JPH01135582A - 紫外線殺菌装置の洗浄方法 - Google Patents
紫外線殺菌装置の洗浄方法Info
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- JPH01135582A JPH01135582A JP29173087A JP29173087A JPH01135582A JP H01135582 A JPH01135582 A JP H01135582A JP 29173087 A JP29173087 A JP 29173087A JP 29173087 A JP29173087 A JP 29173087A JP H01135582 A JPH01135582 A JP H01135582A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0001—Post-treatment of organic pigments or dyes
- C09B67/0014—Influencing the physical properties by treatment with a liquid, e.g. solvents
- C09B67/0016—Influencing the physical properties by treatment with a liquid, e.g. solvents of phthalocyanines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
本発明は、工業用水、特に食品工業用水や下水、産業排
水の殺菌を行なう友めの紫外線殺菌装置の洗浄方法に関
するものである。
水の殺菌を行なう友めの紫外線殺菌装置の洗浄方法に関
するものである。
紫外線による殺１装置は、比較的清浄な水の殺菌用に普
及しつつあるが、有機物や鉄分を含んだ水を使用してい
ると、しばしばｌＩＩ！！装置内の紫外線ランプを保鏝
する管が汚染し、照射率が低下するトラブルが生ずる。
及しつつあるが、有機物や鉄分を含んだ水を使用してい
ると、しばしばｌＩＩ！！装置内の紫外線ランプを保鏝
する管が汚染し、照射率が低下するトラブルが生ずる。
このために保護管表面の付着物を洗浄するか、保順管自
体を交換する必要が生じ、その作業はやっかいであった
。
体を交換する必要が生じ、その作業はやっかいであった
。
また付着物の洗浄方法として、その付着物の種類に応じ
て、酸、アルカリ、有機溶媒で洗浄したり、ブラシなど
でこすることにより除去する方法があるが、保護管表面
の凹部に付着した物質に、充分除去することができず、
照射率の回復が悪いはかりでなく、洗浄後短期間に照射
率が低下する問題がめった。
て、酸、アルカリ、有機溶媒で洗浄したり、ブラシなど
でこすることにより除去する方法があるが、保護管表面
の凹部に付着した物質に、充分除去することができず、
照射率の回復が悪いはかりでなく、洗浄後短期間に照射
率が低下する問題がめった。
本発明は、薬品による洗浄と固体粒子による剥離洗浄を
併用することにより、上記の問題点を解決し、簡易で効
率的な紫外ｆｓ８菌装置の洗浄方法を提供するものであ
る。
併用することにより、上記の問題点を解決し、簡易で効
率的な紫外ｆｓ８菌装置の洗浄方法を提供するものであ
る。
すなわち本発明は、紫外線殺菌装置内の紫外線照射ラン
プの保護管を洗浄するにあたシ、液体流路内に微細な固
体粒子を含有する薬品ｔ−流。
プの保護管を洗浄するにあたシ、液体流路内に微細な固
体粒子を含有する薬品ｔ−流。
通せしめるか、薬品で処理した後微細な固体粒子を含有
する流体を流通せ、しめて保護管上に付着した物質を剥
離洗浄することを特徴とする紫外線殺菌装置の洗浄方法
である。
する流体を流通せ、しめて保護管上に付着した物質を剥
離洗浄することを特徴とする紫外線殺菌装置の洗浄方法
である。
つぎに図面に基いて本発明の詳細な説明する。
第１図に、本発明の実施態様の一例を示す。
下水二次処理水ＣＲ入水）２は、流入管４よ〕流入し、
流路９′ｆ：通過する過程で、石英保護管６を介して紫
外線ランプ５よ）照射される紫外線により、殺菌され、
流出管８より゛、流出水７として排出される。
流路９′ｆ：通過する過程で、石英保護管６を介して紫
外線ランプ５よ）照射される紫外線により、殺菌され、
流出管８より゛、流出水７として排出される。
そして通水時間が経過するとと本に、石英保護管６上に
、鉄と有機物から成るスライムが形成されると、紫外線
照射モニター１０によ〕照射率の低下が確認される。
、鉄と有機物から成るスライムが形成されると、紫外線
照射モニター１０によ〕照射率の低下が確認される。
そこで通水停止後、５１ Ｈｏｔ溶液を薬品注入口３′
よプ流入させ、約１０分間浸漬し、さらに、１１〜１ｌ
Ｌ２−のケイ砂粒子全懸濁させたスラリーを所定時間流
