JPH01143394A - Ceramic package with lead - Google Patents

Ceramic package with lead

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JPH01143394A
JPH01143394A JP29989387A JP29989387A JPH01143394A JP H01143394 A JPH01143394 A JP H01143394A JP 29989387 A JP29989387 A JP 29989387A JP 29989387 A JP29989387 A JP 29989387A JP H01143394 A JPH01143394 A JP H01143394A
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JP
Japan
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ceramic
layer
holes
package
sheet
Prior art date
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Application number
JP29989387A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Suzuki
剛 鈴木
Yukio Horikawa
幸男 堀川
Toshiki Goto
後藤 利樹
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NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a ceramic package with leads having preferable adhesive properties of a plating layer with a ceramic substrate by providing front layer ceramics having an anchoring effect. CONSTITUTION:The inner layer 2 of a ceramic substrate is formed by adding and mixing the ceramic material of a stock and a crystal bonding material and further organic binder to form a green sheet, opening holes 4 at predetermined positions and simultaneously punching it in working size. Paste of W, Mo, etc., is filled in the holes 4, the sheet is printed with paste 5a, thereby forming a circuit. Then, a lower layer 3 is similarly formed, pastes 5b, 5c are printed on the sheet thereby to form a circuit. An upper layer 1 is eventually formed of the similar material, surface layer ceramics 6 are formed on the sheet, and holes 4 are opened at predetermined positions. The upper layer 1, the inner layer 2 and the lower layer 3 are laminated under pressure by a press, and baked, thereby forming a package substrate 7.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はビアホールを介して各配線パターン間の導通を
とるリード付セラミックパッケージに関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a ceramic package with leads that establishes conduction between wiring patterns via via holes.

(従来の技術) 従来、ビアホールを介して各配線パターン間の導通をと
るリード付セラミックパッケージの作成法としては、厚
膜法、薄膜法、めっき法等が知られている。
(Prior Art) Conventionally, thick film methods, thin film methods, plating methods, and the like are known as methods for producing ceramic packages with leads that establish conduction between wiring patterns via via holes.

第4図(a) にその製造工程を示す厚膜法は、工程が
簡単となる特徴がある。第4図(b) にその製造工程
を示す薄膜法および第4図(C)にその製造工程を示す
めっき法においては、配線パターン幅を細くすることが
でき高密度配線を達成できる特徴がある。
The thick film method, the manufacturing process of which is shown in FIG. 4(a), is characterized by a simple process. The thin film method, whose manufacturing process is shown in FIG. 4(b), and the plating method, whose manufacturing process is shown in FIG. 4(C), have the characteristics of being able to narrow the wiring pattern width and achieve high-density wiring. .

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述した厚膜法においては、基板表面の
配線パターン幅は、100 μmが安定した品質として
形成される限界であり、高密度配線には不向きである欠
点があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the above-mentioned thick film method, the wiring pattern width on the substrate surface is at the limit of 100 μm with stable quality, and is not suitable for high-density wiring. There were drawbacks.

また、薄膜法においては、スパッタリング又は蒸着法で
行う場合は基板表面の凹凸、粗さ、欠陥に敏感であり、
歩留まりが下がる欠点があった。
In addition, in thin film methods, when sputtering or vapor deposition is used, it is sensitive to irregularities, roughness, and defects on the substrate surface.
There was a drawback that the yield rate decreased.

さらに、装置コスト、製造コストが高くなる欠点もあっ
た。
Furthermore, there was also the drawback that the device cost and manufacturing cost were high.

さらにまた、めっき法でビアホールに導体ペーストを用
いる場合では、アルカリ金属化合物で工ツチングする際
、ビアホール内の導体物質がエツチング剤に露出してい
るため、ここから腐食して導通不良を起こす欠点があっ
た。また、予じめ孔の開いた基板をエツチングした後、
導体ペーストを埋めて焼成すると、ペーストのみが焼成
収縮して空孔ができる欠点もあった。
Furthermore, when a conductive paste is used in the via hole in the plating method, when etching with an alkali metal compound, the conductive material inside the via hole is exposed to the etching agent, which has the disadvantage of corroding and causing poor continuity. there were. In addition, after etching the substrate with holes in advance,
When filled with conductive paste and fired, only the paste shrinks during firing, creating voids.

