JP7552744B2 - Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 23
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 100
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 74
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 58
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 34
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 34
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 31
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 29
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 29
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 6
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 stranded wire Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
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- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Description
本開示の形態は、作動流体が密封された密封空間を有するベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用シートおよびベーパーチャンバの製造方法に関する。 The present disclosure relates to a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, a sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber.
携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)や発光ダイオード(LED)、パワー半導体等の発熱を伴うデバイスは、ヒートパイプ等の放熱用部材によって冷却されている(例えば、特許文献1参照)。近年では、モバイル端末等の薄型化のために、放熱用部材の薄型化も求められており、ヒートパイプよりも薄型化を図ることができるベーパーチャンバの開発が進められている。ベーパーチャンバは、2枚のシートを接合した構造を有しており、2枚のシートの間に、作動流体が封入された密封空間が形成されている。この作動流体がデバイスの熱を吸収して外部に放出することで、デバイスの冷却を行っている。 Devices that generate heat, such as central processing units (CPUs), light-emitting diodes (LEDs), and power semiconductors used in mobile devices such as mobile terminals and tablet terminals, are cooled by heat dissipation members such as heat pipes (see, for example, Patent Document 1). In recent years, there has been a demand for thinner heat dissipation members in order to make mobile terminals thinner, and vapor chambers that can be made thinner than heat pipes have been developed. Vapor chambers have a structure in which two sheets are joined together, and a sealed space filled with a working fluid is formed between the two sheets. This working fluid absorbs the heat of the device and releases it to the outside, thereby cooling the device.
より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動流体は、デバイスに近接した部分(蒸発部)でデバイスから熱を受けて蒸発して液体から気体になり、その後に気体が、蒸発部から離れた位置に移動して冷却され、凝縮して液体になる。ベーパーチャンバ内には、毛細管構造(ウィック)としての液流路が設けられており、液体になった作動流体は、この液流路を通過して蒸発部に向かって輸送され、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動流体が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流することによりデバイスの熱を移動させ、熱輸送効率を高めている。 More specifically, the working fluid in the vapor chamber receives heat from the device in the part close to the device (evaporation part) and evaporates from liquid to gas, and the gas then moves to a position away from the evaporation part where it is cooled and condenses to liquid. A liquid flow path is provided in the vapor chamber as a capillary structure (wick), and the liquid working fluid passes through this liquid flow path and is transported toward the evaporation part, where it receives heat again and evaporates. In this way, the working fluid circulates through the vapor chamber while repeatedly changing phases, i.e., evaporating and condensing, thereby transferring heat from the device and increasing heat transport efficiency.
本開示の形態は熱輸送効率を向上させることができるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用シートおよびベーパーチャンバの製造方法を提供することを目的とする。 The present disclosure aims to provide a vapor chamber, a sheet for a vapor chamber, and a method for manufacturing a vapor chamber that can improve heat transport efficiency.
本願は、作動流体が封入された密封空間を有するベーパーチャンバであって、密封空間には、気体状態の作動流体が流れる複数の蒸気流路と、隣り合う複数の蒸気流路間に設けられ、液体状態の作動流体が流れるウィック材と、が備えられ、平面視で蒸気流路に重なる位置のベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部及び凸部の少なくともいずれかが具備されており、凹部及び凸部は、蒸気流路が延びる方向に直交する断面において湾曲した形状である、ベーパーチャンバを開示する。 This application discloses a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, the sealed space being provided with a plurality of vapor flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows, and a wick material provided between the plurality of adjacent vapor flow paths through which the working fluid in a liquid state flows, at least one of a recess and a protrusion is provided on at least a portion of the outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view, and the recess and protrusion have a curved shape in a cross section perpendicular to the direction in which the vapor flow path extends.
また、本願は、作動流体が封入された密封空間を有するベーパーチャンバであって、密封空間には、気体状態の作動流体が流れる複数の蒸気流路と、隣り合う複数の蒸気流路間に設けられ、液体状態の作動流体が流れる液流路またはウィック材と、が備えられ、平面視で蒸気流路に重なる位置のベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部が具備されており、凹部は、蒸気流路が延びる方向に直交する断面において蒸気流路の幅方向の全体にわたって設けられている、ベーパーチャンバを開示する。 The present application also discloses a vapor chamber having a sealed space filled with a working fluid, the sealed space being provided with a plurality of vapor flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows, and a liquid flow path or wick material provided between adjacent vapor flow paths through which the working fluid in a liquid state flows, and a recess is provided on at least a portion of the outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view, and the recess is provided across the entire width of the vapor flow path in a cross section perpendicular to the direction in which the vapor flow path extends.
また、本願は、作動流体が封入された密封空間を有するベーパーチャンバであって、密封空間には、気体状態の作動流体が流れる複数の蒸気流路と、隣り合う複数の蒸気流路間に設けられ、液体状態の作動流体が流れる液流路またはウィック材と、が備えられ、平面視で蒸気流路に重なる位置のベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部が具備されており、凹部は、平面視で液流路またはウィック材に重なる位置には設けられていない、ベーパーチャンバを開示する。 The present application also discloses a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, the sealed space being provided with a plurality of vapor flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows, and a liquid flow path or wick material provided between adjacent vapor flow paths through which the working fluid in a liquid state flows, and a recess is provided on at least a portion of the outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view, and the recess is not provided at a position overlapping the liquid flow path or wick material in a plan view.
本開示の形態によれば、熱輸送効率を向上させることができる。 According to the present disclosure, it is possible to improve the heat transport efficiency.
以下、図面を参照して本開示の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張して表すことがある。
また、ベーパーチャンバでは、密封空間内を作動流体が相変化を伴いつつ移動するため、本明細書では気化して気体である作動流体を「蒸気」、液化して液体である作動流体を「作動液」と記載することがある。
Hereinafter, the present disclosure will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to this specification, the scale and aspect ratios may be appropriately changed and exaggerated from those of the actual objects for the convenience of illustration and understanding.
In addition, in a vapor chamber, the working fluid moves within the sealed space while undergoing a phase change, so in this specification, the working fluid that has evaporated into a gas state may be referred to as "vapor" and the working fluid that has liquefied into a liquid state may be referred to as "working liquid."
始めに、本形態によるベーパーチャンバ1が搭載される電子機器Eについて、タブレット端末を例にとって説明する。図1に示すように、電子機器E(タブレット端末)は、ハウジングHと、ハウジングH内に収容されたデバイスDと、ベーパーチャンバ1と、を備えている。図1に示す電子機器Eでは、ハウジングHの前面にタッチパネルディスプレイTDが設けられている。ベーパーチャンバ1は、ハウジングH内に収容されて、デバイスDに熱的に接触するように配置される。このことにより、電子機器Eの使用時にデバイスDで発生する熱をベーパーチャンバ1が受けることができる。ベーパーチャンバ1が受けた熱は、後述する作動流体を介してベーパーチャンバ1の外部に放出される。このようにして、デバイスDは冷却される。電子機器Eがタブレット端末である場合には、デバイスDは、中央演算処理装置等に相当する。
First, the electronic device E equipped with the
図2~図21を用いて、本開示の形態にかかるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ用シートおよびベーパーチャンバの製造方法について説明する。本形態におけるベーパーチャンバ1は、作動液2(図6参照)が封入された密封空間3を有しており、密封空間3内の作動流体が相変化を繰り返すことにより、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)や発光ダイオード(LED)、パワー半導体等の発熱を伴うデバイスD(被冷却装置)を冷却するための装置である。ベーパーチャンバ1は、概略的に薄い平板状に形成されている。
The vapor chamber, vapor chamber sheet, and vapor chamber manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure will be described with reference to Figures 2 to 21. The
図2および図3に示すように、本形態のベーパーチャンバ1は、下側シート10(第1シート、ベーパーチャンバ用シート)と、下側シート10上に設けられた上側シート20(第2シート、ベーパーチャンバ用シート)と、を備えている。下側シート10は、上面10a(第1シート面)と、上面10aの反対側の下面10b(第1反対面)と、を有している。下面10b(とりわけ、後述する蒸発部11の下面)に、冷却対象物であるデバイスDが取り付けられる。上側シート20は、下面20a(第2シート面)と、下面20aの反対側に設けられた上面20b(第2反対面)と、を有している。下面20aは、下側シート10の上面10aに重ね合わされており、下側シート10と上側シート20とは、後述する拡散接合によって接合されている。
2 and 3, the
下側シート10と上側シート20との間には、作動流体が封入された密封空間3が形成されている。作動流体の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン、及びそれらの混合物等が挙げられる。
A sealed
図2および図3に示す形態では、下側シート10および上側シート20は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。本形態のように矩形である他、平面視で円形、楕円形、三角形、その他の多角形、屈曲部を有する形、例えばL字型、T字型、クランク型等、および、これらを組み合わせた形状とすることができる。
ここで平面視とは、ベーパーチャンバ1がデバイスDから熱を受ける面(下側シート10の下面10b)、および受けた熱を放出する面(上側シート20の上面20b)の法線方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバ1を上方から見た状態(図2参照)、または下方から見た状態に相当している。
2 and 3, the
Here, a planar view refers to a state in which the
なお、ここでは第1シートを下側シート、および、第2シートを上側シートと記載するが、これは必ずしも上下関係を限定するものではなく、便宜上の記載である。ここではデバイスDから熱を受けるシートを第1シート、その反対側に配置されるシートを第2シートとしている。その他の部位に付された「上側」および「下側」の記載は単にこの記載に合わせたものである。 Note that, although the first sheet is described as the lower sheet and the second sheet as the upper sheet, this does not necessarily limit the hierarchical relationship, but is described for convenience. Here, the sheet that receives heat from device D is the first sheet, and the sheet placed on the opposite side is the second sheet. The descriptions "upper" and "lower" given to other parts are simply to conform to this description.
