
て硬化剤、触媒、着色剤(染料、顔料)等の添加剤を含
有させて使用してもよい。
This transfer N3 is formed of a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin that is solid at room temperature in an uncured state and is thermoplastic. Thermosetting resins include alkyd resins, butylated aminoaldehyde resins, phenol resins, phthalic acid resins, epoxy resins, urethane resins,
Examples include melamine resin, unsaturated polyester resin, polysiloxane resin, etc. These resins can be used by containing additives such as curing agents, catalysts, and coloring agents (dyes, pigments) as necessary. Good too.

また、未硬化の状態では常温で固体であり且つ熱可塑性
である電離放射線硬化性樹脂は、ラジカル重合性不飽和
基を有する熱可塑性樹脂であり、次の2種類のものがあ
る。
Ionizing radiation-curable resins that are solid at room temperature and thermoplastic in an uncured state are thermoplastic resins having radically polymerizable unsaturated groups, and there are two types of resins:

(1) ガラス転移温度が0〜250°Cのポリマー中
にラジカル重合性不飽和基を有するもの。
(1) A polymer having a glass transition temperature of 0 to 250°C and having a radically polymerizable unsaturated group.

更に具体的には、ポリマーとしては以下の化合物■〜■
を重合もしくは共重合させたものに対し、後述する方法
(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入し
たものを用いることができる。
More specifically, the following compounds ■~■ can be used as polymers.
It is possible to use a product obtained by polymerizing or copolymerizing and introducing a radically polymerizable unsaturated group by methods (a) to (d) described below.

■ 水酸基を有する単量体二N−メチロールアクリルア
ミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノ
キシプロピルアクリレートなど。
■ Monomers having hydroxyl groups 2N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate,
2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, etc.

■ カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
■ Monomers with carboxyl groups such as nialic acid, methacrylic acid, acryloyloxyethyl monosuccinate, etc.

■ エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレ
ートなど。
■ Monomers such as nigericidyl methacrylate having epoxy groups.

■ アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニル
エチルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸
アリルなど。
(2) Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl methacrylate, allyl 2-aziridinylpropionate, etc.

■ アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタク
リアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。
■ Monomers containing amino groups such as niacrylamide, methacrylamide, diaseptacrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, etc.

■ スルフォン凸を有する単量体=2−アクリルアミド
ー2−メチルプロパンスルフォン酸など。
■ Monomer with sulfone convexity = 2-acrylamide 2-methylpropanesulfonic acid, etc.

■ イソシアネート基を有する単量体=2,4−トルエ
ンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレー
トの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活
性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。
(2) Monomer having an isocyanate group = an adduct of a diisocyanate and a radically polymerizable monomer having active hydrogen, such as a 1 mol to 1 mol adduct of 2,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate.

■ さらに、上記の重合体または共重合体のガラス転移
点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために
、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のよ
うな単量体とを共重合させることもできる。このような
共重合可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリ
レート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメ
タクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレ
ート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、シクロへキシルメ
タクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、2−
エチルへキシルメタクリレートなどが挙げられる。
■ Furthermore, in order to adjust the glass transition point of the above polymer or copolymer and to adjust the physical properties of the cured film, the above compound and the following monomers that can be copolymerized with this compound are added. It is also possible to copolymerize with the body. Examples of such copolymerizable monomers include methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl acrylate, and t-butyl acrylate. -Butyl methacrylate, isoamyl acrylate, isoamyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-
Examples include ethylhexyl methacrylate.

次いで上述のようにして得られた重合体又は共重合体を
、以下に述べる方法(イ)〜(ニ)によってラジカル重
合性不飽和基を導入することにより、本発明に係わる材
料を得ることができる。
Next, the material according to the present invention can be obtained by introducing radically polymerizable unsaturated groups into the polymer or copolymer obtained as described above by methods (a) to (d) described below. can.

(イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を存する単量体などを縮合反応させる。
(a) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction.

(ロ) カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を存
する単量体を縮合反応させる。
(b) In the case of a polymer or copolymer of monomers having a carboxyl group or a sulfone group, the aforementioned monomers having a hydroxyl group are subjected to a condensation reaction.

(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を存する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。
(c) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group, or an aziridinyl group, the aforementioned monomer having a hydroxyl group or a monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction.

(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の1モル対1モルの付加物を付加反応させる
(d) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylic acid ester monomer 1 mole of body to 1 mole of adduct is subjected to an addition reaction.

上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合
禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
In order to carry out the above reaction, it is preferable to add a small amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and carry out the reaction while blowing dry air.