さらに、めっき法でビアホールにめっき層を施す場合で
は、ビアホールが高密度化するに従い小径化するためビ
アホールをめっきで導通をとるためには無電解めっきを
行う必要があるが、このとき孔径が小さいと孔中に空気
が残り、めっきが完全につかずボイド不良となり、導通
がとれなくなる事故が発生し易くなる欠点があった。
Furthermore, when applying a plating layer to via holes using a plating method, as the density of the via holes increases, the diameter decreases, so electroless plating must be performed in order to make the via holes conductive by plating. This has the drawback that air remains in the holes, which prevents the plating from being completely adhered to, resulting in void defects, which can easily lead to accidents where electrical continuity is lost.

本発明の目的は上述した不具合を解消して、ビアホール
の信頼性が高いとともに、電極パターンを形成するめっ
き層とセラミック基板との密着性が良好なリード付セラ
ミックパッケージを提供しようとするものである。
An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned problems and provide a ceramic package with leads that has high reliability in via holes and good adhesion between the plating layer forming the electrode pattern and the ceramic substrate. .

(問題点を解決するための手段) 本発明のリード付セラミックパッケージは、アンカー効
果を有する孔を形成した表層セラミック上に、配線層を
なす無電解めっき層を設けたセラミック基板表面と、裏
面およびピンとの間をビアホールを介して、導通させる
ことを特徴とするものである。
(Means for Solving the Problems) The leaded ceramic package of the present invention has a ceramic substrate surface having an electroless plating layer forming a wiring layer on a surface ceramic in which holes having an anchor effect are formed, a back surface and The feature is that electrical conduction is established between the pin and the pin via a via hole.

(作 用) 上述した構成において、セラミック基板上に形成したア
ンカー効果を有する孔からなる表層セラミックの作用に
より、その上に設ける配線層をなす無電解めっき層とセ
ラミック基板との密着性の良好なリード付セラミックパ
ッケージを得ることができる。
(Function) In the above-mentioned configuration, due to the action of the surface ceramic layer formed on the ceramic substrate and consisting of holes having an anchor effect, good adhesion between the electroless plating layer forming the wiring layer provided thereon and the ceramic substrate is achieved. A leaded ceramic package can be obtained.

また、ビアホールを印刷により形成すると、めっきで形
成したビアホールによりもボイド発生が少なく信頼性が
高いため好ましい。
Furthermore, it is preferable to form the via holes by printing, since this results in fewer voids and higher reliability than via holes formed by plating.

(実施例) 本発明によるリード付セラミックパッケージ及びその製
造方法の具体的実施例につき、セラミックパッケージを
示す第1図及びその製造方法のフローチャートを示す第
2図を参照しつつ説明する。
(Example) A specific example of the leaded ceramic package and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to FIG. 1 showing a ceramic package and FIG. 2 showing a flowchart of the manufacturing method.

まず、基本モデルについて第1図によって説明する。First, the basic model will be explained with reference to FIG.

第1図はセラミック基板が、上層1、内層2、下層3の
3層からなる場合を説明するが、内層は1層に限定され
るものではなく、2層以上の複数であってもよい。
Although FIG. 1 explains the case where the ceramic substrate consists of three layers, an upper layer 1, an inner layer 2, and a lower layer 3, the number of inner layers is not limited to one layer, and may be two or more layers.

まず内層2は、原料のセラミック材料及び結晶結合材の
一例であるガラス成分のフラックス、さらには適宜有機
バインダー、可塑剤、有機溶剤を加えて混合して形成さ
れたグリーンシートで、所定の位置に、孔4を開けると
同時に加工寸法に打ち抜かれたものである。孔4内には
、W、Mo。
First, the inner layer 2 is a green sheet formed by mixing raw ceramic material and a glass component flux, which is an example of a crystalline binder, as well as an appropriate organic binder, plasticizer, and organic solvent, and is placed in a predetermined position. , which is punched out to the processing dimensions at the same time as the hole 4 is opened. Inside the hole 4, W, Mo.

