JP3351820B2 - Method for manufacturing uneven pattern formed body - Google Patents

Method for manufacturing uneven pattern formed body

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JP3351820B2
JP3351820B2 JP21460492A JP21460492A JP3351820B2 JP 3351820 B2 JP3351820 B2 JP 3351820B2 JP 21460492 A JP21460492 A JP 21460492A JP 21460492 A JP21460492 A JP 21460492A JP 3351820 B2 JP3351820 B2 JP 3351820B2
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ionizing radiation
pattern
substrate
curable resin
concavo
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健一郎 三箇
宏 田中
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、凹凸模様形成体の製造
方法に関するものであり、詳しくは形成された凹凸模様
を傷つけることなく、シャープで立体感に優れた上、意
匠性、耐久性などに優れた凹凸模様を有する凹凸模様成
形体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a concavo-convex pattern formed body, and more particularly, to a sharp and three-dimensional appearance without damaging the formed concavo-convex pattern, and to the design and durability. The present invention relates to a method for producing a concavo-convex pattern molded body having an excellent concavo-convex pattern.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば平滑な表面に設けた絵柄に
立体感を持たせるために、模様自体に厚みを持たせるこ
とが行われているが、模様に厚みを持たせるためには特
殊な印刷方法を必要とする上、シャープな盛り上がりを
形成することが困難であり、美麗な立体模様を容易に形
成できないという問題があった。また、当然のことなが
ら得られる立体模様の形成物は、特に立体模様自体がシ
ャープさや立体感に欠けるものであった。本発明らは上
記の点に鑑み、シャープで美麗な立体感が発現される凹
凸模様形成体を容易に製造するための凹凸模様成形体の
製造方法を提案した(特開平1−253449号公
報)。この方法では、電離放射線遮蔽模様を設けた電離
放射線透過性の剥離基材を通して電離放射線を照射し
て、電離放射線硬化性樹脂の一部を硬化させた後、剥離
基材を剥離して未硬化の電離放射線硬化性樹脂の一部を
該剥離基材に付着させて除去することにより凹部を形成
し、次いでこの表面に溶剤を塗布してブラシ或いは綿の
バフィングローラーを使用して、バフ研磨することによ
り凹部に残存する未硬化の電離放射線硬化性樹脂を除去
していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in order to give a three-dimensional effect to a pattern provided on a smooth surface, it has been practiced to give the pattern itself a thickness. In addition to the necessity of a printing method, it is difficult to form sharp protrusions, and there is a problem that a beautiful three-dimensional pattern cannot be easily formed. In addition, naturally, the obtained three-dimensional pattern formed product lacks sharpness and three-dimensional feeling particularly in the three-dimensional pattern itself. In view of the above points, the present invention has proposed a method for manufacturing a concavo-convex pattern formed body for easily producing a concavo-convex pattern formed body that exhibits a sharp and beautiful three-dimensional effect (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-253449). . In this method, ionizing radiation is irradiated through an ionizing radiation-permeable release substrate provided with an ionizing radiation shielding pattern to cure a part of the ionizing radiation-curable resin, and then the release substrate is peeled off and is not cured. A part of the ionizing radiation-curable resin is adhered to the release base material and removed to form a concave portion. Then, a solvent is applied to this surface, and buffing is performed using a brush or a cotton buffing roller. This removes the uncured ionizing radiation-curable resin remaining in the concave portions.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、凹凸模
様の凹部周辺の硬化樹脂は基材との密着性が弱いので、
ブラシや綿のバフィングローラーでバフ研磨して未硬化
の電離放射線硬化性樹脂を除去しようとすると、凹部周
辺の硬化した樹脂まで削り取られ、更に、凹部のエッジ
までもが削られてしまう虞れがあり意匠性が悪くなって
しまうという問題が生じる。また、溶剤のみで未硬化の
樹脂を溶解除去する方法も提案されているが、残存樹脂
を溶解除去するには大量の溶剤が必要であり、乾燥工程
に時間がかかり、専用の設備も必要となるという問題も
生じる。更に、大量の溶剤を取り扱う場合には、引火や
爆発の危険を伴うため、災害発生防止のための設備投資
や取り扱い上の充分な注意が必要であるという問題があ
った。
However, since the cured resin around the concave portion of the concave and convex pattern has low adhesion to the base material,
When trying to remove uncured ionizing radiation-curable resin by buffing with a brush or cotton buffing roller, the cured resin around the recess may be scraped off, and even the edge of the recess may be scraped. There is a problem that the design becomes worse. Also, a method of dissolving and removing uncured resin with a solvent alone has been proposed.However, a large amount of solvent is required to dissolve and remove the residual resin, which requires a long drying process and requires dedicated equipment. The problem also arises. Further, when handling a large amount of solvent, there is a danger of ignition or explosion, so that there is a problem that capital investment for preventing occurrence of disaster and sufficient care in handling are required.

【0004】本発明は上記の問題点を解決し、シャープ
で美麗な立体感が発現される凹凸模様形成体を、凹凸模
様に傷をつけることなく容易に製造することができる凹
凸模様形成体の製造方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems, and provides a concavo-convex pattern forming body capable of easily producing a concavo-convex pattern forming body exhibiting a sharp and beautiful three-dimensional effect without damaging the concavo-convex pattern. It is intended to provide a manufacturing method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明による化粧材に用
いる凹凸模様形成体の製造方法は、下記工程を順次行う
ことを特徴とする。 (A)表面が剥離性を有する電離放射線透過性基材の表
裏いずれかの面に電離放射線遮蔽性模様を設けた剥離基
材を準備する第1工程。 (B)凹凸模様形成用基材と剥離基材の表面を、電離放
射線硬化性樹脂層を介して重ね合わせる第2工程。 (C)剥離基材側より電離放射線を照射して電離放射線
遮蔽性模様のない部分に相当する電離放射線硬化性樹脂
層を硬化させる第3工程。 (D)剥離基材を剥離して電離放射線硬化性樹脂層の未
硬化部の樹脂の一部を剥離基材に付着させて除去して凹
部を形成する第4工程。 (E)凹凸模様形成用基材の凹凸模様表面に残った未硬
化の電離放射線硬化性樹脂の一部又は全部を残留した未
硬化の樹脂を溶解する溶剤を浸み込ませたスポンジ製ロ
ーラーにより掻き取りながら溶解除去する第5工程。
The present invention is applied to a cosmetic material according to the present invention .
The method of manufacturing the uneven pattern formed body is characterized by sequentially performing the following steps. (A) A first step of preparing a release substrate having an ionizing radiation transmitting pattern provided on one of the front and back surfaces of an ionizing radiation-transmitting substrate having a releasable surface. (B) a second step of superposing the surfaces of the substrate for forming a concavo-convex pattern and the release substrate via an ionizing radiation-curable resin layer. (C) a third step of irradiating ionizing radiation from the release substrate side to cure the ionizing radiation-curable resin layer corresponding to a portion having no ionizing radiation shielding pattern. (D) a fourth step of removing the release base material and attaching a part of the uncured resin of the ionizing radiation-curable resin layer to the release base material and removing the resin to form a concave portion; (E) A sponge roller impregnated with a solvent that dissolves the uncured resin remaining partially or entirely on the uncured ionizing radiation-curable resin remaining on the uneven pattern surface of the uneven pattern forming substrate. Fifth step of dissolving and removing while scraping.

