JP7540554B1 - Molding resin composition and electronic component device - Google Patents

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道俊 荒田
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Abstract

【課題】比誘電率を維持しつつ、低い誘電正接を有する硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物を提供する。【解決手段】硬化性樹脂と、アルミナ粒子と、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方と、を含む無機充填材と、を含み、前記チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対して5.0体積%~15.0体積%であり、無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物全体に対して60体積%を超えている成形用樹脂組成物。【選択図】なし[Problem] To provide a molding resin composition capable of molding a cured product having a low dielectric tangent while maintaining a relative dielectric constant. [Solution] A molding resin composition comprising a curable resin, an inorganic filler containing alumina particles and at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles, wherein the total content of the calcium titanate particles and strontium titanate particles is 5.0 volume % to 15.0 volume % relative to the total inorganic filler, and the total content of the inorganic filler exceeds 60 volume % relative to the total molding resin composition. [Selected Figure] None

Description

本開示は、成形用樹脂組成物及び電子部品装置に関する。 This disclosure relates to a molding resin composition and an electronic component device.

近年の電子機器の高機能化、軽薄短小化の要求に伴い電子部品の高密度集積化、さらには高密度実装化が進んできており、これらの電子機器に使用される半導体パッケージは、従来にも増して、益々、小型化が進んでいる。さらに、電子機器の通信に使用される電波の高周波化も進んでいる。 In recent years, with the demand for electronic devices to have higher functionality and to be lighter, thinner, shorter, and smaller, electronic components have become more densely integrated and even more densely mounted, and the semiconductor packages used in these electronic devices are becoming smaller and smaller than ever before. Furthermore, the radio waves used for communication between electronic devices are becoming higher in frequency.

半導体パッケージの小型化、及び高周波への対応の点から、半導体素子の封止に用いる高誘電率樹脂組成物が提案されている。 In order to reduce the size of semiconductor packages and accommodate high frequencies, high-dielectric resin compositions have been proposed for use in sealing semiconductor elements.

特開2015-036410号公報JP 2015-036410 A 特開2017-057268号公報JP 2017-057268 A 特開2018-141052号公報JP 2018-141052 A

半導体素子等の電子部品を封止する材料としては、例えば、硬化性樹脂と無機充填材とを含む成形用樹脂組成物が挙げられる。上記成形用樹脂組成物として、誘電正接の高い材料を用いると、伝送損失により伝送信号が熱に変換され、通信効率が低下しやすくなる。ここで、通信のために発信された電波が誘電体において熱変換されることで発生する伝送損失の量は、周波数と比誘電率の平方根と誘電正接との積として表される。つまり、伝送信号は、周波数に比例して熱に変わりやすくなる。そして、特に近年、情報の多様化に伴うチャンネル数増加等に対応するため、通信に使用される電波が高周波化されているため、低い比誘電率及び低い誘電正接を有する硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物が求められている。一方、比誘電率が大きい程、基板の小型化、半導体パッケージの小型化等が可能であるため、伝送損失の抑制及び基板等の小型化の観点から、過度な比誘電率の上昇及び低下を抑制して比誘電率を維持しつつ、低い誘電正接を確保することが望ましい。 Examples of materials for sealing electronic components such as semiconductor elements include molding resin compositions containing a curable resin and an inorganic filler. If a material with a high dielectric tangent is used as the molding resin composition, the transmission signal is converted into heat due to transmission loss, and communication efficiency is likely to decrease. Here, the amount of transmission loss caused by the heat conversion of radio waves transmitted for communication in a dielectric is expressed as the product of the square root of the frequency and the dielectric tangent and the dielectric tangent. In other words, the transmission signal is more likely to be converted into heat in proportion to the frequency. In particular, in recent years, radio waves used for communication have become higher frequency in order to respond to the increase in the number of channels associated with the diversification of information, and therefore molding resin compositions capable of molding cured products having low dielectric constants and low dielectric tangents are required. On the other hand, the larger the dielectric constant, the more compact the substrate and the semiconductor package can be, so from the viewpoint of suppressing transmission loss and miniaturizing the substrate, etc., it is desirable to ensure a low dielectric tangent while maintaining the dielectric constant by suppressing excessive increases and decreases in the dielectric constant.

本開示は、比誘電率を維持しつつ、低い誘電正接を有する硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物、及びこれを用いた電子部品装置を提供することを課題とする。 The objective of the present disclosure is to provide a molding resin composition capable of molding a cured product having a low dielectric tangent while maintaining a relative dielectric constant, and an electronic component device using the same.

前記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 硬化性樹脂と、
アルミナ粒子と、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方と、を含む無機充填材と、
を含み、
前記チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対して5.0体積%~15.0体積%であり、
無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物全体に対して60体積%を超えている成形用樹脂組成物。
<2> 前記硬化性樹脂がエポキシ樹脂を含み、かつ、前記成形用樹脂組成物が硬化剤をさらに含む、<1>に記載の成形用樹脂組成物。
<3> 前記硬化剤は、活性エステル化合物を含む、<2>に記載の成形用樹脂組成物。
<4> 前記硬化剤は、フェノール硬化剤をさらに含む、<3>に記載の成形用樹脂組成物。
<5> 前記フェノール硬化剤は、アラルキル型フェノール樹脂及びメラミン変性フェノール樹脂を含む<4>に記載の成形用樹脂組成物。
<6> 応力緩和剤をさらに含む、<5>に記載の成形用樹脂組成物。
<7> 前記応力緩和剤は、インデン-スチレン-クマロン共重合体、トリアルキルホスフィンオキサイド及びトリアリールホスフィンオキサイドの少なくとも1つを含む<6>に記載の成形用樹脂組成物。
<8> 高周波デバイスに用いられる、<1>~<7>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
<9> 高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いられる、<8>に記載の成形用樹脂組成物。
<10> アンテナ・イン・パッケージに用いられる、<1>~<7>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
<11> 支持部材と、
前記支持部材上に配置された電子部品と、
前記電子部品を封止している<1>~<7>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。
<12> 前記電子部品がアンテナを含む<11>に記載の電子部品装置。
Specific means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A curable resin,
an inorganic filler including alumina particles and at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles;
Including,
the total content of the calcium titanate particles and the strontium titanate particles is 5.0% by volume to 15.0% by volume based on the total volume of the inorganic filler;
A molding resin composition, the content of the inorganic filler in total being more than 60 volume % based on the total volume of the molding resin composition.
<2> The molding resin composition according to <1>, wherein the curable resin includes an epoxy resin, and the molding resin composition further includes a curing agent.
<3> The molding resin composition according to <2>, wherein the curing agent includes an active ester compound.
<4> The molding resin composition according to <3>, wherein the curing agent further includes a phenol curing agent.
<5> The molding resin composition according to <4>, wherein the phenol curing agent contains an aralkyl-type phenol resin and a melamine-modified phenol resin.
<6> The molding resin composition according to <5>, further comprising a stress relaxation agent.
<7> The molding resin composition according to <6>, wherein the stress relaxation agent contains at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer, a trialkylphosphine oxide, and a triarylphosphine oxide.
<8> The molding resin composition according to any one of <1> to <7>, which is used for a high-frequency device.
<9> The molding resin composition according to <8>, which is used for sealing electronic components in a high-frequency device.
<10> The molding resin composition according to any one of <1> to <7>, which is used for an antenna-in-package.
<11> A support member,
an electronic component disposed on the support member;
A cured product of the molding resin composition according to any one of <1> to <7>, which encapsulates the electronic component; and
An electronic component device comprising:
<12> The electronic component device according to <11>, wherein the electronic component includes an antenna.

本開示によれば、比誘電率を維持しつつ、低い誘電正接を有する硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物、及びこれを用いた電子部品装置が提供される。 The present disclosure provides a molding resin composition capable of molding a cured product having a low dielectric tangent while maintaining a relative dielectric constant, and an electronic component device using the same.

本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において、「チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率」は、「チタン酸カルシウム粒子の含有率」と読み替えてもよく、「チタン酸ストロンチウム粒子の含有率」と読み替えてもよい。
本開示において、「チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計」は、「チタン酸カルシウム粒子」と読み替えてもよく、「チタン酸ストロンチウム粒子」と読み替えてもよい。
In the present disclosure, the term "step" includes not only a step that is independent of other steps, but also a step that cannot be clearly distinguished from other steps as long as the purpose of the step is achieved.
In the present disclosure, the numerical ranges indicated using "to" include the numerical values before and after "to" as the minimum and maximum values, respectively.
In the numerical ranges described in the present disclosure in stages, the upper or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper or lower limit value of another numerical range described in stages. In addition, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limit value of the numerical range may be replaced with a value shown in the examples.
In the present disclosure, each component may contain multiple types of the corresponding substance. When multiple substances corresponding to each component are present in the composition, the content or amount of each component means the total content or amount of the multiple substances present in the composition, unless otherwise specified.
In the present disclosure, the particles corresponding to each component may include multiple types. When multiple types of particles corresponding to each component are present in the composition, the particle size of each component means the value for a mixture of the multiple types of particles present in the composition, unless otherwise specified.
In the present disclosure, the "total content of calcium titanate particles and strontium titanate particles" may be read as either the "content of calcium titanate particles" or the "content of strontium titanate particles."
In the present disclosure, the "total of calcium titanate particles and strontium titanate particles" may be read as either "calcium titanate particles" or "strontium titanate particles."

以下、本開示を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示を制限するものではない。 The following describes in detail the form for implementing the present disclosure. However, the present disclosure is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the components (including element steps, etc.) are not essential unless otherwise specified. The same applies to numerical values and their ranges, and do not limit the present disclosure.

<成形用樹脂組成物>
本実施形態の成形用樹脂組成物は、硬化性樹脂と、アルミナ粒子と、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方と、を含む無機充填材と、を含み、前記チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対して5.0体積%~15.0体積%であり、無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物全体に対して60体積%を超えている。
<Molding resin composition>
The molding resin composition of the present embodiment includes a curable resin, an inorganic filler including alumina particles, and at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles, The total content of the strontium titanate particles is 5.0% by volume to 15.0% by volume based on the total inorganic filler, and the total content of the inorganic filler is 60% by volume to the total molding resin composition. Exceeds volume percent.

前記のように、成形用樹脂組成物では、成形後の硬化物において伝送損失を抑制することが求められている。伝送損失を抑制する観点から、低い誘電正接を実現することが望ましく、伝送損失の抑制及び基板の小型化、半導体パッケージの小型化等の観点から、過度な比誘電率の上昇及び低下を抑制して比誘電率のバランスをとることが好ましい。本実施形態の成形用樹脂組成物では、アルミナ粒子とチタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方とを組み合わせること、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率を無機充填材全体に対して5.0体積%~15.0体積%とすること、及び、無機充填材全体の含有率を成形用樹脂組成物全体に対して60体積%超とすることで伝送損失の抑制及び基板の小型化、半導体パッケージの小型化等に適した比誘電率を維持しつつ、低い誘電正接を有する硬化物を成形可能である。 As described above, it is required that the molding resin composition suppresses transmission loss in the cured product after molding. From the viewpoint of suppressing transmission loss, it is desirable to realize a low dielectric tangent, and from the viewpoint of suppressing transmission loss and miniaturizing the substrate and semiconductor package, it is preferable to suppress excessive increase and decrease in the relative dielectric constant and balance the relative dielectric constant. In the molding resin composition of this embodiment, by combining alumina particles with at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles, setting the total content of calcium titanate particles and strontium titanate particles to 5.0 volume % to 15.0 volume % with respect to the entire inorganic filler, and setting the content of the entire inorganic filler to more than 60 volume % with respect to the entire molding resin composition, it is possible to mold a cured product having a low dielectric tangent while maintaining a relative dielectric constant suitable for suppressing transmission loss and miniaturizing the substrate and semiconductor package.

さらに、本実施形態の成形用樹脂組成物では、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方を使用することでチタン酸バリウム等を使用した場合と比較して低い誘電正接を有する硬化物が成形可能である。 Furthermore, in the molding resin composition of this embodiment, by using at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles, it is possible to mold a cured product having a lower dielectric tangent than when barium titanate or the like is used.

以下、成形用樹脂組成物を構成する各成分について説明する。本実施形態の成形用樹脂組成物は、硬化性樹脂と、無機充填材と、を含み、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。 The components constituting the molding resin composition are described below. The molding resin composition of this embodiment contains a curable resin and an inorganic filler, and may contain other components as necessary.

(硬化性樹脂)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、硬化性樹脂を含む。
硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂及び光硬化性樹脂のいずれであってもよく、量産性の観点からは、熱硬化性樹脂であることが好ましい。
熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、ビスマレイミド樹脂等のポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。熱硬化性樹脂は、成形性及び電気特性の観点から、エポキシ樹脂及びポリイミド樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、エポキシ樹脂及びビスマレイミド樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることがより好ましく、エポキシ樹脂であることがさらに好ましい。
成形用樹脂組成物は、硬化性樹脂を1種のみ含んでもよく、2種以上含んでもよい。
以下、硬化性樹脂の一例として、エポキシ樹脂について説明する。
(Hardening Resin)
The molding resin composition in this embodiment contains a curable resin.
The curable resin may be either a thermosetting resin or a photocurable resin, and from the viewpoint of mass productivity, a thermosetting resin is preferable.
Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, urethane resin, polyimide resin such as bismaleimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, silicone resin, acrylic resin, etc. From the viewpoint of moldability and electrical properties, the thermosetting resin is preferably at least one selected from the group consisting of epoxy resin and polyimide resin, more preferably at least one selected from the group consisting of epoxy resin and bismaleimide resin, and further preferably an epoxy resin.
The molding resin composition may contain only one type of curable resin, or may contain two or more types of curable resin.
Hereinafter, an epoxy resin will be described as an example of the curable resin.