通させ、保護管表面を洗浄する。
よプ流入させ、約１０分間浸漬し、さらに、１１〜１ｌ
Ｌ２−のケイ砂粒子全懸濁させたスラリーを所定時間流
通させ、保護管表面を洗浄する。
使用する薬品及びスラリー溶液は、循環使用することが
望ましい。
望ましい。
洗浄完了後、流路内のステ１フーｉ排出し、水洗後、通
水を開始する。
水を開始する。
使用する薬品ハ、保纒管上に付着したスライムの種類に
応じて選択する必要がある。ＩＦｅ 。
応じて選択する必要がある。ＩＦｅ 。
Ｏａ などの無機物によるスライムの場合、鉱酸溶液
やＩｊＤＴム溶液による洗浄、有機物系のスライムの場
合、アルカリ溶液や有機溶媒を使用するのが好ましい。
やＩｊＤＴム溶液による洗浄、有機物系のスライムの場
合、アルカリ溶液や有機溶媒を使用するのが好ましい。
従来、このような薬品による洗浄も行なわれてい九が、
スライムの完全な除去は不可能であった。
スライムの完全な除去は不可能であった。
固体粒子としては、安価な石膏やケイ砂が洗浄効果が優
れている。もちろん固体粒子の回収工程を設ければ、高
価な固体粒子も使用できる。
れている。もちろん固体粒子の回収工程を設ければ、高
価な固体粒子も使用できる。
ガえは、球状のアルミナやＭｇＯなどのセラミックス粒
子の使用も可能である。
子の使用も可能である。
ただし固体粒子の硬度が高いと保護管をキズつけるので
、使用する粒子の硬度は、保護管の硬度と同等かそれ以
下のものが好ましい。
、使用する粒子の硬度は、保護管の硬度と同等かそれ以
下のものが好ましい。
固体粒子は微細なものが良く、流路内の流れに同伴され
る粒径、密度のものを選ぶのが好ましい。したがって液
流速は固体粒子が液流に同伴されるように、少なくとも
固体粒子の沈降速度以上の流速で、流通させる。この流
速が、流入水量のみで達成されない場合は、循環ポンプ
を介して、水を循環せしめると良い。
る粒径、密度のものを選ぶのが好ましい。したがって液
流速は固体粒子が液流に同伴されるように、少なくとも
固体粒子の沈降速度以上の流速で、流通させる。この流
速が、流入水量のみで達成されない場合は、循環ポンプ
を介して、水を循環せしめると良い。
固体粒子の流路内の濃度に、１００ Ｉｌｌ ／ １〜
２０９１重量が剥離に効果的である。濃度を高めると、
洗浄時間が短くてすむが、流路内の流通性から、２０重
量−憾以内が好ましい。スラリーの注入口に、流入管に
設けてもよく、直接紫外線装置に設けても良い。固体粒
子を含有する薬品ま九に流体の流速 は固体粒子を同伴する流速とし、１渭／分〜４０ ｍ
７分が好ましい。
２０９１重量が剥離に効果的である。濃度を高めると、
洗浄時間が短くてすむが、流路内の流通性から、２０重
量−憾以内が好ましい。スラリーの注入口に、流入管に
設けてもよく、直接紫外線装置に設けても良い。固体粒
子を含有する薬品ま九に流体の流速 は固体粒子を同伴する流速とし、１渭／分〜４０ ｍ
７分が好ましい。
実施態様においては、薬品洗浄後、固体粒子による剥離
洗浄を行なったが、固体粒子が薬品により変質しない場
合、同時に行なっても良い。
洗浄を行なったが、固体粒子が薬品により変質しない場
合、同時に行なっても良い。
以上、本発明によれば、薬剤による洗浄と固体粒子によ
る洗浄を併用することによシ、それぞれ単独では除去で
きなかった付着物を効率的に除去でき、通水継続時間を
長くならしめた。
る洗浄を併用することによシ、それぞれ単独では除去で
きなかった付着物を効率的に除去でき、通水継続時間を
長くならしめた。
この結果、汚れのある水に対しても、紫外線殺菌装置の
適用が可能となった。
適用が可能となった。
実施例１
下水二次処理水ｆｔ原水として使用し、内径１６０■×
長さ６００■の紫外線殺菌装置（２，５ＫＷ中圧ランプ
使用）に、流量２００１７時で通水した。通水開始時の
紫外線（■Ｖ）照射率を１００憾とすると、１週間後に
６０％に低下した。
長さ６００■の紫外線殺菌装置（２，５ＫＷ中圧ランプ
使用）に、流量２００１７時で通水した。通水開始時の
紫外線（■Ｖ）照射率を１００憾とすると、１週間後に
６０％に低下した。
そこで、薬剤注入口より、ｍａｔ ｓ 係溶液ｔ−ｍ入
させ、約１５分間浸漬させた後、スラリー注入口よｆｉ
（１１〜ＩＩＬ２■のケイ砂の［Ｌ１５重量係のスラリ
ーを１５分間流速１５渭／ｓｅａで光通させ九結果、Ｖ
Ｖ照射率は、？ ９． Ｏ＊ ｔで回復し念。その後、
１週間に１回、上記の洗浄方法で洗浄した結果、良好な
運転ができた。
させ、約１５分間浸漬させた後、スラリー注入口よｆｉ
（１１〜ＩＩＬ２■のケイ砂の［Ｌ１５重量係のスラリ
ーを１５分間流速１５渭／ｓｅａで光通させ九結果、Ｖ
Ｖ照射率は、？ ９． Ｏ＊ ｔで回復し念。その後、
１週間に１回、上記の洗浄方法で洗浄した結果、良好な
運転ができた。
また同様に、ケイ砂１１５俤、１１０７５％を含む液ｔ
−ｉ人させ、１５分間浸漬後、この液を１５分間［ｌＬ
