JPH01135418A - 電解加工による仕上げ加工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、電解加工による仕上げ加工方法に係り、特
に難削金属等からなる被加工物の三次元形状の被加工面
を鏡面状の光沢面に仕上げる電解加工による仕上げ加工
方法に関する。

［従来の技術］ 従来の電解加工方法としては、被加工物と電極との間隙
に硝酸ナトリウムや塩化ナトリウム等の電解液を満たし
、この電解液を高速で流すとともに、安定した電解作用
を阻害する電解生成物、すなわち溶出した金属化合物や
金属イオン及び水素ガス等を除去しながら、直流電流を
被加工物から電極に流して加工するものが、例えば特開
昭６１−７１９２１号公報及び特開昭６０−４４２２８
号公報に開示されている。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、この電解加工方法にあっては、機械加工
手段として致命的な欠陥がある。すなわち、特に三次元
形状の底付き加工（凹窩状に形成された三次元構造のも
のに対する加工をいう）において、複雑な輪郭形状を有
する被加工物と電極との間隙に電解液を−様な流速で流
すのが不可能で電解液の供給に差が生じ、位置によって
電解生成物の濃度が変わり、また、前記間隙に高い液圧
を作用させても電解液の流入口と排出口とては電解生成
物の濃度が変わる。そのため、−様な密度の電流を与え
ても、前記間隙の各部分で加工条件、特に加工の進行速
度が変わって間隙寸法に差異が生じ、被加工物に電極の
精密な転写を行うことが困難で、高精度の表面品質が得
られないという不都合があった。

そこでこの発明は、上記不都合を除去し、特に難削金属
等からなる被加工物の三次元形状の被加工面を短時間か
つ高精度に仕上げて、鏡面状の光沢面等を得ることがで
きる電解加工による仕上げ加工方法を実現するにある。

［問題点を解決するための手段］ この目的を達成するためにこの発明は、静止した電解液
を介して対設した被加工物と電極の極間にパルス電流を
供給して被加工物を仕上げ加工するものにおいて、前記
極間にパルス電流を供給した後に該極間に生成した電解
生成物を含む電解液を排除する第１の工程と、前記極間
にパルス電流を供給しないで極間の電解液を排除する第
２の工程とを有することを特徴とする。

［作用コ この発明の構成によれば、第１の工程により、被加工物
の被加工面を仕上げ加工して面粗度等を向上させるとと
もに、この仕上げ加工により被加工物と電極間に生成し
た電解生成物を含む電解液を排除し、また、第２の工程
により、仕上げ加工初期に極間に介在する空気あるいは
前記第１の工程により排除できなかった電解液や加工屑
を排除することができる。

［実施例］ 以下、図面を参照してこの発明の実施例を詳細かつ具体
的に説明する。

第１〜４図は、この発明の一実施例を示すものである。

第１．２図において、この発明の仕上げ加工方法を実施
し得る電解加工装置１は、電極２を固定する電極固定装
置３、被加工物４を固定する被加工物固定装置５、電極
駆動部６の回転運動を往復運動に変換する駆動変換部７
、パルス電流を発生する電源装置８、モータ駆動制御部
９と加工条件制御部１０と電解液制御部１１等からなる
制御装置１２、被加工物４に関する各種データ等を入力
する入力装置１３、フィルタ１４と遠心分離機■５と電
磁ポンプ１６等からなり、電解液を濾過する電解液濾過
装置１７、及び加工槽１８等からなる。

前記電極固定装置３は、その下部に設けたロッド１９の
下端に、例えば純銅もしくはグラファイトからなる電極
２を、その電極面２ａと被加工物４の被加工面４ａとが
三次元方向に−様な間隙２０を保つように固定する。そ
して、前記電極固定装置３は、電極駆動部６と駆動変換
部７とにより前記間隙２０を所定値に設定すべく上下動
する。すなわち、電極駆動部６０ロータリーエンコーダ
２１とタコジェネレータ２２からの信号により前記制御
装置１２のモータ駆動制御部９から出力される制御信号
により、モータ２３を回転制御して、前記電極固定装置
３を上下動させ、電極面２ａと被加工面４ａとを所定の
間隙２０に設定する。

