JP7804494B2 - 測定装置 - Google Patents
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Description
図1は、測定装置1の全体構成の説明図である。
電流源12は、光源を制御するための電流信号を生成する。電流源12は、信号発生器11の電圧信号に応じた電流信号を生成する。例えば、電流源12は、三角波の電圧信号に応じた三角波の電流信号を生成してレーザ光源13に出力する。
レーザ光源13は、周波数を変調させた光(周波数変調光)を出射する。例えば、レーザ光源13は、分布帰還型(DFB)レーザ素子を用いて構成される。レーザ光源13は、電流源12の電流信号に応じた周波数のレーザ光を生成する。レーザ光は、例えば193.4024~193.4266THz(λ=1549.903~1550.097nm)の範囲で周波数変調したレーザ光を生成する。例えば、レーザ光源13は、三角波の電流信号に応じて周波数を徐々に増加又は減少させたレーザ光(周波数変調光)を生成する。レーザ光源13は、レーザ光を光学装置20に出力する。
温調器14は、レーザ光源13(特にレーザ素子)を所定の温度に調整する。温調器14は、例えば温度センサ14Aと熱電素子(例えばペルチェ素子)を有し、温度センサ14Aによってレーザ光源13の温度を測定し、温度センサ14Aの測定結果に基づいて熱電素子をフィードバック制御することによってレーザ光源13を所定の温度に調整する。
分岐器21は、生成装置10の周波数変調光を分岐する。分岐器21は、例えば光カプラにより構成される。分岐した一方の光は、サーキュレータ22に出力され、対象物90に照射する照射光となる。分岐した他方の光は、光導波路24に出力され、反射波と干渉させる参照光となる。
サーキュレータ22は、分岐器21からの光(照射光)を光学系23に導くとともに、光学系23からの光(反射光)を結合器25に導く。
光学系23は、対象物90に向かって光を照射するとともに、反射光を集光して出力する。光学系23は、例えばレンズ、ミラー、プリズムなどの光学エレメントにより構成される。光学系23は、例えば、照射光を対向物に向かって照射する投光用光学系と、反射光を集光する受光用光学系とを有する。光学系23は、照射光を走査させる機能を有していても良い。光学系23は、集光した反射光をサーキュレータ22に出力する。なお、反射光は、サーキュレータ22を介して、結合器25に入力される。
光導波路24は、分岐器21から結合器25までの間の所定長の光路を構成する。光導波路24は、所定の光路長で参照光を分岐器21から結合器25へ導く。光導波路24は、例えば光ファイバにより構成される。
結合器25は、サーキュレータ22からの反射光と、光導波路24からの参照光とを結合する。結合器25は、例えば光カプラにより構成される。結合器25は、反射光と参照光とを干渉させる干渉器として機能し、反射光と参照光とを干渉させた干渉光(干渉波)を生成する。結合器25は、干渉光を検出装置30に出力する。
光電変換器31は、検出した光信号(ここでは干渉光)の強度に応じた電気信号(電流信号)を出力する。光電変換器31は、例えばフォトダイオードである。光電変換器31が検出する干渉光は、周波数の異なる反射光と参照光とが干渉することによって振幅が周期的に変わる波である。
増幅器32は、光電変換器31の電流信号を電圧信号に変換して出力する。増幅器32は、例えばトランスインピーダンス増幅器により構成される。増幅器32から出力されるビート信号は、反射光と参照光の周波数の差を示す信号となる。ビート信号のビート周波数は、干渉光のうなり成分の周波数に相当する。また、ビート信号のビート周波数は、反射光と参照光の周波数の差に相当する。
本実施形態の解析部42の処理について説明する前に、まず一般的なFMCW方式による測定方法について説明する。
Δt=(T/F)・fB ・・・(1)
2R=c・Δt
