JPH01136415A - Programmable logic circuit - Google Patents

Programmable logic circuit

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Publication number
JPH01136415A
JPH01136415A JP62294113A JP29411387A JPH01136415A JP H01136415 A JPH01136415 A JP H01136415A JP 62294113 A JP62294113 A JP 62294113A JP 29411387 A JP29411387 A JP 29411387A JP H01136415 A JPH01136415 A JP H01136415A
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JP
Japan
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circuit
bit memory
memory circuit
terminal
test
Prior art date
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Pending
Application number
JP62294113A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Hayashi
誠 林
Hideo Nakamura
英夫 中村
Terumi Sawase
沢瀬 照美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP62294113A priority Critical patent/JPH01136415A/en
Publication of JPH01136415A publication Critical patent/JPH01136415A/en
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals

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  • Test And Diagnosis Of Digital Computers (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the defective factor to nearly 1/2 or below in comparison with that of an LSI without any test circuit by providing a means checking independently information programmed in an electrically programmable element and checking whether or not a bit memory circuit is operated normally. CONSTITUTION:A test output terminal 94 is provided via a transfer gate 13 comprising a MOS transistor(TR) to a connecting point whose voltage is changed by the information of an E<2>P element 31 programmably electrically in the bit memory circuit 51 and the element 31 is connected to an input of an inverter 40 comprising a complementary MOS circuit driving a switch element 10 via the control element 12. The transfer gate 13 is used to connect only the selected bit memory circuit to the test output line. The control element 12 is used to isolate the element 31 from the bit memory circuit electrically at test. Moreover, the output of the inverter 40 is fed back to the input through a logic inverting circuit to use the test data input terminal and the test output terminal in common at the bit memory circuit test.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プログラマブル論理回路に係り、特にテスト
機能を持った。電気的にプログラム可能なスイッチ回路
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a programmable logic circuit, and particularly has a test function. The present invention relates to electrically programmable switch circuits.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、プログラマブル論理装置に用いられている。電気
的にプログラム可能なスイッチ回路については、アイ・
イー・イー・イー、ジャーナルオブ ソリッド・ステー
ト サーキツツ、ニス・シー21.ナンバー5 (19
86年10月)第766頁から第744頁(IEEE 
Journal of 5olid−State C1
rcuits、5C−21、&5 (1986゜10)
PP766−774)において論じられている。この従
来例では、MOSスイッチを制御するビットメモリ回路
を、2つのCMOSインバータ回路の入力と出力を互い
に接続したフリップフロップ回路と前記2つのインバー
タのうちの一方のインバータのn M OS トランジ
スタと並列に接続した。電気的にプログラム可能なMo
Sトランジスタにより構成されている。この従来例によ
るビットメモリ回路は、0M08回路により構成されて
いるため、定常状態においては原理的に電力を消費しな
いという特徴がある。
Conventionally, it is used in programmable logic devices. For electrically programmable switch circuits, see
E.E., Journal of Solid State Circuits, Nis.C.21. Number 5 (19
October 1986) pages 766 to 744 (IEEE
Journal of 5 solid-State C1
rcuits, 5C-21, &5 (1986°10)
PP766-774). In this conventional example, a bit memory circuit for controlling a MOS switch is connected in parallel with a flip-flop circuit in which the inputs and outputs of two CMOS inverter circuits are connected together, and an nMOS transistor of one of the two inverters. Connected. Electrically programmable Mo
It is composed of S transistors. This conventional bit memory circuit is configured with a 0M08 circuit, and therefore has the characteristic that it does not consume power in principle in a steady state.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術は、電気的にプログラム可能なMOSトラ
ンジスタにプログラムされている情報を検査したり、ビ
ットメモリ回路が正常に動作しているかどうかを検査す
る手段について、配慮がされていない、一般に、半導体
集積回路は、1つの半導体基体内に集積される素子数が
10B個程度になりつつある。従がってプログラム可能
な素子を含んだ半導体集積回路を高い信頼度で供給する
ためには、その中に含まれる各々の回路およびプログラ
ム可能な素子を検査する手段が必要である。
The above-mentioned conventional technology does not take into consideration the means for testing the information programmed in electrically programmable MOS transistors or for testing whether the bit memory circuit is operating normally. In integrated circuits, the number of elements integrated within one semiconductor substrate is becoming approximately 10B. Therefore, in order to provide a semiconductor integrated circuit including programmable elements with high reliability, a means for testing each circuit and programmable element included therein is required.