前記被加工物固定装置５は、絶縁性の高いグラナイトも
しくはセラミックス製のテーブルで、電解加工装置ｌの
Ｘ−Ｙテーブル２４のＸテーブル（図示せず）上に加工
槽１８の底板とともにボルト等により固定する。また、
この被加工物固定Ｈ置５の上面には被加工物４がボルト
２５等により固定され、これにより、被加工物４、被加
工物固定装置５、加工槽１８がＸ−Ｙテーブル２４の移
動用ツマミ２６．２７の回転操作によりＸ方向及びＹ方
向に一体的に移動する。

前記電極２と被加工物４間にパルス電流を供給する電源
装置８は、加工条件制御部ｌＯからの制御信号により、
被加工物４の表面積に従って計算した所定の電流密度の
パルスを発生するもので、直流電淵部２８と充放電部２
９と充放電制御部３０とを有し、例えば第３図に示す如
く構成する。

第３図において、直流電源部２８は、変圧器３１と整流
器３２とからなり、変圧器３１により電圧を所定値に降
下させ整流器３２により整流して直流電流を得て、後述
する蓄電器３３−１〜３３−ｎに供給する。

また、充放電部２９は、電極２と被加工物４との間隙２
０に電荷を放電する複数個の蓄電器３３−１〜３３−ｎ
と、これらの各蓄電器３３−１〜３３−ｎに接続し直流
電源部２８側への電荷の逆流を阻止するダイオード３４
−１〜３４−ｎと、放電側への電荷を放電させるべく開
閉される放電スイッチ３５−１〜３５−ｎと、前記各蓄
電器３３−１〜３３−ｎを所定に充電すべく前記直流電
源部２８からの電源を給断する充電スイッチ３６とから
なる。

この充放電部２９を制御する充放電制御部３０は、蓄電
器３３−１〜３３−ｎへ供給する充電電圧値を検出する
電圧検出器３７と、前記加工条件制御部ｌＯの充電電圧
設定部４３て設定した設定充電電圧値と前記電圧検出器
３７で検出した検出充電電圧値とを比較する電圧比較器
３８と、前記電極２と被加工物４との間隙２０に放電さ
れる電荷の電流値を検出する電流検出器３９と、この電
流検出器３９て検出した電流値のピーク値をホールドす
るピークホールド回路４０と、前記加工条件制御部ｌＯ
の電流設定部４６で設定した電流値と前記ピークホール
ド回路４０でホールドしたピーク電流値とを比較する電
流比較器４１と、前記加工条件制御部１０のパルス発生
部４４と電流波形設定部４５からの人力により前記各蓄
電器３３−１〜３３−ｎの電荷の放電を停止させるべく
前記各放電スイッチ３５−１〜３５−ｎに開閉駆動信号
を出力するゲート回路４２とを有している。

また、この充放電制御部３０を制御する制御装置１２の
加工条件制御部１０は、前記各蓄電器３３−１〜３３−
ｎの充電電圧を設定する充電電圧設定部４３と、所定時
間幅のパルスを発生するパルス発生部４４と、電極２と
被加工物４間に放電する電荷の電流波形を設定する電流
波形設定部４５と、電流値を設定する電流設定部４６と
、前記人力装置１３の人力データに基づき加工条件等を
演算・処理するＣＰＵ４７等からなる。なお、第３図中
符号４８は放電スイッチ３５−１〜３５−ｎの開時に逆
起電力により各放電スイッチ３５−１〜３５−ｎが破壊
するのを防止するダイオードである。

なお、ここで、蓄電器３３−１〜３３−ｎが充放電する
際の前記ＣＰＵ４７の制御について説明する。まずＣＰ
Ｕ４７は、人力装置１３により人力された被加工物４の
被加工面４ａの表面積に基づき、供給パルスのピーク電
流密度が所定値となる充電電圧値を、予め記憶装置に記
憶されている特性表により算出し、この充電電圧値を加
工条件制御部１０の充電電圧設定部４３に出力するとと
もに、所定の電流値を電流設定部４６に出力する。

