JPH01104492A - 光ファイバを利用したレーザ加工装置 - Google Patents
光ファイバを利用したレーザ加工装置Info
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- JPH01104492A JPH01104492A JP62261743A JP26174387A JPH01104492A JP H01104492 A JPH01104492 A JP H01104492A JP 62261743 A JP62261743 A JP 62261743A JP 26174387 A JP26174387 A JP 26174387A JP H01104492 A JPH01104492 A JP H01104492A
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- laser
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光フ→イバを利用したレーザ加工装置に関し、
特にレーザ光の出力が高いため、加工物からのレーザ光
の反射光が光ファイバに損傷を与える慣れのある高エネ
ルギー出力のレーザ加工装置に関する。
特にレーザ光の出力が高いため、加工物からのレーザ光
の反射光が光ファイバに損傷を与える慣れのある高エネ
ルギー出力のレーザ加工装置に関する。
従来、この種の光ファイバを利用したレーザ加工装置は
主に加工点に対しレーザ光を垂直に入射しレーザ加工す
るものが主であシ、また角度をつけてレーザ加工を行な
う場合も、空間的なスペースが問題であるために、斜め
方向からレーザ加工をおこなうものでアシ、加工物から
の反射光に対して特別な処置はしていなかった。
主に加工点に対しレーザ光を垂直に入射しレーザ加工す
るものが主であシ、また角度をつけてレーザ加工を行な
う場合も、空間的なスペースが問題であるために、斜め
方向からレーザ加工をおこなうものでアシ、加工物から
の反射光に対して特別な処置はしていなかった。
しかし、最近のレーザ装置の高出力化によシ光ファイバ
によるレーザ光の伝送出力が連続発振Nd5”: YA
Gレーザの場合100Wを超えるようになった。光ファ
イバから出射し加工点に集光したレーザ光の反射光は再
び光ファイバに戻シ、光ファイバを伝送するが、加圧点
から反射したレーザ光はすべてコア部に入射されるので
はなく、クラッド部にも伝送する。光ファイバのクラッ
ド部を伝送するレーザ光はすぐに外部に漏光していくた
め、光ファイバの屈曲強度を増しているナイロンやビニ
ールなどの被覆に吸収され、ナイロンやビニールが加熱
されて燃焼し光ファイバに損傷を与えるという問題点が
あった。
によるレーザ光の伝送出力が連続発振Nd5”: YA
Gレーザの場合100Wを超えるようになった。光ファ
イバから出射し加工点に集光したレーザ光の反射光は再
び光ファイバに戻シ、光ファイバを伝送するが、加圧点
から反射したレーザ光はすべてコア部に入射されるので
はなく、クラッド部にも伝送する。光ファイバのクラッ
ド部を伝送するレーザ光はすぐに外部に漏光していくた
め、光ファイバの屈曲強度を増しているナイロンやビニ
ールなどの被覆に吸収され、ナイロンやビニールが加熱
されて燃焼し光ファイバに損傷を与えるという問題点が
あった。
本発明は従来のもののこのような問題点を解決しようと
するもので、加工物よシの反射光が光ファイバに損傷を
与えることの少ない光ファイバを利用したレーザ加工装
置を提供するものである。
するもので、加工物よシの反射光が光ファイバに損傷を
与えることの少ない光ファイバを利用したレーザ加工装
置を提供するものである。
本発明の光ファイバを利用したレーザ加工装置は、レー
ザ装置と、このレーザ装置からのレーザ光を集光し光フ
ァイバに入射する集光用レンズと。
ザ装置と、このレーザ装置からのレーザ光を集光し光フ
ァイバに入射する集光用レンズと。
前記レーザ光を伝送する光ファイバと、この光ファイバ
の終端から′出射するレーザ光を加工物に集光する出射
レンズ系と、この出射レン、ズ系の光軸を加工物に垂直
な軸に対し傾けて保持する機構と。
の終端から′出射するレーザ光を加工物に集光する出射
レンズ系と、この出射レン、ズ系の光軸を加工物に垂直
な軸に対し傾けて保持する機構と。
前記光ファイバの終端の周囲を覆う金属性のホルダとを
含んで構成される。
含んで構成される。
次に9本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の要部の断面図である。
レーザ装置1で発振したレーザ光2は集光用レンズ3に
よシ光ファイバ4に入射し伝送される。伝送されたレー
ザ光は駆動部のアーム5に保持された出射レンズ系6に
よシ加工物7上に集光される。
よシ光ファイバ4に入射し伝送される。伝送されたレー
ザ光は駆動部のアーム5に保持された出射レンズ系6に
よシ加工物7上に集光される。
出射レンズ系6の軸は加工物7に対する垂直な軸に僅か
な傾きをもって駆動部のアーム6に保持されている。
な傾きをもって駆動部のアーム6に保持されている。