Cu、  Ag、  Ag−Pd等のペーストを充填し
、更にグリーンシートの上にW、 Mo、  Cu、 
 Ag。
Filled with paste such as Cu, Ag, Ag-Pd, etc., and further filled with W, Mo, Cu, etc. on the green sheet.
Ag.

Ag−Pd等のペース)5aを印刷し、回路を形成する
5a of Ag-Pd etc. is printed to form a circuit.

次に下層3は、原料のセラミック材料及び結晶結合材の
一例であるガラス成分のフラックス、さらには適宜有機
バインダー、可塑剤、有機溶剤を加えて混合して形成さ
れたグリーンシートで、所定の位置に、孔4を開けると
同時に加工寸法に打ち抜かれたものである。孔4内には
、W、Mo。
Next, the lower layer 3 is a green sheet formed by mixing the raw ceramic material and a glass component flux, which is an example of a crystalline binder, as well as an appropriate organic binder, plasticizer, and organic solvent. At the same time as the hole 4 was drilled, it was punched out to the working dimensions. Inside the hole 4, W, Mo.

Cu、Ag、  Ag−Pd等のペーストを充填し、さ
らにグリーンシートの上に、W、Mo、Cu、Ag。
Filled with paste such as Cu, Ag, Ag-Pd, etc., and further filled with W, Mo, Cu, Ag on top of the green sheet.

Ag−Pd等のペース)5b及び5Cを印刷し回路を形
成する。 − 最後に上層1は、原料のセラミック材料及び結晶結合材
の一例であるガラス成分のフラックス、さらには、適宜
有機バインダー、可塑剤、有機溶剤を加えて混合して形
成されたグリーンシートの表面には、粒状のセラミック
を印刷又はロールコータ−、スプレー等の方法で塗布し
、表層セラミック6を形成し、所定の位置に、孔4を開
けると同時に加工方法に打ち抜かれたものである。
5b and 5C of Ag-Pd etc. are printed to form a circuit. - Finally, the upper layer 1 is formed on the surface of a green sheet formed by mixing the raw ceramic material and a glass component flux, which is an example of a crystalline binder, as well as an appropriate organic binder, plasticizer, and organic solvent. In this case, a surface layer ceramic 6 is formed by applying granular ceramic by printing, using a roll coater, spraying, or the like, and punching out holes 4 at predetermined positions at the same time as punching.

上層1、内層2、下層3はプレス機などにより加圧積層
し、焼成すればパッケージ基板7が形成される。
The upper layer 1, the inner layer 2, and the lower layer 3 are laminated under pressure using a press or the like, and then fired to form the package substrate 7.

パッケージ基板7には、無電解めっき、必要に応じてさ
らに電気めっきを施したのち、印刷法またはフォトリソ
グラフィの方法により、下層1、表面に回路8が形成さ
れる。下層3にはロー付けなどの方法によりピン10が
取り付けられる。
The package substrate 7 is subjected to electroless plating and further electroplating if necessary, and then a circuit 8 is formed on the lower layer 1 and the surface by a printing method or a photolithography method. A pin 10 is attached to the lower layer 3 by a method such as brazing.

第3図(a)〜(d)  は本発明の表層セラミックの
形成法を説明する図である。
FIGS. 3(a) to 3(d) are diagrams illustrating the method for forming the surface layer ceramic of the present invention.