-エポキシ樹脂-
成形用樹脂組成物は、硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を含むことが好ましい。
成形用樹脂組成物が硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を含む場合、硬化性樹脂全体に対するエポキシ樹脂の含有率は、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましい。硬化性樹脂全体に対するエポキシ樹脂の含有率は、100質量%であってもよい。
エポキシ樹脂は、分子中にエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
-Epoxy resin-
The molding resin composition preferably contains an epoxy resin as the curable resin.
When the molding resin composition contains an epoxy resin as a curable resin, the content of the epoxy resin in the entire curable resin is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more. The content of the epoxy resin in the entire curable resin may be 100% by mass.
The type of epoxy resin is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule.

エポキシ樹脂として具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはアクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of epoxy resins include novolac-type epoxy resins (phenol novolac-type epoxy resins, o-cresol novolac-type epoxy resins, etc.) which are obtained by epoxidizing novolac resins obtained by condensing or co-condensing at least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, etc., and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene, etc., with an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, etc., under an acid catalyst; triphenylmethane-type phenolic resins which are obtained by condensing or co-condensing the above-mentioned phenolic compound with an aromatic aldehyde compound such as benzaldehyde, salicylaldehyde, etc., under an acid catalyst; diphenylmethane type epoxy resins; copolymer type epoxy resins obtained by epoxidizing novolak resins obtained by co-condensing the above-mentioned phenol compounds and naphthol compounds with aldehyde compounds under an acidic catalyst; diphenylmethane type epoxy resins which are diglycidyl ethers of bisphenol A, bisphenol F, etc.; biphenyl type epoxy resins which are diglycidyl ethers of alkyl-substituted or unsubstituted biphenols; stilbene type epoxy resins which are diglycidyl ethers of stilbene-based phenol compounds; sulfur atom-containing epoxy resins which are diglycidyl ethers of bisphenol S, etc.; epoxy resins which are glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; glycidyl ester type epoxy resins which are glycidyl esters of polyvalent carboxylic acid compounds such as phthalic acid, isophthalic acid, and tetrahydrophthalic acid. epoxy resins; glycidylamine-type epoxy resins in which active hydrogen attached to nitrogen atoms of aniline, diaminodiphenylmethane, isocyanuric acid, etc. is replaced with a glycidyl group; dicyclopentadiene-type epoxy resins in which a co-condensed resin of dicyclopentadiene and a phenol compound is epoxidized; alicyclic epoxy resins such as vinylcyclohexene diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and 2-(3,4-epoxy)cyclohexyl-5,5-spiro(3,4-epoxy)cyclohexane-m-dioxane in which an olefin bond in a molecule is epoxidized; paraxylylene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of paraxylylene-modified phenol resins; metaxylylene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of metaxylylene-modified phenol resins; terpene-modified phenols; Terpene-modified epoxy resins are glycidyl ethers of phenol resins; dicyclopentadiene-modified epoxy resins are glycidyl ethers of dicyclopentadiene-modified phenol resins; cyclopentadiene-modified epoxy resins are glycidyl ethers of cyclopentadiene-modified phenol resins; polycyclic aromatic ring-modified epoxy resins are glycidyl ethers of polycyclic aromatic ring-modified phenol resins; naphthalene-type epoxy resins are glycidyl ethers of naphthalene ring-containing phenol resins; halogenated phenol novolac-type epoxy resins; hydroquinone-type epoxy resins; trimethylolpropane-type epoxy resins; linear aliphatic epoxy resins obtained by oxidizing olefin bonds with peracids such as peracetic acid; aralkyl-type epoxy resins obtained by epoxidizing aralkyl-type phenol resins such as phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins; and the like. Furthermore, epoxy-oxidized acrylic resins and the like can also be mentioned as epoxy resins. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂は、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂の少なくともいずれか1つを含むことが好ましく、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂を含むことがより好ましい。
o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂の合計含有率は、エポキシ樹脂全量に対し、50質量%~100質量%であることが好ましく、70質量%~100質量%であることがより好ましく、90質量%~100質量%であることがさらに好ましい。
The epoxy resin preferably contains at least one of an o-cresol novolac type epoxy resin and a biphenyl type epoxy resin, and more preferably contains an o-cresol novolac type epoxy resin and a biphenyl type epoxy resin.
The total content of the o-cresol novolac type epoxy resin and the biphenyl type epoxy resin is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and further preferably 90% by mass to 100% by mass, based on the total amount of the epoxy resins.

エポキシ樹脂のエポキシ当量(分子量/エポキシ基数)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、100g/eq~1000g/eqであることが好ましく、150g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。
The epoxy equivalent (molecular weight/number of epoxy groups) of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 100 g/eq to 1000 g/eq, and more preferably 150 g/eq to 500 g/eq.
The epoxy equivalent of the epoxy resin is a value measured by a method in accordance with JIS K 7236:2009.

エポキシ樹脂が固体である場合、エポキシ樹脂の軟化点又は融点は特に制限されない。エポキシ樹脂の軟化点又は融点は、成形性と耐リフロー性の観点からは40℃~180℃であることが好ましく、成形用樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点からは50℃~130℃であることがより好ましい。
エポキシ樹脂の融点又は軟化点は、示差走査熱量測定(DSC)又はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。
When the epoxy resin is a solid, the softening point or melting point of the epoxy resin is not particularly limited. The softening point or melting point of the epoxy resin is preferably 40° C. to 180° C. from the viewpoints of moldability and reflow resistance, and more preferably 50° C. to 130° C. from the viewpoint of handleability during preparation of the molding resin composition.
The melting point or softening point of the epoxy resin is a value measured by differential scanning calorimetry (DSC) or a method in accordance with JIS K 7234:1986 (ring and ball method).

成形用樹脂組成物が硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を含む場合、成形用樹脂組成物の全体に占めるエポキシ樹脂の質量割合は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%~30質量%であることが好ましく、2質量%~20質量%であることがより好ましく、3.5質量%~13質量%であることがさらに好ましい。 When the molding resin composition contains an epoxy resin as a curable resin, the mass ratio of the epoxy resin to the entire molding resin composition is preferably 0.5% by mass to 30% by mass, more preferably 2% by mass to 20% by mass, and even more preferably 3.5% by mass to 13% by mass, from the viewpoints of strength, fluidity, heat resistance, moldability, etc.

-硬化剤-
成形用樹脂組成物が硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を含む場合、成形用樹脂組成物はさらに硬化剤を含んでもよい。成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含む硬化性樹脂と、硬化剤と、アルミナ粒子並びにチタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウムの少なくとも一方を含む無機充填材と、を含むことが好ましい。硬化剤の種類は特に制限されない。
- Hardener -
When the molding resin composition contains an epoxy resin as a curable resin, the molding resin composition may further contain a curing agent. The molding resin composition preferably contains a curable resin containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler containing alumina particles and at least one of calcium titanate particles and strontium titanate. The type of the curing agent is not particularly limited.

硬化剤は活性エステル化合物を含むことが好ましい。活性エステル化合物は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。ここで、活性エステル化合物とは、エポキシ基と反応するエステル基を1分子中に1個以上有し、エポキシ樹脂の硬化作用を有する化合物をいう。なお、硬化剤が活性エステル化合物を含む場合、硬化剤は活性エステル化合物以外の硬化剤を含んでいてもよく、活性エステル化合物以外の硬化剤を含んでいなくてもよい。 The curing agent preferably contains an active ester compound. The active ester compounds may be used alone or in combination of two or more. Here, the active ester compound refers to a compound that has one or more ester groups in one molecule that react with an epoxy group and has the effect of curing an epoxy resin. In addition, when the curing agent contains an active ester compound, the curing agent may contain a curing agent other than the active ester compound, or may not contain a curing agent other than the active ester compound.

硬化剤として活性エステル化合物を用いると、硬化剤としてフェノール硬化剤又はアミン硬化剤を用いた場合に比べ、硬化物の誘電正接を低く抑えることができる。その理由は以下のように推測される。
エポキシ樹脂とフェノール硬化剤又はアミン硬化剤との反応においては、2級水酸基が発生する。これに対して、エポキシ樹脂と活性エステル化合物との反応においては、2級水酸基のかわりにエステル基が生じる。エステル基は、2級水酸基に比べて極性が低い故、硬化剤として活性エステル化合物を含む成形用樹脂組成物は、硬化剤として2級水酸基を発生させる硬化剤のみを含む成形用樹脂組成物に比べて、硬化物の誘電正接を低く抑えることができる。
また、硬化物中の極性基は硬化物の吸水性を高めるところ、硬化剤として活性エステル化合物を用いることによって硬化物の極性基濃度を抑えることができ、硬化物の吸水性を抑制することができる。そして、硬化物の吸水性を抑制すること、つまりは極性分子であるHOの含有量を抑制することにより、硬化物の誘電正接をさらに低く抑えることができる。
When an active ester compound is used as a curing agent, the dielectric tangent of the cured product can be kept low compared to when a phenolic or amine curing agent is used as a curing agent. The reason for this is presumed to be as follows.
In the reaction between an epoxy resin and a phenolic or amine curing agent, a secondary hydroxyl group is generated. In contrast, in the reaction between an epoxy resin and an active ester compound, an ester group is generated instead of a secondary hydroxyl group. Since an ester group has a lower polarity than a secondary hydroxyl group, a molding resin composition containing an active ester compound as a curing agent can reduce the dielectric tangent of the cured product compared to a molding resin composition containing only a curing agent that generates a secondary hydroxyl group as a curing agent.
In addition, while polar groups in a cured product increase the water absorption of the cured product, the polar group concentration of the cured product can be reduced by using an active ester compound as a curing agent, and the water absorption of the cured product can be reduced. Furthermore, by reducing the water absorption of the cured product, that is, by reducing the content of H2O , which is a polar molecule, the dielectric tangent of the cured product can be further reduced.

活性エステル化合物は、エポキシ基と反応するエステル基を分子中に1個以上有する化合物であればその種類は特に制限されない。活性エステル化合物としては、フェノールエステル化合物、チオフェノールエステル化合物、N-ヒドロキシアミンエステル化合物、複素環ヒドロキシ化合物のエステル化物等が挙げられる。 There are no particular limitations on the type of active ester compound, so long as it is a compound that has one or more ester groups in the molecule that react with an epoxy group. Examples of active ester compounds include phenol ester compounds, thiophenol ester compounds, N-hydroxyamine ester compounds, and esters of heterocyclic hydroxy compounds.

活性エステル化合物としては、例えば、脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸の少なくとも1種と脂肪族ヒドロキシ化合物及び芳香族ヒドロキシ化合物の少なくとも1種とから得られるエステル化合物が挙げられる。脂肪族化合物を重縮合の成分とするエステル化合物は、脂肪族鎖を有することによりエポキシ樹脂との相溶性に優れる傾向にある。芳香族化合物を重縮合の成分とするエステル化合物は、芳香環を有することにより耐熱性に優れる傾向にある。 Examples of active ester compounds include ester compounds obtained from at least one of an aliphatic carboxylic acid and an aromatic carboxylic acid and at least one of an aliphatic hydroxy compound and an aromatic hydroxy compound. Ester compounds that use an aliphatic compound as a polycondensation component tend to have excellent compatibility with epoxy resins due to the presence of an aliphatic chain. Ester compounds that use an aromatic compound as a polycondensation component tend to have excellent heat resistance due to the presence of an aromatic ring.

活性エステル化合物の具体例としては、芳香族カルボン酸とフェノール性水酸基との縮合反応にて得られる芳香族エステルが挙げられる。中でも、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ジフェニルプロパン、ジフェニルメタン、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルホン酸等の芳香環の水素原子の2~4個をカルボキシ基で置換した芳香族カルボン酸成分と、前記した芳香環の水素原子の1個を水酸基で置換した1価フェノールと、前記した芳香環の水素原子の2~4個を水酸基で置換した多価フェノールと、の混合物を原材料として、芳香族カルボン酸とフェノール性水酸基との縮合反応にて得られる芳香族エステルが好ましい。すなわち、上記芳香族カルボン酸成分由来の構造単位と上記1価フェノール由来の構造単位と上記多価フェノール由来の構造単位とを有する芳香族エステルが好ましい。 Specific examples of active ester compounds include aromatic esters obtained by condensation reaction between aromatic carboxylic acids and phenolic hydroxyl groups. Among them, aromatic esters obtained by condensation reaction between aromatic carboxylic acids and phenolic hydroxyl groups using a mixture of raw materials: an aromatic carboxylic acid component in which 2 to 4 hydrogen atoms of the aromatic ring of benzene, naphthalene, biphenyl, diphenylpropane, diphenylmethane, diphenylether, diphenylsulfonic acid, etc. are substituted with carboxyl groups; a monohydric phenol in which one hydrogen atom of the aromatic ring is substituted with a hydroxyl group; and a polyhydric phenol in which 2 to 4 hydrogen atoms of the aromatic ring are substituted with a hydroxyl group. That is, aromatic esters having structural units derived from the aromatic carboxylic acid component, structural units derived from the monohydric phenol, and structural units derived from the polyhydric phenol are preferred.