第2図によシ加工時のレーザ光の状態を説明する。光フ
ァイバ4よシ出射したレーザ光2はレンズ6によシ加工
物7に集光しレーザ加工をおこなう。しかし、レーザ光
はすべて加工物7に吸収されるのではなく一部反射する
。このとき、この反射光が再び光ファイバ4のクラッド
部に入射し。
ァイバ4よシ出射したレーザ光2はレンズ6によシ加工
物7に集光しレーザ加工をおこなう。しかし、レーザ光
はすべて加工物7に吸収されるのではなく一部反射する
。このとき、この反射光が再び光ファイバ4のクラッド
部に入射し。
その漏光が光ファイバの強度を補強しているナイロンな
どの低融点の物質に吸収され光ファイバ4に損傷を与え
ることを防ぐため、光ファイバ4から出射するレーザ光
の光軸8を加工物7に垂直な軸9に対し所定の角度とし
て僅かだけ傾け、加工物7からの反射光lOが再び光フ
ァイバに戻らず。
どの低融点の物質に吸収され光ファイバ4に損傷を与え
ることを防ぐため、光ファイバ4から出射するレーザ光
の光軸8を加工物7に垂直な軸9に対し所定の角度とし
て僅かだけ傾け、加工物7からの反射光lOが再び光フ
ァイバに戻らず。
光ファイバの終端部を覆う金属製ホルダ11を照射する
ようにする。傾斜させる角度(所定の角度)は特に臨界
的ものではないが、1度程度以上にすることが好ましい
。
ようにする。傾斜させる角度(所定の角度)は特に臨界
的ものではないが、1度程度以上にすることが好ましい
。
金属製ホルダ11は、加工物7からの反射光10の強度
により、熱容量の大きなものを使用したシ、するいは該
金属製ホルダ11を空冷、水冷。
により、熱容量の大きなものを使用したシ、するいは該
金属製ホルダ11を空冷、水冷。
油冷して9反射光10が吸収され熱になり温度上昇する
ことを防止する。ここで12はこの冷却用媒体の通路と
なるノJ?イグである。また出射側レンズを駆動装置に
保持するかわシに、加工物7を固定したテーブルを駆動
してもよい。
ことを防止する。ここで12はこの冷却用媒体の通路と
なるノJ?イグである。また出射側レンズを駆動装置に
保持するかわシに、加工物7を固定したテーブルを駆動
してもよい。
本発明の第2の実施例として、第2図において金属製ホ
ルダ11に金メツキを行えば2反射光14を再反射し、
金属製ホルダ11の温度上昇が防止される。この実施例
では再反射光が加工物を再加工しない場合に有効である
。YAGレーザ、CO□ンーデは高反射率の銅、アルミ
の金属によシ反射されるが、これは熱をもったときに酸
化しやすく反射率が落ちる。金メツキされたホルダ黙酸
化されず、安定した反射率を維持し、冷却などの装置が
〔発明の効果〕 以上説明したように9本発明は光ファイバにより伝送し
た高出力レーザ光の加工物からの反射光を光ファイバに
もどさず、ホルダによシ吸収、あるいは反射することに
よシ安定した高出力レーザ加工がおこなえ、光ファイバ
を用いたレーザ光伝送によるレーザ加工の応用用途を増
加し、また光ファイバの焼損事故を防止できる効果があ
る。
ルダ11に金メツキを行えば2反射光14を再反射し、
金属製ホルダ11の温度上昇が防止される。この実施例
では再反射光が加工物を再加工しない場合に有効である
。YAGレーザ、CO□ンーデは高反射率の銅、アルミ
の金属によシ反射されるが、これは熱をもったときに酸
化しやすく反射率が落ちる。金メツキされたホルダ黙酸
化されず、安定した反射率を維持し、冷却などの装置が
〔発明の効果〕 以上説明したように9本発明は光ファイバにより伝送し
た高出力レーザ光の加工物からの反射光を光ファイバに
もどさず、ホルダによシ吸収、あるいは反射することに
よシ安定した高出力レーザ加工がおこなえ、光ファイバ
を用いたレーザ光伝送によるレーザ加工の応用用途を増
加し、また光ファイバの焼損事故を防止できる効果があ
る。
第1図は本発明の一実施例の要部の縦断面図。
第2図はその出射レンズ系付近の断面図である。
記号の説明=1はレーザ装置、2はレーザ光。
3は集光用レンズ、4は光ファイバ、5は駆動部アーム
、6は出射系レンズ、7は加工物、8はレーザ光の光軸
、9は加工物に垂直な軸、10は反射光、11は金属製
ホルダ、12は冷却用・母イブをそれぞれあられしてい
る。 第1図 第2図
、6は出射系レンズ、7は加工物、8はレーザ光の光軸
、9は加工物に垂直な軸、10は反射光、11は金属製
ホルダ、12は冷却用・母イブをそれぞれあられしてい
る。 第1図 第2図
Claims (8)
- (1)レーザ装置と、このレーザ装置からのレーザ光を
集光し光ファイバに入射する集光用レンズと、前記レー
ザ光を伝送する光ファイバと、この光ファイバの終端か
ら出射するレーザ光を加工物に集光する出射レンズ系と
、この出射レンズ系の光軸を加工物に垂直な軸に対し所
定の角度傾けて保持する機構と、前記光ファイバの終端
の周囲を覆う金属性のホルダとを有することを特徴とす
る、光ファイバを利用したレーザ加工装置。 - (2)特許請求の範囲第(1)項において、前記所定の
角度が1度以上であることを特徴とする光ファイバを利
用したレーザ加工装置。 - (3)特許請求の範囲第(1)項において、前記金属製
のホルダが冷却媒体による強制冷却の可能な金属性のホ