原料のセラミック材料及び結晶結合材の一例であるガラ
ス成分のフラクッス、さらには、適宜有機バインダー、
可塑剤、有機溶剤を加えて混合して形成されるグリーン
シート上に、粒状のセラミック材料9を第3図(a)に
示されるように配して表層セラミック6を設けることに
より重層構造を形成する。次に、前記グリーンシートを
焼結すれば、このグリーンシート内の前記結晶結合剤の
ガラス成分がしみだし、前記粒状セラミック材料等の表
面を第3図(b)  に示されるように濡らして、その
ガラス成分による結合層12を形成する。そして、焼結
後には、この結合層12を介して粒状セラミック材料の
下端部の端部側が焼結により緻密化され前記クリーンシ
ートに強固に結合される。こうして、これら粒状セラミ
ック材料により粒状突起部が形成され、この粒状突起部
の粒状突起間には上側である表面側から見て奥側に向か
って先広がりの形状となる間隙13が形成される。この
間隙13に、第3図(C)  に示されるように、施さ
れる無電解めっき層15の一部が侵入固化されて強固な
アンカー効果が発揮される。
A ceramic material as a raw material and a glass component flux which is an example of a crystalline binder, as well as an appropriate organic binder,
A multi-layered structure is formed by arranging granular ceramic material 9 as shown in FIG. 3(a) and providing surface ceramic 6 on a green sheet formed by adding and mixing a plasticizer and an organic solvent. do. Next, when the green sheet is sintered, the glass component of the crystalline binder in the green sheet oozes out and wets the surface of the granular ceramic material as shown in FIG. 3(b). A bonding layer 12 is formed using the glass component. After sintering, the lower end of the granular ceramic material is sintered to become denser and firmly bonded to the clean sheet through the bonding layer 12. In this way, granular protrusions are formed by these granular ceramic materials, and gaps 13 are formed between the granular protrusions, which widen toward the back when viewed from the upper surface side. As shown in FIG. 3(C), a part of the applied electroless plating layer 15 penetrates into this gap 13 and solidifies, thereby exerting a strong anchor effect.

前記粒状セラミック材料9を含むセラミック材料は、ア
ルミナ、ベリリア、窒化珪素、ジルコニア、ムライト等
がある。また、前記結晶結合剤としては、前記ガラス成
分の他に、主成分セラミックスより融点の低い材料や、
拡散係数の大きな材料等がある。要するに、結晶結合剤
が主成分のセラミック材料の焼結の助剤となる構造のセ
ラミックを形成するに用いられるセラミック材料および
結晶結合剤であれば良い。この理由は、結晶結合剤は焼
成時の移行が大きく、濃度勾配で拡散し、エネルギーレ
ベルの低い粒界等の表面へ移行する性質があり、これが
前記粒状セラミックの表面を濡らす結果となるためであ
る。
Ceramic materials including the granular ceramic material 9 include alumina, beryllia, silicon nitride, zirconia, mullite, and the like. In addition to the glass component, the crystal binder may include a material having a lower melting point than the main component ceramic,
There are materials with large diffusion coefficients. In short, any ceramic material and crystal binder may be used as long as the ceramic material and crystal binder are used to form a ceramic having a structure in which the crystal binder serves as a sintering aid for a ceramic material containing the main component. The reason for this is that the crystal binder has a tendency to migrate significantly during firing, diffuse with a concentration gradient, and migrate to surfaces such as grain boundaries where the energy level is low, and this results in wetting the surface of the granular ceramic. be.

前記基本的モデルを説明するに際しては、前記結晶結合
剤を含まない1層に配列される前記粒状セラミック材料
9による表層セラミック6としたが、この表層セラミッ
ク6に前記結晶結合剤が含まれても良く、また前記粒状
セラミック材19が2層、3層等になっても良い。なお
、この2層の場合の前記第3図(b) に対応する図面
を示せば第3図(fi)のようになり、同一番号は同一
内容を示している。
In explaining the basic model, the surface ceramic 6 is made of the granular ceramic material 9 arranged in one layer that does not contain the crystal binder, but even if the surface ceramic 6 contains the crystal binder. Alternatively, the granular ceramic material 19 may have two layers, three layers, etc. A drawing corresponding to FIG. 3(b) in the case of two layers is shown in FIG. 3(fi), where the same numbers indicate the same contents.