R=(c・T/2F)・fB ・・・(2)
fB=(fup+fdn)/2 ・・・(3)
fdop=(fup-fdn)/2 ・・・(4)
V=(λ/2)・fdop ・・・(5)
(λは、光の波長)
図10は、対象物90の相対速度が速い場合の影響の説明図である。ここでは、説明のため、図中の周波数fup及び周波数fdnの大きさは、図9の周波数fup及び周波数fdnの大きさと同じにしている。
このように、対象物90の相対速度が大きくなり、漸増期間における反射光の周波数が測定光の周波数よりも大きくなると、対象物までの距離を正しく算出できない。同様に、対象物90の相対速度が大きくなり、漸減期間における反射光の周波数が測定光の周波数よりも小さくなると、対象物までの距離を正しく算出できない。
解析部42は、周波数fupと周波数fdnとの大小関係を比較し、周波数fdnが周波数fupより大きいか否かを判定する(S001)。ここでは、解析部42は、周波数fdnが周波数fupより大きいか否かを判定する(fup<fdn)。ここでは、周波数fupと周波数fdnとが同じ場合にはS001でYESと判定される(fup≦fdn)。但し、周波数fupと周波数fdnとが同じ場合にS001でNOと判定されても良い。
[条件A]
[条件B]
[条件C]
[条件D]
解析部42は、S001でYESと判定し、且つ、条件Aを満たす場合(S002でYES)には、パターンAに該当すると判定する。この場合、解析部42は、次式(6)に基づいて周波数fBを算出するとともに、前述の式(2)を用いて周波数fBに基づいて距離Rを算出する(S011)。
fB=(-fup+fdn)/2 ・・・(6)
解析部42は、S001でYESと判定し、且つ、条件Bを満たす場合(S003でYES)には、パターンBに該当すると判定する(S012)。この場合、解析部42は、次式(7)に基づいて周波数fBを算出するとともに、前述の式(2)を用いて周波数fBに基づいて距離Rを算出する(S012)。
fB=(fup+fdn)/2 ・・・(7)
解析部42は、S001でNOと判定し、且つ、条件Cを満たす場合(S004でYES)には、パターンCに該当すると判定する(S013)。この場合、解析部42は、前述のS012の場合と同様に、上式(7)に基づいて周波数fBを算出するとともに、前述の式(2)を用いて周波数fBに基づいて距離Rを算出する(S013)。
解析部42は、S001でNOと判定し、且つ、条件Dを満たす場合(S005でYES)には、パターンDに該当すると判定する(S013)。この場合、解析部42は、次式(8)に基づいて周波数fBを算出するとともに、前述の式(2)を用いて周波数fBに基づいて距離Rを算出する(S014)。
fB=(fup-fdn)/2 ・・・(8)
V=(λ/2)・fc ・・・(9)
図5A及び図5Bは、算出頻度の説明図である。
漸増期間における反射光の周波数が測定光の周波数より大きい場合に該当するか否か(パターンAに該当するか否か)、若しくは、漸減期間における反射光の周波数が測定光の周波数より小さい場合に該当するか否か(パターンDに該当するか否か)の判定方法は、前述のS001~S005における判定に限られるものではない。
解析部42は、周波数fupと周波数fdnとの大小関係を比較し、周波数fdnが周波数fupより大きいか否かを判定する(S101)。この処理は、前述のS001と同様である。
上記の説明では、一定期間は、漸減期間の後に設けられている。但し、漸増期間、漸減期間及び一定期間の順序は、これに限られるものではない。