ルダであることを特徴とする、光ファイバを利用したレ
ーザ加工装置。 - (4)特許請求の範囲第(3)項において、前記冷却媒
体が空気であることを特徴とする、光ファイバを利用し
たレーザ加工装置。 - (5)特許請求の範囲第(3)項において、前記冷却媒
体が水であることを特徴とする、光ファイバを利用した
レーザ加工装置。 - (6)特許請求の範囲第(3)項において、前記冷却媒
体が油であることを特徴とする光ファイバを利用したレ
ーザ加工装置。 - (7)特許請求の範囲第(1)項において、前記金属製
のホルダがレーザ光の反射による加熱の防止が可能な金
属製のホルダであることを特徴とする、光ファイバを利
用したレーザ加工装置。 - (8)特許請求の範囲第(7)項において、前記金属性
ホルダが少くとも表面が金で構成されている金属製のホ
ルダであることを特徴とする、光ファイバを利用したレ
ーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62261743A JPH01104492A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | 光ファイバを利用したレーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62261743A JPH01104492A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | 光ファイバを利用したレーザ加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01104492A true JPH01104492A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=17366091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62261743A Pending JPH01104492A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | 光ファイバを利用したレーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01104492A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5760362A (en) * | 1993-09-08 | 1998-06-02 | Commissariat A L'energie Atomique | Apparatus for treating a material having a miniaturized photoionic head |
JP2009012061A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Enshu Ltd | レーザ加工機 |
WO2010061684A1 (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 三洋電機株式会社 | 照明装置および投写型映像表示装置 |
JP2016172893A (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 3次元形成装置および3次元形成方法 |
CN110625279A (zh) * | 2019-09-28 | 2019-12-31 | 浙江泰好科技股份有限公司 | 一种激光设备用防结露装置 |
-
1987
- 1987-10-19 JP JP62261743A patent/JPH01104492A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5760362A (en) * | 1993-09-08 | 1998-06-02 | Commissariat A L'energie Atomique | Apparatus for treating a material having a miniaturized photoionic head |
JP2009012061A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Enshu Ltd | レーザ加工機 |
WO2010061684A1 (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 三洋電機株式会社 | 照明装置および投写型映像表示装置 |
JP2016172893A (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 3次元形成装置および3次元形成方法 |
CN110625279A (zh) * | 2019-09-28 | 2019-12-31 | 浙江泰好科技股份有限公司 | 一种激光设备用防结露装置 |
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