次に、前述されたような粒状突起が形成される場合の条
件について詳述する。
Next, conditions under which granular protrusions as described above are formed will be described in detail.

1) 前記グリーンシート11中に含まれる結晶結合剤
に相当する成分およびセラミック材料中に含まれる結晶
結合剤に相当する成分の総量が、全く含まれない場合を
含んで前記表層セラミック6のそれらの総量より多い必
要がある。
1) The total amount of the component corresponding to the crystal binder contained in the green sheet 11 and the component corresponding to the crystal binder contained in the ceramic material, including the case where the total amount of the component corresponding to the crystal binder contained in the green sheet 11 is not included at all, is Must be greater than the total amount.

この理由は、グリーンシート11上に形成した表層セラ
ミック6の少なくとも最上層粒子が、結晶結合剤でうめ
られず、そこに粒状突起が形成されるためである。
The reason for this is that at least the uppermost layer particles of the surface ceramic 6 formed on the green sheet 11 are not filled with the crystal binder, and granular protrusions are formed there.

2) 前記グリーンシート11が焼結により緻密化し、
緻密体に結合する温度で焼結する必要がある。
2) The green sheet 11 is densified by sintering,
It is necessary to sinter at a temperature that will bond it to a dense body.

この理由は、前記表層セラミック6が焼成される温度で
焼結すれば、前記グリーンシート11は緻密に焼結せず
に脆い状態になるためである。
The reason for this is that if the surface layer ceramic 6 is sintered at the temperature at which it is fired, the green sheet 11 will not be sintered densely but will be in a brittle state.

3) 前記粒状セラミック材料の形状は、球状、若しく
は、楕円形状のような球状に近いものである必要がある
3) The shape of the granular ceramic material needs to be spherical or close to spherical, such as an ellipse.

この理由は、表面側から見て奥側に向かって先広がりと
なる間隙13を形成するためである。
The reason for this is to form a gap 13 that widens toward the back when viewed from the front side.

前記粒状セラミック材料による粒状の間隙13は、この
粒状セラミック材料間に所望間隙を形成する大きさを有
するグラファイト、カーボン粒子等の酸化燃焼可能な間
隙形成材によって制御可能である。
The granular gaps 13 of the granular ceramic material can be controlled by an oxidatively combustible gap-forming material such as graphite or carbon particles having a size that forms a desired gap between the granular ceramic materials.

次に、グリーンシート11と表層セラミック6との重層
構造を形成するには以下の■〜■の手段のうち最適のも
のを選択して使用している。
Next, in order to form a multilayer structure of the green sheet 11 and the surface ceramic 6, the most suitable method is selected and used from among the following methods (1) to (4).

■ 粒状セラミック材料に、有機バインダー、有機溶剤
、可塑剤、間隙形成材等を混合して2000cpsの粘
度に調整したペースト状のスラリーをリバースコータ一
方式により帯板状の前記グリ−ンシート11の両面に展
着させる手段。
■ A paste slurry prepared by mixing a granular ceramic material with an organic binder, an organic solvent, a plasticizer, a gap forming material, etc. and adjusting the viscosity to 2000 cps is coated on both sides of the strip-shaped green sheet 11 using a reverse coater. A means of spreading.

■ ■と同様に粒状セラミック材料に、有機バインダー
、有機溶剤、可塑剤、間隙形成材等を混合して、はぼ2
00C1]Sの粘度に調整したスラリーをスペレー塗装
法により前記グリーンシート11の片面若しくは両面に
塗布する手段。
■ Similar to ■, granular ceramic material is mixed with an organic binder, an organic solvent, a plasticizer, a gap forming material, etc.
00C1] A means for applying a slurry adjusted to a viscosity of S to one or both sides of the green sheet 11 by a spray coating method.

■ 転写紙に予め塗布等されたスラリーを、前記グリー
ンシート11の片面若しくは両面に転写する手段。
(2) A means for transferring slurry, which has been previously applied to transfer paper, onto one or both sides of the green sheet 11.