本発明の目的は、電気的にプログラム可能な素子にプロ
グラムされている情報、およびビットメモリ回路が正常
に動作するかどうかを互いに独立に検査する手段を、ビ
ットメモリ回路に設けることにある。
It is an object of the present invention to provide a bit memory circuit with means for independently testing whether the information programmed in the electrically programmable element and the bit memory circuit operate normally.

【問題点を解決するための手段〕[Means to solve problems]

上記目的は、ビットメモリ回路内で、l!電気的プログ
ラム可能な素子の情報により電圧が変化する接続点にM
OS)−ランジスタによるトランスファゲートを介して
、テスト出力端子を設けろこと、および電気的にプログ
ラム可能な素子を制御素子を介して、スイッチ素子を駆
動する相補型MOS回路によるインバータの入力に接続
すること、および、前記インバータの出力を論理反転回
路を通して前記インバータの入力に帰還させることによ
り達成される。
The above purpose is to achieve l! within the bit memory circuit. M at the connection point where the voltage changes depending on the information of the electrically programmable element.
OS) - providing a test output terminal via a transfer gate with a transistor and connecting an electrically programmable element via a control element to the input of an inverter with a complementary MOS circuit driving the switching element. , and by feeding back the output of the inverter to the input of the inverter through a logic inversion circuit.

〔作用] ビシトメモリ回路内の電気的にプログラム可能な素子の
情報により、その電圧が変化する接続点とテスト出力端
子の間に設けられたMOSトランジスタによるトランス
ノアゲートは、他のビットメモリ回路のテスト出力端子
が共通に接続されるテスト出力ラインに、選択されたビ
ットメモリ回路だけを接続するために用いる。これによ
って、多数のビットメモリ回路またはそこに含まれるプ
ログラム可能な素子の情報をそれよりも少ない数のテス
ト出力ラインにより時間v1的に検査できるようになる
[Function] A transnor gate using a MOS transistor installed between a connection point and a test output terminal whose voltage changes according to information from an electrically programmable element in a bit memory circuit can be used to test other bit memory circuits. It is used to connect only selected bit memory circuits to a test output line whose output terminals are commonly connected. This allows the information of a large number of bit memory circuits or the programmable elements contained therein to be tested in time v1 with a smaller number of test output lines.

また、電気的にプログラム可能な素子と、スイッチ素子
を駆動する相補型MO5回路によるインバータの入力と
の間に設けられた制御素子は、テスト時に電気的にプロ
グラム可能な素子をビットメモリ回路から電気的に分離
するために用いることができる。これによって、電気的
にプログラム可能な素子とビットメモリ回路とを独立に
テスト可能となる。
In addition, a control element provided between the electrically programmable element and the input of the inverter by the complementary MO5 circuit that drives the switch element is configured to remove the electrically programmable element from the bit memory circuit during testing. It can be used to separate This allows the electrically programmable elements and the bit memory circuit to be tested independently.

さらに、前記インバータの出力を論理反転回路を通して
前記インバータの入力に帰還させることにより、ビット
メモリ回路テスト時のテストデータ入力端子とテスト出
力端子を共通にすることができる。
Furthermore, by feeding back the output of the inverter to the input of the inverter through a logic inversion circuit, a test data input terminal and a test output terminal can be used in common when testing a bit memory circuit.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の詳細な説明する。第1図は本発明による
プログラマブル論理回路に用いるビットメモリ回路の第
1の実施例である。このビットメモリ回路51は、n形
スイッチMOSIOを制御するスイッチ制御出力端子9
7、これに9MOsトランジスタ21、nMOsトラン
ジスタ11により構成される相補型MOS回路によるイ
ンバータ40の出力が接続されている。また、このイン
バータ40の入力に高耐圧nMOsトランジスタによる
制御素子12を介して、電気的消去可能なE2P素子3
1のドレインが接続され、そのソースはVs端子91に
ゲートはVa端子92に接続され、前記制御索子12の
ゲートはvc端子に接続されている6さらに、前記イン
バータ40の入力は、nMOsトランジスタ13を介し
てデータ入出力端子94に接続され、眞記nMOsトラ
ンジスタ13のゲートはVn↑端子95に接続されてい
る。また、前記インバータ40の出方はPMOSトラン
ジスタ22により論理反転され、先のインバータの入力
に帰還されている。この他に、電源端子96および接地
端子98がある。
The present invention will be explained in detail below. FIG. 1 shows a first embodiment of a bit memory circuit used in a programmable logic circuit according to the present invention. This bit memory circuit 51 has a switch control output terminal 9 that controls an n-type switch MOSIO.
7, to which the output of an inverter 40 formed by a complementary MOS circuit constituted by a 9MOS transistor 21 and an nMOS transistor 11 is connected. In addition, an electrically erasable E2P element 3 is connected to the input of the inverter 40 via a control element 12 made of a high voltage nMOS transistor.
1 is connected to the drain of the inverter 40, its source is connected to the Vs terminal 91, its gate is connected to the Va terminal 92, and the gate of the control cable 12 is connected to the vc terminal.6Furthermore, the input of the inverter 40 is an nMOS transistor 13 to a data input/output terminal 94, and the gate of the nMOS transistor 13 is connected to a Vn↑ terminal 95. Furthermore, the output of the inverter 40 is logically inverted by the PMOS transistor 22 and fed back to the input of the previous inverter. In addition, there is a power terminal 96 and a ground terminal 98.