図3および図4に示すように、下側シート10は、作動液2が蒸発して蒸気を生成する蒸発部11と、上面10aに設けられ、平面視で矩形状に形成された下側蒸気流路凹部12(第1蒸気流路凹部)と、を有している。このうち下側蒸気流路凹部12は、上述した密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気が通るように構成されている。
As shown in Figures 3 and 4, the
本形態では、下側蒸気流路凹部12は、複数の下側流路溝(すなわち、複数の第1下側流路溝12G1と、複数の第2下側流路溝12G2と、複数の第3下側流路溝12G3と)を有している。各第1下側流路溝12G1および第2下側流路溝12G2は、それぞれ、第1方向Xに延びて蒸気を多く含んだ作動流体が通るようになっており、第1方向Xに直交する第2方向Yにおいて互いに異なる位置に間隔を有して配列されている。
一方、第3下側流路溝12G3は、第2方向Yに延びており、第1下側流路溝12G1および第2下側流路溝12G2の両端部に連通している。本形態では、各下側流路溝12G1、12G2、12G3は、横断面において、湾曲する部位を有している。後述する底面12aは、下側蒸気流路凹部12の壁面のうち、下側シート10の下面10bの側の部分に相当する。
In this embodiment, the lower
On the other hand, the third lower passage groove 12G3 extends in the second direction Y and is connected to both end portions of the first lower passage groove 12G1 and the second lower passage groove 12G2. In this embodiment, each of the lower passage grooves 12G1, 12G2, and 12G3 has a curved portion in cross section. A
蒸発部11は、この下側蒸気流路凹部12内に配置されており、蒸発部11には、第1下側流路溝12G1が平面視で重なっている。下側蒸気流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に向かって輸送される。
The
なお、蒸発部11は、下側シート10の下面10bに取り付けられるデバイスDから熱を受けて、密封空間3内の作動液2が蒸発する部分である。このため、蒸発部11という用語は、ベーパーチャンバの平面視でデバイスDに重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイスDに重なっていなくても作動液2が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。ここで蒸発部11は、下側シート10の任意の場所に設けることができるが、図2および図4においては、下側シート10の中央部に設けられている例が示されている。この場合、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢が、ベーパーチャンバ1の動作の安定化に影響を及ぼすことを抑制できる。
The
本形態では、図3、図4および図6に示すように、下側蒸気流路凹部12内に、下側蒸気流路凹部12の底面12aよりも上方(上面10aに垂直な方向)に突出する複数の下側流路壁部13(第1流路壁部)が設けられている。この下側流路壁部13は、後述する上側流路壁部22の下面22aに接触する上面13a(突出端面)を含んでいる。
In this embodiment, as shown in Figures 3, 4, and 6, a plurality of lower flow path walls 13 (first flow path walls) are provided in the lower steam
本形態では、下側流路壁部13は、ベーパーチャンバ1の第1下側流路溝12G1、および、第2下側流路溝12G2が延びる方向(X方向)に沿って細長く延びている例が示されている。そして、各下側流路壁部13は等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。この下側流路壁部13によって、下側蒸気流路凹部12は、上述した第1下側流路溝12G1および第2下側流路溝12G2に区画されている。すなわち、互いに隣り合う下側流路壁部13の間に第1下側流路溝12G1が形成されている。同様に、後述する下側周縁壁14と、第2方向Yにおいてこれに隣り合う下側流路壁部13との間に第2下側流路溝12G2が形成されている。
このようにして、各下側流路壁部13の周囲を蒸気が流れて、蒸発部11から離れるように蒸気が輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。例えば、第1下側流路溝12G1においては、蒸気は第3下側流路溝12G3に向かって輸送される。
In this embodiment, the lower
In this manner, the steam flows around each lower flow
また、下側流路壁部13は、上側シート20の対応する後述の上側流路壁部22に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。
図6および図7に示す下側流路壁部13の幅w0は、上面10aにおいて、3000μm以下であることが好ましく、1500μm以下であってもよく、1000μm以下であってもよい。一方、幅w0は上面10aにおいて100μm以上であることが好ましく、200μm以上であってもよく、400μm以上であってもよい。また、幅w0の範囲は、この複数の上限の候補値のうちの任意の1つと、複数の下限の候補値のうちの1つの組み合わせによって定められてもよい。また、幅w0の範囲は、この複数の上限の候補値の任意の2つを組み合わせ、又は、複数の下限の候補値の任意の2つの組み合わせにより定められてもよい。ここで、幅w0は、下側流路壁部13の長手方向(X方向)に直交する方向(Y方向)における下側流路壁部13の寸法を意味しており、例えば、図4および図7における上下方向の寸法、または図6における左右方向の寸法に相当する。
第1下側流路溝12G1の幅w1(互いに隣り合う下側流路壁部13同士の間隔)は、上面10aにおいて、2000μm以下であることが好ましく、1500μm以下であってもよく、1000μm以下であってもよい。一方、幅w1は上面10aにおいて100μm以上であることが好ましく、200μm以上であってもよく、400μm以上であってもよい。また、幅w1の範囲は、この複数の上限の候補値のうちの任意の1つと、複数の下限の候補値のうちの1つの組み合わせによって定められてもよい。また、幅w1の範囲は、この複数の上限の候補値の任意の2つを組み合わせ、又は、複数の下限の候補値の任意の2つの組み合わせにより定められてもよい。
第2下側流路溝12G2の幅および第3下側流路溝12G3の幅は、第1下側流路溝12G1の幅と等しくてもよい。
In addition, the lower flow
The width w0 of the lower
The width w1 of the first lower flow channel groove 12G1 (the distance between the adjacent lower flow channel walls 13) is preferably 2000 μm or less on the
The width of the second lower passage groove 12G2 and the width of the third lower passage groove 12G3 may be equal to the width of the first lower passage groove 12G1.
また、図6に示す下側流路壁部13の高さ(言い換えると、下側蒸気流路凹部12の深さ)h0は、300μm以下であることが好ましく、200μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。一方、高さh0は、10μm以上であることが好ましく、25μm以上であってもよく、50μm以上であってもよい。また、高さh0の範囲は、この複数の上限の候補値のうちの任意の1つと、複数の下限の候補値のうちの1つの組み合わせによって定められてもよい。また、高さh0の範囲は、複数の上限の候補値の任意の2つを組み合わせ、又は、複数の下限の候補値の任意の2つの組み合わせにより定められてもよい。
The height h0 of the lower
図3および図4に示すように、下側シート10の周縁部には、下側周縁壁14が設けられている。下側周縁壁14は、密封空間3、とりわけ下側蒸気流路凹部12を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、平面視で下側周縁壁14の四隅に、下側シート10と上側シート20との位置決めをするための下側アライメント孔15がそれぞれ設けられている。
As shown in Figures 3 and 4, a lower
図6に示すように、下側シート10の下面10bに、下側蒸気流路凹部12に向かって凹む下側シート凹部50(第1シート凹部)が設けられている。この下側シート凹部50は、下面10bのうち平面視で下側蒸気流路凹部12に重なる位置に配置されている。図6においては、下側シート凹部50の横断面形状が湾曲部を有する例が示されているが、これに限られることはなく、矩形、V字形状、およびこれらの組み合わせの形状であってもよい。
As shown in FIG. 6, the
本形態では、上述したように、下側蒸気流路凹部12内に、複数の下側流路壁部13が設けられており、下側流路壁部13によって画定された第1下側流路溝12G1、第2下側流路溝12G2および第3下側流路溝12G3が形成されている。このことにより、下側シート凹部50は、互いに隣り合う一対の下側流路壁部13の間(第1下側流路溝12G1に重なる位置)に配置されている。この第1下側流路溝12G1に重なる下側シート凹部50は、平面視で、第1下側流路溝12G1に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。また、下側シート凹部50は、下側周縁壁14と、これに隣り合う下側流路壁部13との間(第2下側流路溝12G2に重なる位置)にも形成されていてもよい。この第2下側流路溝12G2に重なる下側シート凹部50は、第2下側流路溝12G2に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。さらに、第3下側流路溝12G3に平面視で重なる位置にも下側シート凹部50が形成されていてもよく、当該下側シート凹部50は、第3下側流路溝12G3に沿うように、第2方向Yに沿って細長状に連続状に延びている。
In this embodiment, as described above, a plurality of lower
また、図6に示すように、下側蒸気流路凹部12を画定する底面12aのうち、平面視で下側シート凹部50に重なる位置に、下側蒸気流路凹部12の内側に突出する下側底面凸部51(第1底面凸部)が設けられている。図6においては、下側底面凸部51の横断面形状が、下側シート凹部50と同様の形状に湾曲した例が示されているが、これに限られることはなく、矩形、V字形、および、これらが組み合わされた形状であってもよい。
As shown in FIG. 6, a lower bottom surface convex portion 51 (first bottom surface convex portion) that protrudes inward of the lower steam flow path
この下側底面凸部51は、平面視で、下側シート凹部50と同様に、互いに隣り合う一対の下側流路壁部13の間(第1下側流路溝12G1に重なる位置)に配置されている。この第1下側流路溝12G1に重なる下側底面凸部51は、第1下側流路溝12G1に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。また、下側底面凸部51は、下側周縁壁14と、これに隣り合う下側流路壁部13との間(第2下側流路溝12G2に重なる位置)にも形成されていてもよい。この第2下側流路溝12G2に重なる下側底面凸部51は、第2下側流路溝12G2に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。さらに、第3下側流路溝12G3に平面視で重なる位置にも下側底面凸部51が形成されていてもよく、当該下側底面凸部51は、第3下側流路溝12G3に沿うように、第2方向Yに沿って細長くに連続して延びている。すなわち、本形態では、下側底面凸部51は、後述するように下側シート凹部50の形成に伴って形成されるため、下側シート凹部50の平面視位置と同じ位置に、同様の横断面形状で形成されている。なお、各下側底面凸部51が、上述したように細長く連続して延びていることにより、各下側流路溝12G1~12G3内における蒸気の流れが妨げられることを防止されている。
In a plan view, the lower bottom surface
図6に示すように、下側凹部50が形成された下側シート10の下面10bと第一下側流路溝12G1との間の部分の厚さt3は、下面10bと後述する主流溝31との間の部分の厚さt4よりも小さくなっている。すなわち、t3はt4よりも薄くなっている。
As shown in FIG. 6, the thickness t3 of the portion between the
本形態では、上側シート20は、後述する液流路部30が設けられていない点を除けば、下側シート10と略同一の構造を有している。以下に、上側シート20の構成についてより詳細に説明する。
In this embodiment, the
図3および図5に示すように、上側シート20は、下面20aに設けられた上側蒸気流路凹部21(第2蒸気流路凹部)を有している。この上側蒸気流路凹部21は、密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気が通り、当該蒸気を冷却するように構成されている。上側蒸気流路凹部21は、平面視で下側蒸気流路凹部12と重なるように形成されている。上側蒸気流路凹部21の深さは、下側蒸気流路凹部12の深さh0と同一であってもよい。
As shown in Figures 3 and 5, the
本形態では、上側蒸気流路凹部21は、複数の上側流路溝(すなわち、複数の第1上側流路溝21G1と、複数の第2上側流路溝21G2と、複数の第3上側流路溝21G3と)を有している。各第1上側流路溝21G1および第2上側流路溝21G2は、それぞれ、第1方向Xに延びて蒸気が通るようになっており、第1方向Xに直交する第2方向Yにおいて互いに異なる位置に間隔を有して配列されている。第3上側流路溝21G3は、第2方向Yに延びており、第1上側流路溝21G1および第2上側流路溝21G2の両端部に連通している。本形態では、各上側流路溝21G1、21G2、21G3は、横断面において、湾曲部を有して形成されている。後述する底面21aは、上側蒸気流路凹部21の壁面のうち、上側シート20の上面20bの側の部分に相当する。
In this embodiment, the upper steam
上側蒸気流路凹部21内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、その多くは、比較的温度の低い周縁部に向かって輸送される。
The steam in the upper steam
また、図3に示すように、上側シート20の上面20bには、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材Hが配置される。このことにより、上側蒸気流路凹部21内の蒸気は、上側シート20およびハウジング部材Hを介して外部によって冷却される。
As shown in FIG. 3, a housing member H that constitutes part of the housing of a mobile terminal or the like is disposed on the
本形態では、図2、図5および図6に示すように、上側シート20の上側蒸気流路凹部21内に、上側蒸気流路凹部21の底面21aから下方(下面20aに垂直な方向)に突出する複数の上側流路壁部22(第2流路壁部)が設けられている。この上側流路壁部22は、上述した下側流路壁部13の上面13aに接触する下面22a(突出端面)を含んでいる。ここで、上側蒸気流路凹部21の底面21aは、図3等に示すような下側シート10と上側シート20との上下配置関係では、天井面と言うこともできるが、上側蒸気流路凹部21の奥側の面に相当するため、本明細書では底面21aと記す。
In this embodiment, as shown in Figs. 2, 5 and 6, a plurality of upper flow path walls 22 (second flow path walls) are provided in the upper steam
本形態では、上側流路壁部22は、第1上側流路溝21G1および第2上側流路溝21G2に沿って(図5における左右方向)細長く延びている例が示されている。そして、各上側流路壁部22は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。この上側流路壁部22によって、上側蒸気流路凹部21は、上述した第1上側流路溝21G1および第2上側流路溝21G2に区画されている。すなわち、互いに隣り合う一対の上側流路壁部22の間に第1上側流路溝21G1が形成されている。同様に、後述する上側周縁壁23と、これに隣り合う上側流路壁部22との間に第2上側流路溝21G2が形成されている。このようにして、各上側流路壁部22の周囲を蒸気が流れて、上側蒸気流路凹部21の周縁部に向かってこれが輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。例えば、第1上側流路溝21G1においては、蒸気は第3上側流路溝21G3に向かって輸送される。
