JP7552114B2 - Resin composition and conductive substrate - Google Patents

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Description

本発明は、樹脂組成物及び導体基板に関する。 The present invention relates to a resin composition and a conductive substrate.

携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワークインフラ機器、大型コンピュータなどの電子機器では使用する信号の高速化及び大容量化が年々進んでいる。これに伴い、これらの電子機器に搭載されるプリント配線板には高周波化対応が必要となり、伝送損失の低減を可能とする低比誘電率及び低誘電正接の基板材料が求められている。近年、このような高周波信号を扱うアプリケーションとして、上述した電子機器のほかに、ITS分野(自動車、交通システム関連)及び室内の近距離通信分野でも高周波無線信号を扱う新規システムの実用化及び実用計画が進んでおり、今後、これらの機器に搭載するプリント配線板に対しても、低伝送損失基板材料が更に要求されると予想される。 The speed and capacity of signals used in electronic devices such as mobile phones, their base station equipment, network infrastructure equipment such as servers and routers, and large computers are increasing year by year. As a result, the printed wiring boards installed in these electronic devices must be able to handle higher frequencies, and there is a demand for board materials with low dielectric constants and low dielectric tangents that can reduce transmission losses. In recent years, in addition to the electronic devices mentioned above, new systems that handle high-frequency wireless signals in the ITS field (related to automobiles and transportation systems) and in the field of indoor short-range communications have been put into practical use and are planned to be put into practical use as applications that handle such high-frequency signals. It is expected that in the future, there will be an even greater demand for low-transmission-loss board materials for the printed wiring boards installed in these devices.

プリント配線板用の材料には、難燃性を有することが要求される。近年の環境問題から、プリント配線板用の積層板において、環境に配慮したハロゲンフリーによる難燃化が検討されている(例えば、特許文献1及び2参照。)。 Materials for printed wiring boards are required to be flame retardant. In light of recent environmental issues, environmentally friendly halogen-free flame retardant laminates for printed wiring boards have been considered (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

特開2008-184591号公報JP 2008-184591 A 特開2019-123769号公報JP 2019-123769 A

プリント配線板には、ハロゲンフリーで、従来よりも難燃性を高めた樹脂材料を用いる必要がある。そこで、本発明は、ハロゲンフリーで難燃性を有する新規な樹脂組成物、及び該樹脂組成物から形成される樹脂層を有する導体基板を提供することを目的とする。 Printed wiring boards require the use of halogen-free resin materials with improved flame retardancy compared to conventional materials. Therefore, the present invention aims to provide a novel halogen-free, flame-retardant resin composition, and a conductor substrate having a resin layer formed from the resin composition.

本開示の一態様は、ゴム成分と、エポキシ基を有する架橋成分と、硬化剤と、ポリフェニレンエーテルと、リン系難燃剤と、メラミン系難燃剤と、ヒンダードアミンとを含有する樹脂組成物に関する。 One aspect of the present disclosure relates to a resin composition that contains a rubber component, a cross-linking component having an epoxy group, a curing agent, polyphenylene ether, a phosphorus-based flame retardant, a melamine-based flame retardant, and a hindered amine.

本開示の他の一態様は、樹脂層と、樹脂層の基材フィルムと反対側の少なくとも一方の面上に設けられた導体箔と、を有し、樹脂層が、上述の樹脂組成物の硬化物を含む、導体基板に関する。 Another aspect of the present disclosure relates to a conductive substrate having a resin layer and a conductive foil provided on at least one surface of the resin layer opposite the substrate film, the resin layer including a cured product of the above-mentioned resin composition.

本発明によれば、ハロゲンフリーで難燃性を有する新規な樹脂組成物、及び該樹脂組成物から形成される樹脂層を有する導体基板を提供することができる。 The present invention provides a novel halogen-free, flame-retardant resin composition and a conductive substrate having a resin layer formed from the resin composition.

以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Several embodiments of the present invention are described in detail below. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

[樹脂組成物]
本実施形態に係る樹脂組成物は、ゴム成分と、エポキシ基を有する架橋成分と、硬化剤と、ポリフェニレンエーテルと、リン系難燃剤と、メラミン系難燃剤と、ヒンダードアミンとを含有する。このような樹脂組成物は、ハロゲンフリーであっても、優れた難燃性を有する硬化物を形成することができる。
[Resin composition]
The resin composition according to the present embodiment contains a rubber component, a crosslinking component having an epoxy group, a curing agent, polyphenylene ether, a phosphorus-based flame retardant, a melamine-based flame retardant, and a hindered amine. Even if the resin composition is halogen-free, it can form a cured product having excellent flame retardancy.

(ゴム成分)
ゴム成分は、例えば、アクリルゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、フッ素ゴム、硫化ゴム、エピクロルヒドリンゴム、及び塩素化ブチルゴムからなる群より選ばれる少なくとも1種のゴムを含むことができる。吸湿等による配線へのダメージを保護する観点から、ガス透過性が低いゴム成分を用いてもよい。係る観点から、ゴム成分が、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、及びブチルゴムから選ばれる少なくとも1種を含んでもよい。スチレンブタジエンゴムを用いることにより、めっき工程に使用する各種薬液に対する樹脂層の耐性が向上し、歩留まりよく配線基板を製造することができる。
(Rubber component)
The rubber component may contain at least one rubber selected from the group consisting of, for example, acrylic rubber, isoprene rubber, butyl rubber, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, silicone rubber, urethane rubber, chloroprene rubber, ethylene propylene rubber, fluororubber, vulcanized rubber, epichlorohydrin rubber, and chlorinated butyl rubber. From the viewpoint of protecting the wiring from damage caused by moisture absorption, etc., a rubber component with low gas permeability may be used. From this viewpoint, the rubber component may contain at least one rubber selected from styrene butadiene rubber, butadiene rubber, and butyl rubber. By using styrene butadiene rubber, the resistance of the resin layer to various chemicals used in the plating process is improved, and the wiring board can be manufactured with a good yield.