５ｍ／ｓｅａで、流路内に循ｍａ過させた結果、９９．
５％まで回復した。
−ｉ人させ、１５分間浸漬後、この液を１５分間［ｌＬ
５ｍ／ｓｅａで、流路内に循ｍａ過させた結果、９９．
５％まで回復した。
比較例１
実ｍ列１と同様の条件で通水後、ＨＯ１５重量僑溶液ｆ
：ｍ人させ、約１５分間浸漬洗浄した結果、ｔ７ｖ照射
率は、８０％ｔでしか回復しなかつ九。その後通水を開
始すると３日で、照射率が６０係に低下し九。
：ｍ人させ、約１５分間浸漬洗浄した結果、ｔ７ｖ照射
率は、８０％ｔでしか回復しなかつ九。その後通水を開
始すると３日で、照射率が６０係に低下し九。
ま友、実施例１と同様の条件で、通水後、１ｌＬ１〜α
２■のケイ砂の１１５重量僑スラリーを１５分間流速ａ
５ｍ／ｓｅａで流通させ九結果、０７照射率に９５％ま
で回復し九。しかしその後通水を開始すると、４日で照
射率が６０９４まで低下してしまった。
２■のケイ砂の１１５重量僑スラリーを１５分間流速ａ
５ｍ／ｓｅａで流通させ九結果、０７照射率に９５％ま
で回復し九。しかしその後通水を開始すると、４日で照
射率が６０９４まで低下してしまった。
第１図に、本発明方法を実施する九めの紫外線殺菌装置
の一列の７ａ−概略図を示す。 １・・・紫外線殺菌装置、２−・・流入水、３・・・・
スラリー又は固体粒子の注入口、３′・・・薬剤注入口
、４・・・売人管、５・・・紫外線ランプ、６・・・石
英保護管、９・・・流路
の一列の７ａ−概略図を示す。 １・・・紫外線殺菌装置、２−・・流入水、３・・・・
スラリー又は固体粒子の注入口、３′・・・薬剤注入口
、４・・・売人管、５・・・紫外線ランプ、６・・・石
英保護管、９・・・流路
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、紫外線殺菌装置内の紫外線照射ランプの保護管を洗
浄するにあたり、液体流路内に微細な固体粒子を含有す
る薬品を流通せしめるか、薬品で処理した後微細な固体
粒子を含有する流体を流通せしめて保護管上に付着した
物質を剥離洗浄することを特徴とする紫外線殺菌装置の
洗浄方法。 ２、薬品が酸、アルカリ又は酸化剤の溶液或いは有機溶
媒より選ばれた１ないし複数の混合物である特許請求の
範囲第１項記載の紫外線殺菌装置の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29173087A JPH01135582A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 紫外線殺菌装置の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29173087A JPH01135582A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 紫外線殺菌装置の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01135582A true JPH01135582A (ja) | 1989-05-29 |
Family
ID=17772655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29173087A Pending JPH01135582A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 紫外線殺菌装置の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01135582A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008534254A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-08-28 | ピュリフィツス エンヴイロンメンタル テクノロジーズ インコーポレーテッド | Ｕｖ汚染除去システムにおける保護スリーブの現場洗浄のシステムと方法 |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP29173087A patent/JPH01135582A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008534254A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-08-28 | ピュリフィツス エンヴイロンメンタル テクノロジーズ インコーポレーテッド | Ｕｖ汚染除去システムにおける保護スリーブの現場洗浄のシステムと方法 |
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