活性エステル化合物の具体例としては、特開2012-246367号公報に記載されている、脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール化合物が結節された分子構造を有するフェノール樹脂と、芳香族ジカルボン酸又はそのハライドと、芳香族モノヒドロキシ化合物と、を反応させて得られる構造を有する活性エステル樹脂が挙げられる。当該活性エステル樹脂としては、下記の構造式(1)で表される化合物が好ましい。 Specific examples of active ester compounds include the active ester resin described in JP 2012-246367 A, which has a structure obtained by reacting a phenolic resin having a molecular structure in which phenolic compounds are bonded via alicyclic hydrocarbon groups with an aromatic dicarboxylic acid or its halide and an aromatic monohydroxy compound. As the active ester resin, a compound represented by the following structural formula (1) is preferable.

構造式(1)中、Rは、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは非置換のベンゼン環、非置換のナフタレン環、炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環、又はビフェニル基であり、Yはベンゼン環、ナフタレン環、又は炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環であり、kは0又は1であり、nは繰り返し数の平均を表し0~5である。 In structural formula (1), R1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group; X is an unsubstituted benzene ring, an unsubstituted naphthalene ring, a benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a biphenyl group; Y is a benzene ring, a naphthalene ring, or a benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; k is 0 or 1; and n represents the average number of repetitions and is 0 to 5.

構造式(1)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(1-1)~(1-10)が挙げられる。構造式中のt-Buは、tert-ブチル基である。 Specific examples of the compound represented by structural formula (1) include the following exemplary compounds (1-1) to (1-10). In the structural formula, t-Bu is a tert-butyl group.

活性エステル化合物の別の具体例としては、特開2014-114352号公報に記載されている、下記の構造式(2)で表される化合物及び下記の構造式(3)で表される化合物が挙げられる。 Other specific examples of active ester compounds include the compound represented by the following structural formula (2) and the compound represented by the following structural formula (3), which are described in JP 2014-114352 A.

構造式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基であり、Zは非置換のベンゾイル基、非置換のナフトイル基、炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゾイル基又はナフトイル基、及び炭素数2~6のアシル基からなる群から選ばれるエステル形成構造部位(z1)、又は水素原子(z2)であり、Zのうち少なくとも1個はエステル形成構造部位(z1)である。 In structural formula (2), R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; Z represents an ester-forming structural moiety (z1) selected from the group consisting of an unsubstituted benzoyl group, an unsubstituted naphthoyl group, a benzoyl group or a naphthoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom (z2); and at least one of the Z's is an ester-forming structural moiety (z1).

構造式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基であり、Zは非置換のベンゾイル基、非置換のナフトイル基、炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゾイル基又はナフトイル基、及び炭素数2~6のアシル基からなる群から選ばれるエステル形成構造部位(z1)、又は水素原子(z2)であり、Zのうち少なくとも1個はエステル形成構造部位(z1)である。 In structural formula (3), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; Z represents an ester-forming structural moiety (z1) selected from the group consisting of an unsubstituted benzoyl group, an unsubstituted naphthoyl group, a benzoyl group or a naphthoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom (z2); and at least one of the Z's is an ester-forming structural moiety (z1).

構造式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(2-1)~(2-6)が挙げられる。 Specific examples of compounds represented by structural formula (2) include the following exemplary compounds (2-1) to (2-6).

構造式(3)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(3-1)~(3-6)が挙げられる。 Specific examples of compounds represented by structural formula (3) include the following exemplary compounds (3-1) to (3-6).

活性エステル化合物としては、市販品を用いてもよい。活性エステル化合物の市販品としては、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物として「EXB9451」、「EXB9460」、「EXB9460S」、「HPC-8000-65T」(DIC株式会社製);芳香族構造を含む活性エステル化合物として「EXB9416-70BK」、「EXB-8」、「EXB-9425」(DIC株式会社製);フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物として「DC808」(三菱ケミカル株式会社製);フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物として「YLH1026」(三菱ケミカル株式会社製);等が挙げられる。 As the active ester compound, commercially available products may be used. Commercially available active ester compounds include "EXB9451", "EXB9460", "EXB9460S", and "HPC-8000-65T" (manufactured by DIC Corporation) as active ester compounds containing a dicyclopentadiene-type diphenol structure; "EXB9416-70BK", "EXB-8", and "EXB-9425" (manufactured by DIC Corporation) as active ester compounds containing an aromatic structure; "DC808" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as an active ester compound containing an acetylated product of phenol novolac; and "YLH1026" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as an active ester compound containing a benzoylated product of phenol novolac.

活性エステル化合物のエステル当量(分子量/エステル基数)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、150g/eq~400g/eqが好ましく、170g/eq~300g/eqがより好ましく、200g/eq~250g/eqがさらに好ましい。
活性エステル化合物のエステル当量は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
The ester equivalent (molecular weight/number of ester groups) of the active ester compound is not particularly limited, but from the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, it is preferably 150 g/eq to 400 g/eq, more preferably 170 g/eq to 300 g/eq, and even more preferably 200 g/eq to 250 g/eq.
The ester equivalent of the active ester compound is a value measured by a method in accordance with JIS K 0070:1992.

エポキシ樹脂と活性エステル化合物との当量比(エステル基/エポキシ基)は、硬化物の誘電正接を低く抑える観点からは、0.9以上が好ましく、0.95以上がより好ましく、0.97以上がさらに好ましい。
エポキシ樹脂と活性エステル化合物との当量比(エステル基/エポキシ基)は、活性エステル化合物の未反応分を少なく抑える観点からは、1.1以下が好ましく、1.05以下がより好ましく、1.03以下がさらに好ましい。
From the viewpoint of keeping the dielectric tangent of the cured product low, the equivalent ratio of the epoxy resin to the active ester compound (ester group/epoxy group) is preferably 0.9 or more, more preferably 0.95 or more, and even more preferably 0.97 or more.
From the viewpoint of keeping the amount of unreacted active ester compound low, the equivalent ratio of the epoxy resin to the active ester compound (ester group/epoxy group) is preferably 1.1 or less, more preferably 1.05 or less, and even more preferably 1.03 or less.

硬化剤は、活性エステル化合物以外のその他の硬化剤を含んでもよい。その他の硬化剤の種類は特に制限されず、成形用樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。その他の硬化剤としては、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。 The curing agent may contain other curing agents other than the active ester compound. The type of other curing agent is not particularly limited and can be selected according to the desired properties of the molding resin composition. Examples of other curing agents include phenol curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, blocked isocyanate curing agents, etc.

フェノール硬化剤として具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等のアルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等と、から合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンと、から共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。これらのフェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of phenolic hardeners include polyhydric phenolic compounds such as resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, and substituted or unsubstituted biphenol; novolac-type phenolic resins obtained by condensing or co-condensing at least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, and aminophenol, and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol, and dihydroxynaphthalene, with aldehyde compounds such as formaldehyde, acetaldehyde, and propionaldehyde, under an acid catalyst; and novolac-type phenolic resins synthesized from the above phenolic compounds and dimethoxy-para-xylene, bis(methoxymethyl)biphenyl, and the like. Examples of the phenol curing agent include aralkyl-type phenolic resins such as phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins; paraxylylene-modified phenolic resins, metaxylylene-modified phenolic resins; melamine-modified phenolic resins; terpene-modified phenolic resins; dicyclopentadiene-type phenolic resins and dicyclopentadiene-type naphthol resins synthesized by copolymerization of the above-mentioned phenolic compounds and dicyclopentadiene; cyclopentadiene-modified phenolic resins; polycyclic aromatic ring-modified phenolic resins; biphenyl-type phenolic resins; triphenylmethane-type phenolic resins obtained by condensing or co-condensing the above-mentioned phenolic compounds with aromatic aldehyde compounds such as benzaldehyde and salicylaldehyde under an acid catalyst; and phenolic resins obtained by copolymerizing two or more of these. These phenolic curing agents may be used alone or in combination of two or more.

その他の硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、その他の硬化剤の官能基当量は70g/eq~1000g/eqであることが好ましく、80g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
その他の硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量)は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
The functional group equivalent of the other curing agent (hydroxyl group equivalent in the case of a phenolic curing agent) is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, the functional group equivalent of the other curing agent is preferably 70 g/eq to 1000 g/eq, and more preferably 80 g/eq to 500 g/eq.
The functional group equivalent of other curing agents (hydroxyl group equivalent in the case of a phenolic curing agent) is a value measured by a method in accordance with JIS K 0070:1992.

硬化剤の軟化点又は融点は、特に制限されない。硬化剤の軟化点又は融点は、成形性と耐リフロー性の観点からは、40℃~180℃であることが好ましく、成形用樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点からは、50℃~130℃であることがより好ましい。
硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。
The softening point or melting point of the curing agent is not particularly limited. From the viewpoints of moldability and reflow resistance, the softening point or melting point of the curing agent is preferably 40° C. to 180° C., and from the viewpoint of handleability during production of the molding resin composition, it is more preferably 50° C. to 130° C.
The melting point or softening point of the curing agent is a value measured in the same manner as the melting point or softening point of the epoxy resin.

エポキシ樹脂と硬化剤(硬化剤を複数種用いた場合はすべての硬化剤)との当量比、すなわちエポキシ樹脂中の官能基数に対する硬化剤中の官能基数の比(硬化剤中の官能基数/エポキシ樹脂中の官能基数)は、特に制限されない。それぞれの未反応分を少なく抑える観点からは、0.5~2.0の範囲に設定されることが好ましく、0.6~1.3の範囲に設定されることがより好ましい。成形性と耐リフロー性の観点からは、0.8~1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。 The equivalent ratio of the epoxy resin to the curing agent (all curing agents when multiple types of curing agents are used), i.e., the ratio of the number of functional groups in the curing agent to the number of functional groups in the epoxy resin (number of functional groups in the curing agent/number of functional groups in the epoxy resin), is not particularly limited. From the viewpoint of keeping the amount of unreacted components to a minimum, it is preferably set in the range of 0.5 to 2.0, and more preferably in the range of 0.6 to 1.3. From the viewpoint of moldability and reflow resistance, it is even more preferable to set it in the range of 0.8 to 1.2.

硬化剤は、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、及びブロックイソシアネート硬化剤からなる群より選択される少なくとも一種のその他の硬化剤と、活性エステル化合物と、を含んでいてもよい。成形用樹脂組成物を硬化した後の曲げ靭性に優れる観点から、硬化剤は、フェノール硬化剤と、活性エステル化合物とを含んでいてもよく、アラルキル型フェノール樹脂と、活性エステル化合物とを含んでいてもよく、アラルキル型フェノール樹脂と、メラミン変性フェノール樹脂と、活性エステル化合物と、を含んでいてもよい。
以下、その他の硬化剤は、フェノール硬化剤と読み替えてもよい。
The curing agent may contain at least one other curing agent selected from the group consisting of a phenol curing agent, an amine curing agent, an acid anhydride curing agent, a polymercaptan curing agent, a polyaminoamide curing agent, an isocyanate curing agent, and a blocked isocyanate curing agent, and an active ester compound. From the viewpoint of excellent bending toughness after curing the molding resin composition, the curing agent may contain a phenol curing agent and an active ester compound, an aralkyl phenolic resin and an active ester compound, or an aralkyl phenolic resin, a melamine-modified phenolic resin, and an active ester compound.
Hereinafter, other curing agents may be read as phenolic curing agents.

硬化剤が活性エステル化合物及びその他の硬化剤を含む場合、活性エステル化合物及びその他の硬化剤の合計量に占める活性エステル化合物の質量割合は、硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、40質量%以上であることが好ましく、60質量%であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、85質量%以上であることが特に好ましく、90質量%以上であることが極めて好ましい。 When the curing agent contains an active ester compound and other curing agents, the mass ratio of the active ester compound to the total amount of the active ester compound and other curing agents is preferably 40 mass% or more, more preferably 60 mass% or more, even more preferably 80 mass% or more, particularly preferably 85 mass% or more, and extremely preferably 90 mass% or more, from the viewpoint of keeping the dielectric tangent of the cured product low.

硬化剤が活性エステル化合物及びその他の硬化剤を含む場合、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計量に占めるエポキシ樹脂及び活性エステル化合物の合計質量割合は、硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、40質量%以上であることが好ましく、60質量%であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、85質量%以上であることが特に好ましく、90質量%以上であることが極めて好ましい。 When the curing agent contains an active ester compound and another curing agent, the total mass ratio of the epoxy resin and the active ester compound to the total amount of the epoxy resin and the curing agent is preferably 40 mass% or more, more preferably 60 mass% or more, even more preferably 80 mass% or more, particularly preferably 85 mass% or more, and extremely preferably 90 mass% or more, from the viewpoint of keeping the dielectric tangent of the cured product low.

硬化剤が活性エステル化合物及びその他の硬化剤を含む場合、活性エステル化合物及びその他の硬化剤の合計量に占める活性エステル化合物の質量割合は、成形用樹脂組成物を硬化した後の曲げ靭性に優れる観点及び硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、40質量%~90質量%であることが好ましく、50質量%~80質量%であることがより好ましく、55質量%~70質量%であることがさらに好ましい。 When the curing agent contains an active ester compound and other curing agents, the mass ratio of the active ester compound to the total amount of the active ester compound and other curing agents is preferably 40% by mass to 90% by mass, more preferably 50% by mass to 80% by mass, and even more preferably 55% by mass to 70% by mass, from the viewpoint of excellent bending toughness after curing of the molding resin composition and of keeping the dielectric tangent of the cured product low.