アクリルゴムの市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社「Nipol ARシリーズ」、クラレ株式会社「クラリティシリーズ」が挙げられる。イソプレンゴムの市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社「Nipol IRシリーズ」が挙げられる。ブチルゴムの市販品としては、例えば、JSR株式会社「BUTYLシリーズ」が挙げられるスチレンブタジエンゴムの市販品としては、例えば、JSR株式会社「ダイナロンSEBSシリーズ」、「ダイナロンHSBRシリーズ」、クレイトンポリマージャパン株式会社「クレイトンDポリマーシリーズ」、アロン化成株式会社「ARシリーズ」が挙げられる。ブタジエンゴムの市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社「Nipol BRシリーズ」が挙げられる。アクリロニトリルブタジエンゴムの市販品としては、例えば、JSR株式会社「JSR NBRシリーズ」が挙げられる。シリコーンゴムの市販品としては、例えば、信越シリコーン株式会社「KMPシリーズ」が挙げられる。エチレンプロピレンゴムの市販品としては、例えば、JSR株式会社「JSR EPシリーズ」が挙げられる。フッ素ゴムの市販品としては、例えば、ダイキン株式会社「ダイエルシリーズ」が挙げられる。エピクロルヒドリンゴムの市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社「Hydrinシリーズ」が挙げられる。 Examples of commercially available acrylic rubbers include the "Nipol AR Series" from Nippon Zeon Co., Ltd. and the "Clarity Series" from Kuraray Co., Ltd. Examples of commercially available isoprene rubbers include the "Nipol IR Series" from Nippon Zeon Co., Ltd. Examples of commercially available butyl rubbers include the "BUTYL Series" from JSR Corporation Examples of commercially available styrene butadiene rubbers include the "Dynaron SEBS Series" and "Dynaron HSBR Series" from JSR Corporation, the "Craton D Polymer Series" from Clayton Polymer Japan Co., Ltd., and the "AR Series" from Aronkasei Co., Ltd. Examples of commercially available butadiene rubbers include the "Nipol BR Series" from Nippon Zeon Co., Ltd. Examples of commercially available acrylonitrile butadiene rubbers include the "JSR NBR Series" from JSR Corporation. Examples of commercially available silicone rubbers include the "KMP Series" from Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Commercially available ethylene propylene rubber products include, for example, the "JSR EP Series" from JSR Corporation. Commercially available fluororubber products include, for example, the "Dai-El Series" from Daikin Corporation. Commercially available epichlorohydrin rubber products include, for example, the "Hydrin Series" from Zeon Corporation.

ゴム成分は、合成により作製することもできる。例えば、アクリルゴムでは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物、シアン化ビニル化合物等を反応させることにより得られる。 Rubber components can also be produced synthetically. For example, acrylic rubber is obtained by reacting (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid esters, aromatic vinyl compounds, vinyl cyanide compounds, etc.

ゴム成分は、架橋基を有するゴムを含んでいてもよい。架橋基を有するゴムを用いることにより、伸縮性樹脂層の耐熱性が向上し易い傾向がある。架橋基は、ゴム成分の分子鎖を架橋する反応を進行させ得る反応性基であればよい。その例としては、後述するエポキシ基を有する架橋成分が有する反応性基、酸無水物基、アミノ基、水酸基、エポキシ基及びカルボキシル基が挙げられる。 The rubber component may contain a rubber having a crosslinking group. The use of a rubber having a crosslinking group tends to improve the heat resistance of the elastic resin layer. The crosslinking group may be a reactive group that can promote a reaction that crosslinks the molecular chains of the rubber component. Examples of such a group include reactive groups possessed by crosslinking components having epoxy groups, which will be described later, acid anhydride groups, amino groups, hydroxyl groups, epoxy groups, and carboxyl groups.

ゴム成分は、酸無水物基又はカルボキシル基のうち少なくとも一方の架橋基を有するゴムを含んでいてもよい。酸無水物基を有するゴムの例としては、無水マレイン酸で部分的に変性されたゴムが挙げられる。無水マレイン酸で部分的に変性されたゴムは、無水マレイン酸に由来する構成単位を含む重合体である。無水マレイン酸で部分的に変性されたゴムの市販品としては、例えば、旭化成株式会社製のスチレン系エラストマー「タフプレン912」がある。 The rubber component may contain a rubber having at least one of the crosslinking groups of an acid anhydride group or a carboxyl group. An example of a rubber having an acid anhydride group is a rubber partially modified with maleic anhydride. The rubber partially modified with maleic anhydride is a polymer containing structural units derived from maleic anhydride. An example of a commercially available product of rubber partially modified with maleic anhydride is the styrene-based elastomer "Tufprene 912" manufactured by Asahi Kasei Corporation.

無水マレイン酸で部分的に変性されたゴムは、無水マレイン酸で部分的に変性された水素添加型スチレン系エラストマーであってもよい。水素添加型スチレン系エラストマーは、耐候性向上等の効果も期待できる。水素添加型スチレン系エラストマーは、不飽和二重結合を含むソフトセグメントを有するスチレン系エラストマーの不飽和二重結合に水素を付加反応させて得られるエラストマーである。無水マレイン酸で部分的に変性された水素添加型スチレン系エラストマーの市販品としては、例えば、クレイトンポリマージャパン株式会社の「FG1901」、「FG1924」、旭化成株式会社の「タフテックM1911」、「タフテックM1913」、「タフテックM1943」が挙げられる。 The rubber partially modified with maleic anhydride may be a hydrogenated styrene-based elastomer partially modified with maleic anhydride. Hydrogenated styrene-based elastomers are also expected to have effects such as improved weather resistance. Hydrogenated styrene-based elastomers are elastomers obtained by adding hydrogen to the unsaturated double bonds of a styrene-based elastomer having a soft segment containing an unsaturated double bond. Commercially available hydrogenated styrene-based elastomers partially modified with maleic anhydride include "FG1901" and "FG1924" from Kraton Polymer Japan Co., Ltd., and "Tuftec M1911", "Tuftec M1913", and "Tuftec M1943" from Asahi Kasei Corporation.

ゴム成分の重量平均分子量(Mw)は、塗膜性の観点から、20000~200000、30000~150000、又は50000~125000であってもよい。ここでのMwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって求められる標準ポリスチレン換算値を意味する。 The weight average molecular weight (Mw) of the rubber component may be 20,000 to 200,000, 30,000 to 150,000, or 50,000 to 125,000 from the viewpoint of coating properties. Mw here refers to the standard polystyrene equivalent value determined by gel permeation chromatography (GPC).

樹脂組成物において、ゴム成分の含有量は、ゴム成分、エポキシ基を有する架橋成分及び硬化剤の総量を基準として、60~95質量%であることが好ましく、65~90質量%であることがより好ましく、70~85質量%であることが更に好ましい。ゴム成分の含有量が60質量%以上であると、より十分な伸縮性が得られ易く、かつゴム成分と架橋成分がよく混ざり合う傾向がある。ゴム成分の含有量が95質量%以下であると、樹脂層が密着性、絶縁信頼性、及び耐熱性の点で特に優れた特性を有する傾向がある。樹脂層におけるゴム成分の含有量が、樹脂層の質量を基準として、上記範囲内にあってもよい。 In the resin composition, the content of the rubber component is preferably 60 to 95% by mass, more preferably 65 to 90% by mass, and even more preferably 70 to 85% by mass, based on the total amount of the rubber component, the cross-linking component having an epoxy group, and the curing agent. When the content of the rubber component is 60% by mass or more, more sufficient elasticity is easily obtained, and the rubber component and the cross-linking component tend to mix well. When the content of the rubber component is 95% by mass or less, the resin layer tends to have particularly excellent properties in terms of adhesion, insulation reliability, and heat resistance. The content of the rubber component in the resin layer may be within the above range based on the mass of the resin layer.

