JPH01156930A - 放射標識した複合体の製造 - Google Patents

放射標識した複合体の製造

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JPH01156930A
JPH01156930A JP63202614A JP20261488A JPH01156930A JP H01156930 A JPH01156930 A JP H01156930A JP 63202614 A JP63202614 A JP 63202614A JP 20261488 A JP20261488 A JP 20261488A JP H01156930 A JPH01156930 A JP H01156930A
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JP63202614A
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Robert S Wu
ロバート、エス、ウー
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Immunomedics Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発更■背景 本発明は、能率的な前標識技術を使用する放射標識した
複合体、特に抗体もしくは抗体フラグメント複合体の製
造方法に関する。この方法は、テクネチウム、レニウム
および銅、特にTc−99m、Re−186およびCu
−67での標識に特に有効である。上記方法に使用する
ための標識剤も提供される。
テクネチウム−99mは外部ガンマシンチグラフィーの
ための魅力的な物理的性質、例えば141KeV放出お
よび6時間半減期を有し、そして低コストおよび容易な
入手性の利益を有するガンマ線放出ラジオアイソトープ
である。Tc−99mの化学はいくらか複雑であるが、
Tc−標識複合体を製造するための既存の方法はこの分
野において問題のすべてを解決しない。特にタンパク、
特に抗体または抗体フラグメントをTc−99mで標識
する方法は困難に満ちている。
還元したTc−99mによるタンパクの直接標識が報告
されている。一般にそのような方法は、分子中のジスル
フィド結合の還元によるタンパク中の遊離チオール基の
生成に依存し、そしてTcイオンは発生器でつくった過
テクネチウム酸イオンT c Os−の還元によって製
造される。過テクネチウム酸塩の還元から生ずる特定の
原子価状態およびイオン種は多くの場合よく確立され、
それらは安定剤の存在または不存在と、および/または
還元剤の性格に依存する。
種々のキレータがタンパクへ複合され、そして複合体が
場合により還元剤および/またはテクネチウムの還元形
のための他の安定剤の存在下過テクネチウム酸塩と反応
された。タンパクとエチレンジアミンテトラ酢酸(ED
TA)、 ジエチレントリアミンペンタ酢酸(DTPA
)および種々のジアミン/ジオール化合物の複合体の標
識化が開示された。 既知の標識方法の主な欠点は、抗
体/キレータ−複合体の標識は、一般に過テクネチウム
酸塩のための還元剤、最も普通には第1スズイオンの過
剰と抗体との接触を含むことである。
これはしばしば抗体中のジスルフィド結合の少なくとも
一部の還元を発生し、これは免疫反応性を含む分子の一
体性のいくらかの損失を生ずる。加えて、ジスルフィド
結合のそのような開裂によって生成したチオール基は還
元された過テクネチウム酸と競合し、所望のキレート複
合体の形ではないいくらかの標識化を生ずる。そのよう
なチオール結合テクネチウムはキレ−化したテクネチウ
ムより体内の他の器官へより容易に失われ、および/ま
たはより非効率的に排泄されることができる。
後で抗体、もっと−船釣にはテクネチウム標識を結合し
ようと望む他の化合物上のある基と反応のための官能基
を有するキレータ中へ還元した過テクネチウム酸を導入
する標識方法は、あらかじめつくったキレータ−/抗体
複合体を標識する現在の方法をこえる著しい利益を持つ
であろう。
周期律表においてテクネチウムの直下に見られるレニウ
ムは同じ外殻電子配列を持ち、そのため非常に類似の化
学的性質、そして特に類似化合物の挙動を持つことが期
待される。実際に、レニウム化合物は還元およびキレー
ト化に関してはテクネチウム化合物と同様に挙動するが
、しかしそれらは−層酸化され易いため取扱いにより大
きな注意を必要とする。
ラジオアイソトープRe−186は造影および治療の両
方に魅力的である。それは約367日の半減期と、高い
LETベータ放出(1,07MeV)と、・そして便利
なガンマ放射エネルギー(0,’137MeV)を持っ
ている。テクネチウムと同様に、レニウムは過レニウム
酸塩からつくられ、そして3元されたレニウムイオンは
タンパクへ非特異的に結合する。従って還元した過レニ
ウム酸塩が活性化したキレータ−によって最初にキレー
ト化され、そして次に他の化合物、例えば抗体のような
タンパク分子へ複合化されるタンパクのRe−186標
識方法は、非特異的標識および/または還元系によるタ
ンパクの破壊を避けるために有利であろう。
銅イオンもイオウ−窒素キレータ−によってしっかりと
キレート化される。Cu−67は造影および治療のため
の魅力ある他の放射性核種である。
それは約2.6日の半減期と、ベータ放出(0,57Q
 M e V )およびガンマ放出(0,185MeV
)を持っているが、ベータエネルギーは比較的低い。
Cu−67は比較的高価であり、そして容易に入手でき
ないが、そのような条件は需要が開発されるにつれて変
わり得る。それは安定なキレートを形成し、標識が節単
で速く、そして還元剤を必要としないという利益を持っ
ている。もしCu (II)イオンをアミンおよび特に
チオール含有化合物へ結合しようと望むならば、非特異
的結合が問題となり得る。そのような場合、キレータ−
をCu−67であらかじめ標識し、次にキレータ−をタ
ンパクと反応させて複合化を実現するのが望ましいであ
ろう。
銅に似たキレート化挙動を有する他の放射性核種、例え
ば水銀および鉛も、前標識技術を用いてより大きい特異
性をもってアミンおよびチオール含有化合物へ結合し得
るであろう。Hg−197は約1.5日の半減期を持ち
、そしてガンマ線を78〜268KeVのエネルギー範
囲で放出するので、それをガンマシンチグラフィーに適
したものとする。B i−212は約1時間の半減期と
6.(19MeVのエネルギーを持つアルファ放出核種
であり、それを生体内治療のため多大な関心あるものと
する。それは約10.6時間の半減期をもって239K
eVのガンマ線の放出を伴ってPb−212前駆体から
その場で生成する。このためB1−212療法のための
抗体複合体はPb−212標識複合体であり、ここでは
これを指示するため鉛/ビスマスもしくはPb/Biと
略記される。
特異的に標識した複合体を形成するようにその後アミン
またはチオール含有化合物と反応し得るキレートの効率
的な前標識のための方法および試薬は、現在ある種の放
射性核種の生体内造影および治療のための使用を妨げて
いる需要を満たし、そして問題を解決するであろう。
本光匪■旦煎 本発明の一目的はテクネチウム、レニウム、銅、水銀ま
たは鉛/ビスマスのラジオアイソトープが後で標識され
た複合体を形成するようにアミンまたはチオール基と反
応し得るキレータ−のビス−チオセミカルバゾン官能へ
結合される、放射標識された複合体を製造するための一
般的方法を提供することである。
本発明の他の一目的は、前記方法に使用するためテクネ
チウム、レニウム、銅、水銀および鉛/ビスマス標識剤
を提供することである。
本発明のさらに他の一目的は、前記方法に従って標識さ
れたテクネチウム標識もしくは抗体フラグメントを使用
する、腫瘍の造影および/または処置の改良方法を提供
することである。
本発明のなお他の一目的は、前記方法に従って標識され
たレニウム、銅、水銀または鉛/ビスマス標識された抗
体もしくは抗体フラグメントを使用する、腫瘍の造影お
よび/または処置方法を提供することである。
明細書および特許請求の範囲をさらに考究する時、本発
明の他の目的および利益は当業者に明らかになるであろ
う。
本光皿■■叉 これらの目的は、 (a)1.2−、1.3−または1,4−ジカルボニル
化合物のビス−チオセミカルバゾンの活性エステル誘導
体もしくはチオール誘導体を、実質上活性エステルもし
くはチオール反応性官能に影響することなく放射標識さ
れたビスーチオセミカルバゾンキレートを形成するよう
に、過テクネチウム酸塩、過レニウム酸塩、銅、水銀ま
たは鉛/ビスマスイオンと接触させるステップ、および (b)放射標識したビス−チオセミカルバゾンキレート
を(i)活性エステル誘導体の場合アミンと、または(
ii )チオール反応性誘導体の場合チオールと、放射
標識された複合体を形成するように反応させるステップ
を含む、放射標識した複合体の製造方法を提供すること
によって達成することができる。
本発明はさらに、ラジオアイソトープのためのキレータ
−、アミンもしくはチオールを標識するための標識剤、
それに使用するキットおよび注射剤、および本発明の組
成物および方法を使用する生体内でヒトに使用するため
の造影および治療方法を提供する。