(2) 融点が常温(20°C)〜250°Cでありラ
ジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的にはステ
アリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジ
アクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレー
ト、スピログリコールジアクリレート、スピログリコー
ルジアクリレートなどが挙げられる。
(2) A compound having a melting point of room temperature (20°C) to 250°C and having a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl methacrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, cyclohexanediol dimethacrylate, spiroglycol diacrylate, and spiroglycol diacrylate.

また本発明においては、前記(1)、(2)を混合して
用いることもでき、更にそれらに対してラジカル重合性
不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重合
性不飽和単量体は、紫外線または電子線照射の際、架橋
密度を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述
の単量体の他にエチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
クエリスリトールへキサアクリレート、ペンタエリスリ
トールへキサメタクリレート、エチレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコール
ジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレ
−ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジア
クリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジアクリレ−ト、ポリプロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビト
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、ソルビトー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレートなどを用いる
ことができ、前述した共重合体混合物の固形分100重
量部に対して0.1〜100重量部で用いることが好ま
しい。
Further, in the present invention, the above (1) and (2) can be used as a mixture, and a radically polymerizable unsaturated monomer can also be added to them. This radically polymerizable unsaturated monomer improves crosslinking density and heat resistance when irradiated with ultraviolet rays or electron beams. Methacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate , pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, penquerythritol hexaacrylate, pentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate Acrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate, propylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol diacrylate Glycidyl ether diacrylate, sorbitol diglycidyl ether dimethacrylate, etc. can be used, and they are preferably used in an amount of 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the above-mentioned copolymer mixture.

上記のものは電子線により充分に硬化可能であるが、紫
外線照射で硬化させる場合には増感剤としてヘンゾキノ
ン、ヘンヅイン、ヘンジインメチルエーテルなどのヘン
ジインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビア
チル類などの紫外線照射によりラジカルを発生するもの
も用いることができる。
The above materials can be sufficiently cured by electron beams, but when curing by ultraviolet irradiation, sensitizers such as henzoquinone, henduin, henziine ethers such as henziin methyl ether, halogenated acetophenones, biacyl, etc. are used as sensitizers. A material that generates radicals when irradiated with ultraviolet rays can also be used.

転写層3は均一なヘタ層として形成しても、或いは部分
的なパターン状に設けてもよい。
The transfer layer 3 may be formed as a uniform layer or may be provided in a partial pattern.

また転写N3は、最終的に上記2者のいずれかの樹脂を
硬化させて優れた耐久性を備えた層として利用されるも
ので、その硬化時期は特に限定されないが、転写層3が
熱硬化性樹脂にて形成される転写シートにおいては、転
写前の段階で加熱して硬化させておくことが好ましい。
In addition, the transfer layer 3 is used as a layer with excellent durability by finally curing one of the above two resins, and the curing time is not particularly limited, but the transfer layer 3 is thermally cured. In the case of a transfer sheet formed of a synthetic resin, it is preferable to heat and cure the transfer sheet before transfer.

電離放射線遮蔽模様4は、転写シートの上面側から電離
放射線を照射した際に電離放射線を遮蔽し、後述する電
離放射線硬化性樹脂層を部分的に硬化させ、盛り上げる
ためのマスクパターンの役割を果たすものである。その
意味で電離放射線遮蔽性模様4を設ける位置は、第1図
中、電離放射線透過性シート2の上面又は下面、或いは
転写層3の下面の何れかの位置である。
The ionizing radiation shielding pattern 4 serves as a mask pattern for shielding ionizing radiation when ionizing radiation is irradiated from the upper surface side of the transfer sheet, partially curing and raising the ionizing radiation curable resin layer described below. It is something. In this sense, the position where the ionizing radiation shielding pattern 4 is provided is either the upper surface or the lower surface of the ionizing radiation transparent sheet 2 or the lower surface of the transfer layer 3 in FIG.