硬化剤が活性エステル化合物及びその他の硬化剤を含む場合、活性エステル化合物及びその他の硬化剤の合計量に占めるその他の硬化剤の質量割合は、成形用樹脂組成物を硬化した後の曲げ靭性に優れる観点及び硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、10質量%~60質量%であることが好ましく、20質量%~50質量%であることがより好ましく、30質量%~45質量%であることがさらに好ましい。 When the curing agent contains an active ester compound and other curing agents, the mass ratio of the other curing agents to the total amount of the active ester compound and other curing agents is preferably 10% by mass to 60% by mass, more preferably 20% by mass to 50% by mass, and even more preferably 30% by mass to 45% by mass, from the viewpoint of excellent bending toughness after curing of the molding resin composition and of keeping the dielectric tangent of the cured product low.

成形用樹脂組成物がエポキシ樹脂及び硬化剤を含む場合、エポキシ樹脂以外の硬化性樹脂の含有率は、成形用樹脂組成物の全体に対して、5質量%未満であってもよく、4質量%以下であってもよく、3質量%以下であってもよい。 When the molding resin composition contains an epoxy resin and a curing agent, the content of the curable resin other than the epoxy resin may be less than 5% by mass, 4% by mass or less, or 3% by mass or less, based on the total amount of the molding resin composition.

-ポリイミド樹脂-
成形用樹脂組成物は、硬化性樹脂としてポリイミド樹脂を含んでもよい。
ポリイミド樹脂は、イミド結合を有する高分子化合物であれば特に限定されるものではない。ポリイミド樹脂としては、ビスマレイミド樹脂等が挙げられる。
-Polyimide resin-
The molding resin composition may contain a polyimide resin as a curable resin.
The polyimide resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound having an imide bond. Examples of the polyimide resin include bismaleimide resin.

ビスマレイミド樹脂としては、2以上のN-置換マレイミド基を有する化合物と2以上のアミノ基を有する化合物との共重合体が挙げられる。以下、2以上のN-置換マレイミド基を有する化合物を「ポリマレイミド化合物」ともいい、2以上のアミノ基を有する化合物を「ポリアミノ化合物」ともいう。
ビスマレイミド樹脂は、ポリマレイミド化合物とポリアミノ化合物とを含む組成物を重合させた重合体であればよく、ポリマレイミド化合物及びポリアミノ化合物以外のその他の化合物に由来する単位を含んでもよい。その他の化合物としては、2以上のエチレン性不飽和二重結合を含む基を有する化合物等が挙げられる。以下、2以上のエチレン性不飽和二重結合を含む基を有する化合物を「エチレン性化合物」ともいう。
Examples of bismaleimide resins include copolymers of a compound having two or more N-substituted maleimide groups and a compound having two or more amino groups. Hereinafter, a compound having two or more N-substituted maleimide groups is also referred to as a "polymaleimide compound," and a compound having two or more amino groups is also referred to as a "polyamino compound."
The bismaleimide resin may be a polymer obtained by polymerizing a composition containing a polymaleimide compound and a polyamino compound, and may contain units derived from other compounds other than the polymaleimide compound and the polyamino compound. Examples of other compounds include compounds having a group containing two or more ethylenically unsaturated double bonds. Hereinafter, a compound having a group containing two or more ethylenically unsaturated double bonds is also referred to as an "ethylenic compound".

ポリマレイミド化合物は、2以上のN-置換マレイミド基を有する化合物であれば限定されず、2つのN-置換マレイミド基を有する化合物であってもよく、3以上のN-置換マレイミド基を有する化合物であってもよい。入手容易性の観点から、ポリマレイミド化合物は、2つのN-置換マレイミド基を有する化合物であることが好ましい。 The polymaleimide compound is not limited as long as it has two or more N-substituted maleimide groups, and may be a compound having two N-substituted maleimide groups or a compound having three or more N-substituted maleimide groups. From the viewpoint of availability, it is preferable that the polymaleimide compound is a compound having two N-substituted maleimide groups.

ポリマレイミド化合物の具体例としては、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、m-フェニレンビスマレイミド、p-フェニレンビスマレイミド、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1,2-ビスマレイミドエタン、1,6-ビスマレイミドヘキサン、1,12-ビスマレイミドドデカン、1,6-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン、1,6-ビスマレイミド-(2,4,4-トリメチル)ヘキサン等が挙げられる。
これらのポリマレイミド化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
Specific examples of the polymaleimide compound include bis(4-maleimidophenyl)methane, bis(3-maleimidophenyl)methane, polyphenylmethane maleimide, bis(4-maleimidophenyl)ether, bis(4-maleimidophenyl)sulfone, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, p-phenylene bismaleimide, 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane, 1,2-bismaleimidoethane, 1,6-bismaleimidohexane, 1,12-bismaleimidododecane, 1,6-bismaleimido-(2,2,4-trimethyl)hexane, 1,6-bismaleimido-(2,4,4-trimethyl)hexane, and the like.
These polymaleimide compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

ポリアミノ化合物は、2以上のアミノ基を有する化合物であれば限定されず、2つのアミノ基を有する化合物であってもよく、3以上のアミノ基を有する化合物であってもよい。入手容易性の観点から、ポリアミノ化合物は、2つのアミノ基を有する化合物であることが好ましい。 The polyamino compound is not limited as long as it has two or more amino groups, and may be a compound having two amino groups or a compound having three or more amino groups. From the viewpoint of availability, it is preferable that the polyamino compound is a compound having two amino groups.

ポリアミノ化合物の具体例としては、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチル-ジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチル-ジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルケトン、4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジヒドロキシベンジジン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンジアミン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3-ビス[1-(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)-1-メチルエチル]ベンゼン、1,4-ビス[1-(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)-1-メチルエチル]ベンゼン、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、3,3’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン等が挙げられる。
これらのポリアミノ化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
Specific examples of the polyamino compound include 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyl-diphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyl-diphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ketone, 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxybenzidine, 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)propane, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanediamine, 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1,3 -bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 1,3-bis[1-(4-(4-aminophenoxy)phenyl)-1-methylethyl]benzene, 1,4-bis[1-(4-(4-aminophenoxy)phenyl)-1-methylethyl]benzene, 4,4'-[1, 3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 4,4'-[1,4-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 3,3'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, and the like.
These polyamino compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

エチレン性化合物が有する「エチレン性不飽和二重結合を含む基」としては、ビニル基、アリル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基等が挙げられる。エチレン性化合物は、エチレン性不飽和二重結合を含む基を、1分子中に1種のみ有してもよく、2種以上有してもよい。
エチレン性化合物は、エチレン性不飽和二重結合を含む基のほかに、さらに他の基を有してもよい。他の基としては、アミノ基、エーテル基、スルフィド基等が挙げられる。
エチレン性化合物の具体例としては、ジアリルアミン、ジアリルエーテル、ジアリルスフィド、トリアリルイソシアヌレート等が挙げられる。
Examples of the "group containing an ethylenically unsaturated double bond" contained in the ethylenic compound include a vinyl group, an allyl group, a vinyloxy group, an allyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group, etc. The ethylenic compound may have only one type of group containing an ethylenically unsaturated double bond in one molecule, or may have two or more types of groups containing an ethylenically unsaturated double bond in one molecule.
The ethylenic compound may further have other groups in addition to the group containing an ethylenically unsaturated double bond, such as an amino group, an ether group, or a sulfide group.
Specific examples of the ethylenic compound include diallylamine, diallyl ether, diallyl sulfide, and triallyl isocyanurate.

ビスマレイミド樹脂中における、ポリアミノ化合物のアミノ基数(Ta2)に対するポリマレイミド化合物のN-置換マレイミド基数(Ta1)の当量比(Ta1/Ta2)は、1.0~10.0の範囲であることが好ましく、2.0~10.0の範囲であることがより好ましい。
また、ビスマレイミド樹脂がエチレン性化合物に由来する単位を含む場合、ビスマレイミド樹脂中におけるポリマレイミド化合物のN-置換マレイミド基数(Ta1)に対するエチレン性化合物のエチレン性不飽和二重結合数(Ta3)の当量比(Ta3/Ta1)としては、例えば、0.05~0.2の範囲が挙げられる。
In the bismaleimide resin, the equivalent ratio (Ta1/Ta2) of the number of N-substituted maleimide groups (Ta1) of the polymaleimide compound to the number of amino groups (Ta2) of the polyamino compound is preferably in the range of 1.0 to 10.0, and more preferably in the range of 2.0 to 10.0.
Furthermore, when the bismaleimide resin contains a unit derived from an ethylenic compound, the equivalent ratio (Ta3/Ta1) of the number of ethylenically unsaturated double bonds (Ta3) of the ethylenic compound to the number (Ta1) of N-substituted maleimide groups of the polymaleimide compound in the bismaleimide resin is, for example, in the range of 0.05 to 0.2.

ビスマレイミド樹脂の重量平均分子量は、特に限定されるものではなく、例えば、800~1500の範囲であってもよく、800~1300の範囲であってもよく、800~1100の範囲であってもよい。 The weight average molecular weight of the bismaleimide resin is not particularly limited, and may be, for example, in the range of 800 to 1500, 800 to 1300, or 800 to 1100.

ビスマレイミド樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算することで、求めることができる。
検量線は、標準ポリスチレン:TSKstandard POLYSTYRENE(Type:A-2500、A-5000、F-1、F-2、F-4、F-10、F-20、F-40)[東ソー株式会社製]を用いて3次式で近似する。
GPCに用いる装置としては、ポンプ:L-6200型(株式会社日立ハイテクノロジーズ製)、検出器:L-3300型RI(株式会社日立ハイテクノロジーズ製)、カラムオーブン:L-655A-52(株式会社日立ハイテクノロジーズ製)、ガードカラム:TSK Guardcolumn HHR-L(東ソー製株式会社製、カラムサイズ6.0×40mm)、カラム:TSK gel-G4000HHR+gel-G2000HHR(東ソー製株式会社製、カラムサイズ7.8×300mm)
GPCの測定条件としては、溶離液:テトラヒドロフラン、試料濃度:30mg/5mL、注入量:20μL、流量:1.00mL/分、測定温度:40℃が挙げられる。
The weight average molecular weight of the bismaleimide resin can be determined by gel permeation chromatography (GPC) and conversion from a calibration curve using standard polystyrene.
The calibration curve is approximated by a cubic equation using standard polystyrene: TSKstandard POLYSTYRENE (Type: A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40) [manufactured by Tosoh Corporation].
The equipment used for GPC was: pump: L-6200 type (Hitachi High-Technologies Corporation), detector: L-3300 type RI (Hitachi High-Technologies Corporation), column oven: L-655A-52 (Hitachi High-Technologies Corporation), guard column: TSK Guardcolumn HHR-L (Tosoh Corporation, column size 6.0 x 40 mm), column: TSK gel-G4000HHR + gel-G2000HHR (Tosoh Corporation, column size 7.8 x 300 mm).
The GPC measurement conditions include an eluent: tetrahydrofuran, a sample concentration: 30 mg/5 mL, an injection amount: 20 μL, a flow rate: 1.00 mL/min, and a measurement temperature: 40°C.

成形用樹脂組成物が硬化性樹脂としてポリイミド樹脂を含む場合、成形用樹脂組成物の全体に占めるポリイミド樹脂の質量割合としては、例えば0.5質量%~30質量%が挙げられ、2質量%~20質量%であることが好ましく、3.5質量%~13質量%であることがより好ましい。 When the molding resin composition contains a polyimide resin as a curable resin, the mass proportion of the polyimide resin in the entire molding resin composition is, for example, 0.5% by mass to 30% by mass, preferably 2% by mass to 20% by mass, and more preferably 3.5% by mass to 13% by mass.

(硬化促進剤)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、必要に応じて硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、硬化性樹脂の種類、成形用樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
(Cure Accelerator)
The molding resin composition in this embodiment may contain a curing accelerator as necessary. The type of the curing accelerator is not particularly limited and can be selected depending on the type of the curable resin, the desired properties of the molding resin composition, and the like.