(エポキシ基を有する架橋成分)
エポキシ基を有する架橋成分(以下、単に「架橋成分」という場合がある。)は、硬化反応時に架橋して架橋重合体を形成する成分である。架橋成分は、分子内にエポキシ基を有していれば特に制限されず、例えば一般的なエポキシ樹脂であることができる。エポキシ樹脂としては、単官能、2官能又は多官能のいずれでもよく、特に制限はないが、十分な硬化性を得るためには2官能又は多官能のエポキシ樹脂を用いてもよい。
(Cross-linking component having an epoxy group)
A crosslinking component having an epoxy group (hereinafter, sometimes simply referred to as "crosslinking component") is a component that crosslinks during a curing reaction to form a crosslinked polymer. The crosslinking component is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule, and can be, for example, a general epoxy resin. The epoxy resin may be monofunctional, bifunctional, or polyfunctional, and is not particularly limited, but a bifunctional or polyfunctional epoxy resin may be used to obtain sufficient curability.

エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、フェノールノボラック型、ナフタレン型、ジシクロペンタジエン型、クレゾールノボラック型等のエポキシ樹脂が挙げられる。脂肪鎖で変性したエポキシ樹脂は、柔軟性を付与できる。市販の脂肪鎖変性エポキシ樹脂としては、例えば、DIC株式会社製のEXA-4816が挙げられる。硬化性、低タック性、及び耐熱性の観点から、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ナフタレン型、又はジシクロペンタジエン型のエポキシ樹脂を選択してもよい。これらのエポキシ樹脂は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。 Epoxy resins include bisphenol A type, bisphenol F type, phenol novolac type, naphthalene type, dicyclopentadiene type, cresol novolac type, and other epoxy resins. Epoxy resins modified with an aliphatic chain can impart flexibility. An example of a commercially available aliphatic chain modified epoxy resin is EXA-4816 manufactured by DIC Corporation. From the viewpoints of curability, low tackiness, and heat resistance, phenol novolac type, cresol novolac type, naphthalene type, or dicyclopentadiene type epoxy resins may be selected. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more types.

無水マレイン酸基又はカルボキシル基を有するゴムと、エポキシ基を有する化合物(エポキシ樹脂)との組み合わせにより、伸縮性樹脂層の耐熱性及び低透湿度、伸縮性樹脂層と導電層との密着性、並びに、伸縮性樹脂層の低いタックの点で、特に優れた効果が得られる。伸縮性樹脂層の耐熱性が向上すると、例えば窒素リフローのような加熱工程における伸縮性樹脂層の劣化を抑制することができる。伸縮性樹脂層が低いタックを有すると、作業性良く導体基板又は配線基板を取り扱うことができる。 The combination of a rubber having a maleic anhydride group or a carboxyl group with a compound having an epoxy group (epoxy resin) provides particularly excellent effects in terms of the heat resistance and low moisture permeability of the elastic resin layer, adhesion between the elastic resin layer and the conductive layer, and low tack of the elastic resin layer. Improved heat resistance of the elastic resin layer can suppress deterioration of the elastic resin layer during a heating process such as nitrogen reflow. Low tack of the elastic resin layer allows for easy handling of the conductor board or wiring board.

樹脂組成物は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、エポキシ基を有する架橋成分以外の他の架橋成分を含んでいてもよい。他の架橋成分の含有量は、伸縮性樹脂層の誘電正接をより十分に低減する観点から、エポキシ基を有する架橋成分100質量部に対して10質量部未満であることが好ましい。 The resin composition may contain other crosslinking components other than the crosslinking component having an epoxy group, as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. From the viewpoint of more sufficiently reducing the dielectric tangent of the elastic resin layer, the content of the other crosslinking components is preferably less than 10 parts by mass per 100 parts by mass of the crosslinking component having an epoxy group.

(硬化剤)
硬化剤は、それ自体が硬化反応に関与する化合物であり、樹脂層の耐熱性を向上しつつ、誘電正接を低減することができる。
(Hardening agent)
The curing agent is a compound that itself participates in the curing reaction, and can reduce the dielectric tangent while improving the heat resistance of the resin layer.

硬化剤としては特に制限されないが、耐熱性の向上効果及び誘電正接の低減効果をより十分に得る観点から、エステル系硬化剤を用いることができる。エステル系硬化剤としては、例えば、フェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N-ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に1個又は2個以上有する化合物が挙げられる。エステル系硬化剤の市販品としては、例えば、「EPICLON HPC8000-65T」、「EPICLON HPC8000-L-65MT」、及び「EPICLON HPC8150-60T」(いずれもDIC株式会社製、商品名)が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The curing agent is not particularly limited, but from the viewpoint of more fully obtaining the effect of improving heat resistance and the effect of reducing the dielectric tangent, an ester-based curing agent can be used. Examples of ester-based curing agents include compounds having one or more highly reactive ester groups in one molecule, such as phenol esters, thiophenol esters, N-hydroxyamine esters, and esters of heterocyclic hydroxy compounds. Examples of commercially available ester-based curing agents include "EPICLON HPC8000-65T", "EPICLON HPC8000-L-65MT", and "EPICLON HPC8150-60T" (all trade names manufactured by DIC Corporation). These can be used alone or in combination of two or more.

エステル系硬化剤は、硬化反応時に下記式(I)に示すように架橋成分と反応するものと考えられる。このようなエステル系硬化剤と、架橋成分との反応において水酸基は生成せず、また、副反応が生じたとしても水酸基は生成し難く、その結果、低い誘電正接を実現できるものと考えられる。 During the curing reaction, the ester-based curing agent is thought to react with the crosslinking component as shown in the following formula (I). In the reaction between such an ester-based curing agent and the crosslinking component, no hydroxyl groups are produced, and even if a side reaction occurs, hydroxyl groups are unlikely to be produced. As a result, it is thought that a low dielectric tangent can be achieved.

Figure 0007552114000001

式中、R、R及びRはそれぞれ独立に、1価の有機基を示すが、本発明の効果がより十分に得られることから、芳香環を有する1価の有機基であってもよい。
Figure 0007552114000001

In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a monovalent organic group, but may be a monovalent organic group having an aromatic ring, since this allows the effects of the present invention to be more fully obtained.

樹脂組成物において、架橋成分及び硬化剤の合計の含有量は、ゴム成分、架橋成分及び硬化剤の総量を基準として、5~40質量%であることが好ましく、10~35質量%であることがより好ましく、15~30質量%であることが更に好ましい。架橋成分及び硬化剤の合計の含有量が5質量%以上であると、より十分な硬化が得られ易いと共に、樹脂層が密着性、絶縁信頼性、及び耐熱性の点で特に優れた特性を有する傾向がある。架橋成分及び硬化剤の合計の含有量が40質量%以下であると、より十分な伸縮性が得られ易く、かつゴム成分と架橋成分がよく混ざり合う傾向がある。 In the resin composition, the total content of the crosslinking component and the curing agent is preferably 5 to 40 mass %, more preferably 10 to 35 mass %, and even more preferably 15 to 30 mass %, based on the total amount of the rubber component, the crosslinking component, and the curing agent. When the total content of the crosslinking component and the curing agent is 5 mass % or more, more sufficient curing is easily obtained, and the resin layer tends to have particularly excellent properties in terms of adhesion, insulation reliability, and heat resistance. When the total content of the crosslinking component and the curing agent is 40 mass % or less, more sufficient elasticity is easily obtained, and the rubber component and the crosslinking component tend to mix well.