この遮蔽性模様4を形成する材料としては、電離放射線
が紫外線であるときは、紫外線を反射して遮蔽する物質
、例えば酸化チタン、硫酸カリウム、炭酸カルシウム等
の充填剤、または粒径が0゜3〜10μm程度で隠蔽力
の大きい顔料を含有するインキ、紫外線を吸収する物質
、例えばヘンシフエノール系、サリチレート系、ヘンシ
トリアゾール系、アクリロニトリル系等の紫外線吸収剤
、光吸収性の顔料、カーボンブラックまたは無機物とと
もにクエンチャ−(例えば金属錯塩系もしくばヒンダー
ドアミン系等)を含有するインキ等が挙げられる。また
電離放射線が電子線であるときは、上記したインキや他
の顔料系のものを含有するインキが挙げられる。電離放
射線遮蔽性模様4はこれらのインキを用いて通常の印刷
法により形成することができる。
When the ionizing radiation is ultraviolet rays, the material forming the shielding pattern 4 may be a substance that reflects and shields ultraviolet rays, such as a filler such as titanium oxide, potassium sulfate, or calcium carbonate, or a material with a particle size of 0°. Ink containing a pigment with a large hiding power of about 3 to 10 μm, substances that absorb ultraviolet rays, such as ultraviolet absorbers such as hensifenols, salicylates, hensitriazoles, and acrylonitriles, light-absorbing pigments, carbon black, or Examples include inks containing a quencher (for example, a metal complex salt type or hindered amine type) together with an inorganic substance. When the ionizing radiation is an electron beam, examples include the above-mentioned inks and inks containing other pigment-based inks. The ionizing radiation shielding pattern 4 can be formed using these inks by a normal printing method.

次に、上記の如き構成からなる転写シートを使用する凹
凸模様の転写方法について詳述する。
Next, a method for transferring an uneven pattern using a transfer sheet having the above structure will be described in detail.

まず、上記した転写シート1を、第2図に示すように別
に準備した電離放射線硬化性樹脂N5を塗布して設けた
凹凸模様形成用の被転写基材6の上に重ねて、転写シー
トの転写層3及び模様4と電離放射線硬化性樹脂層5と
を接触させ、密着させる(第3図)。電離放射線硬化性
樹脂層5は、上記の如く予め被転写基材6側のみに設け
る場合の他、特に図示しないが転写シートl側に塗布し
て設けても、転写シートlと被転写基材6の両方に塗布
して設けてもよい。
First, as shown in FIG. 2, the above-mentioned transfer sheet 1 is placed on a transfer base material 6 for forming an uneven pattern, which is coated with a separately prepared ionizing radiation curable resin N5. The transfer layer 3 and the pattern 4 are brought into contact with the ionizing radiation-curable resin layer 5, and are brought into close contact with each other (FIG. 3). The ionizing radiation curable resin layer 5 may be provided in advance only on the transferred substrate 6 side as described above, or may be coated and provided on the transfer sheet l side (not shown in the drawings). 6 may be coated and provided.

被転写基材6としては、どのようなものでもよいが、例
えば■ステンレス鋼、鋼、アルミニウム、もしくは銅等
の金属の仮または成形品、■ガラス、大理石、陶磁器、
石膏ボード、石綿セメント板、珪酸カルシウム板、GR
C(ガラス繊維強化セメント)等の無機質の板または成
形品、■ポリエステル、メラミン、ポリ塩化ビニル、ジ
アリルフタレート等の有機ポリマーの板、成形品、ある
いはこれらのシート、フィルム、■木、合板、パーチク
ルボード等の木質の板または成形品、等が例示される。
The transfer base material 6 may be of any material, such as ■temporary or molded products of metal such as stainless steel, steel, aluminum, or copper, ■glass, marble, ceramics, etc.
Gypsum board, asbestos cement board, calcium silicate board, GR
Inorganic boards or molded products such as C (glass fiber reinforced cement), ■Organic polymer boards or molded products such as polyester, melamine, polyvinyl chloride, diallyl phthalate, or sheets or films thereof, ■Wood, plywood, particle board Examples include wooden boards or molded products such as.

これら被転写基材6には目止め処理やプライマー処理等
の下地処理、接着性向上のための処理等を行ってもよい
These transfer target substrates 6 may be subjected to surface treatment such as sealing treatment or primer treatment, treatment for improving adhesion, and the like.

電離放射線硬化性樹脂層5は、構造中にラジカル重合性
の二重結合を有するポリマー、オリゴマー、七ツマー等
を主成分とし、光重合開始剤や増感剤、そのほか必要に
応じて非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックスその他
の添加剤を含有するもので、種々のグレードのものが市
場から容易に入手でき、本発明に使用できる。電離放射
線硬化性樹脂層5はグラビアコート、ロールコート、フ
ローコートもしくはスプレーコート等の公知の方法によ
り形成することができる。樹脂M5の厚さは3μm〜1
m、特に30〜200μmが好ましい。
The ionizing radiation curable resin layer 5 is mainly composed of polymers, oligomers, hexamers, etc. that have radically polymerizable double bonds in their structure, and contains a photopolymerization initiator, a sensitizer, and other non-reactive substances as necessary. Polymers, organic solvents, waxes, and other additives are readily available in various grades on the market and can be used in the present invention. The ionizing radiation curable resin layer 5 can be formed by a known method such as gravure coating, roll coating, flow coating, or spray coating. The thickness of resin M5 is 3 μm to 1
m, particularly preferably 30 to 200 μm.