【0006】本発明方法は、これらの工程に加えて下記
からの工程を行うことを特徴とすることができる。 第5工程終了後、更に電離放射線を照射し凹凸模様
形成用基材の凹凸模様表面に残存する未硬化樹脂を完全
に硬化させる工程。 電離放射線透過性基材の表裏いずれかの面に設けた
電離放射線遮蔽性模様とともに、電離放射線硬化性樹脂
と接する側の面に電離放射線を少なくとも一部は透過す
る着色インキ絵柄層を設けた剥離基材を用い、着色イン
キ絵柄層の転写した凸部を形成する工程。 凹凸模様を凹凸模様形成用基材表面に形成した後
に、該凹凸模様の凹部に、着色インキを用いてワイピン
グを行う工程。
The method of the present invention can be characterized by performing the following steps in addition to these steps. After the fifth step, a step of further irradiating ionizing radiation to completely cure the uncured resin remaining on the uneven pattern surface of the uneven pattern forming substrate. Peeling provided with a colored ink pattern layer that at least partially transmits ionizing radiation on the surface in contact with the ionizing radiation-curable resin, along with the ionizing radiation shielding pattern provided on either the front or back surface of the ionizing radiation permeable substrate Forming a transferred convex portion of the colored ink picture layer using a base material; A step of forming an uneven pattern on the surface of the uneven pattern forming base material and then wiping the concave portions of the uneven pattern using a coloring ink;

【0007】[0007]

【作用】本発明によれば、電離放射線遮蔽性模様のある
部分では凹凸模様形成用基材上の電離放射線硬化性樹脂
が硬化せずに剥離基材の剥離によって除去され、電離放
射線遮蔽性模様のない部分では電離放射線硬化性樹脂が
硬化して残ることから凹凸模様が形成される。更に、剥
離基材の剥離によって完全に除去されず、凹凸模様上に
残存した未硬化の電離放射線硬化性樹脂はスポンジ製ロ
ーラーにより掻き取られる。その結果、凹凸模様形成用
基材上に立体感に優れシャープな凹凸模様に傷をつける
ことなく容易に凹凸模様形成体が得られる。
According to the present invention, in a portion having an ionizing radiation shielding pattern, the ionizing radiation curable resin on the substrate for forming a concavo-convex pattern is not cured but is removed by peeling of the release substrate, and the ionizing radiation shielding pattern is removed. In portions where no resin is present, the ionizing radiation-curable resin is cured and remains, so that an uneven pattern is formed. Further, the uncured ionizing radiation-curable resin remaining on the concavo-convex pattern without being completely removed by peeling of the peeling substrate is scraped off by a sponge roller. As a result, it is possible to easily obtain a concavo-convex pattern-formed body having an excellent three-dimensional effect on the concavo-convex pattern-forming substrate without damaging the sharp concavo-convex pattern.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基き詳細に説
明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0009】図1及び図2は本発明製造方法の1実施例
の各工程を示す説明図であり、図1(a)〜(c)は本
発明の第1工程から第4工程を示す要部断面図であり、
図2は本発明の第5工程を示す要部断面図である。 (a)第1工程 まず、本発明製造方法では図1(a)に示すように、表
面が剥離性を有する電離放射線透過性基材5の表面に電
離放射線遮蔽性インキを用いて形成した遮蔽性模様印刷
層6を設けた剥離基材4を準備する。
FIGS. 1 and 2 are explanatory views showing the steps of one embodiment of the manufacturing method of the present invention. FIGS. 1A to 1C are views showing the first to fourth steps of the present invention. FIG.
FIG. 2 is a sectional view of a main part showing a fifth step of the present invention. (A) First Step First, in the manufacturing method of the present invention, as shown in FIG. 1 (a), a shielding formed on the surface of an ionizing radiation transmitting substrate 5 having a peelable surface using an ionizing radiation shielding ink. The release substrate 4 provided with the characteristic pattern printing layer 6 is prepared.

【0010】上記の電離放射線透過性基材5は、電離放
射線透過性を有するシート又はフィルムよりなり、電離
放射線が紫外線の場合には、例えばポリエステル、ポリ
アミド(ナイロン等)、ポリプロピレン、フッ素系樹脂
のシート又はフィルム等が挙げられるが、紫外線透過性
に影響のある顔料等を含まないものが好ましい。又、電
離放射線が電子線の場合には、電子線の透過性が高いの
であまり制約がなく、上記した紫外線を透過する性質の
あるシート又はフィルムは原則的に使用でき、更に紙等
も使用できる。剥離基材4の少なくとも後述する電離放
射線硬化性樹脂層7と接する側の表面は剥離性である必
要があり、素材自体が剥離性を有さない場合には剥離性
の樹脂もしくは組成物を塗布する等して表面剥離性とし
て使用する。電離放射線透過性基材5の厚みは特に限定
されないが、通常5〜200μm、特に25〜100μ
mが好ましい。
The ionizing radiation permeable substrate 5 is made of a sheet or a film having ionizing radiation transmitting properties. When the ionizing radiation is ultraviolet rays, for example, polyester, polyamide (nylon or the like), polypropylene, or fluororesin is used. Examples thereof include a sheet or a film, and a sheet or film that does not contain a pigment or the like that has an effect on ultraviolet transmittance is preferable. Further, when the ionizing radiation is an electron beam, there is not much restriction because the electron beam has high transparency, and the above-mentioned sheet or film having the property of transmitting ultraviolet rays can be used in principle, and paper and the like can also be used. . At least the surface of the release substrate 4 on the side in contact with the ionizing radiation-curable resin layer 7 described later needs to be releasable, and if the material itself does not have releasability, a releasable resin or composition is applied. It is used as a surface peeling property. The thickness of the ionizing radiation permeable substrate 5 is not particularly limited, but is usually 5 to 200 μm, and particularly 25 to 100 μm.
m is preferred.

【0011】電離放射線遮蔽性インキを用いて形成した
遮蔽性模様印刷層6は、電離放射線透過性基材5の上面
側から電離放射線を照射した際に、基材表面に設けた電
離放射線硬化性樹脂7への照射を遮蔽するためのもので
あり、該遮蔽性模様印刷層6を設ける位置は、図1に示
すように電離放射線透過性基材5の下面側でも、また特
に図示しないが電離放射線透過性基材5の上面側でもよ
い。
The shielding pattern printing layer 6 formed using the ionizing radiation shielding ink is provided with an ionizing radiation curable layer provided on the surface of the ionizing radiation transmitting substrate 5 when the layer is irradiated with ionizing radiation from the upper surface side thereof. The shielding pattern printing layer 6 is provided on the lower surface side of the ionizing radiation-transmitting substrate 5 as shown in FIG. The upper surface of the radiation-transmissive substrate 5 may be used.

【0012】遮蔽性模様印刷層6を形成するための電離
放射線遮蔽インキとしては、電離放射線が紫外線である
ときは、紫外線を反射して遮蔽する物質、例えば酸化チ
タン、硫酸カリウム、炭酸カルシウム等の充填剤、また
は粒径が0.3〜10μm程度で隠蔽力の大きい顔料を含
有するインキや、紫外線を吸収する物質、例えばベンゾ
フェノン系、サリチレート系、ベンゾトリアゾール系、
アクリロニトリル系等の紫外線吸収剤、光吸収性の顔
料、カーボンブラックまたは無機物とともにクェンチャ
ー(例えば金属錯塩系もしくはヒンダードアミン系等)
を含有するインキ等が挙げられ、また電離放射線が電子
線であるときは、上記したインキや他の顔料系のインキ
を使用することができる。遮蔽性模様印刷層6は上記の
電離放射線遮蔽インキを用いて、通常の印刷法により、
凹凸模様形成体15に凹凸模様14の凹部9を形成する
部分として、所望の絵柄等を形成すればよい。
As the ionizing radiation shielding ink for forming the shielding pattern printing layer 6, when the ionizing radiation is ultraviolet rays, a substance that reflects and shields the ultraviolet rays, for example, titanium oxide, potassium sulfate, calcium carbonate, etc. Ink containing a filler, or a pigment having a large hiding power with a particle size of about 0.3 to 10 μm, or a substance that absorbs ultraviolet rays, such as benzophenone, salicylate, benzotriazole,
Acrylonitrile UV absorbers, light absorbing pigments, carbon black or inorganic materials and quencher (for example, metal complex salts or hindered amines)
In addition, when the ionizing radiation is an electron beam, the above-mentioned inks and other pigment-based inks can be used. The shielding pattern printing layer 6 is formed using the above-described ionizing radiation shielding ink by a normal printing method.
A desired pattern or the like may be formed as a portion of the concave-convex pattern forming body 15 where the concave portion 9 of the concave-convex pattern 14 is formed.