次に本実施例によるビットメモリ回路の動作を説明する
。電気的消去可能なE”P 素子31は、初期状態では
、そのしきい値VTRが0〜1vである。プログラムは
E”P 素子31のソースをOvとし、ゲートを10〜
20V、ドレインを5vとすることにより行なわれ、こ
の時VTRは5V以上となる。また、消去は、ドレイン
を開放とし、ゲートをOVとし、ソースに10〜20V
を印加することによって行なわれる。
Next, the operation of the bit memory circuit according to this embodiment will be explained. In the initial state, the electrically erasable E"P element 31 has a threshold value VTR of 0 to 1V. The program sets the source of the E"P element 31 to Ov and the gate to 10 to 1V.
This is done by setting the voltage to 20V and the drain voltage to 5V, and at this time the voltage of the VTR becomes 5V or more. Also, for erasing, the drain is open, the gate is set to OV, and the source is set to 10 to 20 V.
This is done by applying .

ビットメモリ回路51において、読出状態では電源電圧
を印加すると同時に各端子には第3図に示す電圧を与え
る。E”P 素子31のVTHが低い場合、Va端子は
5vであるので、導通状態となり、制御素子12もVc
端子が2Vであるので導通状態となり、インバータ40
の入力は低電位となる。すると、インバータ40の出力
すなわちスイッチ制御出力端子97は高電位となり、n
形スイッチMOSIOは導通状態となり、配線81と配
線82を接続状態にする。この時、9MOsトランジス
タ22は非導通状態であるので、E”P素子31には定
常的な電流は流匙ない。一方、E”P素子31のVTH
が高い場合、非導通状態となり、インバータ40の入力
は高電位となる。すると、インバータ40の出力すなわ
ちスイッチ制御出力端子97は低電位となり、n形スイ
ッチMOSIOは非導通状態となり、配線81と配線8
2を非接続状態にする。この時、pMOShランジスタ
22は導通状態となり、インバータ40の入力を高電位
に保つ働きをする。また読出状態の間はVDTはOvで
あり、n M OS トランジスタ13は非導通状態で
ある。このように、ビットメモリ回路41は、読出状態
では、E”P 素子31のプログラム状態に応じて、配
線81と配線82の接続、非接続を制御する。この時、
定常状態では原理的に電流が流れないという特徴がある
In the bit memory circuit 51, in the read state, a power supply voltage is applied, and at the same time, voltages shown in FIG. 3 are applied to each terminal. When the VTH of the E"P element 31 is low, the Va terminal is 5V, so it is in a conductive state, and the control element 12 is also Vc
Since the terminal is 2V, it becomes conductive and the inverter 40
The input of is at a low potential. Then, the output of the inverter 40, that is, the switch control output terminal 97 becomes a high potential, and n
The type switch MOSIO becomes conductive, and the wiring 81 and the wiring 82 are connected. At this time, since the 9MOS transistor 22 is in a non-conducting state, no steady current flows through the E"P element 31. On the other hand, the VTH of the E"P element 31
When is high, the inverter 40 becomes non-conductive and the input of the inverter 40 has a high potential. Then, the output of the inverter 40, that is, the switch control output terminal 97 becomes a low potential, the n-type switch MOSIO becomes non-conductive, and the wiring 81 and the wiring 8
2 is disconnected. At this time, the pMOSh transistor 22 becomes conductive and functions to keep the input of the inverter 40 at a high potential. Further, during the read state, VDT is Ov and the n MOS transistor 13 is non-conductive. In this way, in the read state, the bit memory circuit 41 controls the connection and disconnection of the wiring 81 and the wiring 82 according to the program state of the E''P element 31. At this time,
In a steady state, no current flows in principle.