転写シート1と被転写基材6とを電離放射線硬化性樹脂
層5を介して重ね合わせて両者を密着させた後、転写シ
ートの基材である電離放射線透過性シート2側より電離
放射線7を照射する(第3図)。電離放射線7の代表的
なものは紫外線と電子線であるが、その他のものも利用
できる。
After the transfer sheet 1 and the substrate 6 to be transferred are overlapped with the ionizing radiation-curable resin layer 5 in between and brought into close contact with each other, ionizing radiation 7 is applied from the side of the ionizing radiation-transparent sheet 2, which is the base material of the transfer sheet. irradiate (Figure 3). Typical ionizing radiations 7 are ultraviolet rays and electron beams, but other radiations can also be used.

電離放射線7の照射により、電離放射線遮蔽性模様4の
ない部分では電離放射線硬化性樹脂層5は硬化して、被
転写基材6、硬化した電子放射線硬化性樹脂層5の樹脂
部、および転写層3(この転写層が電離放射線硬化性樹
脂にて形成されている場合には、この際に同時に硬化す
る)の3者が硬化して一体化し、一方、電離放射線遮蔽
性模様4のある部分では電離放射線硬化性樹脂層5は未
硬化のままに置かれる。
By irradiation with the ionizing radiation 7, the ionizing radiation curable resin layer 5 is cured in the areas without the ionizing radiation shielding pattern 4, and the transferred substrate 6, the resin portion of the cured electron radiation curable resin layer 5, and the transfer The three layers of layer 3 (if this transfer layer is made of an ionizing radiation-curable resin, are cured at the same time) are cured and integrated, while the portion with the ionizing radiation-shielding pattern 4 In this case, the ionizing radiation curable resin layer 5 is left uncured.

電離放射線7の照射後に電離放射線透過性シート2を剥
離すると、上記の硬化して一体化した部分は被転写基材
6側に転写されて残り、電離放射線硬化性樹脂層5の未
硬化部分では、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が(この
未硬化部分に相当する遮蔽性模様及び転写層と一体とな
って)TL電離放射線透過性シートに付着した状態でシ
ート2の剥離とともに除去され、結果として、少量の未
硬化の電離放射線硬化性樹脂5aが残留した凹部8と、
硬化した電離放射線硬化性樹脂よりなる硬化部(凸部)
9とが形成され、よって、凹凸模様が転写された被転写
体10が得られる。
When the ionizing radiation transparent sheet 2 is peeled off after irradiation with the ionizing radiation 7, the above-mentioned cured and integrated portion is transferred and remains on the transfer target substrate 6 side, and the uncured portion of the ionizing radiation curable resin layer 5 remains. , the uncured ionizing radiation-curable resin (together with the shielding pattern and transfer layer corresponding to the uncured portion) attached to the TL ionizing radiation-transparent sheet is removed when the sheet 2 is peeled off, and the result is , a recess 8 in which a small amount of uncured ionizing radiation curable resin 5a remains;
Cured portion (convex portion) made of cured ionizing radiation curable resin
9 are formed, and thus a transferred object 10 having the uneven pattern transferred thereto is obtained.

本発明における転写層3の硬化時期は、転写層3が熱硬
化性樹脂にて形成される場合は転写前に加熱硬化させる
ことが好ましく、転写層3が電離放射線硬化性樹脂にて
形成される場合は転写時に、電離放射線硬化性樹脂層5
の電離放射線7による硬化と同時に硬化させることが好
ましいが、特にこれらの時期に限定されない。上記の硬
化時期の他には例えば、転写層が熱可塑性樹脂にて形成
される場合、転写前に半硬化させて転写時に最終的に加
熱硬化させても、或いは転写時に一度に加熱硬化させて
もよく、また転写層が電離放射線硬化性樹脂にて形成さ
れる場合、転写前、即ち転写シートの状態において電離
放射線により硬化させてもよい。
Regarding the curing time of the transfer layer 3 in the present invention, when the transfer layer 3 is formed of a thermosetting resin, it is preferable to heat-cure it before transfer, and when the transfer layer 3 is formed of an ionizing radiation-curable resin. In this case, at the time of transfer, the ionizing radiation curable resin layer 5
Although it is preferable to cure simultaneously with the curing by the ionizing radiation 7, the timing is not particularly limited. In addition to the above-mentioned curing time, for example, if the transfer layer is made of thermoplastic resin, it may be semi-cured before transfer and finally heat-cured during transfer, or it may be heat-cured all at once during transfer. Alternatively, when the transfer layer is formed of an ionizing radiation-curable resin, it may be cured by ionizing radiation before transfer, that is, in the state of a transfer sheet.