樹脂組成物において、架橋成分と硬化剤との含有量比は、エポキシ樹脂中のエポキシ基とエステル系硬化剤中のエステル結合との当量比で、4:5~5:4の範囲であることが好ましい。含有量比が上記範囲内であることで、より十分な硬化が得られ易いと共に、伸縮性樹脂層が密着性、絶縁信頼性、及び耐熱性の点で特に優れた特性を有する傾向がある。 In the resin composition, the content ratio of the crosslinking component to the curing agent is preferably in the range of 4:5 to 5:4, in terms of the equivalent ratio of the epoxy groups in the epoxy resin to the ester bonds in the ester-based curing agent. By having the content ratio within the above range, more sufficient curing is easily achieved, and the elastic resin layer tends to have particularly excellent properties in terms of adhesion, insulation reliability, and heat resistance.

(ポリフェニレンエーテル)
ポリフェニレンエーテルは、炭化し易い構造を有するため、樹脂組成物の難燃性を高めることができる。ポリフェニレンエーテルとして、変性ポリフェニレンエーテル又はポリフェニレンエーテル誘導体を用いてもよい。ポリフェニレンエーテルの市販品としては、例えば、ザイロン S201A及びS202A(旭化成株式会社製、商品名)が挙げられる。
(Polyphenylene ether)
Since polyphenylene ether has a structure that is easily carbonized, it can improve the flame retardancy of the resin composition. As the polyphenylene ether, modified polyphenylene ether or a polyphenylene ether derivative may be used. Examples of commercially available polyphenylene ether products include ZYLON S201A and S202A (trade names, manufactured by Asahi Kasei Corporation).

ポリフェニレンエーテルの含有量は、難燃性と柔軟性とのバランスの観点から、ゴム成分、架橋成分、及び硬化剤の総量100質量部に対して、1~30質量部、2~25質量部、又は4~20質量部であってもよい。 From the viewpoint of the balance between flame retardancy and flexibility, the content of polyphenylene ether may be 1 to 30 parts by mass, 2 to 25 parts by mass, or 4 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the rubber component, the cross-linking component, and the curing agent.

(リン系難燃剤)
樹脂組成物は、リン系難燃剤を含有することで、自己消化性を有し難燃性に優れる硬化物を形成することができる。リン系難燃剤は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
(Phosphorus-based flame retardant)
The resin composition contains a phosphorus-based flame retardant, and thus can form a cured product having self-extinguishing properties and excellent flame retardancy. The phosphorus-based flame retardant may be used alone or in combination of two or more kinds.

リン系難燃剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジルジ-2,6-キシレニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)等の芳香族系リン酸エステル;フェニルホスホン酸ジビニル、フェニルホスホン酸ジアリル、フェニルホスホン酸ビス(1-ブテニル)等のホスホン酸エステル;ジフェニルホスフィン酸フェニル、ジフェニルホスフィン酸メチル、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド誘導体等のホスフィン酸エステル;ビス(2-アリルフェノキシ)ホスファゼン、ジクレジルホスファゼン等のホスファゼン化合物;及びリン酸メラミン、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸メラム、ポリリン酸アンモニウム、リン含有ビニルベンジル化合物、赤リン等のリン系難燃剤が挙げられる。 Examples of phosphorus-based flame retardants include aromatic phosphate esters such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl di-2,6-xylenyl phosphate, and resorcinol bis(diphenyl phosphate); phosphonate esters such as divinyl phenylphosphonate, diallyl phenylphosphonate, and bis(1-butenyl) phenylphosphonate; phosphinate esters such as phenyl diphenylphosphinate, methyl diphenylphosphinate, and 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide derivatives; phosphazene compounds such as bis(2-allylphenoxy)phosphazene and dicresylphosphazene; and phosphorus-based flame retardants such as melamine phosphate, melamine pyrophosphate, melamine polyphosphate, melam polyphosphate, ammonium polyphosphate, phosphorus-containing vinylbenzyl compounds, and red phosphorus.

リン系難燃剤として、樹脂組成物の難燃性をより高める観点から、ホスフィン酸金属塩又は芳香族縮合リン酸エステルを用いてもよい。リン系難燃剤の市販品としては、例えば、OP930、OP935、OP945(クラリアントケミカルズ株式会社製、商品名)及びPX-200(大八化学工業株式会社製、商品名)が挙げられる。 To further enhance the flame retardancy of the resin composition, a metal phosphinate or an aromatic condensed phosphate ester may be used as the phosphorus-based flame retardant. Commercially available phosphorus-based flame retardants include, for example, OP930, OP935, OP945 (trade names, manufactured by Clariant Chemicals Co., Ltd.) and PX-200 (trade name, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.).

リン系難燃剤の含有量は、難燃性と柔軟性とのバランスの観点から、ゴム成分、架橋成分、及び硬化剤の総量100質量部に対して、1~30質量部、2~25質量部、又は4~20質量部であってもよい。 From the viewpoint of the balance between flame retardancy and flexibility, the content of the phosphorus-based flame retardant may be 1 to 30 parts by mass, 2 to 25 parts by mass, or 4 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the rubber component, the cross-linking component, and the curing agent.

(メラミン系難燃剤)
メラミン系難燃剤は、窒素を含む不活性ガスを発生することで、硬化物の難燃性を高めることができる。メラミン系難燃剤は、窒素を有する6員環構造を有していることが好ましい。メラミン系難燃剤として、例えば、メラミンとイソシアヌル酸との化合物であるメラミンシアヌレートを用いることができる。メラミンシアヌレートの市販品としては、例えば、MC―4000、MC4500、MC6000(日産化学株式会社製、商品名)STABIACE MC-20S、MC-5F、MC2010N(堺化学工業株式会社製、商品名)が挙げられる。
(Melamine-based flame retardants)
The melamine-based flame retardant generates an inert gas containing nitrogen, thereby enhancing the flame retardancy of the cured product. The melamine-based flame retardant preferably has a 6-membered ring structure containing nitrogen. As the melamine-based flame retardant, for example, melamine cyanurate, which is a compound of melamine and isocyanuric acid, can be used. Examples of commercially available melamine cyanurate products include MC-4000, MC4500, MC6000 (product names, manufactured by Nissan Chemical Industries Co., Ltd.), and STABIACE MC-20S, MC-5F, MC2010N (product names, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.).

メラミン系難燃剤の含有量は、難燃性と柔軟性とのバランスの観点から、ゴム成分、架橋成分、及び硬化剤の総量100質量部に対して、1~20質量部、2~18質量部、又は4~16質量部であってもよい。 From the viewpoint of the balance between flame retardancy and flexibility, the content of the melamine-based flame retardant may be 1 to 20 parts by mass, 2 to 18 parts by mass, or 4 to 16 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the rubber component, the cross-linking component, and the curing agent.