硬化性樹脂としてエポキシ樹脂及びポリイミド樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含む成形用樹脂組成物に用いる硬化促進剤としては、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)等のジアザビシクロアルケン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール等の環状アミジン化合物;前記環状アミジン化合物の誘導体;前記環状アミジン化合物又はその誘導体のフェノールノボラック塩;これらの化合物に無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;DBUのテトラフェニルボレート塩、DBNのテトラフェニルボレート塩、2-エチル-4-メチルイミダゾールのテトラフェニルボレート塩、N-メチルモルホリンのテトラフェニルボレート塩等の環状アミジニウム化合物;ピリジン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物;前記三級アミン化合物の誘導体;酢酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、リン酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、酢酸テトラエチルアンモニウム、安息香酸テトラ-n-ヘキシルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム等のアンモニウム塩化合物;エチルホスフィン、フェニルホスフィン等の第1ホスフィン、ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の第2ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p-トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリス(ベンジル)ホスフィン等の三級ホスフィンなどの、有機ホスフィン;前記有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物に、無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と4-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、2-ブロモフェノール、4-クロロフェノール、3-クロロフェノール、2-クロロフェノール、4-ヨウ化フェノール、3-ヨウ化フェノール、2-ヨウ化フェノール、4-ブロモ-2-メチルフェノール、4-ブロモ-3-メチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジメチルフェノール、4-ブロモ-3,5-ジメチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、4-クロロ-1-ナフトール、1-ブロモ-2-ナフトール、6-ブロモ-2-ナフトール、4-ブロモ-4’-ヒドロキシビフェニル等のハロゲン化フェノール化合物とを反応させた後に、脱ハロゲン化水素の工程を経て得られる、分子内分極を有する化合物;テトラフェニルホスホニウム等のテトラ置換ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート等のテトラ置換ホスホニウムのテトラフェニルボレート塩、テトラ置換ホスホニウムとフェノール化合物との塩などの、テトラ置換ホスホニウム化合物;テトラアルキルホスホニウムと芳香族カルボン酸無水物の部分加水分解物との塩;ホスホベタイン化合物;ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物;などが挙げられる。
硬化促進剤は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the curing accelerator used in the molding resin composition containing at least one selected from the group consisting of epoxy resins and polyimide resins as the curable resin include diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN) and 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), cyclic amidine compounds such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-heptadecylimidazole, and derivatives of the cyclic amidine compounds. phenol novolak salts of the cyclic amidine compounds or derivatives thereof; compounds having intramolecular polarization obtained by adding compounds having a π bond, such as maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, and phenyl-1,4-benzoquinone, and diazophenylmethane, to these compounds; tetraphenylborate salts of DBU cyclic amidinium compounds such as tetraphenylborate salt of DBN, tetraphenylborate salt of 2-ethyl-4-methylimidazole, and tetraphenylborate salt of N-methylmorpholine; tertiary amine compounds such as pyridine, triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris(dimethylaminomethyl)phenol; derivatives of the above tertiary amine compounds; ammonium salt compounds such as tetra-n-butylammonium acetate, tetra-n-butylammonium phosphate, tetraethylammonium acetate, tetra-n-hexylammonium benzoate, and tetrapropylammonium hydroxide; primary phosphines such as ethylphosphine and phenylphosphine, secondary phosphines such as dimethylphosphine and diphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenyl(p-tolyl)phosphine, tris(alkylphenyl)phosphine, tris(alkoxyphenyl)phosphine, tris(alkyl.alkoxyphenyl)phosphine, tris(dialkylphenyl)phosphine, and tris(trialkylphenyl)phosphine. organic phosphines such as tertiary phosphines, such as tris(tetraalkylphenyl)phosphine, tris(dialkoxyphenyl)phosphine, tris(trialkoxyphenyl)phosphine, tris(tetraalkoxyphenyl)phosphine, trialkylphosphine, dialkylarylphosphine, alkyldiarylphosphine, trinaphthylphosphine, and tris(benzyl)phosphine; phosphine compounds such as complexes of the above-mentioned organic phosphines with organoborons; quinone compounds such as 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, anthraquinone, and the like, and compounds having a π bond such as diazophenylmethane; compounds having intramolecular polarization obtained by adding the above organic phosphines or the above phosphine compounds to 4-bromophenol, 3-bromophenol, 2-bromophenol, 4 halogenated phenol compounds such as 1-chlorophenol, 3-chlorophenol, 2-chlorophenol, 4-iodophenol, 3-iodophenol, 2-iodophenol, 4-bromo-2-methylphenol, 4-bromo-3-methylphenol, 4-bromo-2,6-dimethylphenol, 4-bromo-3,5-dimethylphenol, 4-bromo-2,6-di-tert-butylphenol, 4-chloro-1-naphthol, 1-bromo-2-naphthol, 6-bromo-2-naphthol, and 4-bromo-4'-hydroxybiphenyl; and then a dehydrohalogenation step; tetra-substituted phosphonium compounds such as tetra-substituted phosphoniums such as tetraphenylphosphonium, tetraphenylborate salts of tetra-substituted phosphoniums such as tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylborate, and salts of tetra-substituted phosphoniums with phenolic compounds; salts of tetraalkylphosphoniums with partial hydrolysates of aromatic carboxylic acid anhydrides; phosphobetaine compounds; and adducts of phosphonium compounds with silane compounds.
The curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

硬化促進剤は、これらの中でも、有機ホスフィンを含む硬化促進剤であることが好ましい。有機ホスフィンを含む硬化促進剤としては、前記有機ホスフィン、前記有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物、前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物にπ結合をもつ化合物を付加して成る分子内分極を有する化合物などが挙げられる。
これらの中でも、特に好適な硬化促進剤としては、トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンとキノン化合物との付加物、トリブチルホスフィンとキノン化合物との付加物等のトリアルキルホスフィンとキノン化合物との付加物、トリ-p-トリルホスフィンとキノン化合物との付加物等が挙げられる。
Among these, the curing accelerator is preferably an organic phosphine-containing curing accelerator, which may include the organic phosphines, phosphine compounds such as complexes of the organic phosphines and organic borons, and compounds having intramolecular polarization formed by adding a compound having a π bond to the organic phosphines or the phosphine compounds.
Among these, particularly suitable curing accelerators include trialkylphosphine, triphenylphosphine, an adduct of triphenylphosphine and a quinone compound, an adduct of trialkylphosphine and a quinone compound such as an adduct of tributylphosphine and a quinone compound, and an adduct of tri-p-tolylphosphine and a quinone compound.

成形用樹脂組成物が硬化促進剤を含む場合、その量は、樹脂成分100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~15質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.1質量部以上であると、短時間で良好に硬化する傾向にある。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して30質量部以下であると、硬化速度が速すぎず良好な成形品が得られる傾向にある。
ここで、樹脂成分とは、硬化性樹脂及び必要に応じて用いられる硬化剤を意味する。また、樹脂成分100質量部とは、硬化性樹脂と、必要に応じて用いられる硬化剤と、の合計量が100質量部であることを意味する。
When the molding resin composition contains a curing accelerator, the amount is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component. When the amount of the curing accelerator is 0.1 parts by mass or more per 100 parts by mass of the resin component, the composition tends to cure well in a short time. When the amount of the curing accelerator is 30 parts by mass or less per 100 parts by mass of the resin component, the curing speed is not too fast and a good molded product tends to be obtained.
Here, the resin component means a curable resin and a curing agent used as needed. Also, 100 parts by mass of the resin component means that the total amount of the curable resin and the curing agent used as needed is 100 parts by mass.

(硬化開始剤)
成形用樹脂組成物が硬化性樹脂としてポリイミド樹脂を含む場合、成形用樹脂組成物は、必要に応じて硬化開始剤を含んでもよい。
硬化開始剤としては、熱により遊離ラジカルを発生させるラジカル重合開始剤等が挙げられる。硬化開始剤としては、具体的には、無機過酸化物、有機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。
無機過酸化物としては、過硫酸カリウム(ペルオキソ硫酸二カリウム)、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等が挙げられる。
有機過酸化物としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド、1,1-ジ(t-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2-ジ(4,4-ジ(t-ブチルパーオキシ)シクロヘキシル)プロパン等のパーオキシケタール、p-メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、α、α’-ジ(t-ブチルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-t-へキシルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-3、ジ-t-ブチルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ(4-メチルベンゾイル)パーオキサイド等のジアシルパーオキサイド、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t-へキシルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシ2-エチルヘキサノネート等のパーオキシエステルなどが挙げられる。
アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン-1-カルボニトリル、アゾジベンゾイル等が挙げられる。
(Curing initiator)
When the molding resin composition contains a polyimide resin as the curable resin, the molding resin composition may contain a curing initiator as necessary.
The curing initiator may be a radical polymerization initiator that generates free radicals by heat, etc. Specific examples of the curing initiator include inorganic peroxides, organic peroxides, and azo compounds.
Examples of inorganic peroxides include potassium persulfate (dipotassium peroxosulfate), sodium persulfate, and ammonium persulfate.
Examples of organic peroxides include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and cyclohexanone peroxide, peroxyketals such as 1,1-di(t-butylperoxy)cyclohexane and 2,2-di(4,4-di(t-butylperoxy)cyclohexyl)propane, hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide, α,α'-di(t-butylperoxy)diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)cyclohexane, and the like. )hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3, di-t-butyl peroxide and other dialkyl peroxides, dibenzoyl peroxide, di(4-methylbenzoyl)peroxide and other diacyl peroxides, peroxydicarbonates such as di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate and other peroxy esters such as 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxybenzoate, t-butylperoxy 2-ethylhexanoate and other peroxy esters.
Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile, azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1-carbonitrile, and azodibenzoyl.

成形用樹脂組成物が硬化開始剤を含む場合、硬化開始剤の含有量としては、ポリイミド化合物100質量部に対して0.1質量部~8.0質量部が挙げられ、硬化性の観点から0.5質量部~6.0質量部がより好ましい。硬化開始剤の含有量が8.0質量部以下であると、揮発分が発生しにくく硬化中のボイドの発生がより抑制される傾向にある。また、硬化開始剤の含有量を1質量部以上とすることで、硬化性がより良好となる傾向にある。 When the molding resin composition contains a curing initiator, the content of the curing initiator may be 0.1 to 8.0 parts by mass per 100 parts by mass of the polyimide compound, and from the viewpoint of curability, 0.5 to 6.0 parts by mass is more preferable. If the content of the curing initiator is 8.0 parts by mass or less, volatile matter is less likely to be generated and the occurrence of voids during curing tends to be further suppressed. In addition, if the content of the curing initiator is 1 part by mass or more, the curability tends to be better.

(無機充填材)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、アルミナ粒子と、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方と、を含む無機充填材を含む。
無機充填材は、アルミナ粒子、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム粒子以外のその他の充填材を含んでいてもよい。
(Inorganic filler)
The molding resin composition in this embodiment contains an inorganic filler including alumina particles and at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles.
The inorganic filler may include other fillers than alumina particles, calcium titanate particles, or strontium titanate particles.

-アルミナ粒子-
無機充填材は、アルミナ粒子を含む。
アルミナ粒子は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。アルミナ粒子は、体積平均粒径の異なる2種以上の充填材の混合物であってもよい。
- Alumina particles -
The inorganic filler includes alumina particles.
The alumina particles may be used alone or in combination of two or more kinds. The alumina particles may be a mixture of two or more kinds of fillers having different volume average particle sizes.

アルミナ粒子の形状としては、特に限定されず、球形、楕円形、不定形等が挙げられる。アルミナ粒子は、破砕されたものであってもよい。
アルミナ粒子は、表面処理されたものであってもよい。
The shape of the alumina particles is not particularly limited, and examples thereof include spherical, elliptical, amorphous, etc. The alumina particles may be crushed.
The alumina particles may be surface-treated.

アルミナ粒子の含有率は、無機充填材全体に対し、50体積%~95体積%であることが好ましく、85体積%~95体積%であることがより好ましく、90体積%~95体積%であることがさらに好ましい。 The content of alumina particles is preferably 50% to 95% by volume, more preferably 85% to 95% by volume, and even more preferably 90% to 95% by volume, relative to the total inorganic filler.

無機充填材全体に対するアルミナ粒子の含有率(体積%)及びチタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率(体積%)は、下記の方法により求めることができる。
成形用樹脂組成物の硬化物の薄片試料を走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する。SEM画像において任意の面積Sを特定し、面積Sに含まれる無機充填材の総面積Aを求める。次に、SEM-EDX(エネルギー分散型X線分光器)を用い、無機充填材の元素を特定することで、無機充填材の総面積Aの中に含まれるアルミナ粒子、チタン酸カルシウム粒子、チタン酸ストロンチウム粒子等の特定の粒子の総面積Bを求める。特定の粒子の総面積Bを無機充填材の総面積Aで除算した値を百分率(%)に換算し、この値を無機充填材全体に対する特定の粒子の含有率(体積%)とする。
面積Sは、無機充填材の大きさに対して十分大きい面積とする。例えば、無機充填材が100個以上含まれる大きさとする。面積Sは、複数個の切断面の合計でもよい。
The content (vol %) of alumina particles and the total content (vol %) of calcium titanate particles and strontium titanate particles relative to the entire inorganic filler can be determined by the following method.
A thin sample of the cured product of the molding resin composition is photographed with a scanning electron microscope (SEM). An arbitrary area S is identified in the SEM image, and the total area A of the inorganic filler contained in the area S is determined. Next, a SEM-EDX (energy dispersive X-ray spectrometer) is used to identify the elements of the inorganic filler, thereby determining the total area B of specific particles such as alumina particles, calcium titanate particles, and strontium titanate particles contained in the total area A of the inorganic filler. The total area B of the specific particles is divided by the total area A of the inorganic filler to convert it to a percentage (%), and this value is regarded as the content (volume %) of the specific particles in the entire inorganic filler.
The area S is set to be sufficiently large relative to the size of the inorganic filler, for example, a size that contains 100 or more inorganic fillers. The area S may be the total area of a plurality of cut surfaces.

成形用樹脂組成物中にて、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計に対するアルミナ粒子の質量割合(アルミナ粒子/エポキシ樹脂及び硬化剤の合計)は、誘電正接及び流動性のバランスの観点から、1~25であることが好ましく2~20であることがより好ましく、3~15であることがさらに好ましく、4~12であることが特に好ましい。 In the molding resin composition, the mass ratio of the alumina particles to the total of the epoxy resin and the hardener (alumina particles/total of the epoxy resin and the hardener) is preferably 1 to 25, more preferably 2 to 20, even more preferably 3 to 15, and particularly preferably 4 to 12, from the viewpoint of the balance between the dielectric tangent and the fluidity.

