JPH01161124A - 光波長測定方法 - Google Patents
光波長測定方法Info
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- JPH01161124A JPH01161124A JP62319926A JP31992687A JPH01161124A JP H01161124 A JPH01161124 A JP H01161124A JP 62319926 A JP62319926 A JP 62319926A JP 31992687 A JP31992687 A JP 31992687A JP H01161124 A JPH01161124 A JP H01161124A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B12/04—Alkali metal or ammonium silicate cements ; Alkyl silicate cements; Silica sol cements; Soluble silicate cements
-
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光源の波長を測定する方法に関する。
（従来技術）
光の波長を測定する方法として従来より干渉膜フィルタ
の光透過率の波長依存性を利用した方法や、水晶の旋光
性の波長依存性を利用した方法がある１゜ 上記方法のうち水晶旋光子を用いた方法に使用する従来
の光学装置の一実施例を第２図に示す。
の光透過率の波長依存性を利用した方法や、水晶の旋光
性の波長依存性を利用した方法がある１゜ 上記方法のうち水晶旋光子を用いた方法に使用する従来
の光学装置の一実施例を第２図に示す。
同図に於て１はその波長を測定しようとする光源であっ
て、該光源より出射した光をコリメートレンズ２によっ
て平行光線とした後方解石製複屈折板３を通過させれば
直線偏光となる。
て、該光源より出射した光をコリメートレンズ２によっ
て平行光線とした後方解石製複屈折板３を通過させれば
直線偏光となる。
更に該直線偏光を水晶製旋光子７を透過せしめて光源波
長に応じた旋光角が与えられ次段の方解石製複屈折板５
に入射する。該検光子５に於て、前記旋光角をもつ直線
偏光はその旋光角に応じて常光線と異常光線とに分かれ
る。従って常光線と異常光線夫々の強度を受光器６で測
定し９両者の光強度の比を検出して旋光角を求める。更
に該旋光角と前記旋光子厚み１玉当シの旋光角、即ち旋
光能を求めれば、該旋光能は光源波長と１対１に対応し
ている為該旋光能を知ることによりその波長を測定する
ことができる。
長に応じた旋光角が与えられ次段の方解石製複屈折板５
に入射する。該検光子５に於て、前記旋光角をもつ直線
偏光はその旋光角に応じて常光線と異常光線とに分かれ
る。従って常光線と異常光線夫々の強度を受光器６で測
定し９両者の光強度の比を検出して旋光角を求める。更
に該旋光角と前記旋光子厚み１玉当シの旋光角、即ち旋
光能を求めれば、該旋光能は光源波長と１対１に対応し
ている為該旋光能を知ることによりその波長を測定する
ことができる。
しかしながら、上記測定方法はそれに使用される光学部
品として方解石製の複屈折板等高節々ものが少なくなく
、測定装置として高コストであシ更に夫々の光学部品の
点数が多い為光学軸の調整が困難である。又、光通信用
光波長計の使用帯域とされる０、６〜１．６μｍ帯を第
２図の方法で測定する為には１塊類の旋光子では高精度
の測定は不可能であシ、少なくとも２種類の厚みの旋光
子を１対にして使用しなければならず、−層高価なもの
と力ってしまう欠点があった。
品として方解石製の複屈折板等高節々ものが少なくなく
、測定装置として高コストであシ更に夫々の光学部品の
点数が多い為光学軸の調整が困難である。又、光通信用
光波長計の使用帯域とされる０、６〜１．６μｍ帯を第
２図の方法で測定する為には１塊類の旋光子では高精度
の測定は不可能であシ、少なくとも２種類の厚みの旋光
子を１対にして使用しなければならず、−層高価なもの