註狙星脱凱 本発明の標識剤は、還元した過テクネチウム酸塩もしく
は過レニウム酸塩を結合するため、または銅、水銀もし
くは鉛/ビスマスイオンを結合するためのキレート化官
能として、ビス−チオセミカルバゾンを含んでいる。該
ビス−チオセミカルバゾンは、接近してケトンもしくは
アルデヒドカルボニルを持っている1、2−、1.3−
または184−ジカルボニル化合物、好ましくは1,2
−または1.4−ジカルボニル化合物、さらに好ましく
は1゜2−ジカルボニル化合物、最も好ましくは1,2
−ケトアルデヒド(置換グリオキザール)をチオセミカ
ルバジド、または好ましくはN−アルキルチオセミカル
バジド、最も好ましくはN−メチルチオセミカルバジド
と反応させることによって形成される。ジカルボニル化
合物は、後でアミンへ結合のため活性エステルへ結合の
ため活性化エステルへ変換することができるカルボキシ
ル基を持つか、またはそれは後でチオール含有化合物へ
結合のためチオール反応性基を含んでいるであろう。
適当なジカルボニル化合物は、ビス−チオセミカルバゾ
ンが還元した過テクネチウム酸塩もしくは過レニウム酸
塩と、または銅、水銀もしくは鉛/ビスマスイオンと安
定なキレートを形成するのに十分に接近して二つのケト
ンもしくはアルデヒドカルボニルを持っているであろう
。“°還元した過テクネチウム酸塩”または“還元した
過レニウム酸塩パとは、過テクネチウム酸塩または過レ
ニウム酸塩の還元によって生成し、そしてビス−チオセ
ミカルバゾンによってキレート化されたテクネチウムも
しくはレニウムイオンの種を意味する。
還元した過テクネチウム酸塩はそのようなキレート中T
c(III)および/またはTc(IV)および/また
はTc(V)の形にあり、そして還元した過レニウム酸
塩はRe (II[)および/またはRe(IV)およ
び/またはRe(V)の形にあるものと一般に考えられ
るが、しかし低次酸化状態および/多酸化状態を排除す
るものでなく、本発明の範囲内である。銅は通常Cu 
(II)の形であるが、しかしCu (I)および/ま
たはCu (III)を排除するものではない。水銀は
通常Hg (I)および/またはHg (II)の形で
あろう。鉛/ビスマスは通常pb (n)またはPb(
IV)の形であろう。
ジカルボニル化合物は、一般に隣接炭素原子上の、また
は1個、2個またはそれ以上の原子によって隔てられた
接近したカルボニル基を有するジケトン、ジアルデヒド
またはケトアルデヒドであることができる。一般に1,
2−および1,3−ジカルボニル化合物のビス−チオセ
ミカルバゾンが還元した過テクネチウム酸もしくは過レ
ニウム酸イオンと、そして銅、水銀および鉛/ビスマス
イオンと最も安定なキレートをつくるが、しかしもしそ
れらの幾何配置が固定しており、そしてキレート化原子
が例えば縮合もしくは架橋環上に接近して保持されれば
もっと大きいキレート環も安定であり得る。1,3−ジ
カルボニル化合物は、置換基、例えばジアルキル、エチ
レンもしくはイミン結合によって二つのカルボニル基の
間の2位を一般にブロックされるか、または非エノール
化される。
同様に、1,4−ジカルボニル化合物は、もしカルボニ
ルの一方が二つのカルボニル間の炭素へエノール化すれ
ば1個のチオセミカルバジドど反応してピラジンを形成
することができるので、そのようなエノール化は架橋環
系の架橋頭へ接近によりブロックまたは防止しなければ
ならない。
1.2−ジカルボニル化合物は、糖化学者に良く知られ
た反応であるオサゾンタイプの反応において、チオセミ
カルバジドとの反応の途中でヒドロキシカルボニル化合
物からのその場で発生させることが認められるであろう
。この反応において、チオセミカルバゾンの生成は隣接
するヒドロキシのカルボニルへの酸化を促進し、それは
次にビス−チオセミカルバゾン類縁体を形成するように
第2のチオセミカルバジドと反応する。隣接するヒドロ
キシカルボニル化合物の1,2−ジオンへのCu (I
I)酸化を使用することができる。
ここで使用する“安定なキレ−ドパなる語は、抗体へ複
合化した後、37°Cにおいて24時間ヒト血清中でイ
ンキュベーション後少なくとも約80%、好ましくは少
なくとも約90%、さらに好ましくは少なくとも約95
%の範囲でキレート化されたTc、Re、Cu、Hgま
たはP b / B iを保持するキレートを意味する
。通常そのようなキレートにおいては、二つのチオセミ
カルバゾン基の各自が金属イオンと少なくとも門歯キレ
ートを形成するように二つの配位電子対を寄与する。
放射性金属イオンの損失は、例えばガンマ検出器を用い
るサイズ排除HPLCにより、低分子量放射性種の形成
の程度を観察することによって便利に検出されることが
認められるであろう。確認テストとして、放射性金属標
識抗体複合体を動物へ注射し、注射後24時間で血液を
取り出し、そして血漿を複合体の抗体に対する結合した
抗原を含有しているアフィニティ力ラムを通することは
、カラム上に約80%以上、好ましくは約90%。
もっと好ましくは少なくとも約95%の放射能の保持を
示さなければならない。
他の定性的安定度テストは、エチレンジアミンテトラ酢
酸(EDTA)のような多山キレータ−の大過剰で挑戦
する時の該キレートのキレート交換への抵抗である。好
ましくは、サイズ排除カラムを使用するHPLC分析に
より低分子量放射性Tc、Re、Cu、HgまたはPb
/Biの実質上無検出によって決定されるような、pH
7,4(大体生理的pH)における1(10倍モル過剰
、好ましくは1(100倍モル過剰のEDTAと室温で
約0.5時間インキュベートした時、標識した抗体から
の放射性金属の損失が実質上存在しない。
ジカルボニル化合物はその上に、限定なしで他の鎖、脂
肪族および/または芳香族ホモサイクリックまたは複素
環、または非妨害置換基を持つことができる。アルキル
、アリール、シクロアルキル、ポリオキシアルキル、複
素環もしくは他の基、またはそれらの組み合わせをジカ
ルボニル化合物中へ組み込むことができる。標識したキ
レ−クーを抗体/フラグメントまたは他のタンパクへ複
合化するために使用する場合は、複合化反応は、通常タ
ンパクの必須の構造または官能特徴を変性または他のよ
うに損傷しない条件下で、水溶液中で実施されるであろ
う。このためキレートは好ましくは水性媒体中に可溶で
ある。
一般に、■、2−ジカルボニル化合物がビスチオセミカ
ルバゾンキレートをつくるために好ましい。
1.2−ジカルボニル化合物の一つの好ましいサブクラ
スは、アミンへ複合化するためのカルボキシル官能か、
またはチオール含有化合物へ複合化のためチオール反応
性誘導体を含有する他の部分へ結合した置換グリオキザ
ール、すなわち1.2−ケトアルデヒドを含んでいる。
実例の一つはp−カルボキシエチルフェニルグリオキザ
ール(CEPG ) 、 )1(10CCHzCHzC
6H4COCHOである。フェニル環および/またはエ
チレン鎖は、該部分が放射性金属標識または複合化に使
用される官能の保存を妨害しない限り、置換または未置
換の、直鎖もしくは分枝または他に修飾した他の環およ
び/または鎖によって置き換えることができる。キレー
トとそしてそれへ複合化される化合物の間の悪い立体相
互作用を減らすため、少なくとも1個そして好ましくは
少なくとも数個の原子によってジカルボニル官能をエス
テルもしくはチオール反応性基から離すことが一般に有
用であるが、しかし必須ではない。このため例えばグリ
オキザールまたは他のジカルボニル官能は、環および/
または鎖のような中間スペーサ一部分を介してカルボキ
シルもしくはチオール反応性基へ結合されるであろう。
しばしばこのスペーサー中へ親水性または親油性基を導
入するのが有利であろう。親水性基は、それへキレート
が複合化される分子上の基によって生成したキレートの
遮蔽を促進し、それによってキレートした金属イオンが
他のキレートへ移動またはキレートから除去され、再酸
化されるのを保護することができる。キレータ−上の親
水性および/または親油性置換基はまた、抗体もしくは
抗体フラグメントのようなそれへ結合すべき化合物への
標識化したキレータ−の複合化の容易性、それにその抗
体複合体の生体内分布、消失および排泄に影響し得るが
、そのような効果の詳細は容易に予知できないであろう
フェニルグリオキザールサブラクスの一般式はローR−
COCHOであり、そのうちQは活性化されたエステル
もしくはチオール反応性基であり、Rは最も簡単な場合
は単結合であるが、しかし例えば炭素原子1〜30個を
有し、場合によりペテロ原子、例えば0〜4個の窒素お
よび/または酸素原子を含み、そして場合により非妨害
置換基を有する炭素鎖および/または環の任意の組み合
わせであることができるスペーサーである。オサゾン生
成を受けるヒドロキシカルボニル均等物、すなわちQ−
R−CH(OH) CHOおよびQ−R−CO−CHz
OH,それに置換基、例えばアルキル、好ましくは低級
アルキル、了り−ル、アラルキル等をアルデヒド炭素上
の水素の代わりに有するグリオキザールまたは前記ケト
ール/アルドールの均等物は、すべてこの−船釣タイブ
の1.2−ビス−チオセミカルバゾンを形成できること
が認められるであろう。
実例は、Qが場合により例えばヒドロキシで置換された
C(10Su、 Cooフタルイミジル(COOPth
) 。
C(10Ar(Arは例えばC6Cl5. Chi5.