そして、電極２と被加工物４間に所定のピーク電流密度
のパルス電流が供給されると、このパルス電流の電流値
が電流検出器３９により検出され、その時のピーク値が
ピークホールド回路４０によりホールドされる。このホ
ールドされたピーク値と前記電流設定部４６で設定した
電流値とを電流比較器４１が比較し、その結果なＣＰＵ
４７に出力する。

ＣＰＵ４７は、電流比較器４１からの比較結果により、
充電電圧設定部４３の充電電圧値の増減を行い、供給す
るパルス電流のピーク電流密度が常に所定値となるよう
に制御する。

前記人力装置１３は、被加工物４の材質と表面積、仕上
げ加工しろと寸法精度の等級、仕上げ面粗度及び電極間
隙等を人力し、これらの各信号を制御装置１２のモータ
駆動制御部９及び加工条件制御部１０に出力する。

前記電解液濾過装置１７は、加工で生じた電解生成物を
含む電解液を濾過するもので、例えば、加工槽１８から
の電解生成物を多く含んだ戻り電解液を貯留するダーテ
ィタンク４９と、このダーティタンク４９の電解液を電
磁ポンプて汲み上げフィルタ１４を通してから遠心分離
処理する遠心分離機１５と、この遠心分離機１５で分離
処理した電解生成物を含まない電解液を貯留するクリー
ンタンク５０と、このクリーンタンク５０の電解液を汲
み上げる電磁ポンプ１６と、クリーンタンク５０からの
電解液を電極２と被加工物４の間隙に噴出させることに
より、該間隙に生じた電解生成物等を排除する電磁弁５
１等からなり、加工条件制御部ｌＯからの制御信号に基
づいて、加工槽１８へ電解液を一定の液圧で供給すると
ともに、加工中に電極面２ａと被加工面４ａ間に生成し
た電解生成物等を排除するために、１パルスまたは数パ
ルス毎に上昇動作する電極２と同期して、電極２と被加
工物４間に新鮮な電解液を噴出する。

次に、この装置による仕上げ加工方法について第４図の
フローチャートにより説明する。

仕上げ加工に際しては、電極固定装置３のロッド１９の
下端に、例えば被加工物４を放電加工する際に使用した
電極２を、また、被加工物固定装置５に前記被加工物４
をそれぞれ取付け（６０）、加工槽１８内に電解液を供
給（６１）　Ｌ／、人力装置１３により加工条件の各種
パラメータＮｌ〜Ｎ３、ｎｌ、ｎｌ、Ｔｌ５Ｔ２を入力
（６２）する。この各パラメータは、 Ｎｌ：仕上げ加工前期の加工１回当たりのパルス供給回
数 Ｎ２：仕上げ加工後期の加工１回当たりのパルス供給回
数 Ｎ３：仕上げ加工前期の皮膜除去用パルスの加工１回当
たりのパルス供給回数 ｎｌ：仕上げ加工初期のパルスを供給しないで行う加工
（以下パルスを供給しないで行う加工を”空打ち”とい
う）の回数 ｎ２：仕上げ加工終期の空打ち回数 Ｔ１：仕上げ加工前期の加工回数 Ｔ２：仕上げ加工後期の加工回数 である。

そして、電極２を下降してその電極面２ａを被加工物４
の被加工面４ａに接触させ、この位置を原点Ａとして加
工を開始（６３）する。

加工が開始されると、電極２を上昇させて所定間隙に設
定（６４）　Ｌ／、電解液が電極面２ａと被加工面４ａ
間に満ち、電解液が静止（電解液の流れ・動きが略停止
した状態をいう）するまでの所定時間経過後（６５）に
、空打ち回数が所定回数０１か否かが判断（６６）され
、この判断（６６）でＹＥＳの場合、即ち空打ちが所定
回数ｎ１行われ、ステップ（６１）で電解液を供給した
際に電極２と被加工物４間に残存した空気を完全に除去
した後、加工条件制御部１０の制御信号により、電源装
置８から面粗度向上用の所定のパルス電流を電極２と被
加工物４間に供給（６７）する。判断（６６）でＮＯの
場合、即ち空打ち回数が所定回数ｎｌに達しない場合は
、後述するステップ（６９）に移り空打ちを行う。