■ グリーンシート11の片面若しくは両面にスラリー
をスクリーン印刷によって印刷する手段。
■ Means for printing slurry on one or both sides of the green sheet 11 by screen printing.

なお、前述のような手段等によって重層構造になったも
のは、この゛重層構造のものを多段に積み重ねて同時に
焼成しても互いに溶着するようなことはない。
It should be noted that the multi-layer structure formed by the above-mentioned means will not be welded to each other even if the multi-layer structure is stacked in multiple stages and fired at the same time.

この理由は、表層部のセラミック質の純度が高いため、
焼成中に溶着しないためである。
The reason for this is that the purity of the ceramic in the surface layer is high.
This is to prevent welding during firing.

次に、実際の例について説明する。Next, an actual example will be explained.

実施例1 平均粒子径2μmの低ソーダ量のアルミナ粉末90重量
%と、MgO,Cab、 5in2粉末10重量%と有
機バインダーであるブチラール樹脂と可塑材DOPと有
機溶剤トルエンとブタノールをアルミナ製ボールミルで
混合し、粘度約5000cpsのスラリーに調整した。
Example 1 90% by weight of alumina powder with an average particle size of 2 μm and low soda content, 10% by weight of MgO, Cab, 5in2 powder, butyral resin as an organic binder, plasticizer DOP, and organic solvents toluene and butanol were mixed in an alumina ball mill. They were mixed and adjusted to a slurry with a viscosity of about 5000 cps.

このスラリーをテープ成形機でグリーンテープとした。This slurry was made into green tape using a tape forming machine.

グリーンテープに所定の孔をプレス機で打ち抜き、平均
粒子径1μmのダンゲステン粉末を用いたペーストで孔
を充填した後、所定の導体配線を同じ粒径のタングステ
ン粉末を用いたペーストでスクリーン印刷した。最上層
のグリーンテープは平均粒径1μmのMg050重量%
と平均粒子径2.0μmのアルミナ粉末50重量%の粉
末を用いたペーストを粘度200cpsに調整後、表層
セラミックとしてスプレー法により塗布し、乾燥した後
所定の孔を同様に打ち抜き、導体ペーストの充填を行っ
た。所定の配線がなされたテープを温度150℃、圧力
20kg/cm’で積層し一体とした後所定の寸法に切
断し、約1600℃の水素雰囲気で焼成した。焼成基体
にN1無電解めっき1μmを前面につけた後、フォトレ
ジストを全面に塗布し、表面に回路パターン形成し、第
二塩化鉄水溶液でエンチングを行い、50μmの線幅の
配線を形成した。また、同工程で、裏面にはリードピン
取り付は用の1.8肛φのパッドを形成した。このパッ
ド上に共晶銀ろう(Ag−Cu)でコバールのピンを約
850℃の水素雰囲気で金具づけした。
Predetermined holes were punched out in the green tape using a press machine, and the holes were filled with a paste using dungsten powder with an average particle size of 1 μm, and then predetermined conductor wiring was screen printed with a paste using tungsten powder with the same particle size. The top layer of green tape is Mg050% by weight with an average particle size of 1 μm.
After adjusting the viscosity to 200 cps, a paste using 50% by weight of alumina powder with an average particle size of 2.0 μm was applied as a surface ceramic layer by spraying, and after drying, predetermined holes were similarly punched out and filled with conductive paste. I did it. Tapes with predetermined wiring were laminated and integrated at a temperature of 150°C and a pressure of 20 kg/cm', then cut into predetermined dimensions and fired in a hydrogen atmosphere at about 1600°C. After applying 1 μm of N1 electroless plating to the front surface of the fired substrate, photoresist was applied to the entire surface, a circuit pattern was formed on the surface, and etching was performed with a ferric chloride aqueous solution to form wiring with a line width of 50 μm. In addition, in the same process, a pad of 1.8 diameter for attaching a lead pin was formed on the back surface. A Kovar pin was attached onto this pad using eutectic silver solder (Ag-Cu) in a hydrogen atmosphere at about 850°C.