アルミナ粒子の体積平均粒径は、特に制限されない。アルミナ粒子の体積平均粒径は、0.2μm~100μmであることが好ましく、0.5μm~50μmであることがより好ましく、1.0μm~10μmであることがさらに好ましい。前述の体積平均粒径が0.2μm以上であると、成形用樹脂組成物の粘度の上昇がより抑制される傾向にある。前述の体積平均粒径が100μm以下であると、成形用樹脂組成物の充填性がより向上する傾向にある。
アルミナ粒子の体積平均粒径は、成形用樹脂組成物をるつぼに入れて800℃で4時間放置し灰化させる。得られた灰分をSEMで観察し、形状ごと分離し観察画像から粒度分布を求め、その粒度分布から体積平均粒径(D50)としてアルミナ粒子の体積平均粒径を求めることができる。また、アルミナ粒子の体積平均粒径は、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(例えば株式会社堀場製作所、LA920)による測定により求めてもよい。
The volume average particle diameter of the alumina particles is not particularly limited. The volume average particle diameter of the alumina particles is preferably 0.2 μm to 100 μm, more preferably 0.5 μm to 50 μm, and even more preferably 1.0 μm to 10 μm. When the volume average particle diameter is 0.2 μm or more, the increase in viscosity of the molding resin composition tends to be more suppressed. When the volume average particle diameter is 100 μm or less, the filling property of the molding resin composition tends to be more improved.
The volume average particle diameter of the alumina particles is measured by placing the molding resin composition in a crucible, leaving it at 800° C. for 4 hours, and incinerating it. The ash obtained is observed with a SEM, separated by shape, and the particle size distribution is obtained from the observed image, and the volume average particle diameter of the alumina particles can be obtained from the particle size distribution as the volume average particle diameter (D50). The volume average particle diameter of the alumina particles may also be measured by a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device (e.g., LA920, manufactured by Horiba, Ltd.).

-チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム-
チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウムの形状としては、特に限定されず、球形、楕円形、不定形等が挙げられる。また、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウムは、破砕されたものであってもよい。
チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウムは、表面処理されたものであってもよい。
チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウムは、体積平均粒径の異なる2種以上の充填材の混合物であってもよい。
-Calcium titanate particles and strontium titanate-
The shape of the calcium titanate particles or strontium titanate particles is not particularly limited, and examples thereof include spherical, elliptical, amorphous, etc. Furthermore, the calcium titanate particles or strontium titanate particles may be crushed.
The calcium titanate particles or strontium titanate particles may be surface-treated.
The calcium titanate particles or strontium titanate particles may be a mixture of two or more types of fillers having different volume average particle sizes.

チタン酸カルシウム粒子の体積平均粒径又はチタン酸ストロンチウムの体積平均粒径は、0.1μm~100μmであってもよく、0.2μm~80μmであってもよく、0.5μm~30μmであってもよく、0.5μm~10μmであってもよく、0.5μm~8μmであってもよい。
チタン酸カルシウム粒子の体積平均粒径及びチタン酸ストロンチウムの体積平均粒径は、以下のようにして測定することができる。成形用樹脂組成物をるつぼに入れ、800℃で4時間放置し、灰化させる。得られた灰分をSEMで観察し、形状ごと分離し観察画像から粒度分布を求め、その粒度分布から体積平均粒径(D50)としてチタン酸カルシウム粒子の体積平均粒径及びチタン酸ストロンチウムの体積平均粒径を求めることができる。また、チタン酸カルシウム粒子の体積平均粒径及びチタン酸ストロンチウムの体積平均粒径は、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(例えば株式会社堀場製作所、LA920)による測定により求めてもよい。
The volume average particle diameter of the calcium titanate particles or the volume average particle diameter of the strontium titanate particles may be 0.1 μm to 100 μm, 0.2 μm to 80 μm, 0.5 μm to 30 μm, 0.5 μm to 10 μm, or 0.5 μm to 8 μm.
The volume average particle diameter of calcium titanate particles and the volume average particle diameter of strontium titanate can be measured as follows. The molding resin composition is placed in a crucible and left at 800°C for 4 hours to be incinerated. The obtained ash is observed with a SEM, separated by shape, and the particle size distribution is obtained from the observation image, and the volume average particle diameter of calcium titanate particles and the volume average particle diameter of strontium titanate can be obtained as the volume average particle diameter (D50) from the particle size distribution. The volume average particle diameter of calcium titanate particles and the volume average particle diameter of strontium titanate particles may also be obtained by measurement using a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device (e.g., HORIBA, Ltd., LA920).

チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率は、誘電率及び誘電正接のバランスの観点から、無機充填材全体に対し、5.0体積%~15.0体積%であり、5.5体積%~13.0体積%であることが好ましく、6.0体積%~12.0体積%であることがより好ましく、6.0体積%~10.0体積%であることがさらに好ましく、6.0体積%~9.0体積%であることが特に好ましい。
アルミナ、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対し、70体積%~100体積%であってもよく、90体積%~100体積%であってもよい。
From the viewpoint of the balance between the dielectric constant and the dielectric tangent, the total content of the calcium titanate particles and the strontium titanate particles is 5.0 vol. % to 15.0 vol. %, preferably 5.5 vol. % to 13.0 vol. %, more preferably 6.0 vol. % to 12.0 vol. %, even more preferably 6.0 vol. % to 10.0 vol. %, and particularly preferably 6.0 vol. % to 9.0 vol. %, relative to the entire inorganic filler.
The total content of alumina, calcium titanate particles, and strontium titanate particles may be 70% by volume to 100% by volume, or 90% by volume to 100% by volume, based on the total volume of the inorganic filler.

成形用樹脂組成物中にて、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計に対するチタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計質量割合(チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計/エポキシ樹脂及び硬化剤の合計)は、誘電正接及び流動性のバランスの観点から、0.5~5であることが好ましく、0.7~2であることがより好ましく、0.8~1.5であることがさらに好ましく、0.9~1.2であることが特に好ましい。 In the molding resin composition, the total mass ratio of calcium titanate particles and strontium titanate particles to the total of epoxy resin and hardener (total of calcium titanate particles and strontium titanate particles/total of epoxy resin and hardener) is preferably 0.5 to 5, more preferably 0.7 to 2, even more preferably 0.8 to 1.5, and particularly preferably 0.9 to 1.2, from the viewpoint of the balance between dielectric tangent and fluidity.

-その他の充填材-
無機充填材は、アルミナ粒子、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム以外のその他の充填材を含んでいてもよい。
その他の充填材の形状としては、特に限定されず、球形、楕円形、不定形等が挙げられる。また、その他の充填材は、破砕されたものであってもよい。
その他の充填材は、表面処理されたものであってもよい。
その他の充填材は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。その他の充填材は、体積平均粒径の異なる2種以上の充填材の混合物であってもよい。
-Other fillers-
The inorganic filler may include other fillers besides alumina particles, calcium titanate particles, or strontium titanate.
The shape of the other filler is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, an elliptical shape, an irregular shape, etc. In addition, the other filler may be crushed.
The other fillers may be surface-treated.
The other fillers may be used alone or in combination of two or more. The other fillers may be a mixture of two or more fillers having different volume average particle sizes.

その他の充填材の種類は、特に制限されない。その他の充填材の材質としては、具体的には、シリカ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。
その他の充填材として、難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。
The type of the other filler is not particularly limited. Specific examples of the material of the other filler include inorganic materials such as silica, calcium carbonate, zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, talc, clay, and mica.
As other fillers, inorganic fillers having a flame retardant effect may be used, such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, composite metal hydroxides such as a composite hydroxide of magnesium and zinc, and zinc borate.

その他の充填材は、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム以外のチタン化合物粒子を含んでもよい。チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム以外のチタン化合物粒子としては、チタン酸バリウム粒子、チタン酸カリウム粒子、チタン酸マグネシウム粒子、チタン酸鉛粒子、チタン酸アルミニウム粒子、チタン酸リチウム、酸化チタン粒子等が挙げられる。
ただし、硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、チタン酸バリウム粒子の含有率は、無機充填材全体に対し、1体積%未満であることが好ましく、0.5体積%未満であることがより好ましく、0.1体積%未満であることがさらに好ましい。つまり、無機充填材は、チタン酸バリウム粒子を含まないか、又はチタン酸バリウム粒子を上記含有率で含むことが好ましい。
また、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム以外のチタン化合物粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対し、1体積%未満であってもよく、0.5体積%未満であってもよく、0.1体積%未満であってもよい。つまり、無機充填材は、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム以外のチタン化合物粒子を含まなくてもよく、チタン酸カルシウム粒子又はチタン酸ストロンチウム以外のチタン化合物粒子を上記含有率で含んでもよい。
The other filler may contain titanium compound particles other than calcium titanate particles or strontium titanate. Examples of titanium compound particles other than calcium titanate particles or strontium titanate particles include barium titanate particles, potassium titanate particles, magnesium titanate particles, lead titanate particles, aluminum titanate particles, lithium titanate, and titanium oxide particles.
However, from the viewpoint of keeping the dielectric tangent of the cured product low, the content of the barium titanate particles is preferably less than 1 volume % of the total inorganic filler, more preferably less than 0.5 volume %, and even more preferably less than 0.1 volume %. In other words, it is preferable that the inorganic filler does not contain barium titanate particles or contains barium titanate particles at the above content.
The total content of the calcium titanate particles or titanium compound particles other than strontium titanate may be less than 1 vol%, less than 0.5 vol%, or less than 0.1 vol% relative to the entire inorganic filler. In other words, the inorganic filler may not contain titanium compound particles other than calcium titanate particles or strontium titanate, or may contain the titanium compound particles other than calcium titanate particles or strontium titanate at the above content.

その他の充填材の体積平均粒径の好ましい範囲は、アルミナ粒子の体積平均粒径の好ましい範囲と同様である。 The preferred ranges for the volume average particle size of other fillers are the same as the preferred ranges for the volume average particle size of alumina particles.

-無機充填材全体の含有率及び特性-
成形用樹脂組成物に含まれる無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物の硬化物の流動性及び強度を制御する観点から、成形用樹脂組成物全体に対し、60体積%を超えており、60体積%を超えて90体積%以下であることが好ましく、62体積%~85体積%であることがより好ましく、65体積%~85体積%であることがさらに好ましく、68体積%~80体積%であることが特に好ましく、70体積%~78体積%であることが極めて好ましい。
- Content and characteristics of inorganic fillers overall -
From the viewpoint of controlling the fluidity and strength of the cured product of the molding resin composition, the content of the entire inorganic filler contained in the molding resin composition exceeds 60 volume %, and is preferably more than 60 volume % and not more than 90 volume %, more preferably 62 volume % to 85 volume %, even more preferably 65 volume % to 85 volume %, particularly preferably 68 volume % to 80 volume %, and extremely preferably 70 volume % to 78 volume %, relative to the entire molding resin composition.

成形用樹脂組成物における無機充填材の含有率(体積%)は、下記の方法により求めることができる。
成形用樹脂組成物の硬化物の薄片試料を走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する。SEM画像において任意の面積Sを特定し、面積Sに含まれる無機充填材の総面積Aを求める。無機充填材の総面積Aを面積Sで除算した値を百分率(%)に換算し、この値を成形用樹脂組成物に占める無機充填材の含有率(体積%)とする。
面積Sは、無機充填材の大きさに対して十分大きい面積とする。例えば、無機充填材が100個以上含まれる大きさとする。面積Sは、複数個の切断面の合計でもよい。
無機充填材は、成形用樹脂組成物の硬化時の重力方向において存在割合に偏りが生じることがある。その場合、SEMにて撮像する際、硬化物の重力方向全体を撮像し、硬化物の重力方向全体が含まれる面積Sを特定する。
The content (vol %) of the inorganic filler in the molding resin composition can be determined by the following method.
A thin sample of the cured product of the molding resin composition is photographed with a scanning electron microscope (SEM). An arbitrary area S is specified in the SEM image, and the total area A of the inorganic filler contained in the area S is calculated. The total area A of the inorganic filler is divided by the area S to convert it into a percentage (%), and this value is the content (volume %) of the inorganic filler in the molding resin composition.
The area S is set to be sufficiently large relative to the size of the inorganic filler, for example, a size that contains 100 or more inorganic fillers. The area S may be the total area of a plurality of cut surfaces.
The inorganic filler may have a biased presence ratio in the direction of gravity when the molding resin composition is cured. In such a case, when imaging with an SEM, an image of the entire cured product in the direction of gravity is taken, and the area S that includes the entire cured product in the direction of gravity is specified.

[各種添加剤]
本実施形態における成形用樹脂組成物は、上述の成分に加えて、以下に例示するカップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤、応力緩和剤等の各種添加剤を含んでもよい。本実施形態における成形用樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含んでもよい。
[Various additives]
In addition to the above-mentioned components, the molding resin composition of the present embodiment may contain various additives such as coupling agents, ion exchangers, release agents, flame retardants, colorants, stress relaxation agents, etc. In addition to the additives exemplified below, the molding resin composition of the present embodiment may contain various additives known in the art as necessary.

(カップリング剤)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、カップリング剤を含んでもよい。樹脂成分と無機充填材との接着性を高める観点からは、成形用樹脂組成物はカップリング剤を含むことが好ましい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、ジシラザン等のシラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート系化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
(Coupling Agent)
The molding resin composition in this embodiment may contain a coupling agent. From the viewpoint of increasing the adhesion between the resin component and the inorganic filler, it is preferable that the molding resin composition contains a coupling agent. Examples of the coupling agent include known coupling agents such as silane-based compounds such as epoxysilane, mercaptosilane, aminosilane, alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane, and disilazane, titanium-based compounds, aluminum chelate-based compounds, and aluminum/zirconium-based compounds.