そして、電極２と被加工物４間にパルス電流を所定回数
Ｎｌ供給（６８）　Ｌ／た後、モータ駆動制御部９の信
号によりモータ２３を駆動して電極２を上昇（６９）さ
せ、電極面２ａを被加工面４ａから離間させ、電極面２
ａと被加工面４ａ間の溶出した電解生成物を電解液とと
もに電解液濾過装置１７の電磁弁５１等の動作により排
除（７０）する。

電解生成物を排除した後は、電極２が下降し、電極面２
ａが被加工面４ａに接触（７１）する。これにより、前
記原点Ａと現位置とを制御装置１２で比較して加工１回
（ｌパルスまたは数パルス毎の加工）当たりの加工深さ
を測定し、これを累積（７２）する。そして、この累積
値と予め設定した設定値とを比較（７３）　ｔ、、、加
工深さの累積値が設定値に対し所定の差（例えば１μｍ
）に達していない場合は、加工回数がＴｌか否かを判断
（７４）し、Ｎｏの場合はステップ（６４）〜（７３）
を所定回数繰返す。

そして、加工回数が所定回数１１行われると、判断（７
４）でＹＥＳとなり、ＣＰＵ４７が電流波形設定部４５
に制御信号を出力し、電源装置８から供給されるパルス
電流を皮膜除去用の所定のパルス電流に切換え（７５）
るとともに、電極２を上昇させて被加工物４と所定の間
隙に設定（７６）　Ｌ／、電極面２ａと被加工面４ａ間
の電解液が静止するまでの所定時間経過後（７７）に、
前記の切換えたパルス電流を電極２と被加工物４間に供
給（７８）　Ｌ／、１回もしくは数回の加工で被加工面
４ａに生成した電解生成物などからなる皮膜を被加工面
４ａから剥雛して除去する。

この皮膜除去用のパルス電流を所定回数Ｎ３供給（７９
）　Ｌ、て被加工面２ａの皮膜を除去すると、電極２を
上昇（８０）させ、除去された皮膜等が含まれる電解液
を電極面２ａと被加工面４ａ間から排除（８１）する。

そして、電解液を排除すると、電極２を下降させて被加
工物４に接触（８２）させるとともに、電源装置８から
供給されるパルス電流を前記の面粗度向上用のパルス電
流に切換え（８３）で、ステップ（６４）に移り面粗度
向上のための加工を再び行う。

この一連の加工により加工深さの累積値が設定値と比較
し、累積値が加工深さ設定値に対し、所定の差以内にな
った時に、ステップ（７３）でＹＥＳとなり、加工条件
制御部ｌＯの制御信号により電源装置８から供給される
パルス電流を光沢面形成用の所定のパルス電流に切換え
（８４）る。そして、このパルス電流で前述したステッ
プ（７６）〜（８２）と同様の加工を行う（８５〜９１
）。ステップ（８５）〜（９１）が所定回数行われ（９
２）たら、空打ち回数が所定回数ｎ２か否かが判断（９
３）される。この判断（９３）でＹＥＳの場合、即ち空
打ちが所定回数ｎ２行われ、鏡面状に仕上げられた被加
工物４の被加工面４ａ等に付着した加工屑等を除去した
ら、全ての仕上げ加工を終了（９４）する。