In this embodiment, the upper
また、上側流路壁部22は、下側シート10の対応する下側流路壁部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、図2、図3、図6では、上側流路壁部22の幅、高さは、上述した下側流路壁部13の幅w0、高さh0と同一である例が示されているが、同一でなくてもよい。また、第1上側流路溝21G1の幅は、第1下側流路溝12G1の幅と等しくてもよく、大きくても小さくてもよく、第2上側流路溝21G2の幅は、第2下側流路溝12G2の幅と等しくても大きくても小さくてもよく、第3上側流路溝21G3の幅は、第3下側流路溝12G3の幅と等しくても大きくても小さくてもよい。
The upper
図3および図5に示すように、上側シート20の周縁部には、上側周縁壁23が設けられている。上側周縁壁23は、密封空間3、とりわけ上側蒸気流路凹部21を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、平面視で上側周縁壁23の四隅に、下側シート10と上側シート20との位置決めをするための上側アライメント孔24がそれぞれ設けられている。すなわち、各上側アライメント孔24は、後述する仮止め時に、上述した各下側アライメント孔15に重なるように配置され、下側シート10と上側シート20との位置決めが可能に構成されている。
As shown in Figures 3 and 5, an upper
図6に示すように、上側シート20の上面20bに、上側蒸気流路凹部21に向かって凹む上側シート凹部60(第2シート凹部)が設けられている。この上側シート凹部60は、上面20bのうち平面視で上側蒸気流路凹部21に重なる位置に配置されている。図6においては、上側シート凹部60の横断面形状が湾曲部を有している例が示されているが、これに限られることはなく、矩形、V字形およびこれらが組み合わされた形状であってもよい。
As shown in FIG. 6, an upper sheet recess 60 (second sheet recess) recessed toward the upper steam
本形態では、上述したように、上側蒸気流路凹部21内に、複数の上側流路壁部22が設けられており、上側流路壁部22によって画定された第1上側流路溝21G1、第2上側流路溝21G2および第3上側流路溝21G3が形成されている。このことにより、上側シート凹部60は、互いに隣り合う一対の上側流路壁部22の間(第1上側流路溝21G1に重なる位置)に配置されている。この第1上側流路溝21G1に重なる上側シート凹部60は、平面視で、第1上側流路溝21G1に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。また、上側シート凹部60は、上側周縁壁23と、これに隣り合う上側流路壁部22との間(第2上側流路溝21G2に重なる位置)にも形成されていてもよい。この第2上側流路溝21G2に重なる上側シート凹部60は、第2上側流路溝21G2に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。さらに、第3上側流路溝21G3に平面視で重なる位置にも上側シート凹部60が形成されていてもよく、当該上側シート凹部60は、第3上側流路溝21G3に沿うように、第2方向Yに沿って細長くに連続して延びている。
In this embodiment, as described above, a plurality of upper
また、図6に示すように、上側蒸気流路凹部21を画定する底面21aのうち、平面視で上側シート凹部60に重なる位置に、上側蒸気流路凹部21の内側に突出する上側底面凸部61(第2底面凸部)が設けられている。図6においては、上側底面凸部61の横断面形状が、上側シート凹部60と同様の形状で湾曲部を有している例が示されているが、これに限られることはなく、矩形、V字形およびこれらを組み合わせた形状であってもよい。
As shown in FIG. 6, an upper bottom surface convex portion 61 (second bottom surface convex portion) that protrudes inward of the upper steam flow path
この上側底面凸部61は、平面視で、上側シート凹部60と同様に、互いに隣り合う一対の上側流路壁部22の間(第1上側流路溝21G1に重なる位置)に配置されている。この第1上側流路溝21G1に重なる上側底面凸部61は、第1上側流路溝21G1に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。また、上側底面凸部61は、上側周縁壁23と、これに隣り合う上側流路壁部22との間(第2上側流路溝21G2に重なる位置)にも形成されていてもよい。この第2上側流路溝21G2に重なる上側底面凸部61は、第2上側流路溝21G2に沿うように、第1方向Xに沿って細長く連続して延びている。さらに、第3上側流路溝21G3に平面視で重なる位置にも上側底面凸部61が形成されていてもよく、当該上側底面凸部61は、第3上側流路溝21G3に沿うように、第2方向Yに沿って細長く連続して延びている。すなわち、本形態では、上側底面凸部61は、後述するように上側シート凹部60の形成に伴って形成されるため、上側シート凹部60の平面位置と同じ位置に、同様の横断面形状で形成されている。なお、各上側底面凸部61が、上述したように細長く連続して延びていることにより、各上側流路溝21G1~21G3内における蒸気の流れが妨げられることを防止されている。
In a plan view, the upper bottom surface
図6においては、上側シート20の上面20bと上側蒸気流路凹部21との間の部分の厚さt5は、下側シート10の上述した厚さt3と等しくなっている。しかしながら、この厚さt5は、厚さt3とは異なっていてもよい。
In FIG. 6, the thickness t5 of the portion between the
このような下側シート10と上側シート20とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、図3に示すように、下側シート10の下側周縁壁14の上面14aと、上側シート20の上側周縁壁23の下面23aとが接触し、下側周縁壁14と上側周縁壁23とが互いに接合されている。このことにより、下側シート10と上側シート20との間に、作動流体を密封した密封空間3が形成されている。また、下側シート10の下側流路壁部13の上面13aと、上側シート20の上側流路壁部22の下面22aとが接触し、各下側流路壁部13と対応する上側流路壁部22とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させている。本形態による下側流路壁部13および上側流路壁部22は等間隔に配置されている場合には、ベーパーチャンバ1の各位置における機械的強度を均等に近づけることができる。なお、下側シート10と上側シート20とは、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。ここで、「恒久的に接合」とは、厳密な意味に縛られることはなく、ベーパーチャンバ1の動作時に、密封空間3の密封性を維持可能な程度に、下側シート10の上面10aと上側シート20の下面20aとの接合を維持できる程度に接合されていることを意味する。
Such a
また、図2に示すように、ベーパーチャンバ1は、長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間3に作動液を注入する注入部4を更に備えている。この注入部4は、図4および図5に示すように、下側シート10の端面から突出する下側注入突出部16と、上側シート20の端面から突出する上側注入突出部25と、を有している。このうち下側注入突出部16の上面に下側注入流路凹部17が形成され、上側注入突出部25の下面に上側注入流路凹部26が形成されている。下側注入流路凹部17は、下側蒸気流路凹部12(より詳細には、一方の第3下側流路溝12G3)に連通しており、上側注入流路凹部26は、上側蒸気流路凹部21(より詳細には、一方の第3上側流路溝21G3)に連通している。下側注入流路凹部17および上側注入流路凹部26は、下側シート10と上側シート20とが接合された際、作動液の注入流路を形成する。当該注入流路を通過して作動液は密封空間3に注入される。なお、本形態では、注入部4は、ベーパーチャンバ1の長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に設けられている例が示されているが、これに限られることはなく、他のいずれかの端部に配置されていてもよく、複数配置されてもよい。複数配置される場合には例えばベーパーチャンバ1の長手方向における一対の端部のそれぞれに配置されてもよいし、他の一対の端部のうちの一方の端部に配置されもよい。
2, the
また、図4、図7および図8に示すように、各下側流路壁部13の上面13aに、作動液2が通る下側液流路部30が設けられている。下側液流路部30は、上述した密封空間3の一部を構成しており、上述した下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21に連通している。
As shown in Figs. 4, 7 and 8, a lower liquid
下側液流路部30は、複数の主流溝31を有している。各主流溝31は、それぞれ、下側流路壁部13が延びる方向に沿って第1方向Xに延びて作動液2が通るようになっており、第1方向Xに直交する第2方向Yにおいて互いに異なる位置に間隔を有して配列されている。主流溝31は、主として、蒸発部11で生成された蒸気から凝縮した作動液2を蒸発部11に向けて輸送するように構成されている。
The lower liquid
本形態では、主流溝31は、下側流路壁部13の長手方向(第1方向X)に沿って、細長く延びている例が示されており、下側流路壁部13の長手方向における一端から他端まで延びている。そして、各主流溝31は下側蒸気流路凹部12の第3下側流路溝12G3に連通している。このようにして、下側蒸気流路凹部12の周縁部および上側蒸気流路凹部21の周縁部において凝縮した作動液2を、毛細管作用によって蒸発部11に向けて輸送するようになっている。1つの下側流路壁部13の上面13aには、複数の主流溝31が形成されており、各主流溝31は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。本形態においては、主流溝31の横断面が、全体的に湾曲した形状である例が示されているが、主流溝31の横断面形状は、毛細管作用を奏することができれば任意である。従って、溝の横断面形状が入隅部、出隅を有する形状およびこれらが組み合わされた形状であってもよい。
本形態では各主流溝31は等間隔に離間して互いに平行に配置されているが、これに限られることは無く、毛細管作用を奏することができれば間隔がばらついても良く、また平行でなくても良い。さらに、各下側流路壁部13において主流溝31の数はばらついていても良く、下側流路壁部13に主流溝31が無い部分があっても良い。
In this embodiment, the
In this embodiment, the
なお、図示しないが、主流溝31を横切る方向(例えば第2方向Y)に延びる複数の連絡溝(図示せず)が設けられて、これらの連絡溝が、主流溝31同士を連通するとともに、主流溝31と下側蒸気流路凹部12とを連通するようにしてもよい。
または、蒸発部11において、上側流路壁部22の下面22aを下側流路壁部13の上面13aから離して隙間があるようにしてもよい。この場合、当該上面13aと当該下面22aとの間の空間が下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21に連通するため、各主流溝31を、各蒸気流路凹部12、21に連通させることができる。
Although not shown, a plurality of communication grooves (not shown) extending in a direction crossing the mainstream grooves 31 (e.g., the second direction Y) may be provided, and these communication grooves may connect the
Alternatively, in the
下側シート10の上面10aにおいて、図8に示す主流溝31の幅w2は、図7に示す下側流路壁部13の幅w0よりも小さくなっている。このことにより、主流溝31は、蒸気から凝縮した作動液2で充填されて、充填された液状の作動液2が、毛細管作用によって蒸発部11に向かって輸送される。一方、各下側流路溝12G1、12G2、12G3および各上側流路溝21G1、21G2、21G3は、主流溝31の流路断面積よりも大きい流路断面積を有し、主として、蒸発部11で生成された蒸気が通過するようになる。
より具体的には、各下側流路溝12G1、12G2、12G3および各上側流路溝21G1、21G2、21G3により形成され主として蒸気が通過する流路を第1流路とし、主流溝31により形成され主として作動液が通過する流路を第2流路としたとき、第2流路の流路断面積は、第1流路の流路断面積より小さくされている。より具体的には、隣り合う2つの第1流路の平均の流路断面積をAgとし、当該隣り合う2つの第1流路の間に配置される複数の第2流路の平均の流路断面積をAlとしたとき、第2流路と第1流路とは、AlがAgの0.5倍以下の関係にあるものとし、好ましくは0.25倍以下である。この関係はベーパーチャンバ全体のうち少なくとも一部において満たせばよく、ベーパーチャンバの全部でこれを満たせばさらに好ましい。
On the
More specifically, when the flow passage formed by each of the lower flow passage grooves 12G1, 12G2, 12G3 and each of the upper flow passage grooves 21G1, 21G2, 21G3 and through which mainly the steam passes is defined as the first flow passage, and the flow passage formed by the main
主流溝31の幅w2は、主流溝31の長手方向に直交する方向における主流溝31の寸法を意味しており、例えば、図7における上下方向の寸法、または図8における左右方向の寸法に相当する。
幅w2は、1000μm以下であることが好ましく、500μm以下であってもよく、200μm以下であってもよい。一方、幅w2は、30μm以上であることが好ましく、45μm以上であってもよく、60μm以上であってもよい。また、幅w2の範囲は、この複数の上限の候補値のうちの任意の1つと、複数の下限の候補値のうちの1つの組み合わせによって定められてもよい。また、幅w2の範囲は、複数の上限の候補値の任意の2つを組み合わせ、又は、複数の下限の候補値の任意の2つの組み合わせにより定められてもよい。
また、主流溝31の深さh1は、幅w2の大きさにもよるが、下側蒸気流路凹部12の深さh0よりも小さいことが好ましい。深さh1は、200μm以下であることが好ましく、150μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。一方、深さh1は、5μm以上であることが好ましく、10μm以上であってもよく、20μm以上であってもよい。また、深さh1の範囲は、この複数の上限の候補値のうちの任意の1つと、複数の下限の候補値のうちの1つの組み合わせによって定められてもよい。また、深さh1の範囲は、複数の上限の候補値の任意の2つを組み合わせ、又は、複数の下限の候補値の任意の2つの組み合わせにより定められてもよい。上述した連絡溝の深さも同様である。
The width w2 of the
The width w2 is preferably 1000 μm or less, may be 500 μm or less, or may be 200 μm or less. On the other hand, the width w2 is preferably 30 μm or more, may be 45 μm or more, or may be 60 μm or more. The range of the width w2 may be determined by a combination of any one of the multiple upper limit candidate values and one of the multiple lower limit candidate values. The range of the width w2 may be determined by a combination of any two of the multiple upper limit candidate values, or a combination of any two of the multiple lower limit candidate values.