 CbHz(SO3)z>。
C0NHR’−マレイミド(R’は例えば(CHz)m
、 (m=2〜20)等であり、そしてRが(CHz)
n  (n=1〜20)、または(CHz)q  Ar
 (q= 0〜20、Arは例えば−C6H,−である
。)等であるものを含む。好ましい化合物はQがCOO
5u、 C(10Pth。
C(10NHCH2CT(Z−マレイミドまたはC(1
0NHCH2CH(OR)CH2−マレイミドであり、
そしてRが(CH2)。〜6C&H4であるものである
ジカルボニル化合物は種々の技術によって合成すること
ができる。多数の既知化合物もキレータ−として使用す
るため使用可能であり、または容易な修飾により適応さ
せることができる。例えば、CEPGはArano e
tal、 pp、32−33+ Abstracts 
5thInt1. Symp、 Radiopharm
、 Chem、、 Tokyo、 1984 ;Int
l、 Nucl、 Med、 Biol、、 12:4
25−430.1985に記載され、そして簡潔な経路
によって製造される既知化合物である。フェニルプロピ
オン酸エチルがフリーデルタラット条件下でアセチルク
ロライドでアシル化され、p−アセチル誘導体(商業的
にも入手し得る)を与える。加水分解後、ケト酢酸のア
セチル基が二酸化セレンでグリオキザールCEPGへ酸
化され、それはN−メチルチオセミカルバジドとの反応
によってビス−N−メチルチオセミカルバゾンへ変換さ
れる。フェニル環とカルボキシル基の間のエチレン以外
のアルキレン基を持った類縁体は対応するフェニルアル
キルカルボン酸から同じアシル化/酸化シーケンスによ
って容易に製造される。フェニル環とカルボキシル基と
の間に0〜10炭素原子の鎖長を持ったそのような類縁
体もArano etalにより前出文献に、そしてA
ppl、Radiat、l5ot、、 37:587−
592.1986に開示されている。
他のタイプのスペーサーは慣用の合成方法によってジカ
ルボニル化合物へ導入することができる。
例えば、直鎖または分枝鎖は一端にアルコールをそして
他端にハライドを形成することができ、ハライドはアセ
チライドで置換することができ、それは次にアセチル基
へ変換することができ、他方ヒドロキシはカルボン酸へ
酸化することができ、その後アセチル基は二酸化セレン
でグリオキザールを生成するように酸化することができ
る。ベンゼン環はシクロヘキサン環へ水素化することか
でき、他の炭素環は例えばカルボニル化合物のアル  
  ゛ドールもしくはクライゼン縮合、デイルスーアル
グー環化または種々の他の良く知られた環化反応によっ
て形成することができる。ヘテロ原子を含む複素環また
は鎖は、すべて当業者の熟練のうちである還元的アミノ
化、縮合反応、アルキル化、転位反応等の使用のような
慣用方法によって導入することができる。
1.2−ケトールおよび1.2−アルドールは種々の慣
用反応、例えばアシロインおよびベンゾイン縮合、糖化
学において使用されるホモログ化反応例えばキリアニー
フィッシャータイプ合成等によって容易に製造される。
例えばエポキサイドのハロゲン化水素開環およびハロヒ
ドリンの酸化、またはケトンまたはアルデヒドの酸触媒
ハロゲン化によって製造されるアルファーハロケトンま
たはアルデヒドの加水分解は所望の中間体を与える。
糖自体はチオセミカルバジドのオサゾン反応の前または
後で、活性エステルまたはチオール反応性官能を遠隔位
置へ導入するように官能化することができる。
適当な活性化エステルは、置換もしくは未置換スクシン
イミジル(Su) 、 フタルイミジル(Pth)また
は炭素環もしくは複素環アリール(Ar) 、好ましく
はフェニルエステルを含むがしかしそれらに限定されず
、そしてそれらはTc−またはRe−標識の場合過テク
ネチウム酸塩または過レニウム酸塩を還元するために使
用される条件に対して実質上安定であり、そしてキレー
タ−のビス−チオセミカルバゾン部分を標識するが、し
かし過剰な加水分解なしにアミン基、特にタンパク分子
、特に抗体または抗体フラグメントのリジン残基上のペ
ンダントアミン基へ容易に結合するのに十分に反応性で
あるという性質を持っている。ここで使用する還元およ
び標識条件に対して“実質的に安定゛′とは、キレータ
−のTc、Re、Cu、HgまたはP b / B i
標識後エステルの少なくとも約80%、好ましくは少な
くとも約90%、もっと好ましくは少なくとも約95%
が未変化であることを意味する。ここで使用する“容易
に複合化°”とは、複合化反応が実質上完了である、す
なわち約3時間以内、好ましくは約2時間以内、もっと
好ましくは約1時間以内に約90%またはそれ以上完了
であることを意味する。複合体の収率は反応が実質上完
了した時1(10%である必要はなく、単にそれ以上の
反応が起こらないことを理解すべきである。また、複合
化反応は標識の崩壊を減らし、そして標識が複合化され
る化合物例えば抗体の負荷およびその免疫反応性の保持
を最適化するため、完了前例えばグリシンで停止するこ
とができる。
ここで使用する“過剰な加水分解なしに′”とは、複合
化反応の副生物としてエステルの約30%以下、好まし
くは約20%以下そしてもっと好ましくは約5〜10%
以下の加水分解を意味する。
好ましいエステルは一つまたはそれ以上の可溶化基例え
ばスルホネートで置換しまたは置換されないスクシンイ
ミジルおよびフタルイミジルエステルである。アリール
エステルは、それらのアミン基によるアシル化の速度を
増加させるため、−般にその上に電子吸引基、例えば1
個または好ましくは数個のスルホネート基、ハロゲン原
子例えばF、CI、Br等を持っているであろう。
一般に、そのようなエステルは、適当な縮合剤例えばジ
シクロへキシルカルボジイミド(DCC)またはその類
縁体の存在下、対応する酸からアルコールまたはフェノ
ールとの反応によって製造される。そのような縮合剤お
よびそれらの使用条件は慣用であり、そして当業者には
良く知られている。後の議論において、活性化エステル
基はスクシンイミジルエステル(COO3u)として例
証されるが、しかし放射性金属標識に対する必要な安定
性およびアミン複合化へ向かっての反応性を持っている
任意の他のエステルも本発明において使用するのに適し
ていることを理解すべきである。
適当なチオール官能はTc、Cu、HgまたはPb/B
i標識条件に対して実質上安定であるが、しかし遊離ス
ルフヒドリル基と容易に反応するものである。再び還元
および標識条件に対して“実質上安定°°とは、チオー
ル反応性の少なくとも約80%、好ましくは少なくとも
約90%、さらに好ましくは少なくとも約95%がキレ
ータ−の放射標識後そのチオールとの反応能力を保持し
ていることを意味する。ここで使用する“容易に反応″
゛とは、チオール含有化合物との複合反応が約3時間以
内、好ましくは約2時間以内、さらに好ましくは約1時
間に完了することを意味する。(再びそれ以上反応が起
こらない点で収率1(10%以下でもよく、そして反応
は免疫反応性の負荷および保持を最適化し、そして放射
能崩壊を減らすため完了前例えばシスティンの添加によ
って停止することができる。) 好ましくは官能は置換または未置換マレイミド。
基または類似構造、例えばマレイミド、ファルアミド、