本発明の方法ではシート2を剥離後、更に電離放射線を
照射して凹部8に残留する未硬化の電離放射線硬化性樹
脂5aを硬化せしめてもよく、また凹部8に残留する未
硬化の電離放射線硬化性樹脂5aを除去してもよい。凹
部8に残存する未硬化の電離放射線硬化性樹脂を除去す
るには、種々の物理的除去法、化学的除去法があるが、
残留した未硬化部分の有機溶媒に対する溶解性が高いこ
とを利用して適宜な溶剤を使用し、未硬化の電離放射線
硬化性樹脂を溶解除去する化学的除去法を採用すること
が好ましい。溶解除去するための溶剤としては酢酸エチ
ル、酢酸−n−ブチル等のエステル類、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、エタノール、イソプロパツール、n−ブタノ
ール等のアルコール類等があり、使用した電離放射線硬
化性樹脂の種類に合わせて選択して使用する。これらの
溶剤による溶解除去は、かけ流しや浸漬のみによっても
行えるが、より好ましい方法として、形成された凹凸面
上に溶剤を塗布した後、ブラシあるいは綿のパフィング
ローラーを使用してパフ研磨する方法がある。
In the method of the present invention, after the sheet 2 is peeled off, the uncured ionizing radiation curable resin 5a remaining in the recesses 8 may be further irradiated with ionizing radiation to harden the uncured ionizing radiation curable resin 5a remaining in the recesses 8. The curable resin 5a may be removed. There are various physical removal methods and chemical removal methods to remove the uncured ionizing radiation curable resin remaining in the recess 8.
It is preferable to employ a chemical removal method in which the uncured ionizing radiation-curable resin is dissolved and removed by using an appropriate solvent, taking advantage of the high solubility of the remaining uncured portion in organic solvents. Solvents for dissolving and removing include esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, and alcohols such as ethanol, isopropanol and n-butanol. Select and use according to the type of ionizing radiation-curable resin used. Removal by dissolving with these solvents can be done by simply pouring water or dipping, but a more preferable method is to apply the solvent to the formed uneven surface and then buff it using a brush or cotton puffing roller. There is a way.

本発明において、上述の如く凹部に残った未硬化の電離
放射線硬化性樹脂を除去せずに硬化させて残す場合、電
離放射線透過性シートに付着して除去される未硬化の電
離放射線硬化性樹脂の量は常に一定ではないために深さ
に変化のある凹部を形成することができ、特に転写層に
着色を施したり、電離放射線硬化性樹脂自体に透明着色
を施した場合、凹部の深さに応じ、しかも凹凸模様と完
全に同調した変化のある色の濃淡模様を形成することが
できる利点がある。
In the present invention, when the uncured ionizing radiation curable resin remaining in the recesses is left after being cured without being removed as described above, the uncured ionizing radiation curable resin adheres to the ionizing radiation transparent sheet and is removed. Since the amount of the recess is not always constant, it is possible to form a recess with a varying depth.Especially when the transfer layer is colored or the ionizing radiation-curable resin itself is transparently colored, the depth of the recess may vary. This method has the advantage that it is possible to form a color shading pattern that changes in accordance with the uneven pattern and is completely in sync with the uneven pattern.

以下、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail by giving specific examples.

実施例1 厚さ38μmのポリエステルフィルム(東し■製)を基
材シートとし、この表面に下記組成の転互層形成用組成
物をグラビア印刷法にて乾燥後の厚みが2μmとなるよ
うに塗布、乾燥して着色ベタ層を形成し、しかる後、下
記組成の遮蔽層形成用組成物を版深80μmのグラビア
版を用いて印刷して白色の遮蔽性柄層を形成し、転写シ
ートを作成した。
Example 1 A polyester film (manufactured by Toshi ■) with a thickness of 38 μm was used as a base sheet, and a composition for forming an alternating layer having the following composition was applied to the surface of the base sheet using a gravure printing method so that the thickness after drying was 2 μm. , dry to form a colored solid layer, and then print a shielding layer forming composition having the following composition using a gravure plate with a plate depth of 80 μm to form a white shielding pattern layer to create a transfer sheet. did.