消去状態では各端子には第3図に示す電圧を与える。こ
の時、VC端子93はOvであり、高耐圧n M OS
 トランジスタによる制御索子12は非導通状態であり
、E2P 素子3゛1をビットメモリ回路から分離する
とともに、ビットメモリ回路に高電圧がかかるのを阻止
する働きをする。また、Va端子92はOV、Vs端子
91はVp=10〜20Vが印加されるので、E”P 
素子31の情報は消去され、VTIIはO〜1■となる
In the erase state, voltages shown in FIG. 3 are applied to each terminal. At this time, the VC terminal 93 is Ov, and the high voltage nMOS
Transistor control wire 12 is non-conducting and serves to isolate E2P element 3'1 from the bit memory circuit and to prevent high voltages from being applied to the bit memory circuit. Also, since OV is applied to the Va terminal 92 and Vp=10 to 20V is applied to the Vs terminal 91, E”P
The information of the element 31 is erased, and VTII becomes O~1■.

プログラムデータを書き換える場合は、前述した方法に
より一旦消去してからプログラムを行なうことにより実
行される。プログラム状態では、各端子には第3図に示
す電圧を与える。Vc端子93は5vであり、Va端子
92はvP=10〜20Vであるので制御素子12およ
びE”P 素子31は導通状態である。この時、導通状
態となっているn M OS トランジスタ13を介し
てデータ入出力端子94に5vを印加すると、E2P索
子31に電流が流れ書込み状態となりそのVTRが5V
以上となる。一方、データ入出力端子95を0■とする
と、E”P 素子31には電流が流れず書込みは起こら
ないので、そのvTHはO〜1vのままである。このよ
うにして、データ入出力端子94の電圧に応じて、E”
P 素子31をプログラムできる。
When rewriting program data, it is executed by first erasing the data using the method described above and then programming. In the program state, voltages shown in FIG. 3 are applied to each terminal. Since the voltage at the Vc terminal 93 is 5V and the voltage at the Va terminal 92 is vP=10 to 20V, the control element 12 and the E"P element 31 are in a conductive state. At this time, the nMOS transistor 13 which is in a conductive state is When 5V is applied to the data input/output terminal 94 through the E2P connector 31, a current flows to the E2P cable 31 and enters the write state, and the VTR becomes 5V.
That's all. On the other hand, when the data input/output terminal 95 is set to 0■, no current flows through the E"P element 31 and writing does not occur, so its vTH remains at O~1v. In this way, the data input/output terminal Depending on the voltage of 94, E”
P element 31 can be programmed.

テスト状態では、各端子には第3図に示す電圧を与える
。まず、E”P 素子31にはプログラムされている情
報をテストする場合は、−旦前述の読出状態とし、その
後、VoT端子95に5vを印加することにより、n 
M OS トランジスタ13を導通状態としインバータ
40の入力の電圧をデータ入出力端子94から取り出す
ことにより行なう。
In the test state, voltages shown in FIG. 3 are applied to each terminal. First, when testing the information programmed in the E"P element 31, first set it to the above-mentioned read state, and then apply 5V to the VoT terminal 95.
This is done by turning on the MOS transistor 13 and taking out the input voltage of the inverter 40 from the data input/output terminal 94.

第4図はこのE”P テスト時のタイミングチャートで
ある。
FIG. 4 is a timing chart during this E''P test.

一方、ビットメモリ回路51のテストを行なう場合は、
Vc端子93をOvとして、E”P素子31をビットメ
モリ回路51から分離する。そこで、VDT端子95に
5vを印加しデータ入出力端子94から5vまたはOv
のデータを入力する。
On the other hand, when testing the bit memory circuit 51,
The E"P element 31 is separated from the bit memory circuit 51 by setting the Vc terminal 93 to Ov. Therefore, 5V is applied to the VDT terminal 95 and 5V or Ov is applied from the data input/output terminal 94.
Enter the data.

すると、インバータ40とpMOSトランジシスタ22
によるラッチ回路によりそのデータが保持される。その
後、−旦VDT端子95をOvとした後、再びVDT端
子95を5vとし、保持されているデータをデータ入出
力端子94から検出する。
Then, the inverter 40 and the pMOS transistor 22
The data is held by the latch circuit. Thereafter, after setting the VDT terminal 95 to Ov for -1 time, the VDT terminal 95 is set to 5V again, and the held data is detected from the data input/output terminal 94.

検出方法は、pMOsランジスタ22が導通か非導通か
に応じて、データ入出力端子94から電流が流し出せる
かどうかを検出すれば良い。
The detection method may be to detect whether a current can flow from the data input/output terminal 94 depending on whether the pMOS transistor 22 is conductive or non-conductive.