(ヒンダードアミン)
ヒンダードアミンは、NOR(アルコキシイミノ)基を有する化合物が好ましく、トリアジン骨格を有する化合物又はピペリジン骨格を有する化合物であってもよい。ヒンダードアミンの市販品としては、例えば、TINUVIN NOR371、TINUVIN XT850FF、TINUVIN XT855FF、TINUVIN PA123、Flamestab NOR 116FF(BASFジャパン株式会社製、商品名)、LA-81(株式会社ADEKA製、商品名)が挙げられる。
(Hindered amine)
The hindered amine is preferably a compound having an NOR (alkoxyimino) group, and may be a compound having a triazine skeleton or a compound having a piperidine skeleton. Examples of commercially available hindered amines include TINUVIN NOR371, TINUVIN XT850FF, TINUVIN XT855FF, TINUVIN PA123, Flamestab NOR 116FF (manufactured by BASF Japan Ltd., product name), and LA-81 (manufactured by ADEKA Corporation, product name).

ヒンダードアミンの含有量は、難燃性と柔軟性とのバランスの観点から、ゴム成分、架橋成分、及び硬化剤の総量100質量部に対して、1~10質量部、2~8質量部、又は4~6質量部であってもよい。 From the viewpoint of the balance between flame retardancy and flexibility, the content of the hindered amine may be 1 to 10 parts by mass, 2 to 8 parts by mass, or 4 to 6 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the rubber component, the crosslinking component, and the curing agent.

(硬化促進剤)
樹脂組成物は、更に硬化促進剤を含有してもよい。硬化促進剤は、硬化反応の触媒として機能する化合物である。硬化促進剤は、三級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、リン系化合物、ルイス酸、アミン錯塩、及びホスフィンから選ばれるものであってもよい。これらの中でも、樹脂組成物のワニスの保存安定性及び硬化性の観点から、イミダゾールを使用してもよい。ゴム成分が無水マレイン酸で部分的に変性されたゴムを含む場合、これと相溶するイミダゾールを選択してもよい。
(Cure Accelerator)
The resin composition may further contain a curing accelerator. The curing accelerator is a compound that functions as a catalyst for the curing reaction. The curing accelerator may be selected from tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, phosphorus compounds, Lewis acids, amine complex salts, and phosphines. Among these, imidazole may be used from the viewpoint of storage stability and curing properties of the varnish of the resin composition. When the rubber component contains a rubber partially modified with maleic anhydride, an imidazole compatible with the rubber may be selected.

樹脂組成物において、硬化促進剤の含有量は、ゴム成分、架橋成分及び硬化剤の合計量100質量部に対して、0.1~10質量部であってもよい。硬化促進剤の含有量が0.1質量部以上であると、より十分な硬化が得られ易い傾向がある。硬化促進剤の含有量が10質量部以下であると、より十分な耐熱性が得られ易い傾向がある。以上の観点から、硬化促進剤の含有量は0.3~7質量部、又は0.5~5質量部であってもよい。 In the resin composition, the content of the curing accelerator may be 0.1 to 10 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total amount of the rubber component, the cross-linking component, and the curing agent. When the content of the curing accelerator is 0.1 parts by mass or more, more sufficient curing tends to be obtained. When the content of the curing accelerator is 10 parts by mass or less, more sufficient heat resistance tends to be obtained. From the above viewpoints, the content of the curing accelerator may be 0.3 to 7 parts by mass, or 0.5 to 5 parts by mass.

樹脂組成物は、以上の成分の他、必要に応じて、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤、レベリング剤等を、本発明の効果を著しく損なわない範囲で更に含んでもよい。 In addition to the above components, the resin composition may further contain antioxidants, anti-yellowing agents, ultraviolet absorbers, visible light absorbers, colorants, plasticizers, stabilizers, fillers, leveling agents, etc., as necessary, to the extent that the effects of the present invention are not significantly impaired.

[導体基板]
一実施形態に係る導体基板は、樹脂層と、樹脂層の少なくとも一方の面上に設けられた導体箔と、を有する。樹脂層は、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含む。
[Conductor substrate]
The conductive substrate according to one embodiment includes a resin layer and a conductive foil provided on at least one surface of the resin layer. The resin layer includes a cured product of the resin composition according to the present embodiment.

(導体箔)
導体箔の弾性率は、40~300GPaであってもよい。導体箔の弾性率が40~300GPaであることにより、配線基板の伸長による導体箔の破断が生じ難い傾向がある。同様の観点から、導体箔の弾性率は50GPa以上又は60GPa以上であってもよく、280GPa以下又は250GPa以下であってもよい。ここでの導体箔の弾性率は、共振法によって測定される値であることができる。
(Conductor foil)
The elastic modulus of the conductor foil may be 40 to 300 GPa. When the elastic modulus of the conductor foil is 40 to 300 GPa, the conductor foil is less likely to break due to elongation of the wiring board. From the same viewpoint, the elastic modulus of the conductor foil may be 50 GPa or more or 60 GPa or more, and may be 280 GPa or less or 250 GPa or less. The elastic modulus of the conductor foil here may be a value measured by a resonance method.

導体箔は、金属箔であることができる。金属箔としては、銅箔、チタン箔、ステンレス箔、ニッケル箔、パーマロイ箔、42アロイ箔、コバール箔、ニクロム箔、ベリリウム銅箔、燐青銅箔、黄銅箔、洋白箔、アルミニウム箔、錫箔、鉛箔、亜鉛箔、半田箔、鉄箔、タンタル箔、ニオブ箔、モリブデン箔、ジルコニウム箔、金箔、銀箔、パラジウム箔、モネル箔、インコネル箔、ハステロイ箔等が挙げられる。適切な弾性率等の観点から、導体箔は、銅箔、金箔、ニッケル箔、及び鉄箔から選ばれてもよい。配線形成性の観点から、導体箔は銅箔であってもよい。銅箔は、フォトリソグラフィーにより、伸縮性樹脂層の特性を損なわずに、簡易的に配線パターンを形成できる。係る観点から、本実施形態における導体箔は、配線パターンを形成しているものであってもよい。 The conductor foil can be a metal foil. Examples of the metal foil include copper foil, titanium foil, stainless steel foil, nickel foil, permalloy foil, 42 alloy foil, kovar foil, nichrome foil, beryllium copper foil, phosphor bronze foil, brass foil, nickel silver foil, aluminum foil, tin foil, lead foil, zinc foil, solder foil, iron foil, tantalum foil, niobium foil, molybdenum foil, zirconium foil, gold foil, silver foil, palladium foil, Monel foil, Inconel foil, and Hastelloy foil. From the viewpoint of appropriate elastic modulus, the conductor foil may be selected from copper foil, gold foil, nickel foil, and iron foil. From the viewpoint of wiring formability, the conductor foil may be copper foil. The copper foil can be easily formed into a wiring pattern by photolithography without impairing the properties of the elastic resin layer. From this viewpoint, the conductor foil in this embodiment may form a wiring pattern.