一部 ドリアジン系アクリレート    50重量部(三菱油
化製: L Z −065) マイクロシリカ         10重量部ポリアゾ
系イエロー(着色剤)   10重量部溶剤     
         30重量部(メチルイソブチルケト
ン/酢酸ブチル/トルエン=2/6/2) 1ノ。
Partially doriazine acrylate 50 parts by weight (Mitsubishi Yuka: LZ-065) Microsilica 10 parts by weight Polyazo yellow (coloring agent) 10 parts by weight Solvent
30 parts by weight (methyl isobutyl ketone/butyl acetate/toluene = 2/6/2) 1 no.

ウレタン系樹脂         50重量部チタンホ
ワイト          20重量部溶剤     
         30重量部一方、片面にアルカリ止
めシーラー処理を施した珪酸カルシウム板の処理面に、
紫外線硬化性塗料(日本ペイント■製)を厚みが100
μmとなるようにフローコートした。
Urethane resin 50 parts by weight Titanium white 20 parts by weight Solvent
30 parts by weight On the other hand, on the treated side of a calcium silicate plate that had been treated with an alkali sealer on one side,
Ultraviolet curable paint (manufactured by Nippon Paint) with a thickness of 100 mm
Flow coating was carried out so that the thickness was μm.

次いで、上記転写シートを、紫外線硬化性塗料を塗布し
た珪酸カルシウム板面に遮光性柄層側の面が接するよう
に重ね合わせ、転写シー1−の基材シート側から出力8
0 w 7cmのオゾンレス型紫外線ランプを5灯設置
した照射装置中を20m/分の速度で通過させながら照
射し、照射後、基材シートを剥離した。シート剥離後、
前記と同様の条件で更に紫外線を照射して凹部に一部残
留した未硬化の紫外線硬化性塗料を硬化させた。
Next, the above transfer sheet is superimposed on the calcium silicate plate surface coated with the ultraviolet curable paint so that the surface on the light-shielding pattern layer side is in contact with the surface, and output 8 is applied from the base sheet side of the transfer sheet 1-.
Irradiation was performed while passing at a speed of 20 m/min through an irradiation device equipped with five ozone-less ultraviolet lamps of 0 W 7 cm, and after the irradiation, the base sheet was peeled off. After peeling off the sheet,
Further UV rays were irradiated under the same conditions as above to cure the uncured UV curable paint partially remaining in the recesses.

基材シートの剥離によって、該シートに設けた遮蔽性柄
層のない部分に相当する紫外線硬化性塗料が硬化して紫
外線硬化性塗料による凸部が形成されると共、同様の位
置にある着色ベク層も紫外線照射により硬化して上記凸
部上に転写され、−方、遮蔽性柄層のある部分に相当す
る部分では未硬化の紫外線硬化性塗料の一部が転写シー
トの基材シートに付着して該シートの剥離の際に除去さ
れて凹部が形成された。
When the base sheet is peeled off, the UV-curable paint corresponding to the area without the shielding pattern layer provided on the sheet is cured, forming a convex portion of the UV-curable paint, and the colored portion at the same position is cured. The vector layer is also cured by ultraviolet irradiation and transferred onto the convex portion, and on the other hand, in the area corresponding to the shielding pattern layer, a part of the uncured ultraviolet curable paint is transferred to the base material sheet of the transfer sheet. It adhered and was removed when the sheet was peeled off, forming a recess.

得られた凹凸模様は模様がシャープであり、しかも着色
へ夕層の存在により外観美麗であった。
The resulting uneven pattern had a sharp pattern and a beautiful appearance due to the presence of the coloring layer.

また凹凸模様は、前述した構成の電離放射線が硬化して
形成された着色ベタ層が表面を被覆しているため、表面
物性に優れたものであった。
Furthermore, the uneven pattern had excellent surface properties because the surface was covered with a colored solid layer formed by curing of the ionizing radiation having the above-described structure.

実施例2 転写層形成用組成物として下記組成からなる組成物を用
いた他は、実施例1と同様にして転写シートを作成した
。この転写シートを加熱処理して転写層の樹脂を硬化さ
せた。
Example 2 A transfer sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that a composition having the following composition was used as the composition for forming the transfer layer. This transfer sheet was heat-treated to harden the resin of the transfer layer.

−ノJ ウレタン系樹脂         10重量部イソシア
ネート          15重量部着色顔料   
         10重量部溶剤         
     25重量部(酢酸エチル/トルエン=1/1
) この転写シートを用い、実施例1と同様の条件、方法に
て珪酸カルシウム板に凹凸模様を形成した。
-J Urethane resin 10 parts by weight Isocyanate 15 parts by weight Colored pigment
10 parts by weight solvent
25 parts by weight (ethyl acetate/toluene = 1/1
) Using this transfer sheet, an uneven pattern was formed on a calcium silicate plate under the same conditions and method as in Example 1.