【0013】(b)第2工程及び第3工程 次いで、図1(b)に示すように、表面に未硬化の電離
放射線硬化性樹脂層7を有する凹凸模様形成用基材8に
上記剥離基材4を重ね合わせて密着させて、積層体とし
(第2工程)、該積層体の剥離基材4側から電離放射線
を照射して凹凸模様形成用基材8表面の電離放射線硬化
性樹脂7の剥離基材4の遮蔽性模様印刷層6に対応する
部分以外を硬化させる(第3工程)。上記未硬化の電離
放射線硬化性樹脂層7は凹凸模様形成用基材8に設ける
以外にも、剥離基材4の表面に設けても、又、凹凸模様
形成用基材8と剥離基材4の両方に設けても何れでもよ
く、凹凸模様形成用基材と剥離基材の表面が、電離放射
線硬化性樹脂層を介して重ね合わされていれさえすれば
よい。
(B) Second Step and Third Step Next, as shown in FIG. 1 (b), the above-described release group is applied to the uneven pattern forming base material 8 having an uncured ionizing radiation-curable resin layer 7 on the surface. The material 4 is overlapped and adhered to form a laminate (second step), and ionizing radiation is irradiated from the release substrate 4 side of the laminate to form an ionizing radiation-curable resin 7 on the surface of the substrate 8 for forming an uneven pattern. The part other than the part corresponding to the shielding pattern printing layer 6 of the release substrate 4 is cured (third step). The uncured ionizing radiation-curable resin layer 7 may be provided on the surface of the release substrate 4 in addition to being provided on the substrate 8 for forming a concavo-convex pattern. May be provided on both of them, and it is only necessary that the surfaces of the base material for forming a concavo-convex pattern and the release base material are superposed via the ionizing radiation-curable resin layer.

【0014】凹凸模様形成用基材8としては、どのよう
なものでもよいが、例えばステンレス鋼、鋼、アルミ
ニウム、もしくは銅等の金属の板または成形品、ガラ
ス、大理石、陶磁器、石膏ボード、石綿セメント板、珪
酸カルシウム板、GRC(ガラス繊維強化セメント)等
の無機質の板または成形品、ポリエステル、メラミ
ン、ポリ塩化ビニル、ジアリルフタレート等の有機ポリ
マーの板、成形品、あるいはこれらのシート、フィル
ム、木、合板、パーチクルボード等の木質の板または
成形品、薄葉紙、晒クラフト紙、チタン紙、リンター
紙、板紙、石こうボード紙等の紙;ポリエチレンフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコー
ルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、ポリスチ
レンフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム、
エチレンビニルアルコール共重合体フィルム、アイオノ
マー等のプラスチックフィルム;鉄、アルミニウム、銅
等の金属箔若しくはシート;並びに以上の各素材の複合
体、等が例示される。これら凹凸模様形成用基材8に
は、目止め処理やプライマー処理等の下地処理や接着性
向上のための処理等を行ってもよい。
As the substrate 8 for forming a concavo-convex pattern, any material may be used. For example, a metal plate or molded product such as stainless steel, steel, aluminum or copper, glass, marble, ceramic, gypsum board, asbestos Cement boards, calcium silicate boards, inorganic boards or molded articles such as GRC (glass fiber reinforced cement), and organic polymer boards and molded articles such as polyester, melamine, polyvinyl chloride, diallyl phthalate, and sheets and films thereof. Woody board or molded product such as wood, plywood, particle board, thin paper, bleached kraft paper, titanium paper, linter paper, paperboard, gypsum board paper, etc .; polyethylene film, polypropylene film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film , Polyvinyl alcohol film, polyethylene terephthalate Over Tofirumu, polycarbonate film, nylon film, polystyrene film, ethylene-vinyl acetate copolymer film,
Plastic films such as ethylene vinyl alcohol copolymer films and ionomers; metal foils or sheets of iron, aluminum, copper and the like; and composites of the above-mentioned materials. The base material 8 for forming a concavo-convex pattern may be subjected to a base treatment such as a filling treatment or a primer treatment, a treatment for improving adhesiveness, or the like.

【0015】また特に図示しないが、凹凸模様形成用基
材8には電離放射線硬化性樹脂層7との間に着色模様を
設けることもできる。該着色模様のパターンは電離放射
線遮蔽模様層のパターンと同調するパターンに設けても
よいが、必ずしも同調するように形成する必要はない。
着色模様は通常のインキ、塗料等を用いて公知の印刷法
によって形成したり、その他に着色模様自体を凹凸模様
形成用基材8に転写したり或いは着色模様を設けたシー
トをラミネートしたりして形成する。又、着色模様は凹
凸模様形成用基材8が透明な材質よりなる場合には、該
凹凸模様形成用基材8の下面側に設けることもできる。
Although not particularly shown, a colored pattern may be provided between the substrate 8 for forming the concavo-convex pattern and the ionizing radiation-curable resin layer 7. The pattern of the colored pattern may be provided in a pattern synchronized with the pattern of the ionizing radiation shielding pattern layer, but need not necessarily be formed so as to be synchronized.
The colored pattern is formed by a known printing method using an ordinary ink, paint, or the like, or the colored pattern itself is transferred to the uneven pattern forming base material 8 or a sheet provided with the colored pattern is laminated. Formed. When the base material 8 for forming a concavo-convex pattern is made of a transparent material, the colored pattern may be provided on the lower surface side of the base material 8 for concavo-convex pattern formation.

【0016】電離放射線硬化性樹脂層7は、凹凸模様形
成体に深い塗装感を与え、高級感を付与するためのもの
である。電離放射線硬化性樹脂層7の材質としては構造
中にラジカル重合性の二重結合を有するポリマー、オリ
ゴマー、モノマー等を主成分とし、光重合開始剤や増感
剤、そのほか必要に応じて非反応性のポリマー、有機溶
剤、ワックスその他の添加剤を含有するもので、種々の
グレードのものが市場から容易に入手でき、本発明に使
用できる。また、電離放射線硬化性樹脂層7に難燃剤、
導電性材料等を混入して難燃化、導電化等の機能を付与
することもできる。更に、該樹脂層7は透明又は半透明
な層であることが好ましい。電離放射線硬化性樹脂層7
はグラビアコート、ロールコート、フローコートもしく
はスプレーコート等の公知の方法により形成することが
できる。樹脂層7の厚さは3μm〜1mm、特に30〜2
00μmが好ましい。特に、上記の電離放射線硬化性樹
脂としては、ラジカル重合性不飽和基を有する熱可塑性
の次の2種類の樹脂が好ましい。
The ionizing radiation-curable resin layer 7 is for imparting a deep coating feeling to the concavo-convex pattern forming body and giving it a sense of quality. The material of the ionizing radiation-curable resin layer 7 is mainly composed of a polymer, an oligomer, a monomer, etc. having a radical polymerizable double bond in the structure, and a photopolymerization initiator, a sensitizer, and other non-reactive as required. A variety of grades containing a water-soluble polymer, organic solvent, wax and other additives are easily available from the market and can be used in the present invention. Further, a flame retardant is added to the ionizing radiation-curable resin layer 7,
A function such as flame retardancy and conductivity can be imparted by mixing a conductive material or the like. Further, the resin layer 7 is preferably a transparent or translucent layer. Ionizing radiation curable resin layer 7
Can be formed by a known method such as gravure coating, roll coating, flow coating or spray coating. The thickness of the resin layer 7 is 3 μm to 1 mm, particularly 30 to 2 mm.
00 μm is preferred. In particular, as the ionizing radiation-curable resin, the following two types of thermoplastic resins having a radical polymerizable unsaturated group are preferable.