銅箔としては、特に制限はなく、例えば、銅張積層板及びフレキシブル配線板等に用いられる電解銅箔及び圧延銅箔を使用できる。市販の電解銅箔としては、例えばF0-WS-18(古河電気工業株式会社製、商品名)、NC-WS-20(古河電気工業株式会社製、商品名)、YGP-12(日本電解株式会社製、商品名)、GTS-18(古河電気工業株式会社製、商品名)、及びF2-WS-12(古河電気工業株式会社製、商品名)が挙げられる。圧延銅箔としては、例えば、TPC箔(JX金属株式会社製、商品名)、HA箔(JX金属株式会社製、商品名)、HA-V2箔(JX金属株式会社製、商品名)、及びC1100R(三井住友金属鉱山伸銅株式会社製、商品名)が挙げられる。伸縮性樹脂層との密着性の観点から、粗化処理を施している銅箔を使用してもよい。耐折性の観点から、圧延銅箔を用いてもよい。 The copper foil is not particularly limited, and for example, electrolytic copper foil and rolled copper foil used for copper-clad laminates and flexible wiring boards can be used. Commercially available electrolytic copper foils include, for example, F0-WS-18 (manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., product name), NC-WS-20 (manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., product name), YGP-12 (manufactured by Nippon Denkai Co., Ltd., product name), GTS-18 (manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., product name), and F2-WS-12 (manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., product name). Rolled copper foils include, for example, TPC foil (manufactured by JX Metals Corporation, product name), HA foil (manufactured by JX Metals Corporation, product name), HA-V2 foil (manufactured by JX Metals Corporation, product name), and C1100R (manufactured by Mitsui Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., product name). From the viewpoint of adhesion with the elastic resin layer, copper foil that has been subjected to a roughening treatment may be used. From the viewpoint of folding resistance, rolled copper foil may be used.

金属箔は、粗化処理によって形成された粗化面を有していてもよい。この場合、通常、粗化面が伸縮性樹脂層に接する向きで、金属箔が伸縮性樹脂層上に設けられる。伸縮性樹脂層と金属箔との密着性の観点から、粗化面の表面粗さRaは、0.1~3μm、又は0.2~2.0μmであってもよい。微細な配線を容易に形成するために、粗化面の表面粗さRaが0.3~1.5μmであってもよい。 The metal foil may have a roughened surface formed by a roughening treatment. In this case, the metal foil is usually provided on the stretchable resin layer with the roughened surface facing the stretchable resin layer. From the viewpoint of adhesion between the stretchable resin layer and the metal foil, the surface roughness Ra of the roughened surface may be 0.1 to 3 μm, or 0.2 to 2.0 μm. To easily form fine wiring, the surface roughness Ra of the roughened surface may be 0.3 to 1.5 μm.

表面粗さRaは、例えば、表面形状測定装置Wyko NT9100(Veeco社製)を用いて、以下の条件で測定することができる。
測定条件
内部レンズ:1倍
外部レンズ:50倍
測定範囲:0.120×0.095mm
測定深度:10μm
測定方式:垂直走査型干渉方式(VSI方式)
The surface roughness Ra can be measured, for example, using a surface profiler Wyko NT9100 (manufactured by Veeco) under the following conditions.
Measurement conditions: Internal lens: 1x External lens: 50x Measurement range: 0.120 x 0.095 mm
Measurement depth: 10 μm
Measurement method: Vertical scanning interferometry (VSI)

導体箔の厚みは、特に制限はないが、1~50μmであってもよい。導体箔の厚みが1μm以上であると、より容易に配線パターンを形成することができる。導体箔の厚みが50μm以下であると、エッチング及び取り扱いが特に容易である。 The thickness of the conductor foil is not particularly limited, but may be 1 to 50 μm. When the thickness of the conductor foil is 1 μm or more, the wiring pattern can be formed more easily. When the thickness of the conductor foil is 50 μm or less, etching and handling are particularly easy.

導体箔は、樹脂層の片面又は両面上に設けられる。樹脂層の両面上に導体箔を設けることにより、硬化等のための加熱による反りを抑制することができる。 The conductor foil is provided on one or both sides of the resin layer. By providing the conductor foil on both sides of the resin layer, warping due to heating for curing, etc. can be suppressed.

導体箔を設ける方法は特に制限されないが、例えば、樹脂層を形成するための樹脂組成物を金属箔に直接塗工する方法、及び、積層フィルムにおける樹脂層と導体箔とを積層する方法がある。 There are no particular limitations on the method for providing the conductor foil, but examples include a method in which a resin composition for forming a resin layer is directly applied to a metal foil, and a method in which a resin layer and a conductor foil are laminated in a laminate film.

(樹脂層)
樹脂層は、例えば、ゴム成分、エポキシ基を有する架橋成、硬化剤、ポリフェニレンエーテル、リン系難燃剤、メラミン系難燃剤、ヒンダードアミン、及び、必要により他の成分を、有機溶剤に溶解又は分散して樹脂ワニスを得ることと、樹脂ワニスを後述の方法によって導体箔又はキャリアフィルムの上に成膜することとを含む方法により、製造することができる。
(Resin Layer)
The resin layer can be produced by a method including, for example, dissolving or dispersing a rubber component, a crosslinking compound having an epoxy group, a curing agent, polyphenylene ether, a phosphorus-based flame retardant, a melamine-based flame retardant, a hindered amine, and, if necessary, other components, in an organic solvent to obtain a resin varnish, and forming the resin varnish onto a conductor foil or a carrier film by a method described below.

有機溶剤としては、特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p-シメン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等の環状エーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミドが挙げられる。溶解性及び沸点の観点から、トルエン、又はN,N-ジメチルアセトアミドを用いてもよい。これらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。樹脂ワニス中の固形分(有機溶媒以外の成分)濃度は、20~80質量%であってもよい。 The organic solvent is not particularly limited, but examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene, and p-cymene; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, and γ-butyrolactone; carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. From the viewpoint of solubility and boiling point, toluene or N,N-dimethylacetamide may be used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more kinds. The solid content (components other than the organic solvent) concentration in the resin varnish may be 20 to 80% by mass.

キャリアフィルムとしては、特に制限されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどのフィルムが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、又はポリスルホンのフィルムをキャリアフィルムとして用いてもよい。 The carrier film is not particularly limited, but examples thereof include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; and films of polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyethersulfide, polyethersulfone, polyetherketone, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, and liquid crystal polymers. Among these, from the viewpoint of flexibility and toughness, films of polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyarylate, or polysulfone may be used as the carrier film.