本実施例によれば、電気的にプログラム可能な素子をE
”P 素子31により構成しているため、プログラム変
更が回路組込状態で可能である。また本回路を含むLS
Iのパッケージは石英ガラスの窓を必要とせず、安価な
プラスティックパッケージで良い、また、本実施例のビ
ットメモリ回路は素子数が6素子と少ない。さらに、読
出し状態の定常状態では原理的に電力を消費しないとい
う特徴がある。
According to this embodiment, the electrically programmable element is
Since it is composed of P elements 31, it is possible to change the program while the circuit is installed.
The package of I does not require a quartz glass window and can be an inexpensive plastic package.Furthermore, the bit memory circuit of this embodiment has a small number of elements, 6 elements. Furthermore, it has the characteristic that no power is consumed in principle in the steady state of the read state.

次に1本発明による第2の実施例について説明する。第
2図は本発明によるプログラマブル論理回路に用いるビ
ットメモリ回路の第2の実施例である。このビットメモ
リ回路52において、インバータ41.42は第1図で
示した相補型MOS回路によるインバータ40と同じ回
路である。そして、インバータ41のPMOSのゲート
長とゲート幅の比W/Lはインバータ42のPMOSの
W/Lより小さくなっており、また、インバータ41の
nMOSのW/Lはインバータ42のnMO5のW/L
より大きくなっている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 shows a second embodiment of a bit memory circuit used in a programmable logic circuit according to the present invention. In this bit memory circuit 52, inverters 41 and 42 are the same circuits as inverter 40 which is a complementary MOS circuit shown in FIG. The gate length to gate width ratio W/L of the PMOS of the inverter 41 is smaller than the W/L of the PMOS of the inverter 42, and the W/L of the nMOS of the inverter 41 is W/L of the nMO5 of the inverter 42. L
It's bigger.

このため、読出状態において、EzP素子32が非導通
状態にプログラムされている場合、1f!源オンとなっ
た時に、スイッチ制御出力端子97が自動的に低電位と
なる。
Therefore, in the read state, if the EzP element 32 is programmed to be non-conductive, 1f! When the power is turned on, the switch control output terminal 97 automatically becomes a low potential.

また、第1@のビットメモリ回路51に比べ、pMOS
トランジスタ22により行っていた論理反転をインバー
タ42により行なっており、インバータ41とともに完
全なラッチ回路を構成している。さらに、データ入出力
端子94がスイッチ制御出力端子97からn M OS
 トランジスタ14を介して接続されている点が、第1
図のビットメモリ回路51と異っている。他の部分は第
1図のビットメモリ回路51と同様である。従って、そ
の動作はプログラム状態において、データ入出力端子9
4に与えるデータとE2P索子32にプログラムされる
状態との関係が、第1図のビットメモリ回路51の場合
と逆になること、およびテスト状態において、E”P 
素子32にプログラムされている状態とデータ入出力端
子94に現われるデータとの関係が逆になることを除け
ば、第1図のビットメモリ回路51の動作と同じである
ので。
Also, compared to the first @ bit memory circuit 51, the pMOS
The inverter 42 performs the logic inversion that was performed by the transistor 22, and forms a complete latch circuit together with the inverter 41. Furthermore, the data input/output terminal 94 is connected to the switch control output terminal 97
The point connected via the transistor 14 is the first
This is different from the bit memory circuit 51 shown in the figure. The other parts are similar to the bit memory circuit 51 in FIG. Therefore, the operation is performed at the data input/output terminal 9 in the program state.
4 and the state programmed into the E2P circuit 32 is opposite to that of the bit memory circuit 51 shown in FIG.
The operation is the same as that of the bit memory circuit 51 in FIG. 1, except that the relationship between the state programmed in the element 32 and the data appearing at the data input/output terminal 94 is reversed.

詳細の記述は省略する。Detailed description will be omitted.

本実施例によれば、インバータ41と42によって完全
なラッチ回路が構成されているので、プログラム状態に
おいて、あらかじめ複数のビットメモリ回路52に書込
みデータをラッチしておくことにより、1回のプログラ
ムサイクルで同時にE”P 素子32に書込みを行なう
ことが可能となる。
According to this embodiment, since a complete latch circuit is configured by the inverters 41 and 42, by latching the write data in the plurality of bit memory circuits 52 in advance in the program state, one program cycle can be completed. It becomes possible to write to the E''P element 32 at the same time.

次に本発明によるビットメモリ回路によるプログラマブ
ル論理回路の実施例について第5図を用いて説明する。
Next, an embodiment of a programmable logic circuit using a bit memory circuit according to the present invention will be described with reference to FIG.

このプログラマブル論理回路は。This programmable logic circuit.