【0017】(1)ガラス転移温度が0〜250℃のポ
リマー中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。さら
に具体的には以下の化合物〜を重合、もしくは共重
合させたものに対し後述する方法(a)〜(d)により
ラジカル重合性不飽和基を導入したものである。 水酸基を有する単量体:N−メチロール(メタ)アク
リルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等。 カルボキシル基を有する単量体:(メタ)アクリル
酸、(メタ)アクリロイルオキシエチルモノサクシネー
ト等。 エポキシ基を有する単量体:グリシジル(メタ)アク
リレート等。 アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエ
チル(メタ)アクリレート、2−アジリジニルプロピオ
ン酸アリル等。 アミノ基を有する単量体:(メタ)アクリルアミド、
ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート等。 スルフォン基を有する単量体:2−(メタ)アクリル
アミド−2−メチルプロパンスルフォン酸等。 イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエン
ジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレートの1モル対1モル付加物等のジイソシアネート
と活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物等。 更に、上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、
硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物
と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを
共重合させることができる。このような共重合可能な単
量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、
エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メ
タ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、
イソアミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート等が挙げられる。上述のようにして得られた重合
体にラジカル重合性不飽和基を導入する方法は、 (a)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の
場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体等を縮合反応させる。 (b)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。 (c)エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加させる。 (d)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる等の方
法がある。
(1) A polymer having a radically polymerizable unsaturated group in a polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C. More specifically, a compound obtained by polymerizing or copolymerizing the following compound is introduced with a radical polymerizable unsaturated group by methods (a) to (d) described below. Monomers having a hydroxyl group: N-methylol (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2
-Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3phenoxypropyl (meth) acrylate and the like. Monomers having a carboxyl group: (meth) acrylic acid, (meth) acryloyloxyethyl monosuccinate and the like. Monomer having epoxy group: glycidyl (meth) acrylate and the like. Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl (meth) acrylate, allyl 2-aziridinylpropionate and the like. Monomer having an amino group: (meth) acrylamide,
Diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and the like. Monomer having a sulfone group: 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and the like. Monomers having isocyanate groups: adducts of diisocyanates and radical polymerizable monomers having active hydrogen, such as 1 to 1 mole adducts of 2,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Further, adjusting the glass transition point of the above copolymer,
In order to adjust the physical properties of the cured film, the above compound and the following monomers copolymerizable with the compound can be copolymerized. Such copolymerizable monomers include, for example, methyl (meth) acrylate,
Ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate,
Examples include isoamyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. The method for introducing a radical polymerizable unsaturated group into the polymer obtained as described above includes the following steps: (a) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, (meth) acrylic acid or the like Is subjected to a condensation reaction. (B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction. (C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or monomer having a carboxyl group is added. (D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a monomer having a hydroxyl group-containing acrylate For example, there is a method in which an addition reaction of a 1: 1 mole of the adduct is performed.

【0018】(2)融点が常温(20℃)〜250℃で
あり、ラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的
にはステアリルアクリレート、ステアリル(メタ)アク
リレート、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサン
ジオールジ(メタ)アクリレート、スピログリコールジ
アクリレート、スピログリコール(メタ)アクリレート
などが挙げられる。また、前記(1)及び(2)の化合
物を混合して用いることもでき、さらにそれらに対して
ラジカル重合性不飽和単量体を加えることもできる。こ
のラジカル重合性不飽和単量体は電離放射線照射の際、
架橋密度を向上させ、耐熱性を向上させるものであっ
て、前述の単量体の他にエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレングリ
コールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、プロピレングリコールジグリシジル
エーテルジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラ(メタ)
アクリレートなどを用いることができ、前記したの紫
外線硬化性樹脂または電子線硬化性樹脂100重量部に
対して、0.1〜100重量部で用いることが好まし
い。上記のものは電子線により充分に硬化可能である
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルな
どのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン
類、ビアセチル類などの紫外線照射によりラジカルを発
生するものを用いる。本発明で用いられる電離放射線の
代表的なものは紫外線と電子線であるが、その他のもの
も利用できる。電離放射線の照射により、遮蔽性模様印
刷層6のない部分では電離放射線硬化性樹脂層7は硬化
し、また遮蔽性模様印刷層6のある部分では電離放射線
硬化性樹脂層7が未硬化の状態となる。
(2) A compound having a melting point of room temperature (20 ° C.) to 250 ° C. and having a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl (meth) acrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol di (meth) acrylate, cyclohexanediol di (meth) acrylate, spiroglycol diacrylate, spiroglycol (meth) acrylate, and the like. The compounds (1) and (2) can be used as a mixture, and a radically polymerizable unsaturated monomer can be added thereto. When the radical polymerizable unsaturated monomer is irradiated with ionizing radiation,
It improves crosslink density and improves heat resistance. In addition to the aforementioned monomers, ethylene glycol di (meth)
Acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate,
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di ( Meth) acrylates,
Polyethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, propylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate,
Sorbitol tetraglycidyl ether tetra (meta)
Acrylate or the like can be used, and it is preferable to use 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the above-described ultraviolet curable resin or electron beam curable resin. The above can be sufficiently cured by an electron beam, but when cured by ultraviolet irradiation, benzoquinone, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, halogenated acetophenones, biacetyls and the like as sensitizers. One that generates radicals by ultraviolet irradiation is used. Representative examples of ionizing radiation used in the present invention are ultraviolet rays and electron beams, but other types can also be used. By the irradiation of the ionizing radiation, the ionizing radiation-curable resin layer 7 is cured in a portion where the shielding pattern printing layer 6 is not provided, and the ionizing radiation-curable resin layer 7 is uncured in a portion where the shielding pattern printing layer 6 is present. Becomes

【0019】(c)第4工程 図1(c)に示すように、剥離基材4を剥離して電離放
射線硬化性樹脂層7の遮蔽性模様印刷層6に対応する未
硬化の部分13を剥離基材4と共に除去することによ
り、凹凸模様14が形成される。電離放射線の照射後に
剥離基材4を剥離すると、電離放射線硬化性樹脂層7の
未硬化部分では、未硬化の電離放射線硬化性樹脂13が
剥離基材4に付着して該剥離基材4の剥離とともに付着
した分が除去され、結果として、少量の未硬化の電離放
射線硬化性樹脂が残留した凹部9と、硬化した電離放射
線硬化性樹脂12よりなる凸部10とが形成される。こ
れにより、凹凸模様14が電離放射線硬化性樹脂層7に
形成される。
(C) Fourth Step As shown in FIG. 1C, the release substrate 4 is peeled off, and the uncured portion 13 of the ionizing radiation-curable resin layer 7 corresponding to the shielding pattern printing layer 6 is removed. By removing it together with the release base material 4, an uneven pattern 14 is formed. When the release substrate 4 is peeled off after irradiation with ionizing radiation, the uncured ionizing radiation-curable resin 13 adheres to the release substrate 4 at the uncured portion of the ionizing radiation-curable resin layer 7, The adhered portion is removed together with the peeling, and as a result, a concave portion 9 in which a small amount of the uncured ionizing radiation-curable resin remains and a convex portion 10 made of the cured ionizing radiation-curable resin 12 are formed. Thereby, the concavo-convex pattern 14 is formed on the ionizing radiation-curable resin layer 7.