キャリアフィルムの厚みは、特に制限されないが、3~250μmであってもよい。キャリアフィルムの厚みが3μm以上であるとフィルム強度が十分であり、キャリアフィルムの厚みが250μm以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、厚みは5~200μm、又は7~150μmであってもよい。樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等によりキャリアフィルムに離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。 The thickness of the carrier film is not particularly limited, but may be 3 to 250 μm. If the thickness of the carrier film is 3 μm or more, the film strength is sufficient, and if the thickness of the carrier film is 250 μm or less, sufficient flexibility is obtained. From the above viewpoints, the thickness may be 5 to 200 μm, or 7 to 150 μm. From the viewpoint of improving the peelability from the resin layer, a film in which the carrier film has been subjected to a release treatment using a silicone-based compound, a fluorine-containing compound, or the like may be used as necessary.

必要に応じて、保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、キャリアフィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる3層構造の樹脂フィルムとしてもよい。 If necessary, a protective film may be attached onto the resin layer to form a three-layer resin film consisting of a carrier film, a resin layer, and a protective film.

保護フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンなどのフィルムが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンのフィルムを保護フィルムとして用いてもよい。伸縮性樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により保護フィルムに離型処理が施されていてもよい。 The protective film is not particularly limited, and examples thereof include films of polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; and polyolefins such as polyethylene and polypropylene. Among these, from the viewpoint of flexibility and toughness, films of polyesters such as polyethylene terephthalate, and polyolefins such as polyethylene and polypropylene may be used as the protective film. From the viewpoint of improving the peelability from the elastic resin layer, the protective film may be subjected to a release treatment using a silicone-based compound, a fluorine-containing compound, or the like.

保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、10~250μmであってもよい。厚みが10μm以上であるとフィルム強度が十分である傾向があり、250μm以下であると十分な柔軟性が得られる傾向がある。以上の観点から、厚みは15~200μm、又は20~150μmであってもよい。 The thickness of the protective film may be varied as appropriate depending on the desired flexibility, but may be 10 to 250 μm. A thickness of 10 μm or more tends to provide sufficient film strength, while a thickness of 250 μm or less tends to provide sufficient flexibility. From the above standpoint, the thickness may be 15 to 200 μm, or 20 to 150 μm.

樹脂層及び導体箔を有する積層板(導体基板)を得る手法としては、どのような手法を用いてもよいが、樹脂層を形成するための樹脂組成物のワニスを導体箔に塗工する方法、及び、キャリアフィルム上に形成された樹脂層に導体箔を真空プレス、ラミネータ等により積層する方法などがある。樹脂層は、樹脂組成物を加熱して架橋成分の架橋反応(硬化反応)を進行させることで形成することができる。 Any method may be used to obtain a laminate (conductor substrate) having a resin layer and conductor foil, including a method of applying a varnish of a resin composition to form a resin layer onto the conductor foil, and a method of laminating a conductor foil onto a resin layer formed on a carrier film using a vacuum press, laminator, or the like. The resin layer can be formed by heating the resin composition to promote a crosslinking reaction (curing reaction) of the crosslinking component.

キャリアフィルム上の樹脂層を導体箔に積層する手法としては、どのようなものでもよいが、ロールラミネータ、真空ラミネータ、真空プレス等が用いられる。生産効率の観点から、ロールラミネータ又は真空ラミネータを用いて成型してもよい。 The resin layer on the carrier film may be laminated onto the conductor foil by any method, including a roll laminator, vacuum laminator, vacuum press, etc. From the viewpoint of production efficiency, molding may be performed using a roll laminator or vacuum laminator.

樹脂層の厚さは特に限定されないが、樹脂フィルムの難燃性と柔軟性のバランスの観点から、5~1000μm、10~500μm、20~200μm、又は30~100μmであってよい。 The thickness of the resin layer is not particularly limited, but may be 5 to 1000 μm, 10 to 500 μm, 20 to 200 μm, or 30 to 100 μm, from the viewpoint of the balance between the flame retardancy and flexibility of the resin film.

樹脂層の弾性率(引張弾性率)は、0.1MPa以上1000MPa以下であってもよい。弾性率が0.1MPa以上1000MPa以下であると、基材としての取り扱い性及び可撓性が特に優れる傾向がある。この観点から、弾性率が0.3MPa以上100MPa以下、又は0.5MPa以上50MPa以下であってもよい。 The elastic modulus (tensile elastic modulus) of the resin layer may be 0.1 MPa or more and 1000 MPa or less. When the elastic modulus is 0.1 MPa or more and 1000 MPa or less, the handleability and flexibility as a substrate tend to be particularly excellent. From this viewpoint, the elastic modulus may be 0.3 MPa or more and 100 MPa or less, or 0.5 MPa or more and 50 MPa or less.

樹脂層の破断伸び率は、100%以上であってもよい。破断伸び率が100%以上であると、十分な伸縮性が得られ易い傾向がある。この観点から、破断伸び率は150%以上、200%以上、300%以上又は500%以上であってもよい。破断伸び率の上限は、特に制限されないが、通常1000%程度以下である。 The breaking elongation of the resin layer may be 100% or more. When the breaking elongation is 100% or more, sufficient elasticity tends to be easily obtained. From this viewpoint, the breaking elongation may be 150% or more, 200% or more, 300% or more, or 500% or more. The upper limit of the breaking elongation is not particularly limited, but is usually about 1000% or less.

樹脂層の誘電正接(Df)は、樹脂層上に設けられた配線パターンの伝送損失を十分に低減する観点から、0.004以下、0.0035以下、0.003以下、又は、0.0025以下であってもよい。誘電正接の下限は、特に制限されないが、通常0.0005程度以上である。 The dielectric loss tangent (Df) of the resin layer may be 0.004 or less, 0.0035 or less, 0.003 or less, or 0.0025 or less, from the viewpoint of sufficiently reducing the transmission loss of the wiring pattern provided on the resin layer. The lower limit of the dielectric loss tangent is not particularly limited, but is usually about 0.0005 or more.

樹脂層の比誘電率(Dk)は、樹脂層上に設けられた配線パターンの伝送損失を十分に低減する観点から、3.0以下、2.8以下、又は2.5以下であってもよい。 The dielectric constant (Dk) of the resin layer may be 3.0 or less, 2.8 or less, or 2.5 or less, from the viewpoint of sufficiently reducing the transmission loss of the wiring pattern provided on the resin layer.

以上、本開示の好適な実施形態を説明したが、これらは本発明の説明のための例示であり、本発明の範囲をこれらの実施形態にのみ限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。 The above describes preferred embodiments of the present disclosure, but these are merely examples for the purpose of explaining the present invention, and are not intended to limit the scope of the present invention to these embodiments alone. The present invention can be implemented in various forms different from the above embodiments without departing from the spirit of the present invention.