と力ってしまう欠点があった。
更に干渉膜フィルタを用いた測定方法に於ては干渉膜フ
ィルタ自体に広帯域特性を持たせることが困難な為測定
波長範囲が極めて狭くなる等の欠点があった〇 （発明の目的） 本発明は上述した如き欠点を除去する為になされたもの
であって従来必要とされていた高価な光学部品の点数を
減少させ安価な装置でしかも高精度な波長測定を可能と
した波長測定方法を提供することを目的とする。
ィルタ自体に広帯域特性を持たせることが困難な為測定
波長範囲が極めて狭くなる等の欠点があった〇 （発明の目的） 本発明は上述した如き欠点を除去する為になされたもの
であって従来必要とされていた高価な光学部品の点数を
減少させ安価な装置でしかも高精度な波長測定を可能と
した波長測定方法を提供することを目的とする。
（発明の概要）
この目的を達成する為に本発明の光波長測定方法は以下
の如き手段を講する。
の如き手段を講する。
即ち、ｘ、ｙ、ｚ軸直交座標系に於けるＺ方向に進行し
且つその振動のベクトルの方向がＸ軸力向なる直線偏光
を位相差発生素子に照射し。
且つその振動のベクトルの方向がＸ軸力向なる直線偏光
を位相差発生素子に照射し。
該照射により得た前記位相差発生素子よ勺の反射光或は
透過光を検光子に透過させ該検光子から出射した光強度
を測定し且つ前記検光子な前記直交座標系のＺ軸を基準
として回転させ任意の複数の地点に於ける回転角及びそ
の時の前記検光子から出射した光強度に基づいて前記位
相差発生素子の位相差を求め、該位相差よ多光源の波長
を測定するものである。
透過光を検光子に透過させ該検光子から出射した光強度
を測定し且つ前記検光子な前記直交座標系のＺ軸を基準
として回転させ任意の複数の地点に於ける回転角及びそ
の時の前記検光子から出射した光強度に基づいて前記位
相差発生素子の位相差を求め、該位相差よ多光源の波長
を測定するものである。
（実施例）
以下５本発明を図面に示した実施例に基づいて詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の実施にあたって用いる装置の一実施例
を示す図でおる。
を示す図でおる。
同図に於て１はその波長を測定せんとする光源、２は偏
光子であって前記光源１より発した光が前記偏光子を通
過し直線偏光となシ、該直線偏光の振動ベクトルの方向
がｘ、ｙ、ｚ軸直交座標系のＸ軸方向且つ前記直線偏光
の進行方向がＺ軸方向となるように前記光源１及び偏光
子２を配置する。該偏光子２の出射面側に位相差発生素
子４を配置し、該位相差発生素子４はガラス等の材料に
誘電体多層膜を蒸着したものでそれに入射する光の波長
変化に伴ない出射する光の位相を著しく変化させるもの
で該位相変化は波長依存性なもつものである。該位相差
発生素子に入射する偏光は位相差発生素子を透過及び反
射するが第３図に示す如き特性の位相差発生素子を用い
ればその分光特性により１．０／／ｍ以上の長波長帯で
はＳ偏光及びＰ偏光共に透過率が非常に高くなる為透過
による光を検光子に入射し、その出力を光検出器にて受
光することにより光強度を求め９反対に、１．０μｍ以
下の短波長帯では透過率が低く反射率が高いので反射光
から光強度を求めるようにし、該光強度より前記位相差
発生素子の位相差を求め、更に該位相差よ多光源の波長
を知るものである。
光子であって前記光源１より発した光が前記偏光子を通
過し直線偏光となシ、該直線偏光の振動ベクトルの方向
がｘ、ｙ、ｚ軸直交座標系のＸ軸方向且つ前記直線偏光
の進行方向がＺ軸方向となるように前記光源１及び偏光
子２を配置する。該偏光子２の出射面側に位相差発生素
子４を配置し、該位相差発生素子４はガラス等の材料に
誘電体多層膜を蒸着したものでそれに入射する光の波長
変化に伴ない出射する光の位相を著しく変化させるもの
で該位相変化は波長依存性なもつものである。該位相差
発生素子に入射する偏光は位相差発生素子を透過及び反
射するが第３図に示す如き特性の位相差発生素子を用い
ればその分光特性により１．０／／ｍ以上の長波長帯で
はＳ偏光及びＰ偏光共に透過率が非常に高くなる為透過