横方向に走る1本の配線101,102と縦方向″に走
るm本の配8103.104から成り、それぞれの配線
の交点にはn形スイッチMOSIOがある。各々のn形
スイッチMOSはビットメモリ回路53〜56により制
御される。このビットメモリ回路53〜56は、第1図
あるいは第2図のビットメモリ回路51あるいは52の
いずれかである。横方向に並んだビットメモリ回路53
゜54 (1) VDT端子95、Vc端子93、Va
端子92は互いに共通に接続され、各々のゲートが共通
に接続されデコーダ62の出力に接続されているトラン
スファMOSトランジスタ71〜73を介して制御回路
64のVDT出力125、Vc出力123、Va122
 出力に接続されている。
It consists of one wire 101, 102 running in the horizontal direction and m wires 8103, 104 running in the vertical direction, and there is an n-type switch MOSIO at the intersection of each wire.Each n-type switch MOS is a bit memory. The bit memory circuits 53 to 56 are either the bit memory circuits 51 or 52 of FIG. 1 or 2. The bit memory circuits 53 arranged horizontally
゜54 (1) VDT terminal 95, Vc terminal 93, Va
The terminals 92 are commonly connected to each other, and the VDT output 125, Vc output 123, and Va 122 of the control circuit 64 are connected through transfer MOS transistors 71 to 73 whose respective gates are commonly connected and connected to the output of the decoder 62.
connected to the output.

また、縦方向に並んだビットメモリ回路53゜55のデ
ータ入出力端子94はデータ入出カライン105に共通
に接続されてデータラッチ63に接続されている。また
、各ビットメモリ回路のvs端子91はすべて共通に接
続されて制御回路64のVs出力121に接続されてい
る。制御回路64には制御信号113と10〜20Vの
高電圧114が接続されている。デコーダ回路62には
アドレスラッチ61を介してアドレス信号lllが加え
られる。データラッチ63には制御信号113とVDT
出力125が与えられ、その状態に応じてデータ入力あ
るいはテスト出力が行なわれる。
Furthermore, data input/output terminals 94 of the bit memory circuits 53 to 55 arranged in the vertical direction are commonly connected to a data input/output line 105 and connected to a data latch 63. Further, the vs terminals 91 of each bit memory circuit are all connected in common to the Vs output 121 of the control circuit 64. A control signal 113 and a high voltage 114 of 10 to 20V are connected to the control circuit 64. An address signal lll is applied to the decoder circuit 62 via the address latch 61. The data latch 63 has a control signal 113 and VDT.
An output 125 is provided, and data input or test output is performed depending on its state.

次に本実施例の動作を説明する。制御回路64は制御信
号113に応じてVDT出力125、Vc出力123、
VG出力]−22,Vs出力121 に第3図に示した
電圧を発生させる。続出状態では、各ビットメモリ回路
53〜56はデータ入出カライン105〜106と分離
され、各ビットメモリ回路53〜56のE”P 素子3
1または32のプログラム状態に応じて、各々のn形ス
イッチMOS10を制御し、各々の配線の交点を接続あ
るいは非接続状態に設定する。プログラム状1なでは、
アドレス信号111によって選択された行のビットメモ
リ回路のデータ入出力端子にデータラッチからプログラ
ムデータが与えられ、行ごとのプログラムが行なわれる
。消去状態では、制御回路64の指示によりすべてのビ
ットメモリのE2P 素子31または32を同時に消去
する。テスト状態では、アドレス信号111により選択
された行のビットメモリ回路からデータ入出カライン1
05〜106を介してデータラッチ63にテストデータ
が出力される。この時、各ビットメモリ回路のVc端子
93を制御することにより、E”P 索子31または3
2のプログラム状態とビットメモリ回路53〜54とを
独立にテストすることができる。
Next, the operation of this embodiment will be explained. The control circuit 64 outputs VDT output 125, Vc output 123,
The voltage shown in FIG. 3 is generated at the VG output]-22 and the Vs output 121. In the continuous state, each bit memory circuit 53-56 is separated from the data input/output line 105-106, and the E''P element 3 of each bit memory circuit 53-56 is separated from the data input/output line 105-106.
Each n-type switch MOS 10 is controlled according to the program state of 1 or 32, and the intersection of each wiring is set to a connected or non-connected state. In program form 1,
Program data is applied from the data latch to the data input/output terminal of the bit memory circuit of the row selected by the address signal 111, and programming is performed for each row. In the erase state, the E2P elements 31 or 32 of all bit memories are erased simultaneously according to instructions from the control circuit 64. In the test state, data input/output line 1 is input/output from the bit memory circuit in the row selected by the address signal 111.
Test data is output to the data latch 63 via 05-106. At this time, by controlling the Vc terminal 93 of each bit memory circuit, E"P
The program status of 2 and the bit memory circuits 53-54 can be tested independently.