ピンの組立後ニッケル無電解めっきを2μmつけた後シ
アン化金の無電解めっきを2μmつけ、プラグインパッ
ケージとした。
After assembling the pins, 2 μm of electroless nickel plating was applied, followed by 2 μm of gold cyanide electroless plating to create a plug-in package.

パッケージ表面のパターンは、スコッチテープによる密
着度テストによる剥離は起こさなかった。
The pattern on the package surface did not peel off when tested for adhesion with Scotch tape.

また、パッケージ裏面に取り付けられたピン引張強度は
3.Okgであった。
Also, the tensile strength of the pin attached to the back of the package is 3. It was OK.

実施例2 平均粒径4μmのカオリンと平均粒径2μmのシリカを
実施例1のバインダー、可塑剤、溶剤と混合し、スラリ
ー調整した後、所定のグリーンシートとした。
Example 2 Kaolin with an average particle size of 4 μm and silica with an average particle size of 2 μm were mixed with the binder, plasticizer, and solvent of Example 1 to prepare a slurry, and then a predetermined green sheet was prepared.

実施例1と同様の打ち抜き、平均粒径1.5 μmのモ
リブデン粉末と平均粒径2μmのマンガン粉末を用いた
ペーストで孔充填、導体配線を印刷した。最上層のグリ
ーンテープは平均粒径0.4μmのジルコニア粉末10
0重量%を用いたペーストを表層セラミックとしてリバ
ースコーター法で塗布した。乾燥後、実施例1と同様に
打ち抜き孔充填を行った。
The same punching as in Example 1 was performed, the holes were filled with a paste using molybdenum powder with an average particle size of 1.5 μm and manganese powder with an average particle size of 2 μm, and conductor wiring was printed. The top layer of green tape is zirconia powder with an average particle size of 0.4 μm.
A paste containing 0% by weight was applied as a surface ceramic layer using a reverse coater method. After drying, the punched holes were filled in the same manner as in Example 1.

所定の配線がなされたテープを温度150℃、圧力40
 kg/cm2で積層し、一体とした後、所定の寸法に
切断し、約1350℃の水素雰囲気で焼成した。焼成素
体に無電解銅めっき1μmを全面につけた後、更に硫酸
銅の電気めっき10μmをつけ、ニッケルの電気めっき
を2μmつけ実施例1と同様なフォトレジスト・エツチ
ングを行い所定の導体を残した。この基板に実施例1と
同じろう付ニッケル・金めつきを行い、プラグインパッ
ケージを作った。
The tape with the specified wiring is heated at a temperature of 150°C and a pressure of 40°C.
After laminating at a weight of kg/cm2 and making it into a single piece, it was cut into a predetermined size and fired in a hydrogen atmosphere at about 1350°C. After applying 1 μm of electroless copper plating to the entire surface of the fired body, electroplating of copper sulfate to 10 μm and electroplating of nickel to 2 μm was performed, and photoresist etching was carried out in the same manner as in Example 1, leaving a predetermined conductor. . The same brazing nickel/gold plating as in Example 1 was applied to this board to produce a plug-in package.

パッケージ表面のパターンは、スコッチテープによる密
着度テストによる剥離は起こさなかった。
The pattern on the package surface did not peel off when tested for adhesion with Scotch tape.

また、パッケージ裏面に取り付けられたピン引張強度は
3.5kgであった。
The tensile strength of the pin attached to the back of the package was 3.5 kg.

本発明は上述した実施例にのみ限定されるものではなく
、幾多の変形、変更が可能である。例えば、表層セラミ
ック6は、上層1の表面に施す場合を説明したが、上層
1と下層30両方の表面に施すこともできる。さらに、
表層セラミック6は、クリーンシート上に塗布されて後
、所定の位置に孔4を開けると同時に加工寸法に打ち抜
かれる場合を説明したが、グリーンシートが所定の位置
に孔4を開けると同時に加工寸法に打ち抜かれた後に表
面層セラミック6が塗布されてもよい。また、上層1、
内層2、下層3の3層が積層された後に表層セラミック
6が塗布されて焼成されてもよい。
The present invention is not limited only to the embodiments described above, and numerous modifications and changes are possible. For example, although the case where the surface ceramic 6 is applied to the surface of the upper layer 1 has been described, it can also be applied to the surfaces of both the upper layer 1 and the lower layer 30. moreover,
The surface ceramic 6 is coated on a clean sheet and then punched out to the processing dimensions at the same time as the holes 4 are punched at predetermined positions. After punching, a surface layer ceramic 6 may be applied. In addition, upper layer 1,
After the three layers of the inner layer 2 and the lower layer 3 are laminated, the surface ceramic layer 6 may be applied and fired.