による光を検光子に入射し、その出力を光検出器にて受
光することにより光強度を求め９反対に、１．０μｍ以
下の短波長帯では透過率が低く反射率が高いので反射光
から光強度を求めるようにし、該光強度より前記位相差
発生素子の位相差を求め、更に該位相差よ多光源の波長
を知るものである。
上述した如き構成に於いて前記光検出器６に入射する光
強度■と位相差発生素子４の光学的位相差δとの関係を
数式を用いて更に詳しく説明する。検光子５の２軸を基
準とした回転角度なθ８位相板３に於ける光学軸のＸ軸
に対するＸ軸方向への偏差角をＡ、試料のＰ偏光及びＳ
偏光に対する反射率をｒｐ、ｒｓとし、更に位相差発生
素子の反射による位相差をδ９位相板の位相差を△とす
ると光検出器６に入射する光強１ｉＩはジョーンズベク
トルの解析方法より■（θ、Ａ）＝ｒｐ ｃｏｓ θ−
（ｒｐｃｏｓθ−ｒｓｓ１１１θ）ｓｘｎ ２Ａｐｒｓ ” Ｓｌ、ｎへ／２＋−５ｉｎ２θ（ｓｉｎ ４ Ａ
ｓｘｎ Ａ／ＣＯ５δ＋ｓｉｎ ２ Ａ １１ｓｉｎ△
＊ ｓｉｎδ） ・−＝・（１）で表される。今
２位相板の光学軸の偏差角Ａを４５°とすると（１）式
は ■（θ）＝ｒｐ ｃｏｓθ−（ｒｐｃｏｓθ−ｒＳ Ｓ
ｉＨ６） ｓｘｎ△／２ｐｒｓ ＋ −ｓｉｎ ２θ・ｓｉｎ△・ｓｉｎδ ・・・・
・・・・・ （２）となる。
強度■と位相差発生素子４の光学的位相差δとの関係を
数式を用いて更に詳しく説明する。検光子５の２軸を基
準とした回転角度なθ８位相板３に於ける光学軸のＸ軸
に対するＸ軸方向への偏差角をＡ、試料のＰ偏光及びＳ
偏光に対する反射率をｒｐ、ｒｓとし、更に位相差発生
素子の反射による位相差をδ９位相板の位相差を△とす
ると光検出器６に入射する光強１ｉＩはジョーンズベク
トルの解析方法より■（θ、Ａ）＝ｒｐ ｃｏｓ θ−
（ｒｐｃｏｓθ−ｒｓｓ１１１θ）ｓｘｎ ２Ａｐｒｓ ” Ｓｌ、ｎへ／２＋−５ｉｎ２θ（ｓｉｎ ４ Ａ
ｓｘｎ Ａ／ＣＯ５δ＋ｓｉｎ ２ Ａ １１ｓｉｎ△
＊ ｓｉｎδ） ・−＝・（１）で表される。今
２位相板の光学軸の偏差角Ａを４５°とすると（１）式
は ■（θ）＝ｒｐ ｃｏｓθ−（ｒｐｃｏｓθ−ｒＳ Ｓ
ｉＨ６） ｓｘｎ△／２ｐｒｓ ＋ −ｓｉｎ ２θ・ｓｉｎ△・ｓｉｎδ ・・・・
・・・・・ （２）となる。
更に検光子５０回転角度０をθ１＝π／２．θ２−π／
４．θ８＝０．θ４＝−π／４と設定しく２）弐に夫々
代入すると、各回転時に於いて得られる光強度Ｉｆ、Ｔ
、２．Ｉ８．Ｉ４は １１＝Ｉ（θ１ ）＝ｒｓ ｓｘｎ△／２ −＝−・−
（３１１２＝Ｉ（θ２）−１／２ｒｐ −１，７２（ｒ
ｐ −ｒｓ ）ｓｔｎｐｒｓ △７２ ＋−ｓ１ｎ△＊ ｓｉｎδ ・−・−ｆ４１Ｉ
ｓ ＝ Ｉ （０ｇ ）＝ｒｐ ＣＯ５△／２
− （５１１４＝Ｉ（θ４）＝１／２ｒｐ −１／
２（ｒｐ −ｒｓ ）Ｓｉｌｌ △となるので（３
１、（４１、（５） 、 （６）式より位相差発生素子
の位相差δは で表される。
４．θ８＝０．θ４＝−π／４と設定しく２）弐に夫々
代入すると、各回転時に於いて得られる光強度Ｉｆ、Ｔ
、２．Ｉ８．Ｉ４は １１＝Ｉ（θ１ ）＝ｒｓ ｓｘｎ△／２ −＝−・−
（３１１２＝Ｉ（θ２）−１／２ｒｐ −１，７２（ｒ
ｐ −ｒｓ ）ｓｔｎｐｒｓ △７２ ＋−ｓ１ｎ△＊ ｓｉｎδ ・−・−ｆ４１Ｉ
ｓ ＝ Ｉ （０ｇ ）＝ｒｐ ＣＯ５△／２
− （５１１４＝Ｉ（θ４）＝１／２ｒｐ −１／
２（ｒｐ −ｒｓ ）Ｓｉｌｌ △となるので（３
１、（４１、（５） 、 （６）式より位相差発生素子
の位相差δは で表される。
即ち前記検光子５をＺ軸を基準とした回転角度θをπ／
２．π／４ 、 Ｏ、−π／４と回転移動することによ
って得られる光強度１１．Ｉｇ 、Ｉｌｌ 、Ｉ４ を
検出しく７）式に於ける演算処理を行なうことにより位
相差発生素子４の位相差δを求めることができる。
２．π／４ 、 Ｏ、−π／４と回転移動することによ
って得られる光強度１１．Ｉｇ 、Ｉｌｌ 、Ｉ４ を
検出しく７）式に於ける演算処理を行なうことにより位
相差発生素子４の位相差δを求めることができる。
前述の如く前記位相差発生素子の位相差δは入射する光