このように、この実施例においては、仕上げ加工の初期
に、パルス電流を供給しないで極間の電解液を排除する
空打ち工程（ステップ６４→６５→６６→６９→７０→
７１→７２→７３→７４・・Φ第２の工程）によって、
電解液を供給した際に電極２と被加工物４間に残存する
空気を、パルス電流を供給し、その後に極間の電解生成
物を含む電解液を排除する一連の工程（ステップ６７→
６８→６９→７０→７１→７２→７３→７４・・・第１
の工程）の前に排除することができ、空気の介在による
加工条件のバラツキを防止し得る。特に三次元形状の底
付き加工において、被加工物４の凹部に介在する空気を
前記第２の工程により確実に排除し得る。また、仕上げ
加工終期の空打ち工程（ステップ８９→９０→９１→９
２→９３・・・第２の工程）により、前記第１の工程と
略同様の工程により、鏡面状となった被加工物４の被加
工面４ａに付着した加工屑等を確実に排除することがて
き、仕上げ加工終了後の被加工面４ａの清掃等が不要と
なる。

第５図は、この発明の他の実施例を示すフローチャート
であり、上記実施例と同一箇所には同一符号を付してそ
の説明を省略する。この実施例の特徴は、仕上げ加工前
期の面粗度向上用の工程（６４〜７４）、皮膜除去用の
工程（７５〜８３）、及び仕上げ加工後Ｊ１Ｈの光沢面
形成用の工程（８４〜９２）にそれぞれ空打ち工程を設
けた点にある。即ち、電極２を上昇させて電解生成物を
排除し、電極２を下降させる空打ち工程（ステップ６９
→７０→７１→６６．８０→８１→８２→９５．８９→
９０→９１→９３）を、パルス電流供給工程（６７→６
８．７８→７９．８７→８８）の後にそれぞれ設けたも
のである。

この実施例においては、パルス電流を供給し電解生成物
を含む電解液を排除する一連の工程（第１の工程）の後
に、パルス電流を供給しないで極間の電解液を排除する
工程（第２の工程）を設けているため、第１の工程で発
生した電解生成物をその１回の加工毎に確実に排除する
ことができる。

なお、上記実施例においては、仕上げ加工の初期と終期
に空打ち工程を設けた場合、及びパルス電流供給後にそ
れぞれ空打ち工程を設けた場合について説明したが、こ
の発明はこれらの実施例に何ら限定されず、仕上げ加工
の初期あるいは後期のみに設けてもよく、この２つの実
施例を組み合わせることもできる。

また、面粗度向上用のパルス電流による加工中に被加工
面２ａに皮膜が生成されない場合は、上記実施例の皮膜
除去用のパルス電流の供給ステップを省略することもで
きるし、パルス電流を切換えるタイミングの検出も、加
工深さの累積値と設定値との比較による検出に限らず、
例えば加工しるに基づいて加工終了するまでの単位面積
当たりのクーロン量を計算してこの値により検出制御す
ることもできる。

さらに、上記実施例においては、所定のパルス電流を供
給後、電解生成物を排除するために、電極２を一旦上昇
させたが、例えば電極２に１個もしくは複数個の電解液
の噴出孔あるいは吸引孔を設けた場合などは、電極２を
上昇させずに所定の電極間隙を維持した状態で、適宜の
手段により前記噴出孔あるいは吸引孔から電解液を噴出
、吸引して電解生成物を排除することもできる。

また、この発明は、金型加工分野に限らず、半導体生産
のシリコン単結晶やガリウムヒソ基材の仕上げ加工、及
び磁気記憶装置のアルミニュウム・ディスクの単結晶ダ
イヤモンドによる鏡面加工等のように、機械的加工によ
る表面の僅かな内部応力が問題となっている分野での仕
上げ加工にも応用することができるし、自動搬送装置と
組み合せて、量産され゛るハイポイド・ギヤー等の熱処
理後の仕上げ加工に用いることも勿論可能である。