本発明について以下の実施例を挙げて更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
ポリビンに、無水マレイン酸変性水添スチレンエチレンブタジエンゴム(KRATON株式会社製、商品名「FG1924」、スチレン比:1.3%)80質量部(不揮発分の配合量)、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC株式会社製、商品名「EPICLON HP7200H」)10.9質量部(不揮発分の配合量)、エステル系硬化剤(DIC株式会社製、商品名「HPC-8150」)9.1質量部(不揮発分の配合量)、及びトルエン400質量部を加えて混合し、不揮発分25質量%のベース樹脂を得た。次いで、ベース樹脂に、ポリフェニレンエーテル(PPE、旭化成株式会社製、商品名「S202A」)15質量部、リン系難燃剤(クラリアントケミカルズ株式会社製、商品名「OP935」)20質量部、メラミン系難燃剤(メラミンシアヌレート、堺化学工業株式会社製、商品名「STABIACE MC-20S」)20質量部、ヒンダードアミン(BASFジャパン株式会社製、商品名「Flamestab NOR 116FF」)5質量部、及びを1-ベンジル-2-メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製、商品名「1B2MZ」)3質量部を添加して、自転公転ミキサ(株式会社シンキー製,AR-100)を用いて混合して、樹脂ワニスを作製した。
[Example 1]
To a polyvinyl chloride bottle, 80 parts by mass (non-volatile content) of maleic anhydride modified hydrogenated styrene ethylene butadiene rubber (manufactured by KRATON Corporation, product name "FG1924", styrene ratio: 1.3%), 10.9 parts by mass (non-volatile content) of dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, product name "EPICLON HP7200H"), 9.1 parts by mass (non-volatile content) of an ester-based curing agent (manufactured by DIC Corporation, product name "HPC-8150"), and 400 parts by mass of toluene were added and mixed to obtain a base resin with a non-volatile content of 25% by mass. Next, 15 parts by mass of polyphenylene ether (PPE, manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name "S202A"), 20 parts by mass of a phosphorus-based flame retardant (manufactured by Clariant Chemicals Co., Ltd., trade name "OP935"), 20 parts by mass of a melamine-based flame retardant (melamine cyanurate, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., trade name "STABIACE MC-20S"), 5 parts by mass of a hindered amine (manufactured by BASF Japan Ltd., trade name "Flamestab NOR 116FF"), and 3 parts by mass of 1-benzyl-2-methylimidazole (manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., trade name "1B2MZ") were added to the base resin and mixed using a planetary centrifugal mixer (manufactured by Thinky Corporation, AR-100) to prepare a resin varnish.

[比較例1~8]
PPE、リン系難燃剤、メラミン系難燃剤及びヒンダードアミンの添加量を、表1に示す量(質量部)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、樹脂ワニスを作製した。
[Comparative Examples 1 to 8]
Resin varnishes were prepared in the same manner as in Example 1, except that the amounts of PPE, phosphorus-based flame retardant, melamine-based flame retardant, and hindered amine added were changed to the amounts (parts by mass) shown in Table 1.

[評価]
(樹脂フィルムの作製)
キャリアフィルムとして離型処理ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(帝人フィルムソリューション株式会社製、商品名「ピューレックスA31」、厚み25μm)を準備した。このPETフィルムの離型処理面上にナイフコータ(株式会社康井精機製、商品名「SNC-350」)を用いて上記樹脂ワニスを塗布した。塗膜を乾燥機(株式会社二葉科学製、商品名「MSO-80TPS」)中、80℃で20分の加熱により乾燥して、80μmの厚みを有する樹脂層を形成させた。形成された樹脂層に、キャリアフィルムと同じ離型処理PETフィルムを、離型処理面が樹脂層側になる向きで保護フィルムとして貼付けて、樹脂フィルムを得た。
[evaluation]
(Preparation of resin film)
A release-treated polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Teijin Film Solutions Co., Ltd., product name "Purex A31", thickness 25 μm) was prepared as a carrier film. The above-mentioned resin varnish was applied to the release-treated surface of this PET film using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd., product name "SNC-350"). The coating film was dried by heating at 80 ° C. for 20 minutes in a dryer (manufactured by Futaba Scientific Co., Ltd., product name "MSO-80TPS") to form a resin layer having a thickness of 80 μm. A release-treated PET film identical to the carrier film was attached to the formed resin layer as a protective film with the release-treated surface facing the resin layer side, to obtain a resin film.

(燃焼試験)
樹脂フィルムから、キャリアフィルム及び保護フィルムを剥がした後、乾燥機(株式会社二葉科学製、商品名「MSO-80TPS」)中、180℃で60分の加熱により、樹脂層を硬化させて、燃焼試験用のサンプルを作製した。燃焼試験用のサンプルに対して、UL94V試験を実施した。結果を表1に示す。
(Combustion test)
After peeling off the carrier film and the protective film from the resin film, the resin layer was cured by heating at 180°C for 60 minutes in a dryer (manufactured by Futaba Scientific Co., Ltd., product name "MSO-80TPS") to prepare a sample for a combustion test. The sample for the combustion test was subjected to a UL94V test. The results are shown in Table 1.

Figure 0007552114000002
Figure 0007552114000002

Claims (5)

ゴム成分と、エポキシ基を有する架橋成分と、エステル系硬化剤と、ポリフェニレンエーテルと、リン系難燃剤と、メラミン系難燃剤と、ヒンダードアミンとを含有し、
前記ゴム成分、前記架橋成分、及び前記硬化剤の総量100質量部に対して、前記ポリフェニレンエーテルの含有量が1~30質量部であり、前記リン系難燃剤の含有量が1~30質量部であり、前記メラミン系難燃剤の含有量が1~20質量部であり、前記ヒンダードアミンの含有量が1~10質量部である、樹脂組成物。
The rubber composition contains a rubber component, a cross-linking component having an epoxy group, an ester-based curing agent, a polyphenylene ether, a phosphorus-based flame retardant, a melamine-based flame retardant, and a hindered amine,
a content of the polyphenylene ether is 1 to 30 parts by mass, a content of the phosphorus-based flame retardant is 1 to 30 parts by mass, a content of the melamine-based flame retardant is 1 to 20 parts by mass, and a content of the hindered amine is 1 to 10 parts by mass, relative to 100 parts by mass of a total amount of the rubber component, the crosslinking component , and the curing agent.
前記リン系難燃剤が、ホスフィン酸金属塩又は芳香族縮合リン酸エステルを含む、請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the phosphorus-based flame retardant comprises a metal phosphinate or an aromatic condensed phosphate ester. 前記メラミン系難燃剤が、メラミンシアヌレートを含む、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the melamine-based flame retardant includes melamine cyanurate. 前記ゴム成分が、アクリルゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、フッ素ゴム、硫化ゴム、エピクロルヒドリンゴム、及び塩素化ブチルゴムからなる群より選ばれる少なくとも1種のゴムを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the rubber component contains at least one rubber selected from the group consisting of acrylic rubber, isoprene rubber, butyl rubber, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, silicone rubber, urethane rubber, chloroprene rubber, ethylene propylene rubber, fluororubber, vulcanized rubber, epichlorohydrin rubber, and chlorinated butyl rubber. 樹脂層と、前記樹脂層上に設けられた導体箔と、を有し、
前記樹脂層が、請求項1~4のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化物を含む、導体基板。
A resin layer and a conductor foil provided on the resin layer,
A conductive substrate, wherein the resin layer comprises a cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 4.
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