の波長に依存性をもつものであって、該位相差から波長
を求める方法は周知の如く偏光解析を用いればよい。
の波長に依存性をもつものであって、該位相差から波長
を求める方法は周知の如く偏光解析を用いればよい。
又、該偏光解析結果を予め記憶装置に記憶させておき測
定した位相差に対応した波長を記憶装置から出力するよ
うにしてもよい。
定した位相差に対応した波長を記憶装置から出力するよ
うにしてもよい。
同２本発明の実施にあたっては上述した装置例に限定す
るものではなく他のＶ；置によって同等の手段を用いて
もよく７例えば光検出器に於ける位相差の測定精度を上
昇させるには第４図に示す如く偏光子２と位相差発生素
子４との間にＺ軸に対して直交するように配置した位相
板８を設けることにより前記偏光子２より出射する直線
偏光を円或は楕円偏光とすればよいことは明らかである
。更に光強度計測ポイントを検光子を（ロ）転させた４
点にて計測し、且つその４点は互いにπ／４ずつ移相し
て行なったがこれに限らず任意の点で測定してもよく、
又１位相差発生素子に対する光の入射角グは００＜＄＜
９００であれば任意の値をとり、該位相差発生素子より
の出射光の走査線上に検光子及び光検出器を設置すれば
よいことは明らかである。
るものではなく他のＶ；置によって同等の手段を用いて
もよく７例えば光検出器に於ける位相差の測定精度を上
昇させるには第４図に示す如く偏光子２と位相差発生素
子４との間にＺ軸に対して直交するように配置した位相
板８を設けることにより前記偏光子２より出射する直線
偏光を円或は楕円偏光とすればよいことは明らかである
。更に光強度計測ポイントを検光子を（ロ）転させた４
点にて計測し、且つその４点は互いにπ／４ずつ移相し
て行なったがこれに限らず任意の点で測定してもよく、
又１位相差発生素子に対する光の入射角グは００＜＄＜
９００であれば任意の値をとり、該位相差発生素子より
の出射光の走査線上に検光子及び光検出器を設置すれば
よいことは明らかである。
また２本発明の実施例に用いた位相差発生素子は誘電体
多層膜に限るもので々く多層、単層な問わず、それに付
着させる物質は波長依存性をもつ位相差発生体であれば
よいことは自明である。
多層膜に限るもので々く多層、単層な問わず、それに付
着させる物質は波長依存性をもつ位相差発生体であれば
よいことは自明である。
（発明の効果）
本発明は上述した如く構成し且つ機能するものであるか
ら高価な光学部品の点数を減少させるのみならず測定波
長範囲を拡大し、精度の高い結果を得る上で著効を奏す
るものである。
ら高価な光学部品の点数を減少させるのみならず測定波
長範囲を拡大し、精度の高い結果を得る上で著効を奏す
るものである。
第１図及び第４図は本発明を実施するにあたって用いる
装置の一実施例を示す図、第２図は従来用いられている
光波長測定装置の一例を示す図、第３図は本実施例に用
いる位相差発生素子の特性を示す図である。 １・・・・・・・・・光源、 ２・・・・・・
・・・ユリメートレンズ、 ３・・・・・・・・・
偏光子、 ４・・・・・・・・・位相差発生素子、
５・・・・・・・・・検光子。 ６・・・−・・・・・受光器、 ７・・・・・・・
・旋光子。 ８・・・・・・・・・位相板。 ＝１０−
装置の一実施例を示す図、第２図は従来用いられている
光波長測定装置の一例を示す図、第３図は本実施例に用
いる位相差発生素子の特性を示す図である。 １・・・・・・・・・光源、 ２・・・・・・
・・・ユリメートレンズ、 ３・・・・・・・・・
偏光子、 ４・・・・・・・・・位相差発生素子、
５・・・・・・・・・検光子。 ６・・・−・・・・・受光器、 ７・・・・・・・
・旋光子。 ８・・・・・・・・・位相板。 ＝１０−
Claims (3)
- （１）光の波長を測定する方法であって、光源よりの光
を偏光する手段と、該手段により得た偏光を、その発生
する位相差が波長依存性をもつ位相差発生素子に照射し
、該照射によって得た前記位相差発生素子よりの反射光
或は透過光を検光子に透過させ、該検光子から出射した
光強度に基づいて前記位相差発生素子の位相差を求め、
該位相差より光源の波長を測定したことを特徴とする光