上記の測定装置1は、生成装置10と、光学装置20と、検出装置30と、信号処理装置40とを備えている。信号処理装置40は、図9に示すように、漸増期間及び漸減期間のそれぞれに対応するビート周波数fup及びfdnを求め、このビート周波数fup及びfdnに基づいて距離Rを算出する。但し、図10に示すように、対象物90の相対速度が大きくなると、漸増期間における反射光の周波数が測定光の周波数よりも大きくなることがあり、図9に示す場合と同様に距離Rを算出すると、対象物までの距離を正確に算出できなくなることがある。そこで、本実施形態の生成装置10は、周波数が増加する漸増期間と、周波数が減少する漸減期間と、周波数が一定の一定期間とを所定順で繰り返すように周波数変調した測定光を生成する。また、信号処理装置40は、漸増期間、漸減期間及び一定期間のそれぞれに対応するビート周波数fup(第1周波数)、fdn(第2周波数)及びfc(第3周波数)に基づいて対象物までの距離Rを求める。このように、ビート周波数fup(第1周波数)及びfdn(第2周波数)だけでなく、一定期間のビート周波数fc(第3周波数)も用いて対象物までの距離Rを求めることによって、対象物までの距離を正確に算出することができる。
10 生成装置、11 信号発生器、
12 電流源、13 レーザ光源、
14 温調器、14A 温度センサ、
20 光学装置、21 分岐器、
22 サーキュレータ、23 光学系、
24 光導波路、25 結合器、
30 検出装置、31 光電変換器、32 増幅器、
40 信号処理装置、41 信号取得部、
42 解析部、43 出力部、
90 対象物
Claims (4)
- 周波数が増加する漸増期間と、周波数が減少する漸減期間と、周波数が一定の一定期間とを所定順で繰り返すように周波数変調した測定光を生成する生成装置と、
前記測定光を対象物に照射するとともに、対象物からの反射光と前記測定光とを干渉させる光学装置と、
前記反射光と前記測定光との干渉波を検出し、ビート信号を出力する検出装置と、
前記漸増期間における前記ビート信号のビート周波数を示す第1周波数と、前記漸減期間における前記ビート信号のビート周波数を示す第2周波数と、前記一定期間における前記ビート信号のビート周波数を示す第3周波数とに基づいて、前記対象物までの距離を求める信号処理装置と
を備え、
前記信号処理装置は、
前記第1周波数、前記第2周波数及び前記第3周波数に基づいて、前記測定光の周波数と前記反射光の周波数との大小関係を判別し、
前記大小関係に応じた関数を用いて、前記第1周波数及び前記第2周波数に基づいて前記距離を求める、
測定装置。 - 請求項1に記載の測定装置であって、
前記信号処理装置は、
前記漸増期間における前記反射光の周波数が前記測定光の周波数より小さく、且つ、前記漸減期間における前記反射光の周波数が前記測定光の周波数より大きい場合には、所定の関数を用いて、前記第1周波数及び前記第2周波数に基づいて前記距離を求め、
前記漸増期間における前記反射光の周波数が前記測定光の周波数より大きい場合、又は、前記漸減期間における前記反射光の周波数が前記測定光の周波数より小さい場合には、前記所定の関数とは別の関数を用いて、前記第1周波数及び前記第2周波数に基づいて前記距離を求める、
測定装置。 - 請求項1又は2に記載の測定装置であって、
前記漸増期間、前記漸減期間及び前記一定期間を含む期間が所定周期で繰り返されており、
前記信号処理装置は、前記第1周波数、前記第2周波数及び前記第3周波数に基づいて前記距離を求めることを、前記所定周期よりも短い周期で繰り返す、
測定装置。 - 請求項3に記載の測定装置であって、
前記信号処理装置は、
前記一定期間が前記漸増期間及び前記漸減期間の後になる前記期間における前記第1周波数、前記第2周波数及び前記第3周波数に基づいて前記距離を求めること、
前記一定期間が前記漸増期間と前記漸減期間との間になる前記期間における前記第1周波数、前記第2周波数及び前記第3周波数に基づいて前記距離を求めること、及び、
前記一定期間が前記漸増期間及び前記漸減期間の前になる前記期間における前記第1周波数、前記第2周波数及び前記第3周波数に基づいて前記距離を求めること、
をそれぞれ行う、
測定装置。
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