成形用樹脂組成物がカップリング剤を含む場合、カップリング剤の量は、無機充填材100質量部に対して0.05質量部~5質量部であることが好ましく、0.1質量部~2.5質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して0.05質量部以上であると、フレームとの接着性がより向上する傾向にある。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して5質量部以下であると、パッケージの成形性がより向上する傾向にある。 When the molding resin composition contains a coupling agent, the amount of the coupling agent is preferably 0.05 parts by mass to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 parts by mass to 2.5 parts by mass, per 100 parts by mass of the inorganic filler. When the amount of the coupling agent is 0.05 parts by mass or more per 100 parts by mass of the inorganic filler, the adhesion to the frame tends to be further improved. When the amount of the coupling agent is 5 parts by mass or less per 100 parts by mass of the inorganic filler, the moldability of the package tends to be further improved.

(イオン交換体)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、イオン交換体を含んでもよい。成形用樹脂組成物は、封止される電子部品を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含むことが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
(Ion exchanger)
The molding resin composition in this embodiment may contain an ion exchanger. The molding resin composition preferably contains an ion exchanger from the viewpoint of improving the moisture resistance and high-temperature storage characteristics of an electronic component device including an electronic component to be encapsulated. The ion exchanger is not particularly limited, and a conventionally known ion exchanger can be used. Specific examples include hydrotalcite compounds and hydrated oxides of at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth. The ion exchanger may be used alone or in combination of two or more types. Among them, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferred.

Mg(1-X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
(0<X≦0.5、mは正の数)
Mg (1-X) Al X (OH) 2 (CO 3 ) X/2・mH 2 O ... (A)
(0<X≦0.5, m is a positive number)

成形用樹脂組成物がイオン交換体を含む場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに充分な量であれば特に制限はない。例えば、イオン交換体の含有量は、樹脂成分100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~10質量部であることがより好ましい。 When the molding resin composition contains an ion exchanger, the content is not particularly limited as long as it is a sufficient amount to capture ions such as halogen ions. For example, the content of the ion exchanger is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component.

(離型剤)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含んでもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Release Agent)
The molding resin composition in this embodiment may contain a mold release agent from the viewpoint of obtaining good releasability from the mold during molding. The mold release agent is not particularly limited, and a conventionally known one may be used. Specific examples include carnauba wax, higher fatty acids such as montanic acid and stearic acid, higher fatty acid metal salts, ester waxes such as montanic acid esters, polyolefin waxes such as oxidized polyethylene and non-oxidized polyethylene, etc. The mold release agent may be used alone or in combination of two or more kinds.

成形用樹脂組成物が離型剤を含む場合、その量は樹脂成分100質量部に対して0.01質量部~10質量部が好ましく、0.1質量部~5質量部がより好ましい。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が充分に得られる傾向にある。10質量部以下であると、より良好な接着性が得られる傾向にある。 When the molding resin composition contains a release agent, the amount is preferably 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component. When the amount of the release agent is 0.01 parts by mass or more per 100 parts by mass of the resin component, sufficient releasability tends to be obtained. When the amount is 10 parts by mass or less, better adhesion tends to be obtained.

(難燃剤)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、難燃剤を含んでもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Flame retardant)
The molding resin composition in this embodiment may contain a flame retardant. The flame retardant is not particularly limited, and a conventionally known flame retardant may be used. Specific examples include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms, or phosphorus atoms, metal hydroxides, etc. The flame retardant may be used alone or in combination of two or more.

成形用樹脂組成物が難燃剤を含む場合、その量は、所望の難燃効果を得るのに充分な量であれば特に制限されない。例えば、難燃剤の量は、樹脂成分100質量部に対して1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。 When the molding resin composition contains a flame retardant, the amount is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to obtain the desired flame retardant effect. For example, the amount of flame retardant is preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 2 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component.

(着色剤)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は、目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Coloring Agent)
The molding resin composition in this embodiment may contain a colorant. Examples of the colorant include known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, red lead, and red iron oxide. The content of the colorant can be appropriately selected depending on the purpose, etc. The colorant may be used alone or in combination of two or more kinds.

(応力緩和剤)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、応力緩和剤を含んでもよい。応力緩和剤を含むことにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、インデン-スチレン-クマロン共重合体等、トリアルキルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド等のトリアリールホスフィンオキサイド、リン酸エステル等の有機リン化合物、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられ、エポキシ基を有するシリコーン化合物、ポリエーテル系シリコーン化合物等のシリコーン化合物がより好ましい。
(Stress Relief Agent)
The molding resin composition in this embodiment may contain a stress relaxation agent. By containing a stress relaxation agent, it is possible to further reduce the warpage deformation of the package and the occurrence of package cracks. Examples of the stress relaxation agent include known stress relaxation agents (flexible agents) that are generally used. Specifically, examples of the stress relaxation agent include thermoplastic elastomers such as silicone-based, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyether-based, polyamide-based, and polybutadiene-based elastomers, indene-styrene-coumarone copolymers, triarylphosphine oxides such as trialkylphosphine oxide and triphenylphosphine oxide, organic phosphorus compounds such as phosphoric acid esters, rubber particles such as NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), acrylic rubber, urethane rubber, and silicone powder, and rubber particles having a core-shell structure such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, and methyl methacrylate-butyl acrylate copolymer. The stress relaxation agent may be used alone or in combination of two or more types.
Examples of the silicone-based stress relaxation agent include those having an epoxy group, those having an amino group, and those modified with polyether. More preferred are silicone compounds such as a silicone compound having an epoxy group and a polyether-based silicone compound.

誘電正接の観点から、応力緩和剤は、インデン-スチレン-クマロン共重合体、トリアルキルホスフィンオキサイド及びトリアリールホスフィンオキサイドの少なくとも1つを含むことが好ましい。 From the viewpoint of dielectric tangent, it is preferable that the stress relaxation agent contains at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer, a trialkylphosphine oxide, and a triarylphosphine oxide.

成形用樹脂組成物が応力緩和剤を含む場合、その量は、例えば、樹脂成分100質量部に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。
応力緩和剤がインデン-スチレン-クマロン共重合体、トリアルキルホスフィンオキサイド及びトリアリールホスフィンオキサイドの少なくとも1つを含む場合、その合計量は、例えば、樹脂成分100質量部に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。
インデン-スチレン-クマロン共重合体の含有量は、例えば、樹脂成分100質量部に対し、1質量部~20質量部であってもよく、2質量部~10質量部であってもよい。
トリアルキルホスフィンオキサイドの含有量又はトリアリールホスフィンオキサイドの含有量は、例えば、樹脂成分100質量部に対し、1質量部~20質量部であってもよく、2質量部~10質量部であってもよい。
シリコーン系応力緩和剤の含有量は、例えば、樹脂成分100質量部に対し、2質量部以下であってもよく、1質量部以下であってもよい。成形用樹脂組成物は、シリコーン系応力緩和剤を含んでいなくてもよい。誘電正接の観点から、成形用樹脂組成物では、応力緩和剤がインデン-スチレン-クマロン共重合体、トリアルキルホスフィンオキサイド及びトリアリールホスフィンオキサイドの少なくとも1つ(好ましくは、インデン-スチレン-クマロン共重合体及びトリアルキルホスフィンオキサイド又はトリアリールホスフィンオキサイド)を含み、かつ、シリコーン系応力緩和剤を含んでいないことが好ましい。シリコーン系応力緩和剤の含有量の下限値は特に限定されず、0質量部であってもよく、0.1質量部であってもよい。
When the molding resin composition contains a stress relaxation agent, the amount thereof is, for example, preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 2 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component.
When the stress relaxation agent contains at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer, a trialkylphosphine oxide, and a triarylphosphine oxide, the total amount thereof is, for example, preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin component.
The content of the indene-styrene-coumarone copolymer may be, for example, 1 part by mass to 20 parts by mass, or 2 parts by mass to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component.
The content of the trialkylphosphine oxide or the content of the triarylphosphine oxide may be, for example, 1 part by mass to 20 parts by mass or 2 parts by mass to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the resin component.
The content of the silicone-based stress relaxation agent may be, for example, 2 parts by mass or less, or 1 part by mass or less, relative to 100 parts by mass of the resin component. The molding resin composition may not contain a silicone-based stress relaxation agent. From the viewpoint of dielectric loss tangent, it is preferable that the molding resin composition contains at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer, a trialkylphosphine oxide, and a triarylphosphine oxide (preferably, an indene-styrene-coumarone copolymer and a trialkylphosphine oxide or a triarylphosphine oxide), and does not contain a silicone-based stress relaxation agent. The lower limit of the content of the silicone-based stress relaxation agent is not particularly limited, and may be 0 parts by mass or 0.1 parts by mass.

シリコーン系応力緩和剤の含有率は、誘電正接の観点から、成形用樹脂組成物全体に対し、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、7質量%以下であることがさらに好ましく、5質量%以下であることが特に好ましく、0.5質量%以下であることが極めて好ましく、0.1質量%以下であることが極めて好ましい。シリコーン系応力緩和剤の含有率の下限値は特に限定されず、0質量%であってもよく、0.1質量%であってもよい。 From the viewpoint of dielectric loss tangent, the content of the silicone-based stress relaxation agent is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, even more preferably 7% by mass or less, particularly preferably 5% by mass or less, extremely preferably 0.5% by mass or less, and extremely preferably 0.1% by mass or less, relative to the entire molding resin composition. There is no particular lower limit for the content of the silicone-based stress relaxation agent, and it may be 0% by mass or 0.1% by mass.

(成形用樹脂組成物の調製方法)
成形用樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を攪拌及び混合し、予め70℃~140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
(Method of preparing molding resin composition)
The method for preparing the molding resin composition is not particularly limited. A typical method is to thoroughly mix the components in a predetermined amount with a mixer or the like, melt-knead them with a mixing roll, an extruder, or the like, cool them, and pulverize them. More specifically, for example, a method is to stir and mix the predetermined amounts of the above-mentioned components, knead them with a kneader, roll, extruder, or the like that has been heated to 70°C to 140°C in advance, cool them, and pulverize them.

本実施形態における成形用樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であることが好ましい。成形用樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉状、粒状、タブレット状等が挙げられる。成形用樹脂組成物がタブレット状である場合の寸法及び質量は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量となるようにすることが取り扱い性の観点から好ましい。 In this embodiment, the molding resin composition is preferably solid at room temperature and normal pressure (e.g., 25°C, atmospheric pressure). When the molding resin composition is solid, the shape is not particularly limited, and examples include powder, granules, and tablets. When the molding resin composition is in tablet form, it is preferable from the viewpoint of handleability that the dimensions and mass are set to be suitable for the molding conditions of the package.

(成形用樹脂組成物の特性)
本実施形態における成形用樹脂組成物を、圧縮成形により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形することで得られる硬化物の10GHzでの比誘電率としては、高誘電基材、セラミック基板等のPKG基板と組み合わせた場合のアンテナサイズ設計の観点で、7.0~10.0であってもよく、7.0~9.0であってもよく、7.0~8.0であってもよい。
上記比誘電率の測定は、誘電率測定装置(例えば、アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下で行う。
(Characteristics of molding resin composition)
The relative dielectric constant at 10 GHz of the cured product obtained by compression molding the molding resin composition in this embodiment under conditions of a mold temperature of 175°C, a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 600 seconds may be 7.0 to 10.0, 7.0 to 9.0, or 7.0 to 8.0, from the viewpoint of antenna size design when combined with a PKG substrate such as a high dielectric substrate or a ceramic substrate.
The measurement of the relative dielectric constant is carried out at a temperature of 25±3° C. using a dielectric constant measuring device (for example, Agilent Technologies, product name "Network Analyzer N5227A").

本実施形態における成形用樹脂組成物を、圧縮成形により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形することで得られる硬化物の10GHzでの誘電正接としては、例えば0.015以下が挙げられる。前記硬化物の10GHzでの誘電正接は、伝送損失低減の観点から0.010以下であることが好ましく、0.008以下であることがより好ましく、0.007以下であることがさらに好ましい。前記硬化物の10GHzでの誘電正接の下限値は、特に限定されず、例えば0.001が挙げられる。
上記誘電正接の測定は、誘電率測定装置(例えば、アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下で行う。
The dielectric loss tangent at 10 GHz of the cured product obtained by compression molding the molding resin composition in this embodiment under the conditions of a mold temperature of 175°C, a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 600 seconds is, for example, 0.015 or less. From the viewpoint of reducing transmission loss, the dielectric loss tangent at 10 GHz of the cured product is preferably 0.010 or less, more preferably 0.008 or less, and even more preferably 0.007 or less. The lower limit of the dielectric loss tangent at 10 GHz of the cured product is not particularly limited, and for example, 0.001 is included.
The dielectric loss tangent is measured at a temperature of 25±3° C. using a dielectric constant measuring device (for example, Agilent Technologies, product name "Network Analyzer N5227A").