【0020】(c)第5工程 図2に示すように、溶剤を浸み込ませたスポンジ製ロー
ラー1を用いて凹凸模様14の表面をバフ研磨する。第
4工程において得られた凹凸模様14の凹部9に残存す
る未硬化の電離放射線硬化性樹脂11を溶剤を浸み込ま
せたスポンジ製ローラー1を用いてバフ研磨することに
より、適宜量除去する。本発明方法においてはこの第5
工程で、溶剤を浸み込ませたスポンジ製ローラー1を用
いてバフ研磨することにより、凹凸模様14の凹部9に
残存する未硬化の電離放射線硬化性樹脂11を適宜量除
去することが重要である。
(C) Fifth Step As shown in FIG. 2, the surface of the embossed pattern 14 is buffed using a sponge roller 1 impregnated with a solvent. The uncured ionizing radiation-curable resin 11 remaining in the concave portions 9 of the concavo-convex pattern 14 obtained in the fourth step is appropriately removed by buff polishing using a sponge roller 1 impregnated with a solvent. . In the method of the present invention, the fifth
In the process, it is important to remove an appropriate amount of the uncured ionizing radiation-curable resin 11 remaining in the concave portions 9 of the uneven pattern 14 by buffing using the sponge roller 1 impregnated with a solvent. is there.

【0021】上記凹部9に残存する未硬化の樹脂11を
適宜量除去するために、残留した未硬化の樹脂の溶剤に
対する溶解性が高いことを利用して、適当な溶剤を適宜
選択し、該溶剤をスポンジ製ローラー1に浸み込ませな
がら凹凸模様形成体15表面を上記スポンジ製ローラー
1を用いてバフ研磨し、未硬化の樹脂の残留分11を掻
き取りながら溶解除去する。このとき、未硬化の樹脂は
全て除去してしまう場合に限定されず、その一部を所定
量除去してもよい。尚、上記バフ研磨の際、ローラー1
を凹凸模様形成体に押しつける圧力、即ちコーター圧を
低めにして凹凸模様14に傷をつけない用にするのが好
ましい。該コーター圧は5kg/cm2 〜20kg/cm2 の範
囲にあるのが望ましい。
In order to remove an appropriate amount of the uncured resin 11 remaining in the concave portion 9, an appropriate solvent is appropriately selected by utilizing the high solubility of the remaining uncured resin in the solvent. The surface of the concavo-convex pattern forming body 15 is buff-polished using the sponge roller 1 while the solvent is immersed in the sponge roller 1, and the uncured resin residue 11 is dissolved and removed while scraping. At this time, the present invention is not limited to the case where all the uncured resin is removed, and a part thereof may be removed by a predetermined amount. In addition, at the time of the above buff polishing, the roller 1
It is preferable to lower the pressure for pressing the undulations on the uneven pattern forming body, that is, the coater pressure so that the uneven pattern 14 is not damaged. The coater pressure is preferably in the range of 5kg / cm 2 ~20kg / cm 2 .

【0022】ローラー1を構成するスポンジ体2は、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ナイ
ロン等のポリアミド、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素
樹脂、シリコンゴム等のケイ素樹脂等の樹脂から、使用
する溶剤により膨潤、溶解、変質等しないものを適宜選
択し、細胞状発泡体等の柔軟な多孔質体に形成する。ま
た、ローラーの形状は円筒状であり、バフ研磨の際に必
要以上に変形してしまわないように、通常は金属、シリ
コンゴム等の芯3の周囲に上記スポンジ体2を被覆した
状態で使用するのが好ましい。
The sponge body 2 constituting the roller 1 swells from a resin such as a polyolefin such as polyethylene or polypropylene, a polyamide such as nylon, a fluororesin such as polyvinylidene fluoride, or a silicon resin such as silicone rubber by a solvent to be used. A material which does not dissolve or deteriorate is appropriately selected to form a flexible porous body such as a cellular foam. The roller is cylindrical, and is usually used in a state where the sponge body 2 is covered around a core 3 of metal, silicon rubber or the like so as not to be deformed more than necessary during buffing. Is preferred.

【0023】上記の溶解除去させるための溶剤として
は、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類;メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類;エタノール、イソプロパノール、
n−ブタノール等のアルコール類等があり、使用した電
離放射線硬化性樹脂の種類に合わせて選択し、使用す
る。該溶剤をスポンジ製ローラー1に浸み込ませる方法
としては、全巾における溶剤の滴下等が挙げられる。
Solvents for dissolving and removing the above include esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethanol, isopropanol,
There are alcohols such as n-butanol, etc., which are selected and used according to the type of ionizing radiation-curable resin used. Examples of a method of infiltrating the solvent into the sponge roller 1 include dropping the solvent over the entire width.

【0024】また本発明方法では第5工程終了後、スポ
ンジ製ローラー1によるバフ研磨によって除去しきれず
に未硬化の電離放射線硬化性樹脂が凹凸模様14上に残
存する場合、更に電離放射線を照射し、該未硬化樹脂を
完全に硬化せしめることが好ましい。
In the method of the present invention, if the uncured ionizing radiation-curable resin is not completely removed by buffing with the sponge roller 1 but remains on the concavo-convex pattern 14 after the completion of the fifth step, it is further irradiated with ionizing radiation. Preferably, the uncured resin is completely cured.

【0025】本発明製造方法では図3(a)に示すよう
に、表面が剥離性を有する電離放射線透過性基材5の表
裏いずれかに設けられた電離放射線遮蔽性模様6ととも
に、該電離放射線透過性基材5の電離放射線硬化性樹脂
層7と接する側に面に電離放射線を少なくとも一部は透
過する着色インキよりなる転写性の着色インキ絵柄層1
6を設けた剥離基材4を用いることもできる。又、この
場合遮蔽性模様印刷層6は着色インキ絵柄層16の表面
側に重ねて設けてもよい。
In the manufacturing method of the present invention, as shown in FIG. 3 (a), the ionizing radiation shielding pattern 6 provided on either the front or back of the ionizing radiation transmitting substrate 5 having a peelable surface, and the ionizing radiation. Transferable colored ink picture layer 1 made of a colored ink that at least partially transmits ionizing radiation on the surface of transparent substrate 5 on the side in contact with ionizing radiation-curable resin layer 7.
A release substrate 4 provided with 6 can also be used. In this case, the shielding pattern printing layer 6 may be provided so as to overlap the surface side of the colored ink picture layer 16.

【0026】上記着色インキ絵柄層16は、凹凸模様の
凸部上に転写形成されるものであり、用途に応じて種々
の塗料若しくはインキを使用して形成される。着色イン
キ絵柄層16は電離放射線を透過させて電離放射線硬化
性樹脂層7を硬化させる必要があるため電離放射線を少
なくとも一部は透過するものである必要がある。この着
色インキ絵柄層16は、電離放射線が紫外線であるとき
は紫外線透過性を確保するために、紫外線透過性を妨げ
る顔料、充填剤の多用は避けた方がよく、染料により着
色するか、粒子径の極めて小さい顔料を使用するのが好
ましい。又、着色インキ絵柄層16は均一な層(いわゆ
るベタ層)として形成しても、或いは模様状に設けても
よく、1色の印刷層であっても2色以上の印刷層であっ
てもよい。
The colored ink picture layer 16 is transferred and formed on the convex portions of the uneven pattern, and is formed using various paints or inks according to the application. Since the colored ink picture layer 16 needs to transmit the ionizing radiation to cure the ionizing radiation-curable resin layer 7, it is necessary that the colored ink picture layer 16 at least partially transmits the ionizing radiation. When the ionizing radiation is ultraviolet light, the colored ink picture layer 16 should avoid excessive use of pigments and fillers that impede ultraviolet light transmission in order to ensure ultraviolet light transmission. It is preferred to use pigments with a very small diameter. Further, the colored ink picture layer 16 may be formed as a uniform layer (so-called solid layer) or may be provided in a pattern, and may be a single-color print layer or a print layer of two or more colors. Good.