The depth h1 of the
このような主流溝31は、下側シート10の下側流路壁部13の上面13aに形成されている。一方、本形態では、上側シート20の上側流路壁部22の下面22aには、主流溝は形成されていない。すなわち、当該下面22aは、平坦状に形成されており、主流溝31に露出されている。このようにして、主流溝31の横断面において、主流溝31の全体が、上側流路壁部22の平坦状の下面22aで覆われている。
Such a
ただしこれに限定されることはなく、図9に示したように上側シート20にも主流溝32が設けられてもよい。そのときには上記した下側シート10の主流溝31と同様に考えることができる。従って図9示した例では主流溝31および主流溝32が重なることにより第2流路とされている。
このほか、上側シート20の主流溝32と下側シート10の主流溝31とが重ならずに別々の第2流路となるようにしてもよい。
However, the present invention is not limited to this, and a
Alternatively, the
下側シート10および上側シート20に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側シート10および上側シート20は、銅または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側シート10および上側シート20の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を高めることができる。あるいは、所望の放熱効率を得ることができれば、これらの下側シート10および上側シート20には、アルミニウム等の他の金属材料や、ステンレスなどの他の金属合金材料を用いることもできる。
ただし、必ずしも金属材料、金属合金材料である必要はなく、例えばAlN、Si3N4、又はAl2O3などセラミックスや、ポリイミドやエポキシなど樹脂も可能である。
また、下側シート10および上側シート20の一方と他方で材料が異なってもよく、1つシート内で2種類以上の材料を積層したものを用いてもよいし、部位によって材料が異なってもよい。
The material used for the
However, the material does not necessarily have to be a metal material or a metal alloy material, and may be, for example, ceramics such as AlN, Si 3 N 4 , or Al 2 O 3 , or resins such as polyimide or epoxy.
Furthermore, the
また、図6に示すように、ベーパーチャンバ1の厚さT0は、1.0mm以下であることが好ましく、0.75mm以下であってもよく、0.5mm以下であってもよい。一方、厚さT0は、0.1mm以上であることが好ましく、0.15mm以上であってもよく、0.2mm以上であってもよい。また、厚さT0の範囲は、この複数の上限の候補値のうちの任意の1つと、複数の下限の候補値のうちの1つの組み合わせによって定められてもよい。また、厚さT0の範囲は、複数の上限の候補値の任意の2つを組み合わせ、又は、複数の下限の候補値の任意の2つの組み合わせにより定められてもよい。
本形態では下側シート10の厚さT1および上側シート20の厚さT2が等しい場合を示しているが、これに限られることはなく、下側シート10の厚さT1と上側シート20の厚さT2は、等しくなくてもよい。
6, the thickness T0 of the
In this embodiment, the thickness T1 of the
次に、このような構成からなるベーパーチャンバ1の形態の作用について説明する。ここでは、まず、ベーパーチャンバ1の製造方法について、図10~図17を用いて説明するが、上側シート20のハーフエッチング工程の説明は簡略化する。なお、図10~図17では、図6の断面図と同様の断面を示している。
Next, the function of the
まず、図10に示すように、第1準備工程として、上面M1a(第1シート側面)と、上面M1aの反対側に設けられた下面M1b(第1反対側面)と、を有する平板状の下側材料シートM1を準備する。 First, as shown in FIG. 10, in the first preparation step, a flat lower material sheet M1 is prepared, which has an upper surface M1a (first sheet side) and a lower surface M1b (first opposite side) provided on the opposite side of the upper surface M1a.
第1準備工程の後、下側流路溝形成工程として、図11に示すように、下側材料シートM1がハーフエッチングされて、密封空間3の一部を構成する下側蒸気流路凹部12および下側液流路部30が形成される。
After the first preparation process, as shown in FIG. 11, the lower material sheet M1 is half-etched in the lower flow path groove forming process to form the lower steam
この場合、まず、下側材料シートM1の上面M1aに、図示しないレジスト膜が形成される。レジスト膜には、電界によって付着可能な電着レジスト材料を好適に使用することができるが、下側材料シートM1にレジスト膜を形成することができれば、液状のレジスト材料など他の材料を用いてもよい。 In this case, first, a resist film (not shown) is formed on the upper surface M1a of the lower material sheet M1. For the resist film, an electrochemically deposited resist material that can be attached by an electric field can be preferably used, but other materials such as liquid resist materials may also be used as long as a resist film can be formed on the lower material sheet M1.
続いて、レジスト膜が、フォトリソグラフィー技術を用いてパターン化され、レジスト開口(図示せず)が形成される。 The resist film is then patterned using photolithography techniques to form resist openings (not shown).
次に、下側材料シートM1の上面M1aがハーフエッチングされる。このことにより、当該上面M1aのうちレジスト膜のレジスト開口に対応する部分がハーフエッチングされて、第1下側流路溝12G1、第2下側流路溝12G2および第3下側流路溝12G3を有する下側蒸気流路凹部12と、下側流路壁部13と、下側周縁壁14(図3参照)とが形成される。この際、下側流路壁部13の上面13aに、主流溝31を有する下側液流路部30が形成される。また、図4に示すような外形輪郭形状を有するように、下側材料シートM1が上面M1aおよび下面M1bからエッチングされて、所定の外形輪郭形状が得られる。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、下側シート10の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。
Next, the upper surface M1a of the lower material sheet M1 is half-etched. As a result, the portion of the upper surface M1a corresponding to the resist opening of the resist film is half-etched, and the lower steam
その後、レジスト膜が除去される。このように、一度のハーフエッチング工程によって、下側蒸気流路凹部12および下側液流路部30などを形成することにより、ハーフエッチング工程の回数を削減することができ、ベーパーチャンバ1の製造コストの低減を図ることができる。しかしながら、このことに限られることはなく、第1のハーフエッチング工程として、下側蒸気流路凹部12を形成し、その後の第2のハーフエッチング工程として、下側液流路部30を形成するようにしてもよい。この場合には、下側蒸気流路凹部12の深さh0と、下側液流路部30(すなわち、主流溝31および連絡溝)の深さh1とを容易に異ならせることができる。
The resist film is then removed. In this way, by forming the lower vapor
このようにして、本形態の下側シート10が作製される。
In this manner, the
一方、下側シート10と同様にして、上側シート20が作製される。
Meanwhile, the
まず、図12に示すように、第2準備工程として、下面M2a(第2シート側面)と、下面M2aの反対側に設けられた上面M2b(第2反対側面)と、を有する平板状の上側材料シートM2を準備する。 First, as shown in FIG. 12, in the second preparation step, a flat upper material sheet M2 is prepared, which has a lower surface M2a (second sheet side surface) and an upper surface M2b (second opposite side surface) provided on the opposite side of the lower surface M2a.