波長測定方法。 - （２）前記光強度を測定する際に前記検光子を光の入射
する軸を中心に回転させ、任意の複数の地点に於ける回
転角及びその時の前記検光子から出射した光強度に基づ
いて前記位相差発生素子の位相差を求め、該位相差から
光源の波長を求めたことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の光波長測定方法。 - （３）前記位相差発生素子はガラス等の材料に位相差発
生用の多層膜を蒸着したことを特徴とする特許請求の範
囲第１項及び（２）項記載の光波長測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62319926A JPH01161124A (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | 光波長測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62319926A JPH01161124A (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | 光波長測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01161124A true JPH01161124A (ja) | 1989-06-23 |
Family
ID=18115778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62319926A Pending JPH01161124A (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | 光波長測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01161124A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994004894A1 (en) * | 1992-08-25 | 1994-03-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical wavelength measuring instrument |
| US8313149B2 (en) | 2007-08-27 | 2012-11-20 | Ts Tech Co., Ltd. | Foot cover and vehicle seat |
-
1987
- 1987-12-17 JP JP62319926A patent/JPH01161124A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994004894A1 (en) * | 1992-08-25 | 1994-03-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical wavelength measuring instrument |
| EP0614074A1 (en) * | 1992-08-25 | 1994-09-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical wavelength measuring instrument |
| EP0614074A4 (en) * | 1992-08-25 | 1995-01-18 | Tokyo Shibaura Electric Co | DEVICE FOR MEASURING THE OPTICAL WAVELENGTH. |
| US8313149B2 (en) | 2007-08-27 | 2012-11-20 | Ts Tech Co., Ltd. | Foot cover and vehicle seat |
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