【0027】着色インキ絵柄層16を有する剥離基材4
を用いた場合も、図3(b)に示すように、上記剥離基
材4の着色インキ絵柄層16と電離放射線硬化性樹脂層
7とが接するようにして、該電離放射線硬化性樹脂層7
を介して剥離基材4と凹凸模様形成用基材8とを重ね合
わせ、剥離基材4側から電離放射線を照射して凹凸模様
形成用基材8表面の電離放射線硬化性樹脂7の剥離基材
4の遮蔽性模様印刷層16に対応する部分以外を硬化さ
せる。
Release substrate 4 having colored ink picture layer 16
3B, as shown in FIG. 3B, the colored ink pattern layer 16 of the release substrate 4 is in contact with the ionizing radiation-curable resin layer 7 so that the ionizing radiation-curable resin layer 7
The release substrate 4 and the substrate 8 for forming an uneven pattern are overlapped with each other, and ionizing radiation is irradiated from the release substrate 4 side to release the ionizing radiation-curable resin 7 on the surface of the substrate 8 for forming an uneven pattern. The part other than the part corresponding to the shielding pattern printing layer 16 of the material 4 is cured.

【0028】次いで、図3(c)に示すように、剥離基
材4を剥離して電離放射線硬化性樹脂層7の遮蔽性模様
印刷層6に対応する未硬化の部分13を電離放射線透過
性基材5と共に除去して凹部9を形成するとともに、剥
離基材4の着色インキ絵柄層16が転写して、該着色イ
ンキ絵柄層16が硬化した電離放射線硬化性樹脂12に
密着した硬化部17を形成する。この結果、凹凸模様1
4と該凹凸模様14に同調した印刷模様を有する凹凸模
様形成体15が形成される。尚、着色インキ絵柄層16
の遮蔽性模様印刷層6に対応する部分は剥離基材4と共
に除去される。
Next, as shown in FIG. 3C, the release substrate 4 is peeled off, and the uncured portion 13 of the ionizing radiation-curable resin layer 7 corresponding to the shielding pattern printing layer 6 is removed. The colored ink pattern layer 16 of the release substrate 4 is transferred, and the cured portion 17 adhered to the ionizing radiation-curable resin 12 in which the colored ink pattern layer 16 has been cured while removing the concave portion 9 together with the base material 5. To form As a result, the uneven pattern 1
4 and a concavo-convex pattern forming body 15 having a printed pattern synchronized with the concavo-convex pattern 14 are formed. In addition, the colored ink picture layer 16
The portion corresponding to the shielding pattern printing layer 6 is removed together with the release substrate 4.

【0029】さらに、本発明方法では、図4(b)に示
すように凹凸模様形成体15の凹部9には着色インキを
用いてワイピングを行いワイピングインキ層18を設け
ることもできる。ワイピングは凹部に着色インキを充填
し、該凹部を着色する塗装法であり、加工方法として
は、凹凸模様の全面に着色インキ(又は塗料)を塗工
し、次いで凹凸模様の上をドクターブレード、エアーナ
イフ或いは、スポンジ、布等を表面材とするローラー等
で拭き取り、凸部のインキを除去することにより行うこ
とができる。この際、凸部のインキは後で研磨を行うた
め完全に除去しなくてもよい。
Further, in the method of the present invention, as shown in FIG. 4 (b), a wiping ink layer 18 can be provided in the concave portion 9 of the uneven pattern forming body 15 by wiping using a coloring ink. Wiping is a coating method in which a concave portion is filled with a coloring ink and the concave portion is colored. As a processing method, a coloring ink (or paint) is applied to the entire surface of the concave and convex pattern, and then a doctor blade is applied on the concave and convex pattern. It can be performed by wiping with an air knife or a roller or the like having a sponge, cloth, or the like as a surface material, and removing the ink on the convex portions. At this time, the ink on the projections does not have to be completely removed because the ink is polished later.

【0030】ワイピング処理を行う前に、図4(a)に
示すように、凹凸模様形成体15の凸部10の表面に透
明樹脂層19を設けるのが好ましい。透明樹脂層19は
前述の印刷模様16を後述する研磨から保護するために
設けるもので、更に凹凸模様形成体15が化粧材として
使用される際に表面の傷つき防止等の保護機能も有す
る。透明樹脂層19は公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂及び電離放射線硬化性樹脂等により形成することがで
きるが、熱可塑性樹脂は塗工性、研磨性等の作業性が良
好であり、又、熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂
は作業性は熱可塑性より劣るものの硬化後の物性が優れ
ているので、化粧材の用途等に応じて適宜選定すればよ
い。この透明樹脂層の厚みは15〜20μmに形成する
のが好ましい。
Before performing the wiping process, it is preferable to provide a transparent resin layer 19 on the surface of the projection 10 of the uneven pattern forming body 15 as shown in FIG. The transparent resin layer 19 is provided to protect the above-described printed pattern 16 from polishing described below, and further has a protective function such as preventing the surface from being damaged when the uneven pattern forming body 15 is used as a decorative material. The transparent resin layer 19 can be formed of a known thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation-curable resin, or the like. The thermoplastic resin has good workability such as coating properties and polishing properties, and The thermosetting resin and the ionizing radiation curable resin are inferior in workability to thermoplasticity but have excellent physical properties after curing. Therefore, they may be appropriately selected according to the use of the decorative material. The thickness of the transparent resin layer is preferably formed in a range of 15 to 20 μm.

【0031】上記ワイピングによりワイピングインキ層
18を形成するための着色インキとしては、公知のイン
キの中から選定すればよいが、バインダー樹脂として
は、アクリル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等から
なる水性エマルジョン、或いはイソシアネート、アミン
等の硬化剤を用いた2液硬化型のポリウレタン、ポリエ
ステル、エポキシ、メラミン等を用いることが望まし
い。又着色顔料としては弁柄、黄鉛、墨、シアニンブル
ー、ポリアゾ等の公知のものの中から選択すればよい。
The coloring ink for forming the wiping ink layer 18 by the wiping may be selected from known inks, and the binder resin is made of acrylic, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer or the like. It is preferable to use an aqueous emulsion, or a two-part curable polyurethane, polyester, epoxy, melamine or the like using a curing agent such as isocyanate or amine. The coloring pigment may be selected from known pigments such as red iron oxide, graphite, black ink, cyanine blue, and polyazo.

【0032】以上の如くして、ワイピングを行ってワイ
ピングインキ層18を形成した後、最後にサンダー等で
透明樹脂層表面を研磨して凹部10上の余分の着色イン
キ18aを削り取り、透明樹脂層19表面が研磨されて
平滑になった凹凸模様形成体15が得られる。透明樹脂
層19を研磨する手段としては、湿式、乾式、サンドペ
ーパーによる研磨、バフ研磨等の方法が用いられる。
After the wiping is performed to form the wiping ink layer 18 as described above, the surface of the transparent resin layer is finally polished with a sander or the like to scrape off the excess colored ink 18a on the concave portion 10 to remove the transparent resin layer 18. As a result, an uneven pattern forming body 15 whose surface is polished and smoothed is obtained. As a means for polishing the transparent resin layer 19, a method such as a wet type, a dry type, sand paper polishing, and buff polishing is used.

【0033】更に必要に応じ、透明樹脂層19を研磨し
た後、図4(c)に示すように、透明樹脂層19の上か
ら保護コート層20を塗布形成することができる。該保
護コート層20は前記の電離放射線硬化性樹脂により形
成することもできるが、熱硬化性樹脂により形成しても
よい。本発明方法により得られる凹凸模様形成体は高級
塗装感を有し、化粧材としてドア、キッチン扉、家具等
の面材、壁面材等の種々の用途にもちいることができ
る。
Further, if necessary, after the transparent resin layer 19 is polished, a protective coat layer 20 can be applied from above the transparent resin layer 19 as shown in FIG. The protective coat layer 20 can be formed of the above-mentioned ionizing radiation curable resin, but may be formed of a thermosetting resin. The concavo-convex pattern formed body obtained by the method of the present invention has a high-grade paint feeling, and can be used as a decorative material in various applications such as doors, kitchen doors, surface materials such as furniture, and wall materials.