第2準備工程の後、上側流路溝形成工程として、図13に示すように、上側材料シートM2がハーフエッチングされて、密封空間3の一部を構成する上側蒸気流路凹部21が形成される。この場合、下側流路溝形成工程と同様にして、上側材料シートM2の下面M2aがハーフエッチングされることにより、下面M2aに、第1上側流路溝21G1、第2上側流路溝21G2および第3上側流路溝21G3を有する上側蒸気流路凹部21と、上側流路壁部22と、上側周縁壁23(図3参照)とが形成される。また、図5に示すような外形輪郭形状を有するように、上側材料シートM2が下面M2aおよび上面M2bからエッチングされて、所定の外形輪郭形状が得られる。
After the second preparation step, as shown in FIG. 13, the upper material sheet M2 is half-etched as an upper flow passage groove forming step to form an upper steam
このようにして、本形態の上側シート20が作製される。
In this manner, the
下側流路溝形成工程および上側流路溝形成工程の後、仮止め工程として、図14に示すように、下側蒸気流路凹部12を有する下側シート10と、上側蒸気流路凹部21を有する上側シート20とが仮止めされる。この場合、まず、下側シート10の下側アライメント孔15(図2および図4参照)と上側シート20の上側アライメント孔24(図2および図5参照)とを利用して、下側シート10と上側シート20とが位置決めされる。続いて、下側シート10と上側シート20とが固定される。固定の方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側シート10と上側シート20とに対して抵抗溶接を行うことによって下側シート10と上側シート20とを固定してもよい。この場合、図14に示すように、電極棒40を用いて、下側周縁壁14および上側周縁壁23を、スポット的に抵抗溶接を行うことが好適である。抵抗溶接の代わりにレーザ溶接を行ってもよい。あるいは、超音波を照射して下側シート10と上側シート20とを超音波接合して固定してもよい。さらには、接着剤を用いてもよいが、有機成分を有しないか、若しくは有機成分が少ない接着剤を用いることが好適である。このようにして、下側シート10と上側シート20とが、位置決めされた状態で固定される。
After the lower flow channel forming process and the upper flow channel forming process, as shown in FIG. 14, the
仮止め工程の後、接合工程として、図15に示すように、下側シート10と上側シート20とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側シート10と上側シート20とを密着させ、真空や不活性ガス中などの制御された雰囲気中で、各シート10、20を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側シート10および上側シート20の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各シート10、20が溶融することを回避できる。より具体的には、下側シート10の下側周縁壁14の上面14aと上側シート20の上側周縁壁23の下面23aとが、接合面となって拡散接合される。このことにより、下側周縁壁14と上側周縁壁23とによって、下側シート10と上側シート20との間に密封空間3が形成される。また、下側シート10の下側流路壁部13の上面13aと、上側シート20の上側流路壁部22の下面22aとが、接合面となって拡散接合され、ベーパーチャンバ1の機械的強度が向上する。下側流路壁部13の上面13aに形成された下側液流路部30は、作動液2の流路である第2流路として残存する。
After the temporary fixing process, as shown in FIG. 15, the
接合工程では、下側シート10および上側シート20には、所定の温度になるまで熱が加えられるとともに、所定の圧力が加えられる。例えば、下側シート10および上側シート20を銅で形成し、下側シート10の厚さT1を0.2mm、上側シート20の厚さT2を0.2mmとし、各下側流路溝12G1、12G2、12G3および各上側流路溝21G1、21G2、21G3の幅w1を1000μm、深さh0を150μmとした場合、下側シート10および上側シート20は、810℃まで加熱されるとともに、2MPaの圧力が加えられるようにしてもよい。
In the joining process, heat is applied to the
このことにより、図16に示すように、下側蒸気流路底部10cが熱膨張する。下側シート10の下面10bには、下側シート10を均等に加圧するために図示しない平坦状のスペーサを当接させているため、下側蒸気流路底部10cは、上面10aの側に撓む。このため、下側シート10の下面10bに、下側シート凹部50が形成されるとともに、下側蒸気流路凹部12の底面12aに、下側底面凸部51が形成される。また、熱膨張した部分が撓むことにより、熱膨張前の下側蒸気流路底部10cの厚さt3’(図15参照)よりも、熱膨張後の下側蒸気流路底部10cの厚さt3(図16参照)が小さくなる。下側シート凹部50および下側底面凸部51は、平面視で、第1下側流路溝12G1、第2下側流路溝12G2および第3下側流路溝12G3に重なる位置に形成される。
As a result, the lower steam flow path bottom 10c thermally expands as shown in Fig. 16. A flat spacer (not shown) is abutted against the
同様に、上側蒸気流路底部20cが熱膨張する。上側シート20の上面20bには、上側シート20を均等に加圧するために図示しない平坦状のスペーサを当接させているため、上側蒸気流路底部20cは、下面20aの側に撓む。このため、上側シート20の上面20bに、上側シート凹部60が形成されるとともに、上側蒸気流路凹部21の底面21aに、上側底面凸部61が形成される。また、熱膨張した部分が撓むことにより、熱膨張前の上側蒸気流路底部20cの厚さt5’(図15参照)よりも、熱膨張後の上側蒸気流路底部20cの厚さt5(図16参照)が小さくなる。上側シート凹部60および上側底面凸部61は、平面視で、第1上側流路溝21G1、第2上側流路溝21G2および第3上側流路溝21G3に重なる位置に形成される。
Similarly, the upper steam flow path bottom 20c thermally expands. Since a flat spacer (not shown) is abutted against the
接合工程の後、注入工程として、図17に示すように、注入部4(図2参照)から密封空間3に作動液2が注入される。この際、まず、密封空間3が真空引きされて減圧され、その後に、作動液2が密封空間3に注入される。注入時、作動液2は、下側注入流路凹部17と上側注入流路凹部26とにより形成された注入流路を通過する。
After the joining process, as shown in FIG. 17, in the injection process, the working
作動液2の注入の後、上述した注入流路が封止される。例えば、注入部4にレーザを照射し、注入部4を部分的に溶融させて注入流路を封止するようにしてもよい。このことにより、密封空間3と外部との連通が遮断され、作動液2が密封空間3に封入される。このようにして、密封空間3内の作動液2が外部に漏洩することが防止される。なお、封止のためには、注入部4をかしめてもよく、またはろう付けしてもよい。
After the working
以上のようにして、本形態のベーパーチャンバ1が得られる。
In this manner, the
次に、ベーパーチャンバ1の作動方法、すなわち、デバイスDの冷却方法について説明する。
Next, we will explain how the
上述のようにして得られたベーパーチャンバ1は、モバイル端末等のハウジング内に設置されるとともに、下側シート10の下面10bに、被冷却対象物であるCPU等のデバイスDが取り付けられる。このとき、ベーパーチャンバ1の下面10bに配置されたグリスや熱伝導フィラー入りのテープなどのサーマルインターフェースマテリアル、又は、粘着シートを介してデバイスDにベーパーチャンバが取り付けられても良い。
密封空間3内に注入された作動流体の量は少ないため、密封空間3内の作動液2は、その表面張力によって、密封空間3の壁面、すなわち、下側蒸気流路凹部12の(底面12aを含む)壁面、上側蒸気流路凹部21の(底面21aを含む)壁面に付着する。
The
Since the amount of working fluid injected into the sealed
この状態でデバイスDが発熱すると、下側蒸気流路凹部12のうち蒸発部11に存在する作動液2が、デバイスDから熱を受ける。この際、デバイスDからの熱の一部は、下側シート10の下側シート凹部50および下側蒸気流路凹部12の下側底面凸部51を介して、作動液2に移動する。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液2が蒸発(気化)し、蒸気が生成される。生成された蒸気の多くは、密封空間3を構成する第1流路(第1下側流路溝12G1と第1上側流路溝21G1とによる流路、第2下側流路溝12G2と第2上側流路溝21G2とによる流路)を通りデバイスDから離隔するように拡散する(図4の実線矢印および図5の実線矢印参照)。これにより蒸気は、蒸発部11から離れ、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に向かって輸送される。周縁部に拡散した蒸気は、周縁部において放熱して冷却される。周縁部において下側シート10および上側シート20が蒸気から受けた熱は、ハウジング部材H(図3参照)を介して外部に伝達される。この際、蒸気からの熱の一部は、上側蒸気流路凹部21の上側底面凸部61および上側シート20の上側シート凹部60を介して、外部に伝達されるとともに、下側シート10の下側シート凹部50および下側蒸気流路凹部12の下側底面凸部51を介しても、外部に伝達される。
In this state, when the device D generates heat, the working
蒸気は、周縁部に放熱することにより、蒸発部11において吸収した潜熱を失って凝縮して作動液2となる。作動液2の多くは、下側蒸気流路凹部12の壁面または上側蒸気流路凹部21の壁面に付着して、下側液流路部30に達する。ここで、蒸発部11では作動液2が蒸発し続けているため、下側液流路部30のうち蒸発部11以外の部分における作動液2は、蒸発部11に向かって毛細管作用により輸送される(図4の破線矢印参照)。このことにより、下側蒸気流路凹部12の壁面および上側蒸気流路凹部21の壁面に付着した作動液2は、下側液流路部30に向かって移動し、下側液流路部30内に入り込む。すなわち、図示しない連絡溝を通過して主流溝31からなる第2流路に入り込み、各主流溝31および各連絡溝に、作動液2が充填される。このため、充填された作動液2は、各主流溝31の毛細管作用により、蒸発部11に向かう推進力を得て、第2流路を通って蒸発部11に向かって円滑に輸送される。
By dissipating heat to the periphery, the steam loses the latent heat absorbed in the
蒸発部11に達した作動液2は、デバイスDから再び熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液2が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ1内を還流してデバイスDの熱を移動させて放出する。この結果、デバイスDが冷却される。
The working
本形態のベーパーチャンバ1によれば、下側シート10の下面10bのうち平面視で下側蒸気流路凹部12に重なる位置に、下側蒸気流路凹部12に向かって凹む下側シート凹部50が設けられている。このことにより、デバイスDから熱を受ける受熱面として作用する下面10bの表面積を増大させることができる。このため、デバイスDと下面10bとの間の熱抵抗を低減することができ、デバイスDから作動液2に効率良く熱が移動することができる。この結果、熱輸送効率を向上させることができる。さらに下側シート凹部50によりサーマルインターフェースマテリアルや粘着シートの接着面積を増やすことができるので、デバイスDとの密着性の向上も図ることができる。
なお、ベーパーチャンバ1に対するデバイスDとハウジングHの位置は本形態に限られず、デバイスDとハウジングHの位置を入れ替えたり、デバイスDとベーパーチャンバ1の間にハウジングHを設けたりしても良い。
According to the
The positions of the device D and the housing H relative to the
また、本形態のベーパーチャンバ1によれば、下側蒸気流路凹部12の底面12aのうち平面視で下側シート凹部50に重なる位置に、下側蒸気流路凹部12の内側に突出する下側底面凸部51が設けられている。このことにより、下側蒸気流路凹部12の底面12aの表面積を増大させることができる。このため、下側シート10と作動液2との間の熱抵抗を低減することができ、デバイスDから作動液2により一層効率良く熱が移動することができる。すなわち、デバイスDの起動時に、下側蒸気流路凹部12の壁面に付着していた作動液2を迅速に蒸発させることができる。このため、下側液流路部30において発生した蒸気の拡散が、下側蒸気流路凹部12の壁面に付着していた作動液2によって阻害されることを防止でき、蒸気を円滑に拡散させることができる。この結果、熱輸送効率をより一層向上させることができる。更に言えば、拡散接合時の熱膨張によって、下側シート凹部50および下側底面凸部51が形成されているため、下側蒸気流路底部10cの厚さt3(図16参照)を小さくすることができる。この点においても、デバイスDと作動液2との間の熱抵抗を低減することができる。
In addition, according to the
また、本形態によれば、上側シート20の上面20bのうち平面視で上側蒸気流路凹部21に重なる位置に、上側蒸気流路凹部21に向かって凹む上側シート凹部60が設けられている。このことにより、外部に熱を放出する放熱面として作用する上面20bの表面積を増大させることができる。このため、上面20bと外部との間の熱抵抗を低減することができ、作動液2の蒸気から外部に効率良く熱が移動することができる。この結果、熱輸送効率を向上させることができる。
In addition, according to this embodiment, an