(成形用樹脂組成物の用途)
本実施形態における成形用樹脂組成物は、例えば、後述する電子部品装置、その中でも特に高周波デバイスの製造に適用することができる。本実施形態における成形用樹脂組成物は、高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いてもよい。
特に、近年、第5世代移動通信システム(5G)の普及に伴い、電子部品装置に使用される半導体パッケージ(PKG)の高機能化及び小型化が進んでいる。そして、PKGの小型化及び高機能化に伴い、アンテナ機能を有するPKGであるアンテナ・イン・パッケージ(AiP、Antenna in Package)の開発も進められている。AiPでは、情報の多様化に伴うチャンネル数増加等に対応するため、通信に使用される電波が高周波化されるようになっており、封止材料において、高い誘電率と低い誘電正接との両立が求められている。
本実施形態における成形用樹脂組成物は、前記の通り、高い誘電率と低い誘電正接と両立した硬化物が得られる。そのため、高周波デバイスにおいて、支持部材上に配置されたアンテナを成形用樹脂組成物で封止したアンテナ・イン・パッケージ(AiP)用途に特に好適である。
アンテナ・イン・パッケージ等のアンテナを含む電子部品装置では、電力供給用のアンプをアンテナと反対側に設けた場合に電力供給による発熱が発生する。放熱性向上の観点から、電子部品装置の製造に用いられる成形用樹脂組成物は、無機充填材としてアルミナ粒子を含むことが好ましい。
(Uses of molding resin composition)
The molding resin composition of the present embodiment can be applied to, for example, the manufacture of electronic component devices, particularly high-frequency devices, which will be described later. The molding resin composition of the present embodiment may be used to seal electronic components in high-frequency devices.
In particular, in recent years, with the spread of the fifth generation mobile communication system (5G), semiconductor packages (PKGs) used in electronic component devices have become more functional and smaller. As PKGs become smaller and more functional, development of antenna in package (AiP), which is a PKG having an antenna function, is also underway. In AiP, radio waves used for communication are becoming higher in frequency to accommodate an increase in the number of channels accompanying the diversification of information, and therefore, a sealing material is required to have both a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent.
As described above, the molding resin composition in this embodiment can provide a cured product having both a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and is therefore particularly suitable for use in antenna-in-package (AiP) applications in which an antenna disposed on a support member of a high-frequency device is encapsulated with the molding resin composition.
In an electronic component device including an antenna such as an antenna-in-package, when an amplifier for supplying power is provided on the opposite side of the antenna, heat is generated due to the power supply. From the viewpoint of improving heat dissipation, it is preferable that the molding resin composition used in the manufacture of the electronic component device contains alumina particles as an inorganic filler.

<電子部品装置>
本開示の一実施形態である電子部品装置は、支持部材と、前記支持部材上に配置された電子部品と、前記電子部品を封止している前述の成形用樹脂組成物の硬化物と、を備える。
電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、電子部品(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子、アンテナなど)を搭載して得られた電子部品領域を成形用樹脂組成物で封止したもの(例えば高周波デバイス)が挙げられる。
<Electronic component device>
An electronic component device according to one embodiment of the present disclosure includes a support member, an electronic component disposed on the support member, and a cured product of the molding resin composition encapsulating the electronic component.
Examples of electronic component devices include those (e.g., high frequency devices) obtained by mounting electronic components (active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors, passive elements such as capacitors, resistors, and coils, antennas, etc.) on a support member such as a lead frame, a pre-wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer, or an organic substrate, and then sealing the resulting electronic component region with a molding resin composition.

上記支持部材の種類は特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられる支持部材を使用できる。
上記電子部品は、アンテナを含んでもよく、アンテナ及びアンテナ以外の素子を含んでもよい。上記アンテナは、アンテナの役割を果たすものであれば限定されるものではなく、アンテナ素子であってもよく、配線であってもよい。
The type of the support member is not particularly limited, and any support member that is generally used in the manufacture of electronic component devices can be used.
The electronic component may include an antenna, or may include an antenna and an element other than an antenna. The antenna is not limited as long as it functions as an antenna, and may be an antenna element or a wiring.

また、本実施形態の電子部品装置では、必要に応じて、支持部材上における上記電子部品が配置された面と反対側の面に、他の電子部品が配置されていてもよい。他の電子部品は、前述の成形用樹脂組成物により封止されていてもよく、他の樹脂組成物により封止されていてもよく、封止されていなくてもよい。 In addition, in the electronic component device of this embodiment, other electronic components may be arranged on the surface of the support member opposite to the surface on which the electronic components are arranged, as necessary. The other electronic components may be sealed with the molding resin composition described above, may be sealed with another resin composition, or may not be sealed.

(電子部品装置の製造方法)
本実施形態に係る電子部品装置の製造方法は、電子部品を支持部材上に配置する工程と、前記電子部品を前述の成形用樹脂組成物で封止する工程と、を含む。
上記各工程を実施する方法は特に制限されず、一般的な手法により行うことができる。また、電子部品装置の製造に使用する支持部材及び電子部品の種類は特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられる支持部材及び電子部品を使用できる。
(Method of manufacturing electronic component device)
The method for manufacturing an electronic component device according to this embodiment includes the steps of placing an electronic component on a support member and encapsulating the electronic component with the molding resin composition described above.
The method for carrying out each of the above steps is not particularly limited and can be carried out by a general method. In addition, the types of the support member and electronic components used in the manufacture of the electronic component device are not particularly limited and support members and electronic components generally used in the manufacture of the electronic component device can be used.

前述の成形用樹脂組成物を用いて電子部品を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法等が挙げられる。これらの中では、低圧トランスファ成形法が一般的である。 Methods for encapsulating electronic components using the above-mentioned molding resin composition include low-pressure transfer molding, injection molding, compression molding, etc. Among these, low-pressure transfer molding is the most common.

以下、上記実施形態を実施例により具体的に説明するが、上記実施形態の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。 The above embodiment will be explained in detail below using examples, but the scope of the above embodiment is not limited to these examples.

<成形用樹脂組成物の調製>
下記に示す成分を表1及び表2に示す配合割合(質量部)で混合し、実施例と比較例の成形用樹脂組成物を調製した。この成形用樹脂組成物は、常温常圧下において固体であった。
<Preparation of molding resin composition>
Molding resin compositions of Examples and Comparative Examples were prepared by mixing the components shown below in the blending ratios (parts by mass) shown in Tables 1 and 2. This molding resin composition was solid at room temperature and normal pressure.

・エポキシ樹脂1:o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量200g/eq
・エポキシ樹脂2:ビフェニル型エポキシ樹脂、エポキシ当量192g/eq
Epoxy resin 1: o-cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 200 g/eq
Epoxy resin 2: biphenyl type epoxy resin, epoxy equivalent 192 g/eq

・硬化剤1:活性エステル化合物、DIC株式会社、品名「EXB-8」
・硬化剤2:フェノール硬化剤、アラルキル型フェノール樹脂、水酸基当量170g/eq
・硬化剤3:メラミン変性フェノール樹脂、反応基当量120g/eq
Hardener 1: Active ester compound, DIC Corporation, product name "EXB-8"
Hardener 2: Phenol hardener, aralkyl type phenol resin, hydroxyl group equivalent 170 g/eq
Hardener 3: Melamine modified phenolic resin, reactive group equivalent 120 g/eq

・硬化促進剤:トリアルキルホスフィン/1,4-ベンゾキノン付加物
・カップリング剤:N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン
・離型剤:モンタン酸エステルワックス
・着色剤:カーボンブラック
・応力緩和剤1:インデン-スチレン-クマロン共重合体
・応力緩和剤2:トリアリールホスフィンオキサイド
Curing accelerator: Trialkylphosphine/1,4-benzoquinone adduct Coupling agent: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane Release agent: Montan acid ester wax Colorant: Carbon black Stress relaxation agent 1: Indene-styrene-coumarone copolymer Stress relaxation agent 2: Triarylphosphine oxide

・無機充填材1:アルミナ粒子、体積平均粒径:5.7μm、形状:球形
・無機充填材2:アルミナ粒子、体積平均粒径:0.7μm、形状:球形
・無機充填材3:チタン酸カルシウム粒子、体積平均粒径:0.2μm、形状:不定形
Inorganic filler 1: Alumina particles, volume average particle size: 5.7 μm, shape: spherical Inorganic filler 2: Alumina particles, volume average particle size: 0.7 μm, shape: spherical Inorganic filler 3: Calcium titanate particles, volume average particle size: 0.2 μm, shape: irregular

なお、上記各無機充填材の体積平均粒径は、以下の測定により得られた値である。
具体的には、まず、分散媒(水)に、無機充填材を0.01質量%~0.1質量%の範囲で添加し、バス式の超音波洗浄機で5分間分散した。
得られた分散液5mlをセルに注入し、25℃で、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(株式会社堀場製作所、LA920)にて粒度分布を測定した。
得られた粒度分布における積算値50%(体積基準)での粒径を体積平均粒径とした。
The volume average particle size of each of the inorganic fillers is a value obtained by the following measurement.
Specifically, first, the inorganic filler was added to a dispersion medium (water) in an amount of 0.01% by mass to 0.1% by mass, and the mixture was dispersed in a bath-type ultrasonic cleaner for 5 minutes.
5 ml of the obtained dispersion was poured into a cell, and the particle size distribution was measured at 25° C. using a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device (LA920, manufactured by Horiba, Ltd.).
The particle size at an integrated value of 50% (volume basis) in the obtained particle size distribution was defined as the volume average particle size.

<成形用樹脂組成物の評価>
(比誘電率及び誘電正接)
成形用樹脂組成物を真空ハンドプレス機に仕込み、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間600秒の条件で成形し、後硬化を175℃で6時間行い、板状の硬化物(縦12.5mm、横25mm、厚さ0.2mm)を得た。この板状の硬化物を試験片として、誘電率測定装置(アジレント・テクノロジー社、品名「ネットワークアナライザN5227A」)を用いて、温度25±3℃下、10GHzでの比誘電率と誘電正接を測定した。結果を表1~表3(表中の「比誘電率」及び「誘電正接」)に示す。
<Evaluation of molding resin composition>
(Dielectric constant and dielectric loss tangent)
The molding resin composition was charged into a vacuum hand press and molded under the conditions of a mold temperature of 175°C, molding pressure of 6.9 MPa, and curing time of 600 seconds, and post-curing was performed at 175°C for 6 hours to obtain a plate-shaped cured product (length 12.5 mm, width 25 mm, thickness 0.2 mm). The plate-shaped cured product was used as a test piece and the relative dielectric constant and dielectric loss tangent were measured at a temperature of 25±3°C and 10 GHz using a dielectric constant measuring device (Agilent Technologies, product name "Network Analyzer N5227A"). The results are shown in Tables 1 to 3 ("Relative Dielectric Constant" and "Dielectric Loss Tangent" in the tables).

表1及び表2に示される通り、実施例の成形用樹脂組成物では、比較例の成形用樹脂組成物に比べて、高い比誘電率を有し、かつ同程度に誘電正接が低減された硬化物が得られる傾向にあった。 As shown in Tables 1 and 2, the molding resin compositions of the Examples tended to produce cured products with higher relative dielectric constants and reduced dielectric tangents to the same extent as the molding resin compositions of the Comparative Examples.

Claims (11)

エポキシ樹脂を含む硬化性樹脂と、
アルミナ粒子と、チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の少なくとも一方と、を含む無機充填材と、
活性エステル化合物を含む硬化剤と、
を含み、
前記チタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計含有率は、無機充填材全体に対して5.0体積%~15.0体積%であり、
無機充填材全体の含有率は、成形用樹脂組成物全体に対して60体積%を超えており、
エポキシ樹脂及び硬化剤の合計に対するチタン酸カルシウム粒子及びチタン酸ストロンチウム粒子の合計質量割合は、0.8~1.5である成形用樹脂組成物。
a curable resin including an epoxy resin ;
an inorganic filler including alumina particles and at least one of calcium titanate particles and strontium titanate particles;
A curing agent including an active ester compound;
Including,
the total content of the calcium titanate particles and the strontium titanate particles is 5.0% by volume to 15.0% by volume based on the total volume of the inorganic filler;
The total content of the inorganic filler is more than 60% by volume based on the total molding resin composition ,
A molding resin composition , in which the total mass ratio of the calcium titanate particles and the strontium titanate particles to the total of the epoxy resin and the curing agent is 0.8 to 1.5 .
前記硬化剤は、フェノール硬化剤をさらに含む、請求項に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition of claim 1 , wherein the curing agent further comprises a phenolic curing agent. 前記フェノール硬化剤は、アラルキル型フェノール樹脂及びメラミン変性フェノール樹脂を含む請求項に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition according to claim 2 , wherein the phenolic hardener comprises an aralkyl-type phenolic resin and a melamine-modified phenolic resin. 応力緩和剤をさらに含む、請求項に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition according to claim 3 , further comprising a stress relaxation agent. 前記応力緩和剤は、インデン-スチレン-クマロン共重合体、トリアルキルホスフィンオキサイド及びトリアリールホスフィンオキサイドの少なくとも1つを含む請求項に記載の成形用樹脂組成物。 5. The molding resin composition according to claim 4 , wherein the stress relaxation agent comprises at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer, a trialkylphosphine oxide, and a triarylphosphine oxide. 前記無機充填材はチタン酸カルシウムを含む、請求項1に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler contains calcium titanate. 高周波デバイスに用いられる、請求項1~請求項のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition according to any one of claims 1 to 6 , which is used for a high-frequency device. 高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いられる、請求項に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition according to claim 7 , which is used for sealing electronic parts in a high-frequency device. アンテナ・イン・パッケージに用いられる、請求項1~請求項のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物。 The molding resin composition according to any one of claims 1 to 6 , which is used for an antenna-in-package. 支持部材と、
前記支持部材上に配置された電子部品と、
前記電子部品を封止している請求項1~請求項のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。
A support member;
an electronic component disposed on the support member;
A cured product of the molding resin composition according to any one of claims 1 to 6 which encapsulates the electronic component;
An electronic component device comprising:
前記電子部品がアンテナを含む請求項10に記載の電子部品装置。 The electronic component device of claim 10 , wherein the electronic component includes an antenna.
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