【0034】以下、具体的実施例を挙げて本発明を更に
詳細に説明する。 実施例1 剥離性及び紫外線透過性を有する基材として、厚み38
μmのポリエステルフィルム(東レ製:ポリエチレンテ
レフタレート)を用い、この表面に紫外線を遮蔽する白
色インキ(昭和インク製:UVHホワイト)にて木目の
導管模様を版深60μmのグラビア版にて印刷した後、
紫外線透過性を有する着色パールインキ(諸星インキ
製:UVTR)を用いて転写性の木目印刷層を乾燥後の
厚さが3μmになるようにグラビア印刷にて設けて剥離
基材を形成した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. Example 1 A substrate having a thickness of 38
Using a polyester film (polyethylene terephthalate, manufactured by Toray Industries, Inc.), the surface of this surface was printed with a white ink (UVH White, manufactured by Showa Ink: UVH White) that shields ultraviolet rays on a gravure plate having a plate depth of 60 μm.
A transferable wood-grain printing layer was provided by gravure printing using a colored pearl ink (UVTR, manufactured by Morohoshi Ink) having a UV-transmitting property so that the thickness after drying became 3 μm, thereby forming a release substrate.

【0035】別途、厚さ2.5mmの合板を準備し、該合
板の表面にエナメル系塗料を塗工して目止め処理を施し
凹凸模様形成用基材とした。次いでこの基材の表面に紫
外線硬化性塗料を厚みが100μmになるようにフロー
コートして未硬化の紫外線硬化性樹脂層を形成した。そ
して、前記木目印刷を施した剥離基材をその木目印刷面
が紫外線硬化性樹脂層と接するように凹凸模様形成用基
材と重ね、この積層体を出力80w/cmのオゾンレス
型紫外線ランプを5塔設置した照射装置中を20m/分
の速度で通過させながら剥離基材側から紫外線を照射し
て紫外線硬化性樹脂層を硬化させた後転写シートのポリ
エステルフィルムを剥離した。
Separately, a plywood having a thickness of 2.5 mm was prepared, and an enamel-based coating was applied to the surface of the plywood and subjected to a sealing treatment to obtain a substrate for forming an uneven pattern. Next, an ultraviolet-curable coating material was flow-coated on the surface of the substrate so as to have a thickness of 100 μm to form an uncured ultraviolet-curable resin layer. Then, the peeled substrate subjected to the grain printing is overlapped with the substrate for forming a concavo-convex pattern so that the grain-printed surface thereof is in contact with the UV-curable resin layer. Ultraviolet rays were irradiated from the release substrate side while passing through the irradiation device provided in the tower at a speed of 20 m / min to cure the ultraviolet curable resin layer, and then the polyester film of the transfer sheet was released.

【0034】剥離基材を剥離したところ、白色インキで
印刷した導管模様に相当する部分では紫外線硬化性樹脂
層のほとんどが未硬化となり、その一部が剥離基材と共
にポリエステルフィルムに付着して除去され、紫外線硬
化性樹脂層の除去された部分が木目導管の凹部として形
成され、紫外線硬化性樹脂層は硬化して基材上に残り、
その表面に木目模様が転写された。
When the release substrate was peeled off, almost all of the ultraviolet-curable resin layer was uncured in the portion corresponding to the conduit pattern printed with white ink, and a part of the layer adhered to the polyester film together with the release substrate and was removed. Is, the removed portion of the ultraviolet-curable resin layer is formed as a recess of the wood grain conduit, the ultraviolet-curable resin layer is cured and remains on the substrate,
The grain pattern was transferred to the surface.

【0035】更に凹凸模様表面を、イソプロピルアルコ
ールを浸み込ませたスポンジ製ロールを用い、コーター
圧8kg/cm2 でバフ研磨を行い未硬化で基材上に残った
紫外線硬化性樹脂層を除去し、次いで、2液硬化型ウレ
タン樹脂系の透明塗料を用いて化粧材基材の凸部に透明
樹脂層を形成した後、該透明樹脂層の上から2液硬化型
ウレタン樹脂系の茶系統に着色したワイピングインキを
用いてロールコーター法でワイピングを行って凹部に塗
料を充填した。ワイピング後、化粧材基材の表面にサン
ダーを行い、透明樹脂層の凹部表面に残るワイピングイ
ンキを削り取った(透明樹脂層ごと削り、しかし木目印
刷模様に達しない程度)。しかる後、艶調整の目的で化
粧材全面に艶調整クリアー塗料(ウレタン系)を用いて
保護コート層を約5μmの厚みにスプレーコートにて設
けて化粧材を得た。得られた化粧材は表面の硬度が高く
高級塗装感を有し、しかも印刷模様の削れ等のない優れ
た意匠性を有するものであった。
Further, the surface of the uneven pattern is subjected to buff polishing using a sponge roll impregnated with isopropyl alcohol at a coater pressure of 8 kg / cm 2 to remove the uncured ultraviolet curable resin layer remaining on the substrate. Then, after forming a transparent resin layer on the convex portion of the decorative material base using a two-component curable urethane resin-based transparent paint, a two-component curable urethane resin-based tea system is formed from above the transparent resin layer. Was wiped by a roll coater method using a colored wiping ink to fill the concave portions with the paint. After wiping, sanding was performed on the surface of the decorative material base material, and the wiping ink remaining on the concave surface of the transparent resin layer was scraped off (the entire transparent resin layer was cut off, but it did not reach the grain print pattern). Thereafter, for the purpose of gloss control, a protective coating layer was provided to a thickness of about 5 μm by spray coating using a gloss control clear paint (urethane-based) over the entire surface of the decorative material to obtain a decorative material. The obtained decorative material had a high surface hardness and a high-grade paint feeling, and also had an excellent design without shaving of the printed pattern.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明した如く、本発明凹凸模様形成
体の製造方法は、剥離基材の電離放射線遮蔽模様の位置
に対応する未硬化の電離放射線硬化性樹脂の一部を、剥
離基材の剥離時に該基材に付着させて除去して凹部を形
成し、この凹部に残存する未硬化の電離放射線硬化性樹
脂を、溶剤を浸み込ませたスポンジ製ローラーを用いて
バフ研磨し、ローラーで掻き取りながら除去するので、
溶剤のみによる溶解除去法と比較して、溶剤の使用量が
少なくてすみ、そのため、乾燥時間を短縮することがで
き、さらに特別な乾燥設備も不要になる。更に、溶剤の
使用量が少なくてすむため危険性も少なくなる。また、
スポンジ製ローラーは柔軟な素材からなるので、凹凸模
様形成用基材との密着性の弱い硬化した樹脂と未硬化の
樹脂との境界部分であある凹部周辺および凹部のエッジ
が削り取られることなく、凹凸模様を傷つけずに未硬化
の樹脂を除去することができる。従って、凹部の深さ、
凹部のエッジのシャープさ等がより優れたシャープで立
体感に富む凹凸模様が得られるために、優れた意匠性を
有する上記凹凸模様形成体を確実に製造することができ
る。
As described above, according to the method for producing a concavo-convex pattern-formed body of the present invention, a part of the uncured ionizing radiation-curable resin corresponding to the position of the ionizing radiation shielding pattern on the peeling substrate is removed. At the time of peeling to remove and adhere to the substrate to form a recess, the uncured ionizing radiation-curable resin remaining in the recess, buffing using a sponge roller impregnated with a solvent, Since it is removed while scraping with a roller,
Compared with the dissolving and removing method using only a solvent, the amount of the solvent used can be reduced, so that the drying time can be shortened and no special drying equipment is required. Furthermore, danger is reduced because the amount of the solvent used is small. Also,
Since the sponge roller is made of a flexible material, the periphery of the concave portion and the edge of the concave portion, which is the boundary portion between the cured resin and the uncured resin having weak adhesion to the uneven pattern forming base material, are not scraped off, Uncured resin can be removed without damaging the uneven pattern. Therefore, the depth of the recess,
Since a concavo-convex pattern with a more excellent three-dimensional effect is obtained, in which the sharpness of the edge of the concave portion is more excellent, the above-mentioned concavo-convex pattern-formed body having excellent design properties can be reliably produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明凹凸模様成形体の製造方法の1実施例に
おける製造の1工程を示す説明図であり、凹凸模様形成
体の要部縦断面を示す。
FIG. 1 is an explanatory view showing one step of production in one embodiment of a method for producing a concavo-convex pattern forming body of the present invention, and shows a longitudinal section of a main part of the concavo-convex pattern forming body.