それらの半エステル、またはチオール基とチオエーテル
を形成するように容易に反応する同様に活性化されたエ
チレン性化合物である。カルボニルエステル、アミドま
たはイミド基以外の活性化官能は、それらが放射性金属
標識条件に対しても安定である限り、適当な電子吸引性
、フォスフオニル基、シアノ基等をもった炭素環または
複素環アリールを含むことができる。一般に、ブタジェ
ンのようなジエンに対して良好なジェノフィルである電
子欠乏エチレン性化合物は、エチレン二重結合へのスル
フヒドリル付加へ向かって良いチオール反応性種であり
、そしてビス−チオセミカルバゾンキレータ−へのカッ
プリングのための良い候補であろう。
例示的誘導体は、 CH(TSC) C(TSC) C6H4CH2CH2
C0NHCH2CH2−マレイミドである。前記化合物
およびその同族体において、ベンゼン環とカルボキシと
の間のエチリデン鎖は0から20の炭素鎖長で、直鎖ま
たは分枝鎖で、好ましくは1〜6炭素原子で、そして/
またはアミド窒素間のエチリデン鎖は炭素数2ないし2
0゜好ましくは2ないし6のものが好ましい。
これらチオール反応性基上の置換基は、酸基のキレータ
−への結合、キレータ−の放射性金属イオンとの反応、
または標識したキレータ−のチオール含有分子、特に遊
離スルフヒドリル基を持ったタンパク、そして特に抗体
または抗体フラグメントとの反応を妨害しない任意の基
を含むことができる。そのような置換基は、典型的には
ヒドロキシおよび/またはアルコキシ好ましくは低級ア
ルコキシ、スルホネート、フオスフオネート等ヲ含むこ
とができる。
チオール反応性基は前記した活性化エステルと適当な基
との反応によって導入することができる。
例示のため、C)l(TSC)C(TSC)CJ4CH
zCHzCOO5u  のH2NCH2CH2−マレイ
ミドとの反応は、アミド結合誘導体CM(TSC)C(
TSC)C6HnCHzCHzCONHCHzCHz−
マレイミドを与える。エチリデン鎖長の変更は同族体を
与え、そしてこれは前述の長いジアミンまたは長鎖エス
テルを使用して簡単に実施される。同様にどの活性エス
テルも前述したチオール反応性基のアミン誘導体と反応
させることができる。
そのような誘導体は、例えば過剰の直鎖または分枝鎖ハ
ライドとマレイミドまたはその類縁体の塩、例えばカリ
ウムまたはナトリウム塩(マレイミドまたはその類縁体
と例えばNaHまたはKNHzとから製造される)と反
応させ、次いで鎖の他端においてアンモニアまたは1級
アミン、例えば低級アルキルアミン、アニリン等を反応
させることによって得ることができる。代わりに、シバ
イドはハロアルコール、例えば3−ブロモ−1−プロパ
ツール(Aldrich Chemical Co、か
ら市販)を使用し、ハライドをイミド塩によって置換し
た後、アルコールをトシル化し、そして1級アミンで置
換することができる。なお他の方法は、歪んだ環状エー
テル、例えばエポキサイドまたは1,3−オキサイドと
イミド塩の反応によりイミドへ結合したアルコール官能
を発生させることである。トシル化および1級アミンと
の反応は再び活性エステルとの反応に望まれる官能を与
える。
ビス−チオセミカルバゾンとチオール反応性官能との間
のスペーサーは、任意の非妨害的な基、例えばヒドロキ
シ、アルコキシ好ましくは低級アルコキシ、3級アミン
等で置換することができる。
キレータ−をタンパクまたは他のアミンへエステル基を
含むスペーサーを介して結合することが望ましく、そし
て前述のアルコール官能は、DCCまたは類似の縮合剤
を使用してエステル結合によりキレータ−のTSC部分
上のカルボキシへ結合することができる。
代わりに、チオール反応性基は、中間体の直接アルキル
化、縮合、還元的アミノ化、または当業者に周知の他の
慣用反応によって導入することができる。加水分解後カ
ルボキレートを生成するためシアナイドで置換すること
ができる任意の中間体は、チオール反応性誘導体を形成
するためチオール反応性部分のマレイミド塩またはアミ
ド誘導体によって置換することができる。他の合成アプ
ローチは当業者に自明であろう。
1.2−ジカルボニルのビス−チオセミカルバゾンの活
性エステルまたはチオール反応性誘導体への他の魅力的
合成経路は、容易に入手し得る市販の試薬を使用して予
見することができる。4−(マレイミジルメチル)シク
ロヘキサンカルボン酸のN−ヒドロキシスクシンイミド
エステルおよびN−ヒドロキシスルホスクシンイミドエ
ステル(SMCCおよびSMCC−5OJa)および3
−マレイミジル安息香酸の対応するエステル(MBCお
よびMBS−5O3Na)は、D−グルクロン酸ナトリ
ウム、グルクロンアミド、グルコースペンタアセテート
、グルコビラノースペンタベンゾエートと同様に原料試
薬として市販されている(すべてAldrich Ch
emicalCo、 )。これらは1.2−ジカルボニ
ル誘導体サブクラスへのいくつかの便利のエントリーを
示唆する。
例えば、グルクロンアミドのそのテトラエーテルへの変
換、例えばジヒドロビランとの反応によるテトラヒドロ
ピラニル(THP)エーテル、または例えばアセトンと
の反応によるアセトンビスケタールは、水素化物、例え
ば水素化リチウムアルミニウム(LAH)による還元、
得られたアミンとSMCC,MBSまたはそれらのスル
ホネート類縁体との反応、THPエーテルまたはケター
ルの加水分解、Cu (IT)酸化、およびビスーTS
C形成により、6−アミノ−3,4,5−トリヒドロキ
シヘキサン−1,2−ジオン−ビス−N−メチルチオセ
ミカルバゾンの6−マレイミジルメチルを与える。グル
クロン酸のCu (II)酸化、ビスーTSC形成およ
び5uOHによるエステル化は、後の複合体形成に対し
て大きい水溶性を有するこのヒドロキシル化ビス−チオ
セミカルバゾンの活性エステル誘導体を与えることが認
められるであろう。この経路の他の変更は当業者に明ら
かであろう。
キレータ−のテクネチウム標識は一般に慣用方法によっ
て実施される。過テクネチウム酸塩は、最も普通にはN
aTc(14の形で通常食塩水溶液中に市販の発生器か
ら得られる。他の形の過テクネチウム酸塩も、新しい形
の発生器の供給者によって指示された、または当業者に
自明な操作の変更をなして使用することができる。
還元は、種々の慣用の還元剤、好ましくは一般に水溶液
である第一スズイオンにより、場合によりキレータ−の
溶解度を改良するために必要であれば有機溶媒を添加し
て実施される。他の適当な還元剤は、例えばジチオナイ
ト、ボロハイドライド、第一鉄イオン等を含む。
過テクネチウム酸塩は、約4〜7.好ましくは5〜61
通常5.5のpHに緩衝した食塩水、例えば0.9%(
生理)食塩水巾約0.2〜10 m Ci /m!の活
性において一般に使用される。適当な緩衝液は例えば酢
酸塩、クエン酸塩、リン酸塩等を含む。
第一スズイオンを使用する時、それは通常完全な還元お
よび過テクネチウム酸塩の使用を保証するため過剰に加
えられる。第一スズイオン濃度は一般に10−’ 〜1
0−3Nであり、そしてそれは5nC1z10.1N 
 HCIの形で通常添加される。
キレータ−は還元反応混合物中に、還元剤および過テク
ネチウム酸塩の両方に関して一般に過剰に、例えば約1
:5〜1:250.好ましくは1:10〜1:50. 