また、本形態によれば、上側蒸気流路凹部21の底面21aのうち平面視で上側シート凹部60に重なる位置に、上側蒸気流路凹部21の内側に突出する上側底面凸部61が設けられている。このことにより、上側蒸気流路凹部21の底面21aの表面積を増大させることができる。このため、上側シート20と作動液2との間の熱抵抗を低減することができ、デバイスDから作動液2により一層効率良く熱が移動することができる。すなわち、デバイスDの起動時に、上側蒸気流路凹部21の壁面に付着していた液状の作動液2を迅速に蒸発させることができる。このため、下側液流路部30において蒸発した作動液2の蒸気の拡散が、上側蒸気流路凹部21の壁面に付着していた作動液2によって阻害されることを防止でき、蒸気を円滑に拡散させることができる。この結果、熱輸送効率をより一層向上させることができる。更に言えば、拡散接合時の熱膨張によって、上側シート凹部60および上側底面凸部61が形成されているため、厚さt5(図16参照)を小さくすることができる。この点においても、作動液2と外部との間の熱抵抗を低減することができる。
In addition, according to this embodiment, the upper bottom surface
また、本形態によれば、上述したように、下側シート10の下面10bに下側シート凹部50が設けられている。このことにより、外部に熱を放出する下側蒸気流路凹部12の周縁部(デバイスDから離れた部分)においても、下面10bの表面積が増大しているため、下面10bと外部との間の熱抵抗を低減することができる。このため、蒸気から外部に効率良く熱が移動することができ、熱輸送効率を向上させることができる。
In addition, according to this embodiment, as described above, a
また、本形態によれば、上述したように、下側蒸気流路凹部12の底面12aに、下側底面凸部51が設けられている。このことにより、外部に熱を放出する下側蒸気流路凹部12の周縁部においても、下側蒸気流路凹部12の底面12aの表面積が増大しているため、下側シート10と作動液2との間の熱抵抗を低減することができる。このため、蒸気から外部により一層効率良く熱が移動することができ、熱輸送効率をより一層向上させることができる。
In addition, according to this embodiment, as described above, a lower
また、本形態によれば、下側シート凹部50は、互いに隣り合う一対の下側流路壁部13の間に配置されている。このことにより、下側シート凹部50を、拡散接合時に加熱される下側シート10および上側シート20の温度、および/または各シート10、20に加えられる圧力を調整することで、容易に形成することができる。ベーパーチャンバ1の製造工程が煩雑になることを抑え、製造コストの増大を抑制できる。
In addition, according to this embodiment, the
また、本形態によれば、上側シート凹部60は、互いに隣り合う一対の上側流路壁部22の間に配置されている。このことにより、上側シート凹部60を、拡散接合時に加熱される下側シート10および上側シート20の温度、および/または各シート10、20に加えられる圧力を調整することで、容易に形成することができる。ベーパーチャンバ1の製造工程が煩雑になることを抑え、製造コストの増大を抑制できる。
In addition, according to this embodiment, the
また、本形態によれば、下側シート凹部50および上側シート凹部60を、接合工程時に形成することができる。このため、ベーパーチャンバ1の製造工程が煩雑になることを抑え、製造コストの増大を抑制できる。
In addition, according to this embodiment, the
また、本形態では、下側シート10の下面10bの下側シート凹部50、および、上側シート20の上面20bの上側シート凹部60により、この部位においてベーパーチャンバ1が薄くなっている。従って、ベーパーチャンバ1の作動により内圧が上昇して膨れが生じるような場面、および、ベーパーチャンバ1の非作動時における作動流体の凍結によって作動流体が膨張して膨れが生じるような場面であっても、下側シート凹部50および上側シート凹部60が、下面10b、および、上面20bの他の部位と面一になってさらに膨れるに至るまではベーパーチャンバ1の膨れとはならない。従って、ベーパーチャンバ1の膨れによる問題の発生を緩和することができる。そして、本形態のように、下側シート凹部50と下側底面凸部51とが平面視で重なり合う位置に設けられている場合において、下側シート凹部50が湾曲形状であることで、より高い効果を得ることができる。
In addition, in this embodiment, the
また、下側シート10の下面10bと下側蒸気流路凹部12との間に設けられた下側蒸気流路底部10cの厚さt3を、下面10bと下側液流路部30との間に設けられた下側液流路底部10dの厚さt4よりも小さくしたとき(図6参照)、下側液流路部30よりも下側蒸気流路凹部12をデバイスDの熱を受ける下面10bに近づけることができる。これによれば、デバイスDからの熱は、下側液流路部30よりも下側蒸気流路凹部12に早く到達することができ、下側蒸気流路凹部12において作動液2の蒸発を促進させることが可能となる。すなわち、デバイスDの起動時に、蒸気流路凹部12の壁面に付着していた作動液2を迅速に蒸発させることができる。このため、下側液流路部30において生じた蒸気の拡散が、下側蒸気流路凹部12の壁面に付着していた作動液2によって阻害されることを抑制でき、蒸気を円滑に拡散させることができる。一方、下側液流路部30では、下側蒸気流路凹部12よりも下面10bから遠ざけることができ、作動液が蒸発することを抑制できる。このため、下側液流路部30内に作動液2の蒸気による気泡が発生して、作動液2の流れが妨げられるような流路閉塞が発生することを抑えることができる。
In addition, when the thickness t3 of the lower steam flow path bottom 10c provided between the
なお、上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、下側シート10の下面10bに下側シート凹部50が設けられるとともに、上側シート20の上面20bに上側シート凹部60が設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、下側シート凹部50および上側シート凹部60のうちの一方は、設けられていなくてもよい。この場合においても、熱輸送効率を向上させることができる。下側シート凹部50が設けられない場合には、上側シート20が第1シートとなり、上側シート凹部60が第1シート凹部となる。
In the
また、上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、下側蒸気流路凹部12の底面12aに設けられた下側底面凸部51が、細長く連続して延びている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、下側底面凸部51は、第1方向Xおよび第2方向Yのうち対応する方向に断続的に形成されていてもよい。この場合、下側蒸気流路凹部12の底面12aの表面積を増大させることができ、下側シート10と作動液2との間の熱抵抗をより一層低減することができる。すなわち、デバイスDの起動時に、下側蒸気流路凹部12の壁面に付着していた作動液2を迅速に蒸発させることができる。
In addition, in the
また、上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、上側蒸気流路凹部21の底面21aに設けられた上側底面凸部61が、細長く連続して延びている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、上側底面凸部61は、第1方向Xおよび第2方向Yのうち対応する方向に断続的に形成されていてもよい。この場合、上側蒸気流路凹部21の底面21aの表面積を増大させることができ、上側シート20と作動液2との間の熱抵抗をより一層低減することができる。すなわち、デバイスDの起動時に、上側蒸気流路凹部21の壁面に付着していた作動液2を迅速に蒸発させることができる。
In addition, in the
また、上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、上側シート20の上側流路壁部22が、ベーパーチャンバ1の長手方向に沿って細長く延びている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、上側流路壁部22の形状は任意である。例えば、上側流路壁部22は、円柱状のボスとして形成されていてもよい。この場合においても、上側シート凹部60を、互いに隣り合う一対の上側流路壁部22の間に形成することができる。また、この場合には、上側流路壁部22は、下側流路壁部13に平面視で重なるように配置して、上側流路壁部22の下面22aを、下側流路壁部13の上面13aに接触させることが好適である。
In the
また、上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、下側シート凹部50、下側底面凸部51、上側シート凹部60および上側底面凸部61が、接合工程時に形成される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、下側シート凹部50および下側底面凸部51は、図11に示す下側流路溝形成工程時に形成されてもよい。この場合、図18に示すように、下側シート凹部50および下側底面凸部51は、下側蒸気流路凹部12および下側液流路部30とともに、プレス加工によって形成されてもよい。
Furthermore, in the
より具体的には、図10に示す第1準備工程において下側材料シートM1を準備した後、下側流路溝形成工程において、下側材料シートM1がプレス加工される。この場合、下側シート10の上面10aは第1下側金型70を介して押圧され、下面10bは第2下側金型71を介して押圧される。
More specifically, after preparing the lower material sheet M1 in the first preparation step shown in FIG. 10, the lower material sheet M1 is pressed in the lower flow channel forming step. In this case, the
第1下側金型70は、下側蒸気流路凹部12の各下側流路溝12G1、12G2、12G3に対応する形状を有する金型凸部70aと、下側液流路部30に対応する形状を有する金型凸部70bと、を含んでいる。平板状の下側材料シートM1を、第1下側金型70を用いてプレス加工することにより、図18に示すように、下側底面凸部51を含む下側蒸気流路凹部12と、下側液流路部30と、を形成することができる。また、第2下側金型71は、下側シート凹部50に対応する形状を有する金型凸部71aを含んでいる。このことにより、下側材料シートM1の下面M1bに、下側シート凹部50を形成することができる。
The first
同様にして、上側シート凹部60および上側底面凸部61も、上側蒸気流路凹部21を形成する上側流路溝形成工程時に形成されてもよい。この場合、図19に示すように、上側シート凹部60および上側底面凸部61は、上側蒸気流路凹部21ととともに、プレス加工によって形成されてもよい。
Similarly, the
より具体的には、図12に示す第2準備工程において上側材料シートM2を準備した後、上側流路溝形成工程において、上側材料シートM2がプレス加工される。この場合、上側シート20の下面20aは、第1上側金型80を介して押圧され、上面20bは第2上側金型81を介して押圧される。
More specifically, after preparing the upper material sheet M2 in the second preparation step shown in FIG. 12, the upper material sheet M2 is pressed in the upper flow channel forming step. In this case, the
第1上側金型80は、上側蒸気流路凹部21の各上側流路溝21G1、21G2、21G3に対応する形状を有する金型凸部80aを含んでいる。平板状の上側材料シートM2を、第1上側金型80を用いてプレス加工することにより、図19に示すように、上側底面凸部61を含む上側蒸気流路凹部21を形成することができる。また、第2上側金型81は、上側シート凹部60に対応する形状を有する金型凸部81aを含んでいる。このことにより、上側材料シートM2の上面M2bに、上側シート凹部60を形成することができる。
The first
下側シート凹部50を下側流路溝形成工程としてプレス加工によって形成するとともに、上側シート凹部60を上側流路溝形成工程としてプレス加工によって形成する場合、下側シート10および上側シート20の温度および各シート10、20に加えられる圧力は、各シート10、20を恒久的に接合できれば任意とすることができ、拡散接合を容易化させることができる。
When the
また、プレス加工によって下側シート凹部50および下側底面凸部51が形成されるため、プレス加工前の厚さt3’(図15参照)よりも、プレス加工後の厚さt3(図16参照)を小さくすることができる。このため、デバイスDと作動液2との間の熱抵抗を低減することができる。同様に、上側シート凹部60および上側底面凸部61が形成されるため、プレス加工前の厚さt5’(図15参照)よりも、プレス加工後の厚さt5(図16参照)を小さくすることができる。このため、デバイスDと作動液2との間の熱抵抗を低減することができる。
In addition, since the
以上では、エッチングによるベーパーチャンバの製造、およびプレス加工によるベーパーチャンバの製造について説明したが、製造方法はこれに限らず、切削加工、レーザ加工、および3Dプリンタによる加工によりベーパーチャンバを製造することもできる。
例えば3Dプリンタによりベーパーチャンバを製造する場合にはベーパーチャンバを複数のシートを接合して作製する必要がなく、接合部のないベーパーチャンバとすることが可能となる。
The above describes the manufacture of a vapor chamber by etching and the manufacture of a vapor chamber by press processing, but the manufacturing method is not limited to these, and the vapor chamber can also be manufactured by cutting processing, laser processing, and processing with a 3D printer.
For example, when manufacturing a vapor chamber using a 3D printer, it is not necessary to create the vapor chamber by joining multiple sheets, and it is possible to create a vapor chamber with no joints.