尚、紫外線硬化性塗料は珪酸カルシウム板側にフローコ
ートした。
Note that the ultraviolet curable paint was flow coated on the calcium silicate plate side.

得られた凹凸模様は模様がシャープであり、しかも凸模
様の凸部上に、硬化した熱硬化性樹脂からなる転写層が
転写形成されているため、表面物性に優れたものであっ
た。
The resulting concavo-convex pattern had a sharp pattern, and had excellent surface properties because a transfer layer made of a cured thermosetting resin was transferred onto the convex portions of the convex pattern.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明方法によれば凹凸模様形成
用の被転写基材と、電離放射線遮蔽性模様および前記の
如き樹脂構成からなる転写層を有する転写シートを電離
放射線硬化性樹脂層を介して重ね合わせて電離放射線を
照射し、次いで転写シートの電離放射線透過性シートを
剥、離して未硬化の電離放射線硬化性樹脂を該透過性シ
ートに付着せしめて除去して凹部を形成し、一方、硬化
した電離放射線硬化性樹脂層と該層上に転写形成された
転写層よりなる凸部を形成し、該凹部および凸部からな
る凹凸模様を被転写基材に転写する方法を採用したこと
により、シャープで耐久性に優れた凹凸模様を容易に形
成することができる。
As explained above, according to the method of the present invention, a transfer sheet having a transfer substrate for forming an uneven pattern, an ionizing radiation shielding pattern, and a transfer layer consisting of the resin composition as described above is coated with an ionizing radiation curable resin layer. The ionizing radiation-transparent sheet of the transfer sheet is then peeled off and the uncured ionizing radiation-curable resin adheres to the transparent sheet and removed to form a recess; On the other hand, a method was adopted in which convex portions were formed from a cured ionizing radiation-curable resin layer and a transfer layer transferred onto the layer, and an uneven pattern consisting of the concave portions and convex portions was transferred to the transfer substrate. As a result, a sharp and durable uneven pattern can be easily formed.

また本発明によれば、転写シートを用いることにより凹
凸模様の凸部表面には必ず、熱硬化性樹脂または未硬化
の状態では常温で固体であり且つ熱可塑性である電離放
射線硬化性樹脂にて形成(硬化)された転写層が転写さ
れるため、凹凸模様形成後に従来なされていた表面処理
(例えば、トップコート等)を施す必要がなく、耐スク
ラッチ性、耐摩耗性、耐溶剤性、耐薬剤性、耐候性等の
表面物性に優れた凹凸模様を常時、簡便に形成し得るこ
とができる。
Further, according to the present invention, by using the transfer sheet, the surface of the convex portion of the concavo-convex pattern is always coated with a thermosetting resin or an ionizing radiation-curable resin that is solid at room temperature and thermoplastic in an uncured state. Since the formed (cured) transfer layer is transferred, there is no need to perform the conventional surface treatment (such as top coat) after forming the uneven pattern, and it has excellent scratch resistance, abrasion resistance, solvent resistance, and resistance. A concavo-convex pattern with excellent surface properties such as drug resistance and weather resistance can be easily formed at any time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明の一実施例を示すもので、第1図は本発明
の転写シートの一例を示す縦断面図、第2図〜第4図は
本発明方法の各工程を示す縦断面図である。 1・・転写シート 2・・電甜放射線透過性シート 3・・転写層 4・・電離放射線遮蔽模様 5・・電離放射線硬化性樹脂層 6・・被転写基材  7・・電離放射線9・・硬化部
The drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing an example of the transfer sheet of the present invention, and FIGS. 2 to 4 are longitudinal cross-sectional views showing each step of the method of the present invention. be. 1...Transfer sheet 2...Electrical radiation transparent sheet 3...Transfer layer 4...Ionizing radiation shielding pattern 5...Ionizing radiation curable resin layer 6...Transfer base material 7...Ionizing radiation 9... hardened part