もっと好ましくは1:25のSu:キレータ−モル比で
存在する。
還元は不活性ガス雰囲気中、例えば窒素、アルゴン等の
もとて通常実施される。反応温度は一般に室温、例えば
18〜25°Cに保たれ、そして反応は実質的な完了の
ため通常0.5〜3時間を要する。反応は前に述べた理
由で完了前に停止してもよいことを再び注意すべきであ
る。
キレータ−の溶解度を改良するため有機溶媒を使用する
のであれば、それは好ましくは、極性不活性溶媒、例え
ばジメチルホルムアミド(DMF)。
ジメチルスルホキシド(DMSO)、メタノール。
エタノール、アセトニトリルまたは同様な水混和性溶媒
であろう。
反応の進行は反応混合物の部分標本をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー(TLC)片上にスポットし、そして
例えば95:5アセトン:酢酸、または90:10酢酸
エチル:メタノールで展開することによってモニタする
ことができる。標識されたキレータ−はガンマカウンタ
により、Rf−0,8〜0.9に、未還元過テクネチウ
ム酸塩はRf = 0.5に、そして還元されたキレー
ト化されないTc(多分子cO□)はRf=Oに検出さ
れる。
スズイオンのためのキレート交換剤および/または安定
剤を加えることがしばしば有利である。
アスコルビン酸は、還元剤が第一スズイオンの時還元さ
れた過テクネチウム酸塩によるキレータ−の比負荷を改
良し、そしてTcO,の生成を最小化することが知られ
ている。他の多価カルボン酸、例えば酒石酸、クエン酸
、フタル酸、イミノジ酢酸等を使用することができる。
そのような剤の正確な役割は知られていないが、それら
は第一スズイオンをキレート化し、そして第一スズイオ
ンの安定化により副反応を防止しおよび/または還元を
促進し、そしてそれらは還元された過テクネチウム酸お
よび過レニウム酸のある酸化状態をキレート化しそして
それにより安定化し、これらテクネチウムおよびレニウ
ムイオンを多分もっと安定などスーチオセミ力ルバゾン
キレーターへ交換するためのキレート交換剤として役立
つように見える。そのような剤を゛キレート交換剤パと
呼ぶであろう。
キレート交換剤は、ビス−チオセミカルバゾンの窒素/
イオウ原子へそのイオンを容易に失うキレートをテクネ
チウムまたはレニウムイオンと形成しなければならない
。多価カルボン酸を例示のため述べたが、多種類のアニ
オン性および/またはヒドロキシ酸素含有種、例えばサ
リチル酸、アセチルアセトン、ヒドロキシ酸、カテコー
ル、グリコールおよび他のポリオール例えばグルコヘプ
トネート等がこの機能を果たし得る。キレート交換剤対
キレータ−のモル比は約1(10:1〜1:1、好まし
くは50:1〜20:1.  さらに好ましくは約10
:1でなければならない。
標識後、未反応還元化テクネチウム酸塩および/または
第一および/または第二スズイオンのための不純物除去
剤を、キレートへ複合すべき化合物とこれら副生物の反
応を防止するために反応混合物へ加えることができる。
そのような除去剤は、例えば上に述べたような多価カル
ボン酸、ジエチレントリアミンペンタ酢M (DTPA
)、EDTA、イミノジ酢酸等のようなポリアミノカル
ボン酸を含むことができる。除去剤は通常未反応還元過
テクネチウム酸塩および/または第一および/または第
二スズイオンの実質上すべてを除去するように計算され
た量で加えられる。
そのような除去剤を加える代わりの方法は、還元混合物
を過テクネチウム酸塩を捕捉し得る誘導化された吸着剤
を収容したカラム、例えば還元された過テクネチウム酸
塩および/または第一/第二スズイオンのためのキレー
タ−を結合したゲルカラムを通すことである。例えば、
“”Chelex”と呼ばれるイミノジ酢酸を結合した
ポリマーカラムキングがBioRadから入手し得る。
他のそのような適当なカラムバッキングは、多数が市販
されているDTPA、EDTA等を含有するように修飾
されたポリマーまたはゲルを含む。
レニウム標識は、系内に空気または酸素が存在しないこ
とを確実にする特別の注意を払って、テクネチウム標識
と実質的に同じ態様で実施することができる。Re−1
86は、現在入手し得るテクネチウム発生器に類似の発
生器の使用により、過レニウム酸ナトリウムの形で製造
される。
銅標識は、キレータ−の活性化エステルまたはチオール
反応性誘導体と、入手したまたは例えば塩化物を例えば
クエン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム等と混合するこ
とにより、便利な塩、例えば塩化物、クエン酸塩、酒石
酸塩等の形の銅イオン、通常Cu (II)イオンの溶
液との反応によって実施されるであろう。Cu−67は
Oak RidgeNational Laborat
ories (テネシー州)から、またはLos Al
amos National Laboratorie
s にューメキシコ州)からCuC1□の形で現在入手
し得る。
イオウ/窒素キレータ−へ優先的に結合する他の金属ア
ルファ、ベータおよび/またはガンマ放出放射性核種例
えばHg−197,Pb−212゜そして塩としてまた
は塩へ容易に変換できる形のそれらも本発明のキレータ
−を使用してキレート化することができる。それらは、
本発明の方法に従って製造した抗体/フラグメント複合
体の形で、造影のための放射性標識として、または放射
性治療剤として有利に使用することができる。キレート
形成はCu−67キレート形成と同様に実施される。
水銀アイソトープはOak Ridge Nation
al Labora−toriesからHgCIz  
としてまたはI(g(NOt) 2として通常入手し得
る。
鉛/ビスマスラジオアイソトープは、支持されたラドン
発生器の形でArgonne National La
bora−toriesから通常入手し得る。
放射性金属標識剤としての本発明のキレートの利益の一
つは、それらは活性エステル試薬の場合アミンと、また
はチオール反応性試薬の場合チオール含有化合物と直接
反応し、標識した抗体複合体を形成できることである。
キレータ−を標識するために使用される試薬は、それら
が標識されたキレートで複合/標識すべき化合物、特に
抗体および抗体フラグメントへ損傷を与えないように除
去することができる。
例えば、抗体または抗体フラグメントはTc−標識を持
っている活性エステルと直接反応させ、その中のリジン
上のペンダントアミン−・結合したキレートを有する標
識した抗体/フラグメントを得ることができる。キレー
トおよび抗体/フラグメントの相対的濃度はTc標識の
負荷を決定するであろう。このため前述の条件下(TS
C) zcPEGのCOO5u誘導を使用して、そして
2 : 1〜2 Q、: i。
好ましくは2:1〜10:1. もっと好ましくは約5
:1のキレート:抗体のモル比において、抗体免疫反応
性の実質的損傷なしに十分な活性を得ることができる。
活性エステル部分としてCOO5uを持っている活性エ
ステルキレータ−は、典型的には水性緩衝液中p H7
,5〜10.好ましくは8〜9.もっと好ましくは約8
.5において、環境温度すなわち18〜25°Cにおい
て約0.2〜3時間、好ましくは0゜2〜1時間、もっ
と好ましくは約0.5時間抗体と反応させる。抗体濃度
は通常1〜20mg/mβ、好ましくは5〜10mg/
m、もっと好ましくは約8mg / mlである。
遊離スルフヒドリル基を持っている抗体/フラグメント
は、チオール結合によって結合した標識した抗体/フラ
グメントを与えるように、チオール反応性基を持ってい
るキレートと直接反応させることができる。遊離スルフ
ヒドリル基は慣用条件、例えばBlattler et