上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、上側シート20の下面20aに、上側蒸気流路凹部21が設けられている例について説明した。しかしながら、上側蒸気流路凹部21は、設けられていなくてもよい。この場合、上側シート20の下面20aは、全体的に平坦状に形成され、下側蒸気流路凹部12の各第1下側流路溝12G1、第2下側流路溝12G2および第3下側流路溝12G3を覆うとともに露出されるようになる。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させることができる。
In the
さらに、上述した本形態のベーパーチャンバ1においては、下側シート10の上面10aに、下側蒸気流路凹部12が設けられている例について説明した。これに限らず、図20~図22に示すように、下側蒸気流路凹部12は、設けられていなくてもよい。
Furthermore, in the
図20に示す変形例においては、下側シート10の上面10aのうち、下側液流路部30の主流溝31および連絡溝が形成されている領域以外の領域は、平坦状に形成されており、上側蒸気流路凹部21の各第1上側流路溝21G1、第2上側流路溝21G2および第3上側流路溝21G3を覆うとともに露出されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させることができる。
また、図20に示す変形例では、下側シート10の上面10aおよび下面10bのうち平面視で上側蒸気流路凹部21に重なる部分が、平坦状に形成されている例が示されている。
20, the
In the modified example shown in FIG. 20, the portions of the
図21に示す変形例では、下側シート10の下面10bのうち上側蒸気流路凹部21に重なる部分に、下側シート凹部50が形成されている。また、下側シート10の上面10aのうち、平面視で下側シート凹部50に重なる位置に、上側蒸気流路凹部21に突出する上面凸部90が設けられている。この上面凸部90は、図6等に示す下側底面凸部51と同様の形状を有することができるとともに同様にして形成することができる。これらの変形例では、上側シート20の厚さT2が、下側シート10の厚さT1よりも大きくなっている例が示されている。しかしながら、このことに限られることはなく、上側底面凸部61と上面10aとの間に、蒸気が流れることができる隙間が形成されれば、上側シート20の厚さT2は下側シート10の厚さT1よりも大きくなくてもよい。
In the modified example shown in FIG. 21, a
図20および図21に示す変形例においては、作動液2が通る第2流路として、下側シート10に下側液流路部30が設けられ、蒸気が通る第1流路として、上側シート20に第1上側流路溝21G1が設けられている。このことにより、液流路部である第2流路と蒸気流路部である第1流路を、互いに異なるシートに形成することができる。このため、液流路部の深さと、蒸気流路部の深さを、容易に異ならせることができる。
In the modified example shown in Figures 20 and 21, a lower liquid
図22に示す変形例においては、下側シート10の上面10a及び下面10bのいずれも平坦とされている。一方、上側シート20の下面20a側の上側流路壁部22に第2流路となる主流溝32および連絡溝が配置されている。
下側シート10の上面10aの一部が、第1流路となる第1上側流路溝21G1、第2上側流路溝21G2および第3上側流路溝21G3を覆うとともに露出されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させることができる。
22, both the
A part of the
また、図20~図22に示す変形例においては、下側シート10と上側シート20との位置決めの精度を緩和することができる。すなわち、下側シート10に下側蒸気流路凹部12が設けられている場合には、下側蒸気流路凹部12の壁面と上側蒸気流路凹部21の壁面とが位置合わせされるように、下側シート10と上側シート20とを精度良く位置決めすることが好ましい。これに対して、図20~図22に示す変形例では、下側シート10に下側蒸気流路凹部12が設けられないことにより、下側シート10と上側シート20との位置決めの精度を緩和することができる。
In addition, in the modified example shown in Figures 20 to 22, the precision of the positioning of the
ここまでのベーパーチャンバ1は、下側シート10である第1シートおよび上側シート20である第2シートの2つのシートからなる例を説明した。ただし、これに限られることはなく、図23~図25に示したように3つ以上のシートによるベーパーチャンバであってもよい。図23、図24は3つのシートからなるベーパーチャンバの例、図25は4つのシートからなるベーパーチャンバの例である。
So far, an example of the
図23に示したベーパーチャンバは、下側シート10(第1シート)、上側シート20(第2シート)、および、中間シート100(第3シート)の積層体からなる。
下側シート10と上側シート20との間に挟まれるように中間シート100が配置され、下側シート10の上面10aが中間シート100の下面100bに接触し、上側シート20の下面20aが中間シート100の上面100aに接触し、それぞれ接合されている。接合の態様は上記した通りである。
The vapor chamber shown in FIG. 23 is composed of a laminate of a lower sheet 10 (first sheet), an upper sheet 20 (second sheet), and an intermediate sheet 100 (third sheet).
The
ここでは下側シート10は、下側シート凹部50および下側底面凸部51を備えており、他の部位は上面10aおよび下面10bのいずれも平坦である。
同様に、上側シート20は、上側シート凹部60および上側底面凸部61を備えており、他の部位は上面20aおよび下面10bのいずれも平坦である。
Here, the
Similarly, the
中間シート100には、流路溝101、流路壁102、および主流溝32が備えられている。
流路溝101は、中間シート100を厚さ方向に貫通した溝であり、上述した第1下側流路溝12G1と第1上側流路溝21G1とを重ねて第1流路を構成する溝であり、これに相当する形態および位置に配置される。中間シート100には、上述した第2下側流路溝12G2と第2上側流路溝21G2と重ねて第1流路を構成する溝、および、第3下側流路溝12G3と第3上側流路溝21G3とを重ねた流路に相当する溝を備えている。
流路壁102は、下側流路壁部13と下側流路壁部22とを重ねた壁部に相当する形態および位置に配置される壁部である。
主流溝32は、上述の主流溝32と同様に第2流路を構成する形態および配置を有する溝であり、中間シート100の下面100bに備えられている。
The
The
The
The
そして、下側シート凹部50、下側底面凸部51、上側シート凹部60、および上側底面凸部61は、ベーパーチャンバの平面視で流路溝101に重なる位置に配置されている。
The
図24に示したベーパーチャンバも、下側シート10(第1シート)、上側シート20(第2シート)、および、中間シート100(第3シート)の積層体である。
図24に示したベーパーチャンバでは、図23に示したベーパーチャンバに対して主流溝32の断面積が広くされているとともに、ここにウィック材103が配置されている。ウィック材103は、毛細管力を生じさせるような微細な構造を有する材料であり、例えば、焼結粒子、より線、不織布、メッシュ材等を挙げることができる。なお本形態の主流溝32は上記した形態の主流溝32よりも大きく形成されているが、第1流路と第2流路との関係は上記と同様に考えることができる。
これによればウィック材103により毛細管力を生じさせることができるため主流溝32を微細に作製する必要がないため形状精度の管理を緩和することができる。
The vapor chamber shown in FIG. 24 is also a laminate of a lower sheet 10 (first sheet), an upper sheet 20 (second sheet), and an intermediate sheet 100 (third sheet).
In the vapor chamber shown in Fig. 24, the cross-sectional area of the
According to this, since the capillary force can be generated by the
図25に示したベーパーチャンバは、下側シート10(第1シート)、上側シート20(第2シート)、および、2つの中間シート100(第3シート)、110(第4シート)の積層体からなる。
下側シート10と上側シート20との間に挟まれるように中間シート100、110が配置され、下側シート10の上面10aが中間シート100の下面100bに接触し、中間シート100の上面100aが中間シート110の下面110bに接触し、上側シート20の下面20aが中間シート110の上面110aに接触し、それぞれ接合されている。接合の態様は上記した通りである。
The vapor chamber shown in FIG. 25 is composed of a laminate of a lower sheet 10 (first sheet), an upper sheet 20 (second sheet), and two intermediate sheets 100 (third sheet) and 110 (fourth sheet).
The
ここでは下側シート10は、下側シート凹部50および下側底面凸部51を備えており、他の部位は上面10aおよび下面10bのいずれも平坦である。
同様に、上側シート20は、上側シート凹部60および上側底面凸部61を備えており、他の部位は上面20aおよび下面10bのいずれも平坦である。
Here, the
Similarly, the
中間シート100には、第1下側流路溝12G1、下側流路壁部13、および主流溝31が備えられている。
本形態における第1下側流路溝12G1は、中間シート100を厚さ方向に貫通した溝であるが、それ以外においては上述した第1下側流路溝12G1と同様の形態および位置に配置することができる。同様にして、中間シート100には、上述した第2下側流路溝12G2に相当する流路溝、および、第3下側流路溝12G3に相当する流路溝も備えている。
下側流路壁部13は、上述した下側流路壁部13と同様の形態及び位置に配置することができる。
本形態における主流溝31は、中間シート100を厚さ方向に貫通した溝であるが、上述の主流溝32と同様の形態および配置であり、中間シート100の下側流路壁部13に備えられている。
The
The first lower flow groove 12G1 in this embodiment is a groove that penetrates the
The lower flow
The
中間シート110には、第1上側流路溝21G1および上側流路壁部22が備えられている。
本形態における第2上側流路溝21G1は、中間シート110を厚さ方向に貫通した溝であるが、それ以外においては上述した第2上側流路溝21G1と同様の形態および位置に配置することができる。同様にして、中間シート110には、上述した第2上側流路溝21G2に相当する流路溝、および、第3上側流路溝21G3に相当する流路溝も備えている。
上側流路壁部22は、上述した上側流路壁部22と同様の形態及び位置に配置することができる。
The
The second upper flow groove 21G1 in this embodiment is a groove that penetrates the
The upper flow
そして、第1下側流路溝12G1と第1上側流路溝21G1とがベーパーチャンバの平面視で重なるように配置されて第1流路とされる。一方、下側流路壁部13と上側流路壁部22とがベーパーチャンバの平面視で重なるように配置されて主流溝31により第2流路とされる。
さらに、下側シート凹部50、下側底面凸部51、上側シート凹部60、および上側底面凸部61は、ベーパーチャンバの平面視で第1下側流路溝12G1および第1上側流路溝21G1に重なる位置に配置されている。
The first lower flow passage groove 12G1 and the first upper flow passage groove 21G1 are arranged to overlap each other in a plan view of the vapor chamber to form a first flow passage. On the other hand, the lower flow
Furthermore, the
図26には、ここまで説明したベーパーチャンバに具備されていた下側シート凹部50、下側底面凸部51、上側シート凹部60、および上側底面凸部61の代わりに、その凹凸関係が反対となった、下側シート凸部50’、下側底面凹部51’、上側シート凸部60’、および上側底面凹部61’が具備されたベーパーチャンバを説明する断面図を表した。
このベーパーチャンバでは、ベーパーチャンバの平面視で第1下側流路溝12G1および第1上側流路溝21G1に重なる位置に、下側シート10の下面10bに下側シート凸部50’、上側シート20の上面20bに上側シート凸部60’がそれぞれ配置されている。一方、下側シート10の上面10a側には下側底面凹部51’、上側シート20の下面20aに上側底面凹部61’がそれぞれ配置されている。
これら、下側シート凸部50’、下側底面凹部51’、上側シート凸部60’、および上側底面凹部61’は、上記した形態に具備された下側シート凹部50、下側底面凸部51、上側シート凹部60、および上側底面凸部61に対してその凹凸関係が反対になったこと以外は、同様に考えることができる。
Figure 26 shows a cross-sectional view illustrating a vapor chamber in which, instead of the lower sheet
In this vapor chamber, a lower sheet convex portion 50' is arranged on the
These lower sheet convex portion 50', lower bottom surface concave portion 51', upper sheet convex portion 60', and upper bottom surface concave portion 61' can be considered to be similar to the lower sheet
このような形態のベーパーチャンバによれば、上記した効果の他、第1流路(蒸気流路)の流動抵抗を下げることができるとともに、蒸気流路が凝縮液で閉塞してしまう可能性を低減することができる。 In addition to the above-mentioned effects, a vapor chamber of this type can reduce the flow resistance of the first flow path (vapor flow path) and reduce the possibility of the vapor flow path becoming clogged with condensate.
本開示の上記形態および変形例はそのままに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の形態とすることができる。各形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 The above-mentioned embodiments and modifications of the present disclosure are not limited to the above-mentioned embodiments and modifications, and may be embodied without departing from the spirit of the present disclosure. In addition, various embodiments can be realized by appropriately combining the multiple components disclosed in the above-mentioned embodiments and modifications. Some components may be deleted from all the components shown in each embodiment and modification.