ここで述べた実施例では、電気的にプログラム可能な素
子としてE”P 素子を用いたが、この代りに、紫外線
照射により消去するEP索子や、1回のみのプログラム
可能なヒユーズ素子を用いても、本発明の範囲内である
ことは明らかである。
In the embodiment described here, an E"P element was used as the electrically programmable element, but an EP element that is erased by ultraviolet irradiation or a fuse element that can be programmed only once may be used instead. However, it is clearly within the scope of the present invention.

また1本実施例では、プログラマブル論理回路として配
線が格子状のスイッチマトリックス回路を示したが、各
ビットメモリ回路が、互いに独立な2つの配線間の接続
を制御する様な回路においても、本発明の範囲内である
ことは明らかである。
In addition, in this embodiment, a switch matrix circuit with grid wiring is shown as a programmable logic circuit, but the present invention can also be applied to a circuit in which each bit memory circuit controls the connection between two mutually independent wirings. It is clear that it is within the range of .

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、ビットメモリ回路を相補型MOS回路
で橋成し、最も長時間使われる読出状態において、電気
的にプログラム可能な素子に電流を流さないで用いてい
るので定常状態ではビットメモリ回路ではリーク電流程
度しか電流は流れないにの値は、ビットメモリ回路を1
0番個用いたプログラマブル論理LSIにおいても50
μW程度である。
According to the present invention, the bit memory circuit is bridged by a complementary MOS circuit, and the bit memory circuit is used without passing current through the electrically programmable elements in the read state, which is used for the longest time. The value of the current flowing in the circuit, which is only about the leakage current, is 1 when the bit memory circuit is
Even in a programmable logic LSI using number 0, it is 50
It is about μW.

また、本発明によるビットメモリ回路では、電気的にプ
ログラム可能な素子とビットメモリ回路を独立にテスト
できる。このため、本回路を用いることによりプログラ
マブル論理LSIの検査をより完全に行なうことが可能
となり、このようなテスト回路を持たないLSIに比べ
、不良率を約172以下に低減することができる。
Further, in the bit memory circuit according to the present invention, the electrically programmable elements and the bit memory circuit can be tested independently. Therefore, by using this circuit, a programmable logic LSI can be tested more completely, and the defect rate can be reduced to about 172 or less compared to an LSI that does not have such a test circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1の実施例のビットメモリ回路の回
路図、第2図は第2の実施例のビットメモリ回路の回路
図、第3図は第1の実施例のビツトメモリ回路の各端子
の電圧状態の説明図、第4図は第1の実施例のビットメ
モリ回路のテスト時のタイミングチャート、第5図は本
発明によるプログラム論理回路の一実施例の構成図であ
る。 10− n形スイッチMOS,11,13,14・・・
nMOSトランジスタ、12.15・・・制御素子、2
1.22・・・PMOSトランジスタ、31.32・・
・E2P 素子、40〜42・・・インバータ、51〜
56・・・ビットメモリ回路、61・・・アドレスラッ
チ。 62・・・アドレスデコーダ、63・・・データラッチ
。 64・・・制御回路、71〜76・・・トランスファM
OSトランジスタ、81.82・・・配線、91・・・
Vs端子、92・・・Va端子、93・・・Vc端子、
94・・・データ入出力端子、95・・・VDT端子、
96・・・電源端子、97・・・スイッチ制御出力端子
、98・・・接地端子、99・・・VD端子、101,
102・・・横方向配線、103.104・・・縦方向
配線、105,106・・・データ入出カライン、11
1・・・アドレス信号、112・・・データ入出力、1
13・・・制御信号、114・・・高電圧、121・・
・Va高出力122・・・Va高出力123−Vc高出
力125− VDT出力。      ′−〕)代理人
 弁理士 小川勝馬 =、′ 躬 l 凹 C/ざ 第 2 図 躬 3 z 男斗図 時闇
FIG. 1 is a circuit diagram of a bit memory circuit according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of a bit memory circuit according to a second embodiment, and FIG. 3 is a circuit diagram of a bit memory circuit according to a first embodiment. FIG. 4 is a timing chart for testing the bit memory circuit of the first embodiment, and FIG. 5 is a configuration diagram of an embodiment of the program logic circuit according to the present invention. 10- n-type switch MOS, 11, 13, 14...
nMOS transistor, 12.15... control element, 2
1.22...PMOS transistor, 31.32...
・E2P element, 40-42... Inverter, 51-
56...Bit memory circuit, 61...Address latch. 62...Address decoder, 63...Data latch. 64...Control circuit, 71-76...Transfer M
OS transistor, 81.82... wiring, 91...
Vs terminal, 92...Va terminal, 93...Vc terminal,
94...Data input/output terminal, 95...VDT terminal,
96... Power supply terminal, 97... Switch control output terminal, 98... Ground terminal, 99... VD terminal, 101,
102...Horizontal wiring, 103.104...Vertical wiring, 105,106...Data input/output lines, 11
1...Address signal, 112...Data input/output, 1
13... Control signal, 114... High voltage, 121...
・Va high output 122...Va high output 123-Vc high output 125-VDT output. ′-]) Agent Patent attorney Katsuma Ogawa =, ′ 躬 l Concave C/Zadai 2 Zuman 3 z Otozu Tokiyami