 al、、 Biochem、+ 24:1517−1
524.1985に開示された条件を使用して、トラウ
ド試薬すなわちイミノチオランの使用により、抗体/フ
ラグメントへ導入できる。
代わって、二価F(ab’)2フラグメントの開裂から
生ずる遊離スルフヒドリル基を有するFab’ とチオ
ール反応性キレートの反応は、反応部位が該フラグメン
トの結合部位から遠くにあるという利益をもっている放
射性金属標識複合体を生成するであろう。Fab’ フ
ラグメントを生成するための還元は、適当なジスルフィ
ド還元剤、例えばシスティン、ジチオトレイトール、2
−メルカプトエクール、ジチオナイト、5nCI2等に
よって実施することができる。この反応に前Ig、識キ
レキレート用はチオール基との放射性金属および/また
は還元剤の非特異的反応を最小化する。
典型的には、チオール反応性キレートと、標識すべき化
合物例えば抗体/フラグメント上のスルフヒドリル基と
の比は1:l0〜10:1.好ましくは1:3〜3:1
.さらに好ましくは1:2〜l:1である。反応は通常
水性緩衝液中、pH5〜9.好ましくは6〜8.さらに
好ましくは約7において(リン酸塩、炭酸塩、クエン酸
塩、ホウ酸塩の緩衝液、またはIl e p e s等
の緩衝液を使用して)、室温で約0.2〜3時間、好ま
しくは約0゜2〜1時間、さらに好ましくは約0.5時
間、活性エステルカップリングと大体同じ抗体/フラグ
メント濃度において実施される。
反応は、例えば50:50メタノール:酢酸アンモニウ
ムもしくはクエン酸アンモニウムを使用するTLCによ
って便利に追跡される。標識したタンパクは原点へとど
まるが、未結合キレータはRf=0.9〜1.0をもっ
て移動する。ストリップの二つの区域のカウントは反応
の程度の推計を許容するであろう。
抗体/フラグメントのスルフヒドリル基との接触前にT
c、Re、Cu、HgまたはPb/Biでキレータ−を
前標識することにより、スルフヒドリルへのこれらイオ
ンの結合による非特異的標識は、一般に実質上全部の金
属イオンがチオールでなくキレータ−へ結合する点まで
効果的に最小化される。スルフヒドリル基のための除去
剤を、抗体/フラグメントへのキレートの複合化が実質
上完了した後に反応混合物へ加えることができる。
適当なそのような除去剤は、例えばマレイミド、ヨード
アセタミド、ヨード酢酸その他を含む。チオール含有化
合物へのキレータ−の複合化の程度の最初の決定の後、
実質上すべての残存スルフヒドリル基と反応することが
できる量の除去剤が使用される。
そのような除去剤の過剰は、もし望むならば複合化反応
混合物を注射製剤として直接使用できるように、それら
をより可溶性にそしてそのためより容易に排泄性とする
ため、例えばシスティンまたは類似のチオール化合物で
さらに除去することができる。
上記方法によって標識できる抗体および抗体フラグメン
トは、限定なしに、腫瘍、感染病発生微生物、ヒトおよ
び動物における心筋梗塞または血栓のような病理学的状
態、正常器官および組織によって産出または関連する抗
原、または生体内検出のため関心ある他の抗原を特異的
に結合する抗体/フラグメントを含む。他のタンパク、
例えばホルモン、酵素、白血球等、および/または他の
アミン含有もしくはチオール含有化合物もこの方法によ
って標識できることが認められるであろう。
腫瘍、怒染病巣または正常器官および組織によって産出
または関連するマーカーを特異的に結合する抗体および
抗体フラグメントの例は、特にHansenらの米国特
許3,927.193、Go ldenbergの米国
特許4.331,647; 4,348,376; 4
,361,544: 4,468,457゜4.444
,744; 4,460,561; 4,624,84
6に、そして関連する米国特許出願75L877(71
5/85)、 751.877(715/85)および
(105.355(1/12/87)に開示されている
。それらの開示全体を参照としてここに取り入れる。心
臓ミオシンへ結合する抗体は心筋梗塞の造影に使用する
ためHaberの米国特許4,(136,945に記載
されている。血栓の造影のためそして血栓のフィブリノ
ーゲン、フィブリン、トロンビン、血小板、血小板因子
もしくは他の成分、または関連する抗原へ結合する抗体
は血栓のための造影剤製造のために使用し得る。適当な
そのような抗体/フラグメントは、なかでもRosen
brough et al、+Radiology、 
156(2):515−517,1985; Pete
rs et al、。
Or、 Med、 J、(CIin、 Re5)、 2
93(6561):1525−1527゜1986;、
Ezekowitz  et al、、  Int、J
、Rad、Instrumem、。
13(4) :407−411.1986に開示されて
いる。
抗体は全1gG、 IgA、 Ig[l、 IgE、 
IgM、またはそのF(ab’)z、 P(ab)z、
 Fab’、 Fab、  イソタイプおよびサブタイ
プを含む一価軽/重鎮等のようなフラグメントでよい。
それはポリクロール抗体、好ましくはヒトまたは適当な
動物例えばヤギ、ウサギ、マウス等のアフィニティ精製
した抗体か、または慣用技術によって製造したモノクロ
ナール抗体、例えばリンパ系抗原に対して免疫化したマ
ウスからのリンパ球またはひ臓細胞を適当な生きている
細胞ラインからのミエローマ細胞と融合することによっ
て製造したハイブリドーマから得られたネズミ抗体であ
ることができる。
キメラ抗体、バイブリド、ポリオマおよび類似の免疫学
的技術を含む現在既知の方法によるか、またはDNA媒
介合成および発現、カセット修飾および類似技術により
製造された抗体/フラグメントの任意の他のタイプも、
それがペンダントアガンまたはスルフヒドリル官能を保
持し、そして本発明の適当なアミン反応性またはチオー
ル反応性キレートが複合化ステップに使用される限り、
本発明の方法によって標識されることができる。
本発明のTc標識剤は、特異性抗体が放射標識のための
標的ビヒクルとして使用することができるいずれの場合
でも、ガン、心筋梗塞、血栓、膿瘍および他の感染病等
の生体ない造影のために有用な抗体/フラグメントの製
造のために使用することができる。本発明の標識方法は
現行のTc−標識抗体/フラグメント製造方法よりも、
安定なキレートが抗体/フラグメントとの接触前に製造
され、そして次に抗体/フラグメントの非キレート化テ
クネチウムイオンの接触なしにキレートの効率的な複合
化が実施される点において改良である。非特異的標識お
よびそれに伴う他の器官および組織へ標識の損失がそれ
によって回避または最小化される。Hg標識抗体/フラ
グメントは、Hg−197は50〜5(10KeV域に
おけるガンマエミッターであるため造影に使用すること
ができる。
本発明のRe、CuおよびPb/Bi標識剤は、ガンお
よび化学療法に抵抗するある種の感染病巣、特に深部膿
瘍の治療に有用な抗体/フラグメント複合体の製造に使
用することができる。Cu−67、Re−186および
Pb−212もやはりガンマエミッターであるため、そ
れらは治療のための便利なモニターとして造影のために
使用することができ、B1−212複合体はPb−21
2複合体の形で投与することができ、それは高エネルギ
ーガンマ放出によりその場でB1−212複合体へ崩壊
し、そして次に治療上有効なアルファ線の放出を伴って
速やかに崩壊する。再び非特異的標識が最小化または実
質上回避され、キレータ−標識試薬、特に還元剤との接
触による抗体分解に関連した問題が実質上回避される。
活性エステルまたはチオール反応性誘導体の形の本発明
のジ−チオセミカルバゾンキレータ−は、乾燥したシー