1 ベーパーチャンバ
2 作動液
3 密封空間
4 注入部
10 下側シート
11 蒸発部
12 下側蒸気流路凹部
12a 底面
13 下側流路壁部
13a 上面
20 上側シート
21 上側蒸気流路凹部
21a 底面
22 上側流路壁部
22a 下面
50 下側シート凹部
51 下側底面凸部
60 上側シート凹部
61 上側底面凸部
70 第1下側金型
70a、70b 金型凸部
71 第2下側金型
71a 金型凸部
80 第1上側金型
80a 金型凸部
81 第2上側金型
81a 金型凸部
90 上面凸部
M1 下側材料シート
M1a 上面
M1b 下面
M2 上側材料シート
M2a 下面
M2b 上面
1
Claims (9)
前記密封空間には、
気体状態の前記作動流体が流れる複数の蒸気流路と、
隣り合う複数の前記蒸気流路を画定する流路壁に設けられ、液体状態の前記作動流体が流れる液流路またはウィック材と、
が備えられ、
前記液流路または前記ウィック材は、前記流路壁の前記ベーパーチャンバの厚み方向において一部にのみ設けられ、
平面視で前記蒸気流路に重なる位置の前記ベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部及び凸部の少なくともいずれかが具備されており、
前記凹部及び前記凸部は、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において湾曲した形状である、
ベーパーチャンバ。 A vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed,
The sealed space includes:
a plurality of steam flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows;
a liquid flow path or a wick material provided in a flow path wall that defines the plurality of adjacent vapor flow paths, through which the working fluid in a liquid state flows;
is provided,
The liquid flow path or the wick material is provided only in a portion of the flow path wall in a thickness direction of the vapor chamber,
At least one of a recess and a protrusion is provided on at least a portion of an outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view,
The recess and the protrusion have a curved shape in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends.
Vapor chamber.
前記密封空間には、
気体状態の前記作動流体が流れる複数の蒸気流路と、
隣り合う複数の前記蒸気流路を画定する流路壁に設けられ、液体状態の前記作動流体が流れる液流路またはウィック材と、
が備えられ、
前記液流路または前記ウィック材は、前記流路壁の前記ベーパーチャンバの厚み方向において一部にのみ設けられ、
平面視で前記蒸気流路に重なる位置の前記ベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部が具備されており、
前記凹部は、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において前記蒸気流路の幅方向の全体にわたって設けられている、
ベーパーチャンバ。 A vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed,
The sealed space includes:
a plurality of steam flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows;
a liquid flow path or a wick material provided in a flow path wall that defines the plurality of adjacent vapor flow paths, through which the working fluid in a liquid state flows;
is provided,
The liquid flow path or the wick material is provided only in a portion of the flow path wall in a thickness direction of the vapor chamber,
At least a portion of an outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view is provided with a recess,
The recess is provided across the entire width of the steam flow path in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends.
Vapor chamber.
前記密封空間には、
気体状態の前記作動流体が流れる複数の蒸気流路と、
隣り合う複数の前記蒸気流路を画定する流路壁に設けられ、液体状態の前記作動流体が流れる液流路またはウィック材と、
が備えられ、
前記液流路または前記ウィック材は、前記流路壁の前記ベーパーチャンバの厚み方向において一部にのみ設けられ、
平面視で前記蒸気流路に重なる位置の前記ベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部が具備されており、
前記凹部は、平面視で前記液流路または前記ウィック材に重なる位置には設けられていない、
ベーパーチャンバ。 A vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed,
The sealed space includes:
a plurality of steam flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows;
a liquid flow path or a wick material provided in a flow path wall that defines the plurality of adjacent vapor flow paths, through which the working fluid in a liquid state flows;
is provided,
The liquid flow path or the wick material is provided only in a portion of the flow path wall in a thickness direction of the vapor chamber,
At least a portion of an outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view is provided with a recess,
The recess is not provided at a position overlapping the liquid flow path or the wick material in a plan view.
Vapor chamber.
前記密封空間には、The sealed space includes:
気体状態の前記作動流体が流れる複数の蒸気流路と、a plurality of steam flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows;
隣り合う複数の前記蒸気流路間に設けられ、液体状態の前記作動流体が流れる液流路またはウィック材と、A liquid flow path or a wick material provided between adjacent ones of the plurality of vapor flow paths, through which the working fluid in a liquid state flows;
が備えられ、is provided,
平面視で前記蒸気流路に重なる位置の前記ベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部及び凸部の少なくともいずれかが具備されており、At least one of a recess and a protrusion is provided on at least a portion of an outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view,
前記凹部及び前記凸部は、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において湾曲した形状であり、the recess and the protrusion have a curved shape in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends,
前記外面を有する前記シートは、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において、前記凹部及び前記凸部がある位置の厚みが、前記凹部及び前記凸部がない位置の厚みよりも薄い、the sheet having the outer surface has a thickness at a position where the recess and the protrusion are present in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends that is smaller than a thickness at a position where the recess and the protrusion are not present;
ベーパーチャンバ。Vapor chamber.
前記密封空間には、The sealed space includes:
気体状態の前記作動流体が流れる複数の蒸気流路と、a plurality of steam flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows;
隣り合う複数の前記蒸気流路間に設けられ、液体状態の前記作動流体が流れる液流路またはウィック材と、A liquid flow path or a wick material provided between adjacent ones of the plurality of vapor flow paths, through which the working fluid in a liquid state flows;
が備えられ、is provided,
平面視で前記蒸気流路に重なる位置の前記ベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部が具備されており、At least a portion of an outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view is provided with a recess,
前記凹部は、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において前記蒸気流路の幅方向の全体にわたって設けられており、the recess is provided across the entire width of the steam flow path in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends,
前記外面を有する前記シートは、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において、前記凹部がある位置の厚みが、前記凹部がない位置の厚みよりも薄い、In the sheet having the outer surface, in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends, a thickness at a position where the recess is present is smaller than a thickness at a position where the recess is not present.
ベーパーチャンバ。Vapor chamber.
前記密封空間には、The sealed space includes:
気体状態の前記作動流体が流れる複数の蒸気流路と、a plurality of steam flow paths through which the working fluid in a gaseous state flows;
隣り合う複数の前記蒸気流路間に設けられ、液体状態の前記作動流体が流れる液流路またはウィック材と、A liquid flow path or a wick material provided between adjacent ones of the plurality of vapor flow paths, through which the working fluid in a liquid state flows;
が備えられ、is provided,
平面視で前記蒸気流路に重なる位置の前記ベーパーチャンバの外面の少なくとも一部には凹部が具備されており、At least a portion of an outer surface of the vapor chamber at a position overlapping the vapor flow path in a plan view is provided with a recess,
前記凹部は、平面視で前記液流路または前記ウィック材に重なる位置には設けられておらず、The recess is not provided at a position overlapping the liquid flow path or the wick material in a plan view,
前記外面を有する前記シートは、前記蒸気流路が延びる方向に直交する断面において、前記凹部がある位置の厚みが、前記凹部がない位置の厚みよりも薄い、In the sheet having the outer surface, in a cross section perpendicular to a direction in which the steam flow path extends, a thickness at a position where the recess is present is smaller than a thickness at a position where the recess is not present.
ベーパーチャンバ。Vapor chamber.
前記第3シートの前記第1シート側にのみ前記ウィック材が設けられている、The wick material is provided only on the first sheet side of the third sheet.
請求項1~6のいずれかに記載のベーパーチャンバ。The vapor chamber according to any one of claims 1 to 6.
前記第4シートに前記液流路が設けられている、The liquid flow path is provided in the fourth sheet.
請求項1~6のいずれかに記載のベーパーチャンバ。The vapor chamber according to any one of claims 1 to 6.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017214046 | 2017-11-06 | ||
JP2017214046 | 2017-11-06 | ||
JP2018209223A JP7211021B2 (en) | 2017-11-06 | 2018-11-06 | Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018209223A Division JP7211021B2 (en) | 2017-11-06 | 2018-11-06 | Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023052355A JP2023052355A (en) | 2023-04-11 |
JP7552744B2 true JP7552744B2 (en) | 2024-09-18 |
Family
ID=66762800
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018209223A Active JP7211021B2 (en) | 2017-11-06 | 2018-11-06 | Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber |
JP2023003084A Active JP7552744B2 (en) | 2017-11-06 | 2023-01-12 | Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018209223A Active JP7211021B2 (en) | 2017-11-06 | 2018-11-06 | Vapor chamber, sheet for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7211021B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110748868B (en) * | 2019-11-14 | 2024-07-23 | 珠海格力电器股份有限公司 | Steam generator |
JP7260062B2 (en) * | 2020-10-06 | 2023-04-18 | 株式会社村田製作所 | heat spreading device |
TW202332876A (en) * | 2021-09-30 | 2023-08-16 | 日商大日本印刷股份有限公司 | Vapor chamber, electronic device and vapor chamber production method |
JP7344481B1 (en) * | 2021-12-06 | 2023-09-14 | 大日本印刷株式会社 | Vapor chamber and electronics |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002062071A (en) | 2000-08-21 | 2002-02-28 | Fujikura Ltd | Flat plate type heat pipe |
CN1853849A (en) | 2005-04-19 | 2006-11-01 | 协禧电机股份有限公司 | Thin-plated heat conduit and its forming method |
US20080216994A1 (en) | 2007-03-08 | 2008-09-11 | Convergence Technologies Limited | Vapor-Augmented Heat Spreader Device |
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WO2014115839A1 (en) | 2013-01-25 | 2014-07-31 | 古河電気工業株式会社 | Heat pipe |
WO2017104819A1 (en) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 株式会社フジクラ | Vapor chamber |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3546086B2 (en) * | 1994-11-07 | 2004-07-21 | 昭和電工株式会社 | Heat pipe radiator |
JPH10103884A (en) * | 1996-09-25 | 1998-04-24 | Fujikura Ltd | Plate type heat pipe |
JPH11101585A (en) * | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Plate-type heat pump and its packaging structure |
JP6121893B2 (en) | 2013-12-24 | 2017-04-26 | 東芝ホームテクノ株式会社 | Sheet type heat pipe |
GB2527338B (en) | 2014-06-19 | 2018-11-07 | ECONOTHERM UK Ltd | Heat transfer apparatus |
-
2018
- 2018-11-06 JP JP2018209223A patent/JP7211021B2/en active Active
-
2023
- 2023-01-12 JP JP2023003084A patent/JP7552744B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN1853849A (en) | 2005-04-19 | 2006-11-01 | 协禧电机股份有限公司 | Thin-plated heat conduit and its forming method |
US20080216994A1 (en) | 2007-03-08 | 2008-09-11 | Convergence Technologies Limited | Vapor-Augmented Heat Spreader Device |
US20120211202A1 (en) | 2011-02-18 | 2012-08-23 | Asia Vital Components Co., Ltd. | Low-profile heat transfer device |
WO2014115839A1 (en) | 2013-01-25 | 2014-07-31 | 古河電気工業株式会社 | Heat pipe |
WO2017104819A1 (en) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 株式会社フジクラ | Vapor chamber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019086280A (en) | 2019-06-06 |
JP2023052355A (en) | 2023-04-11 |
JP7211021B2 (en) | 2023-01-24 |
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Date | Code | Title | Description |
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