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記(a)〜(d)の工程を順に行うことを特徴
とする凹凸模様を転写する方法。(a)表面が剥離性を
有する電離放射線透過性シートの剥離性面に転写層が設
けられ、且つ上記シートの表裏いずれかの面若しくは転
写層の表面に電離放射線遮蔽性模様が設けられた転写シ
ートであって、上記転写層を熱硬化性樹脂、又は未硬化
の状態では常温で固体であり且つ熱可塑性である電離放
射線硬化性樹脂にて形成してなる転写シートを準備する
工程。 (b)上記転写シートと被転写基材とを、電離放射線硬
化性樹脂層を介して重ね合わせる工程。 (c)電離放射線透過性シート側より電離放射線を照射
して電離放射線遮蔽性模様のない部分に相当する電離放
射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。 (d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
付着させて除去すると共に、転写層の密着した硬化部を
形成する工程。
(1) A method for transferring an uneven pattern, characterized by performing the following steps (a) to (d) in order. (a) A transfer in which a transfer layer is provided on the releasable surface of an ionizing radiation transparent sheet having a releasable surface, and an ionizing radiation shielding pattern is provided on either the front or back surface of the sheet or the surface of the transfer layer. A step of preparing a transfer sheet in which the transfer layer is formed of a thermosetting resin or an ionizing radiation-curable resin that is solid at room temperature in an uncured state and is thermoplastic. (b) A step of overlapping the transfer sheet and the transfer target substrate with an ionizing radiation curable resin layer interposed therebetween. (c) A step of curing the ionizing radiation-curable resin layer corresponding to the portion without the ionizing radiation-shielding pattern by irradiating ionizing radiation from the side of the ionizing radiation-transparent sheet. (d) A step of peeling off the ionizing radiation-transparent sheet and removing a portion of the resin in the uncured portion of the ionizing radiation-curable resin layer by adhering to the transparent sheet, and forming a tightly adhered cured portion of the transfer layer. .
(2)電離放射線透過性シートを剥離した後、被転写基
材上に残った未硬化の電離放射線硬化性樹脂を除去する
特許請求の範囲第1項記載の凹凸模様を転写する方法。
(2) A method for transferring an uneven pattern according to claim 1, which comprises removing the uncured ionizing radiation-curable resin remaining on the transfer target substrate after peeling off the ionizing radiation-transparent sheet.
(3)電離放射線透過性シートを剥離した後、更に電離
放射線を照射して被転写基材上に残った未硬化の電離放
射線硬化性樹脂を硬化させる特許請求の範囲第1項記載
の凹凸模様を転写する方法。
(3) After peeling off the ionizing radiation-transparent sheet, ionizing radiation is further irradiated to harden the uncured ionizing radiation-curable resin remaining on the transfer substrate. How to transcribe.
(4)転写層として着色模様層又は保護層を設ける特許
請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに記載の凹凸模様
を転写する方法。
(4) A method for transferring an uneven pattern according to any one of claims 1 to 3, in which a colored pattern layer or a protective layer is provided as a transfer layer.
(5)転写前に、転写層の熱硬化性樹脂を加熱硬化させ
る特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに記載の凹
凸模様を転写する方法。
(5) A method for transferring an uneven pattern according to any one of claims 1 to 4, in which the thermosetting resin of the transfer layer is heated and cured before the transfer.
(6)転写時に、電離放射線硬化性樹脂層と同時に転写
層の電離放射線硬化性樹脂を硬化させる特許請求の範囲
第1項〜第5項のいずれかに記載の凹凸模様を転写する
方法。
(6) A method for transferring an uneven pattern according to any one of claims 1 to 5, wherein the ionizing radiation-curable resin of the transfer layer is cured at the same time as the ionizing radiation-curable resin layer at the time of transfer.
(7)表面が剥離性を有する電離放射線透過性シートの
剥離性面に転写層が設けられ、且つ上記シートの表裏い
ずれかの面若しくは転写層の表面に電離放射線遮蔽性模
様が設けられた転写シートにおいて、上記転写層を熱硬
化性樹脂、又は未硬化の状態では常温で固体であり且つ
熱可塑性である電離放射線硬化性樹脂にて形成してなる
ことを特徴とする凹凸模様を転写する方法に使用する転
写シート。
(7) A transfer in which a transfer layer is provided on the releasable surface of an ionizing radiation transparent sheet having a releasable surface, and an ionizing radiation shielding pattern is provided on either the front or back surface of the sheet or the surface of the transfer layer. A method for transferring an uneven pattern in a sheet, characterized in that the transfer layer is formed of a thermosetting resin or an ionizing radiation-curable resin that is solid at room temperature in an uncured state and is thermoplastic. Transfer sheet used for.
(8)転写層が着色模様層又は保護層である特許請求の
範囲第7項記載の転写シート。
(8) The transfer sheet according to claim 7, wherein the transfer layer is a colored pattern layer or a protective layer.
(9)転写層の熱硬化性樹脂が転写前に加熱硬化されて
なる特許請求の範囲第7項又は第8項記載の転写シート
(9) The transfer sheet according to claim 7 or 8, wherein the thermosetting resin of the transfer layer is heat-cured before transfer.
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