ルしたバイアル中で不活性ガス雰囲気下で貯蔵する時長
期間安定である。それらは放射標識した複合体製造に使
用するための放射標識キットの一部としてそのような形
で供給することができる。これらのキットは、通常ユー
ザーの場所においてラジオアイソトープ源、例えばテク
ネチウム発生器と共に使用するためのコールドキットで
あろう。このためそれらは、標識操作に使用するための
適当な容器内に、キレータ−1複合体パートナー例えば
一般に凍結乾燥形の抗体または抗体フラグメントのよう
なタンパク、それに場合によりリン酸塩緩衝食塩水、還
元システム例えばアスコルビン酸塩、酒石酸塩、クエン
酸塩、イミノジ酢酸塩の1種またはそれ以上のようなキ
レート交換剤/除去剤を任意に添加した5nC1z+未
複合化キレートのための除去剤、または複合体形成の低
分子量副生物除去のためのサイジングカラムのような任
意の付属試薬を収容するであろう。これらは有利には、
注射器隔膜を一般に備えた無菌のパイロ−ジエン不含シ
ール容器中にすべて収容されるであろう。カラムは容易
な操作のため注射筒継手を備えるか、または注射筒中に
収容することができる。
代わりに、ある種のラジオアイソトープに対しては、標
識した複合体の無菌パイロ−ジエン不含溶液が例えば放
射線薬局から最終ユーザーへ、造影または治療に生体使
用のため供給されることができる。
これ以上考究することなく、当業者は以上の説明を使用
して本発明をその全範囲に亘って利用できるものと信じ
られる。それ故以下の好ましい特定具体例は単に例証で
あり、開示の残部の限定ではないと考えるべきである。
以下の実施例において、すべての温度は未補正の摂氏で
述べられ、特記しない限りすべての部およびパーセント
は重量による。
実施例I TSC−4−OSu ′  生エステルキレーター〇人
Jへrano  et  al、、  Intl、  
J、  Nucl、  Med、  Btol。
12:425−430.1985の操作に従って製造し
た、4−カルボキシエチルフェニルグリオキザール−ビ
ス−N−メチルチオセミカルバゾン(TSC−1−OH
)の1(10mgサンプルを5雁の乾燥ジメチルホルム
アミド(DMF)に溶解する。不活性ガス雰囲気中等モ
ル量のN−ヒドロキシスクシンイミド(HO3u、30
.2■)およびジシクロへキシルカルボジイミド(DC
C,54,4■)を加え、混合物を室温で3日間かきま
ぜる。次に混合物を金属不合バイアル中へ口過し、アル
ゴン下フリーザー中に貯蔵する。解凍した溶液は次のス
テップのために使用される。
活性化したエステル(TSC−4−○Su)の溶液の部
分標本を蒸発乾固し、無水エーテルでこね、そして生成
した粉末を真空乾燥し、m、p。
79°C(軟化)、84−90°C(分解)、MW(M
 S ) 477 、 ClJhJ70<S2の固体を
得る。
実施例2 T c −99m ;−、−人 1(11(10pffiD中、実施例1に従って製造し
たTSC−4−OH1(10μgの 溶液へ、かきまぜ
なからO,I N I(CI中5nCIz ・6HzO
の5μg溶液3.9μ℃を加える。次に食塩水中NaT
c  99mLの5mC1の溶液1(10戚を加え、混
合し、15〜30分間インキュベートする。得られたT
c−99m標識キレートを蒸留水20μ!中イミノジ酢
酸(IDA)/mgで象、冷し、5分間放置する。
リン酸緩衝化食塩水(PBS)、pH8,4の596u
f中抗−C3Ap  F (a b’ )z抗体フラグ
メント3■を加え、溶液をかきまぜながら室温で15〜
30分間インキュベートする。得られた溶液のHPLC
分析は標識の34%が抗体フラグメント中へ取り込まれ
たことを示す。調整HPLCで分離後、標識した複合体
の6%回収を表すTc−99mの72pciを含有する
分画をHPLCで再分析し、免疫反応性86%(〉90
%0%回収示し、そしてUV分析は約1.8キレータ−
/フラグメント比示す。いくらか純粋でない複合体を含
んできる分画を分離し、合併し、複合体の約19%総回
収を得る。標識した複合体のサンプルの1(10倍過剰
EDTAによる挑戦は標識の〉95%保持を示した。
前標識ステップ中TSC−4−O3uに関し、IDAの
代わりに10倍モル過剰のアスコルビン酸ナトリウム添
加は、やはり取り込みを容易化する。短かいサイジング
ゲルカラムを通すことによる反応混合物の精製は、未複
合放射性金属の実質上すべてを除去する。
実質上同じ操作がRe−186標識複合体の製造に使用
される。
実施例3 TSC−4−マレイミドの+1゛告 実施例2に従って製造したTSC−40Suを過剰の6
−アミノへキシルマレイミドと反応させ、TSC−4−
マレイミド誘導体(TSC−4−M)を得る。
実施例4 Re−186費福□ 八 〇制浩 実施例3の操作に従って製造したTSC−4−M誘導体
の実施例2の操作による186−過レニウム酸塩および
5nC1zとの反応(TSC4−(15uO代わりにT
SC−4−Mを使用)は、RRe−186−TSC−1
−を与える。ヒヒ抗CEA抗血清のトラウド試薬との反
応は、抗体分子あたり平均2個の遊離スルフヒドリル基
の導入を生ずる。
実施例2と実質上同じ割合において過剰のアスコルビン
酸を含有するPBS、pH7,2中の標識したキレート
とチオール過比抗CEA抗血清のインキュベーションは
、1時間インキュベーション後良い収率でRe−186
標識複合体を与える。免疫反応性は未修飾抗血清と殆ど
同じである。
実施例5 Cu−67票” ” の+1゛告 実施例3の操作に従って製造したTSC−4−Mの溶液
をアスコルビン酸塩の存在下67  CLIC12と反
応させ、Cu−67標識キレートを得る。実施例4の操
作に従ったCu−67−TSC−4−Mとチオール化ヒ
ヒ抗CEA抗血清とのインキュベーションは、実質的に
免疫反応性の損失なしにC−67標識複合体を与える。
実質上同じ条件がHg(NOi)zおよびPbCl□に
よる標識に使用される。
実施例6 腫111t丸定 上昇するCEAタイタを有し2、そして成功的な放射標
識した抗C3Ap  F (a b’ )zによる造影
後結腸腫瘍摘出の既往歴を有する患者が実施例2に従っ
て製造したTc−99m標識抗−CSApF(ab”)
2の無菌のパイロ−ジエン不含溶液で造影される。溶液
は、減算を実施しない時ルゴール溶液で不必要である明
白な相違を除き、Golden−berg米国特許第4
.331,647号の実施例5および6と同様に製造さ
れ、投与される。造影は減算を実施または実施せずに実
施される。結腸腫瘍の再発の早期造影は18時間後減算
により得られ、36時間後改良された解像をもって得ら
れる。肺および肝臓転移が見られ、肺転移は8〜12時
間後減算なしで検出可能である。CEAを排泄する少な
くとも結腸腫瘍が抗CEA抗体および抗CEA抗体によ
り成功的に造影されることが見られる。
実施例7 旧阜拵班 実施例に記載した肺転移を持った結腸腫瘍の再発を示す
患者を、実施例4に従って製造したRe−186標識抗
CEAヒヒ抗血清の無菌のパイロ−ジエン不含溶液で処
理する。2(10mCiの単位投与量を静注により、総
計8(10mCiが放出されるまで2週間間隔で投与す
る。結腸腫瘍容積の著しい縮小および肝臓および肺転移
の明らかな実質的消失が定期的造影によって示されるよ
うに得られる。治療用溶液および投与モードはGold
en−bergの米国特許第4.348.376号の実
施例7と同様である。
以上の実施例は、本発明の一般的にまたは特定的に記載
した反応剤および/または作業条件によって以上の実施
例に用いたそれらを置き換えることにより、類似した成
功度をもってくり返すことができる。
以上の説明から、当業者は本発明の木質的特徴を容易に
確かめることができ、そしてその精神および範囲を逸脱