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、2つの導体線路の接続、非接続を行なうスイッチ素
子と、前記スイッチ素子を制御するビットメモリ回路と
を少なくとも1個以上含む半導体集積回路において、前
記ビットメモリ回路に少なくとも1個以上の、電気的に
プログラム可能な素子を含むことを特徴とするプログラ
マブル論理回路。 2、前記スイッチ素子がMOS型半導体素子によつて構
成されていることを特徴とする、第1項記載のプログラ
マブル論理回路。 3、前記ビットメモリ回路に前記電気的にプログラマブ
ル可能な素子をプログラムするための制御端子を少なく
とも1個以上備え、かつ、プログラムしようとする状態
を与えるためのデータ入力端子を備えたことを特徴とす
る、第1項記載のプログラマブル論理回路。 4、前記ビットメモリ回路において、前記電気的にプロ
グラマブル可能な素子のプログラムされている状態を検
出するためのテスト回路と検出された信号を出力するた
めのテスト出力端子とを備えた、第1項記載のプログラ
マブル論理回路。 5、前記ビットメモリ回路において、前記データ入力端
子と前記テスト出力端子とを共通にしたことを特徴とす
る、第1項記載のプログラマブル論理回路。 6、前記ビットメモリ回路において、前記スイッチ素子
を相補型MOS回路のインバータ回路によつて駆動する
とともに、前記インバータ回路の出力を論理反転回路を
通して前記インバータ回路の入力に帰環させたことを特
徴とする、第1項記載のプログラマブル論理回路。 7、前記ビットメモリ回路において、前記インバータ回
路の入力に、前記電気的にプログラム可能な素子を、制
御素子を介して接続されていることを特徴とする、第1
項記載のプログラマブル論理回路。 8、前記電気的にプログラム可能な素子がフローティン
グゲート型MOS半導体素子により構成され、前記制御
素子がMOS型半導体素子により構成されていることを
特徴とする、第1項記載のプログラマブル論理回路。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor integrated circuit including at least one switch element that connects or disconnects two conductor lines, and a bit memory circuit that controls the switch element, wherein the bit memory circuit includes at least one switch element that connects or disconnects two conductor lines. A programmable logic circuit comprising one or more electrically programmable elements. 2. The programmable logic circuit according to item 1, wherein the switch element is constituted by a MOS type semiconductor element. 3. The bit memory circuit is provided with at least one control terminal for programming the electrically programmable element, and a data input terminal for providing a state to be programmed. 2. The programmable logic circuit according to claim 1. 4. Clause 1, wherein the bit memory circuit comprises a test circuit for detecting a programmed state of the electrically programmable element and a test output terminal for outputting the detected signal. The programmable logic circuit described. 5. The programmable logic circuit according to item 1, wherein in the bit memory circuit, the data input terminal and the test output terminal are common. 6. In the bit memory circuit, the switch element is driven by an inverter circuit of a complementary MOS circuit, and the output of the inverter circuit is returned to the input of the inverter circuit through a logic inversion circuit. 2. The programmable logic circuit according to claim 1. 7. In the bit memory circuit, the electrically programmable element is connected to the input of the inverter circuit via a control element.
Programmable logic circuit as described in section. 8. The programmable logic circuit according to item 1, wherein the electrically programmable element is constituted by a floating gate type MOS semiconductor element, and the control element is constituted by a MOS type semiconductor element.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0391319A (en) * 1989-09-04 1991-04-16 Toshiba Corp Programmable logic device and storage circuit used for the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0391319A (en) * 1989-09-04 1991-04-16 Toshiba Corp Programmable logic device and storage circuit used for the same
JPH0654873B2 (en) * 1989-09-04 1994-07-20 株式会社東芝 Programmable logic device

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