(発明の効果) 以上詳細に説明したところから明らかなように、本発明
のリード付セラミックパッケージによれば、アンカー効
果を有する表層セラミックを設けることにより、配線層
をなす無電解めっき層とセラミック基板とが強固に接着
し、電極パターンを形成するため、めっき層とセラミッ
ク基板との密着性の良好なリード付セラミックパッケー
ジを得ることができる。
(Effects of the Invention) As is clear from the above detailed explanation, according to the leaded ceramic package of the present invention, by providing the surface ceramic having an anchor effect, the electroless plating layer forming the wiring layer and the ceramic substrate Since these are firmly adhered to form an electrode pattern, it is possible to obtain a leaded ceramic package with good adhesion between the plating layer and the ceramic substrate.

また、好適な実施例では、表層セラミックをセラミック
基板と同時に焼成できるため、工程が簡単になるととも
に、ビアホールを印刷により形成しているため、めっき
で形成したスルーホールよりも信頼性を高くすることが
できる。
In addition, in the preferred embodiment, the surface ceramic can be fired at the same time as the ceramic substrate, which simplifies the process, and since the via holes are formed by printing, they are more reliable than through holes formed by plating. Can be done.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のリード付セラミックパッケージの一実
施例を示す図、 第2図は本発明のリード付セラミックパッケージの製造
工程のフローチャート、 第3図(a)〜(d) はそれぞれ表層セラミックの製
造工程を示す図、 第4図(a)〜(C)はそれぞれ従来のリード付セラミ
ックパッケージの製造工程を示したフローチャートであ
る。 1・・・上層       2・・・内層3・・・下層
       4・・・孔5a、 5b、 5cm・・
ペースト 6・・・表層セラミック 7・・・パッケージ基板 計・・回路       9・・・粒状セラミック材料
10・・・ピン       11・・・グリーンシー
ト12・・・結合層      13・・・間隙15・
・・無電解めっき層
Fig. 1 is a diagram showing an embodiment of the leaded ceramic package of the present invention, Fig. 2 is a flowchart of the manufacturing process of the leaded ceramic package of the present invention, and Fig. 3 (a) to (d) are respectively surface layer ceramics. Figures 4(a) to 4(c) are flowcharts showing the manufacturing process of a conventional leaded ceramic package. 1... Upper layer 2... Inner layer 3... Lower layer 4... Holes 5a, 5b, 5cm...
Paste 6... Surface ceramic 7... Package board meter... Circuit 9... Granular ceramic material 10... Pin 11... Green sheet 12... Bonding layer 13... Gap 15.
・・Electroless plating layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.アンカー効果を有する孔を形成した表層セラミック
上に、配線層をなす無電解めっき層を設けたセラミック
基板表面と、裏面およびピンとの間をビアホールを介し
て導通させることを特徴とするリード付セラミックパッ
ケージ。
1. A ceramic package with leads, characterized in that conduction is established between the surface of a ceramic substrate, which has an electroless plating layer forming a wiring layer, and the back surface and pins via via holes on a ceramic surface layer in which holes having an anchor effect are formed. .
2.前記表層セラミックとビアホール内の導体ペースト
とを同時に焼成する特許請求の範囲第1項記載のリード
付セラミックパッケージ。
2. The leaded ceramic package according to claim 1, wherein the surface layer ceramic and the conductive paste in the via hole are fired at the same time.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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