することなく、それを種々の用途および条件に適応させ
るため本発明の種々の変更および修飾をすることができ
る。

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)1,2−、1,3−または1,4−ジカル
    ボニル化合物のビス−チオセミカルバゾンの活性エステ
    ル誘導体またはチオール反応性誘導体を、該活性エステ
    ルまたはチオール反応性官能に実質上影響することなし
    に放射標識したビス−チオセミカルバゾンキレートを形
    成するように、還元した過テクネチウム酸塩もしくは過
    レニウム酸塩の、または銅、水銀もしくは鉛/ビスマス
    イオンのラジオアイソトープ溶液と接触させるステップ
    と、 (b)前記放射標識したビス−チオセミカルバゾンキレ
    ートを(i)活性エステル誘導体の場合アミンと、また
    は(ii)チオール反応性誘導体の場合チオールと、放
    射標識した複合体を形成するように反応させるステップ を含むことを特徴とする放射標識した複合体の製造方法
  2. (2)前記誘導体は活性エステル誘導体であり、前記放
    射標識したビス−チオセミカルバゾンはステップ(b)
    においてアミンと反応させられる第1項の方法。
  3. (3)前記活性エステルは、N−ヒドロキシスクシンイ
    ミド(OSu)またはN−ヒドロキシフタルイミド(O
    Ph)エステルである第2項の方法。
  4. (4)前記アミンは、その上に反応性アミン官能を有す
    るリジン残基を含んでいるタンパクである第2項の方法
  5. (5)前記タンパクは、抗体または抗体フラグメントで
    ある第4項の方法。
  6. (6)前記誘導体はチオール反応性誘導体であり、前記
    放射標識したビス−チオセミカルバゾンはステップ(b
    )においてチオールと反応させられる第1項の方法。
  7. (7)前記チオール反応性誘導体はマレイミドである第
    6項の方法。
  8. (8)前記チオール化合物は、遊離スルフヒドリル基を
    含んでいる抗体または抗体フラグメントである第7項の
    方法。
  9. (9)前記ジカルボニル化合物は1,2−ジカルボニル
    化合物である第1項の方法。
  10. (10)前記誘導体は、式 Q−R−C_6H_4−C(TSC)−CH(TSC)
    (式中、Rは炭素原子1〜30および窒素および/また
    は酸素原子0〜4の置換もしくは未置換の直鎖もしくは
    分枝鎖アルキレン基か、または単結合であり、TSCは
    N−メチルチオセミカルバゾンであり、そしてQは活性
    エステル基かまたはチオール反応性基である。)を有す
    るフェニルグリオキザール(アルキル)カルボキシレー
    ト−ビス−チオセミカルバゾンである第9項の方法。
  11. (11)Rが(CH_2)_nであり、n=0〜6であ
    る第10項の方法。
  12. (12)QがN−ヒドロキシスクシンイミドまたはN−
    ヒドロキシフタルイミド式ZOOCであり、ZがSuま
    たはPthである第11項の方法。
  13. (13)Qがマレイミド基を含有するチオール反応性基
    である第11項の方法。
  14. (14)QがCONHR’−マレイミドであり、R’が
    (CH_2)_2〜またはCH_2CH(OH)CH_
    2である第12項の方法。
  15. (15)前記誘導体は、6−アミノ−3,4,5−トリ
    ヒドロキシヘキサン−1,2−ジオン−ビス−N−メチ
    ルチオセミカルバゾンの4−(マレイミジル)シクロヘ
    キサンカルボキサマイドもしくは3−マレイミジルベン
    ズアミドである第7項の方法。
  16. (16)前記ラジオアイソトープはテクネチウムもしく
    はレニウムのアイソトープであり、前記還元した過テク
    ネチウム酸塩もしくは過レニウム酸塩で第一スズイオン
    で還元される第1項の方法。
  17. (17)前記還元した過テクネチウム酸塩または過レニ
    ウム酸塩の溶液はキレート交換剤を含んでいる第16項
    の方法。
  18. (18)前記キレート交換剤はアスコルビン酸塩、酒石
    酸塩、クエン酸塩またはイミノジ酢酸塩である第17項
    の方法。
  19. (19)前記ラジオアイソトープは銅、水銀または鉛/
    ビスマスのラジオアイソトープである第1項の方法。
  20. (20)1,2−、1,3−または1,4−ジカルボニ
    ル化合物のビス−チオセミカルバゾンの活性エステル誘
    導体またはチオール反応性誘導体を、該活性エステルま
    たはチオール反応性官能に実質上影響することなしに放
    射標識したビス−チオセミカルバゾンキレートを形成す
    るように、還元した過テクネチウム酸塩もしくは過レニ
    ウム酸塩の、または銅、水銀もしくは鉛/ビスマスのラ
    ジオアイソトープ溶液と接触させるステップを含むこと
    を特徴とするラジオアイソトープキレートの製造方法。
  21. (21)テクネチウム、レニウム、銅、水銀または鉛/
    ビスマスのラジオアイソトープとキレートを形成した、
    1,2−、1,3−または1,4−ジカルボニル化合物
    のビス−チオセミカルバゾンの放射標識した活性エステ
    ル誘導体またはチオール反応性誘導体を、(i)活性エ
    ステル誘導体の場合アミンと、または(ii)チオール
    反応性誘導体の場合チオールと、放射標識した複合体を
    形成するように反応させるステップを含むことを特徴と
    する放射標識した複合体の製造方法。
  22. (22)1,2−、1,3−または1,4−ジカルボニ
    ル化合物のビス−チオセミカルバゾンの活性エステル誘
    導体またはチオール反応性誘導体であるラジオアイソト
    ープのためのキレータ。
  23. (23)1,2−、1,3−または1,4−ジカルボニ
    ル化合物のビス−チオセミカルバゾンの活性エステル誘
    導体またはチオール反応性誘導体よりなり、前記誘導体
    はテクネチウム、レニウム、銅、水銀または鉛/ビスマ
    スのラジオアイソトープとキレートを形成していること
    を特徴とするアミンまたはチオールを標識するための標
    識剤。
  24. (24)(a)テクネチウム、レニウム、銅、水銀また
    は鉛/ビスマスのラジオアイソトープとキレートを形成
    することができる、1,2−、1,3−または1,4−
    ジカルボニル化合物のビス−チオセミカルバゾンの活性
    エステル誘導体またはチオール反応性誘導体を含むキレ
    ータと、 (b)腫瘍、感染病巣、心筋梗塞または血栓によって産
    出もしくは関連する抗原を特異的に結合する抗体もしく
    は抗体フラグメントを、適当な無菌容器中に含むことを
    特徴とする生体内ヒト使用のための放射標識した抗体も
    しくは抗体フラグメントを製造するためのキット。
  25. (25)無菌の薬剤学的に許容し得る注射ビヒクル中の
    、第5項の方法によって製造した放射標識した抗体/フ
    ラグメント複合体の溶液よりなる生体内ヒト使用のため
    の無菌の注射し得る製剤。
  26. (26)無菌の薬剤学的に許容し得る注射ビヒクル中の
    、第8項の方法によって製造した注射標識した抗体/フ
    ラグメント複合体の溶液よりなる生体内ヒト使用のため
    の無菌の注射し得る製剤。
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