［発明の効果コ 以上詳細に説明したように、この発明に係る電解加工に
よる仕上げ加工方法にありでは、静止した電解液を介し
て対設した被加工物と電極との極間にパルス電流を供給
して被加工物を仕上げ加工するものにおいて、前記極間
にパルス電流を供給した後に該極間に生成した電解生成
物を含む電解液を排除する第１の工程と、前記極間にパ
ルス電流を供給しないで極間の電解液を排除する第２の
工程とを有するようにしたので、第１の工程により被加
工物の面粗度等を向上させることができるとともに、第
２の工程により、例えば仕上げ加工初期の電極と被加工
物間に介在する空気、仕上げ加工終期に被加工物の被加
工面に付着した加工屑、加工中に電極と被加工物間に生
成した電解生成物等を確実に排除することができ、被加
工物の加工条件を均一にし得て、商品゛質の鏡面状の光
沢面を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明を実施する電解加工装置の正面図、第
２図は同装置のブロック図、第３図は電源装置のブロッ
ク図、第４図は仕上げ加工を示す　　　゛フローチャー
ト、第５図は仕上げ加工の他の実施例を示すフローチャ
ートである。 １・・・電解加工装置、２・・・電極、２ａ・・・電極
面、３・・・被加工物、３ａ・・・被加工面、８・・・
電源装置、９・・・モータ駆動制御部、ＩＯ・・・加工
条件制御部　１１・・・電解液制御部、１２・・・制御
装置、１３・・・人力装置、１７・・・加工液濾過装置
、４４・・・ＣＰＵ、特許出願人　　静岡製機株式会社 代表者鈴木重夫 第１図 手続補正書 昭和６２年１２月８日 特許庁長官　小　川　邦　夫　殿 ２、発明の名称 電解加工による仕上げ加工方法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 （郵便番号４３７） （夏）明細書の「発明の詳細な説明」の欄（２）図　面 ６６補正の内容 別紙の通り （１）明細書第１１頁第１７行のｒＴ２を人力（６２）
する、」をｒＴ２、電極間隙等を人力（６２）する。 」に訂正する。 （２）同第１２頁第１５行〜１６行の「電極２を上昇さ
せて所定の間隙に設定（６４）　Ｉ、＋、」を次のよう
に訂正する。 「電極２を上昇させて、予め入力装置１３で人力した所
定の電極間隙を保つ位置に電極２を設定（６４）　Ｌ／
、」 （３）同第１４頁第７行の「回数繰返す、」の後に、次
の文章を追加する。 「なお、この場合、ステップ（６４）で設定した電極２
の位置は常に一定（同一位置）であるため、電極間隙は
加工の進行により予め人力装置！３で人力された所定値
より大きくなる。」 （４）同第１４頁第１２行〜１３行の「電極２を上昇さ
せて被加工物へと所定の間隙に設定（７Ｂ）　ｌ、、、
」を次のように訂正する。 「電極２を上昇させてステップ（６４）と同一位置に電
極２を設定（７６）　Ｌｌ、」 （５）同第１６頁第３行の「全での仕上げ加工を終了（
９４）する、」の後に、次の文章を追加する。 「なお、上記実施例においては、ステップ（６４）、　
（７１３）　、（８５）で電極２の設定位置を常に同一
としたが、人力装置１３により複数種類の電極間隙を人
力して、各ステップ（６４）　、（７６）　、（８５）
で電極２の設定位置を異ならせてもよい、」（６）図面
第４図、第５図を別紙の通り補正する。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）静止した電解液を介して対設した被加工物と電極
   との極間にパルス電流を供給して被加工物を仕上げ加工
   するものにおいて、前記極間にパルス電流を供給した後
   に該極間に生成した電解生成物を含む電解液を排除する
   第１の工程と、前記極間にパルス電流を供給しないで極
   間の電解液を排除する第２の工程とを有する電解加工に
   よる仕上げ加工方法。
2. （２）前記第２の工程が仕上げ加工の初期で前記第１の
   工程の前に行われることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の電解加工による仕上げ加工方法。
3. （３）前記第２の工程が仕上げ加工の終期で前記第１の
   工程の後に行われることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の電解加工による仕上げ加工方法。
4. （４）前記第２の工程が常に前記第１の工程の後に行わ
   れることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電解
   加工による仕上げ加工方法。