【図2】溶剤を浸み込ませたスポンジ製ローラーにより
凹凸模様の凹部に残存する未硬化樹脂を掻き取り除去す
る工程を示す要部縦断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view of an essential part showing a step of scraping and removing uncured resin remaining in concave portions of the uneven pattern by a sponge roller impregnated with a solvent.

【図3】本発明凹凸模様成形体の製造方法の1実施例に
おける製造の1工程を示す説明図であり、凹凸模様形成
体の要部縦断面を示す。
FIG. 3 is an explanatory view showing one step of production in one embodiment of the method for producing a concavo-convex pattern forming body of the present invention, and shows a longitudinal section of a main part of the concavo-convex pattern forming body.

【図4】本発明凹凸模様成形体の製造方法の1実施例に
おける製造の1工程を示す説明図であり、凹凸模様形成
体の要部縦断面を示す。
FIG. 4 is an explanatory view showing one step of the production in one embodiment of the method for producing a concavo-convex pattern forming body of the present invention, and shows a longitudinal section of a main part of the concavo-convex pattern forming body.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スポンジ製ローラー 4 剥離基材 5 電離放射線透過性基材 6 遮蔽性模様印刷層 7 電離放射線硬化性樹脂層 8 凹凸模様形成用基材 9 凹部 10 凸部 11 残存する未硬化の電離放射線硬化性樹脂 13 除去された未硬化の電離放射線硬化性樹脂 14 凹凸模様 15 凹凸模様形成体 16 着色インキ絵柄層 REFERENCE SIGNS LIST 1 sponge roller 4 release substrate 5 ionizing radiation transmitting substrate 6 shielding pattern printing layer 7 ionizing radiation curable resin layer 8 substrate for forming concavo-convex pattern 9 concave portion 10 convex portion 11 remaining uncured ionizing radiation curable Resin 13 Uncured ionizing radiation-curable resin removed 14 Uneven pattern 15 Uneven pattern forming body 16 Colored ink picture layer

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−163127(JP,A) 特開 平4−163126(JP,A) 特開 昭51−61770(JP,A) 特開 昭63−130168(JP,A) 特開 昭52−87470(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05D 5/06 104 B29C 59/00 Continuation of front page (56) References JP-A-4-163127 (JP, A) JP-A-4-163126 (JP, A) JP-A-51-61770 (JP, A) JP-A-63-130168 (JP, A) , A) JP-A-52-87470 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B05D 5/06 104 B29C 59/00

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記工程を順次行うことを特徴とする化粧
材に用いる凹凸模様形成体の製造方法。 (A)表面が剥離性を有する電離放射線透過性基材の表
裏いずれかの面に電離放射線遮蔽性模様を設けた剥離基
材を準備する第1工程。 (B)凹凸模様形成用基材と剥離基材の表面を、電離放
射線硬化性樹脂層を介して重ね合わせる第2工程。 (C)剥離基材側より電離放射線を照射して電離放射線
遮蔽性模様のない部分に相当する電離放射線硬化性樹脂
層を硬化させる第3工程。 (D)剥離基材を剥離して電離放射線硬化性樹脂層の未
硬化部の樹脂の一部を剥離基材に付着させて除去して凹
部を形成する第4工程。 (E)凹凸模様形成用基材の凹凸模様表面に残った未硬
化の電離放射線硬化性樹脂の一部又は全部を残留した未
硬化の樹脂を溶解する溶剤を浸み込ませたスポンジ製ロ
ーラーにより掻き取りながら溶解除去する第5工程。
1. A makeup characterized by sequentially performing the following steps:
A method for producing a concavo-convex pattern forming body used for a material . (A) A first step of preparing a release substrate having an ionizing radiation transmitting pattern provided on one of the front and back surfaces of an ionizing radiation-transmitting substrate having a releasable surface. (B) a second step of superposing the surfaces of the substrate for forming a concavo-convex pattern and the release substrate via an ionizing radiation-curable resin layer. (C) a third step of irradiating ionizing radiation from the release substrate side to cure the ionizing radiation-curable resin layer corresponding to a portion having no ionizing radiation shielding pattern. (D) a fourth step of removing the release base material and attaching a part of the uncured resin of the ionizing radiation-curable resin layer to the release base material and removing the resin to form a concave portion; (E) A sponge roller impregnated with a solvent that dissolves the uncured resin remaining partially or entirely on the uncured ionizing radiation-curable resin remaining on the uneven pattern surface of the uneven pattern forming substrate. Fifth step of dissolving and removing while scraping.
【請求項2】凹凸模様形成用基材表面に残った未硬化の
電離放射線硬化性樹脂を、溶剤を浸み込ませたスポンジ
製ローラーにより掻き取り除去した後、更に電離放射線
を照射し凹凸模様形成用基材の凹凸模様表面に残存する
未硬化樹脂を完全に硬化させることを特徴とする請求項
1記載の化粧材に用いる凹凸模様形成体の製造方法。
2. An uncured ionizing radiation-curable resin remaining on the surface of a substrate for forming a concavo-convex pattern is scraped off by a sponge roller impregnated with a solvent, and is further irradiated with ionizing radiation to obtain a concavo-convex pattern. manufacturing method of the unevenness pattern formed body used for the decorative material according to claim 1, wherein the complete curing of the uncured resin remaining on the uneven pattern surface of the substrate for forming.
【請求項3】電離放射線透過性基材の表裏いずれかの面
に設けた電離放射線遮蔽性模様とともに、電離放射線硬
化性樹脂と接する側の面に電離放射線を少なくとも一部
は透過する着色インキ絵柄層を設けた剥離基材を用い、
着色インキ絵柄層の転写した凸部を形成することを特徴
とする請求項1或いは請求項2記載の化粧材に用いる
凸模様形成体の製造方法。
3. A colored ink pattern that transmits at least a portion of ionizing radiation to the surface in contact with the ionizing radiation-curable resin, together with the ionizing radiation-shielding pattern provided on one of the front and back surfaces of the ionizing radiation-transmitting substrate. Using a release substrate provided with a layer,
The method for producing a concave-convex pattern-forming body for use in a decorative material according to claim 1 or 2, wherein the convex part to which the colored ink picture layer is transferred is formed.
【請求項4】凹凸模様形成用基材表面に形成された凹凸
模様の凹部に、着色インキを用いてワイピングを行うこ
とを特徴とする請求項1から請求項3のいづれか1項に
記載の化粧材に用いる凹凸模様形成体の製造方法。
4. The makeup according to any one of claims 1 to 3, wherein wiping is performed on the concave portions of the concave and convex pattern formed on the surface of the substrate for forming a concave and convex pattern using a coloring ink. A method for producing a concavo-convex pattern forming body used for a material .
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