JP7517335B2 - 信号処理装置、信号処理方法、および、測距モジュール - Google Patents
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Description
1.測距モジュールの構成例
2.Indirect ToF方式の画素動作
3.信号処理部の露出制御パラメータの算出方法
4.信号処理部の第1の構成例
5.第1のデプスマップ生成処理
6.信号処理部の第2の構成例
7.第2のデプスマップ生成処理
8.信号処理部の第3の構成例
9.第3のデプスマップ生成処理
10.信号処理部の第4の構成例
11.第4のデプスマップ生成処理
12.第1の変形例
13.第2の変形例
14.第3の変形例
15.まとめ
16.電子機器の構成例
17.コンピュータの構成例
18.移動体への応用例
図1は、本技術を適用した測距モジュールの一実施の形態の構成例を示すブロック図である。
図2を参照して、Indirect ToF方式における画素21の動作について説明する。
I=c0-c180=(A0-B0)-(A180-B180)
Q=c90-c270=(A90-B90)-(A270-B270)
・・・・・・・・・・(3)
I=c0-c180=(A0-B0)
Q=c90-c270=(A90-B90) ・・・・・・・・・・(4)
I=c0-c180=-(A180-B180)
Q=c90-c270=-(A270-B270) ・・・・・・・・・・(5)
測距モジュール11の信号処理部15は、上述したように、4Phase方式による反射光の受光結果に基づいてデプスマップと信頼度マップを生成して出力するとともに、得られたデプスマップと信頼度マップから、次に反射光を受光するときの最適な露出制御パラメータを算出し、発光制御部13に供給する。
σ2(l)=a・l+b ・・・・・・・・・・(7)
ここで、a,bは、受光部14のゲインなどの駆動パラメータによって決定される値であり、例えば、事前のキャリブレーションにより求めることができる。
図10は、上述した露出制御パラメータの最適値を探索する処理を実行する信号処理部15の第1の構成例を示すブロック図である。なお、図10では、測距モジュール11のその他の構成も併せて示している。
次に、図11のフローチャートを参照して、信号処理部15の第1の構成例を備える測距モジュール11によるデプスマップ生成処理(第1のデプスマップ生成処理)を説明する。この処理は、例えば、測距モジュール11に対して、測定を開始する指令が供給されたとき、開始される。
図12は、信号処理部15の第2の構成例を示すブロック図である。図12においても、測距モジュール11のその他の構成も併せて示している。
lhdr=α・r・l(r,plow,t,d)+(1-α)・l(r,phigh,t,d)
・・・・・・・・・・・(11)
次に、図17のフローチャートを参照して、信号処理部15の第2の構成例を備える測距モジュール11によるデプスマップ生成処理(第2のデプスマップ生成処理)を説明する。この処理は、例えば、測距モジュール11に対して、測定を開始する指令が供給されたとき、開始される。
図18は、信号処理部15の第3の構成例を示すブロック図である。図18においても、測距モジュール11のその他の構成も併せて示している。
次に、図20のフローチャートを参照して、信号処理部15の第3の構成例を備える測距モジュール11によるデプスマップ生成処理(第3のデプスマップ生成処理)を説明する。この処理は、例えば、測距モジュール11に対して、測定を開始する指令が供給されたとき、開始される。
図21は、信号処理部15の第4の構成例を示すブロック図である。図21においても、測距モジュール11のその他の構成も併せて示している。
次に、図23のフローチャートを参照して、信号処理部15の第4の構成例を備える測距モジュール11によるデプスマップ生成処理(第4のデプスマップ生成処理)を説明する。この処理は、例えば、測距モジュール11に対して、測定を開始する指令が供給されたとき、開始される。
<発光周波数を変更する制御>
上述した例では、発光部12は、発光制御信号に基づいて、例えば、20MHzなどの単一周波数の変調光を物体に照射することとした。光源の変調周波数は、例えば、100MHzなどのように周波数を高くすると、距離情報の分解能を高くすることができるが、測距可能なレンジが狭くなる。一方、変調周波数を低くすると測距可能なレンジを拡大できる。
<露光時間を変更する制御>
上述した第1乃至第4のデプスマップ生成処理では、信号処理部15は、露出制御パラメータとして発光量pを変化させ、発光量pの最適値を決定した。
<環境光を考慮した制御>
受光部14の各画素21で得られる画素データ(検出信号)の成分は、アクティブ成分、環境光成分、および、ノイズ成分に大別される。アクティブ成分は、照射光が物体で反射され、返ってきた光成分である。環境光成分は、太陽光などの環境光による光成分である。環境光成分は、上述の式(3)乃至式(5)の演算の過程でキャンセルされるが、ノイズ成分は残るため、環境光成分が大きくなるとノイズ成分の割合が大きくなり、相対的にSN比が低くなる。
図1の測距モジュール11は、信号処理部15の第1乃至第4の構成例またはその変形例を含む構成とすることができ、第1乃至第4のデプスマップ生成処理およびその変形例に係る処理を実行することができる。測距モジュール11は、第1乃至第4のデプスマップ生成処理およびその変形例に係る処理のいずれか1つのみを実行する構成としてもよいし、動作モード等の切り替えにより、全ての処理を選択的に実行する構成としてもよい。
上述した測距モジュール11は、例えば、スマートフォン、タブレット型端末、携帯電話機、パーソナルコンピュータ、ゲーム機、テレビ受像機、ウェアラブル端末、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラなどの電子機器に搭載することができる。
次に、上述した一連の処理は、ハードウェアにより行うこともできるし、ソフトウェアにより行うこともできる。一連の処理をソフトウェアによって行う場合には、そのソフトウェアを構成するプログラムが、汎用のコンピュータ等にインストールされる。
本開示に係る技術(本技術)は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット等のいずれかの種類の移動体に搭載される装置として実現されてもよい。
(1)
受光センサの検出信号から算出された距離情報と輝度情報とを用いた評価指標に基づいて、露出制御パラメータを決定するパラメータ決定部
を備える信号処理装置。
(2)
前記距離情報と輝度情報とを用いた評価指標に基づく値である評価値を算出する評価値算出部をさらに備え、
前記パラメータ決定部は、前記評価値に基づいて、前記露出制御パラメータを決定する
前記(1)に記載の信号処理装置。
(3)
前記パラメータ決定部は、前記評価値が最大となる前記露出制御パラメータを決定する
前記(2)に記載の信号処理装置。
(4)
前記評価指標を記憶する評価指標記憶部をさらに備え、
前記評価値算出部は、前記評価指標記憶部から供給された前記評価指標に基づく前記評価値を算出する
前記(2)または(3)に記載の信号処理装置。
(5)
前記受光センサの検出信号から、前記距離情報としての距離画像と、前記輝度情報としての信頼度画像とを生成する距離画像信頼度算出部と、
前記距離画像の統計量を算出する統計量算出部と
をさらに備える
前記(1)乃至(4)のいずれかに記載の信号処理装置。
(6)
第1の露出制御パラメータにおける第1の距離画像と第2の露出制御パラメータにおける第2の距離画像とを合成した合成距離画像と、前記第1の露出制御パラメータにおける第1の信頼度画像と前記第2の露出制御パラメータにおける第2の信頼度画像とを合成した合成信頼度画像とを生成する画像合成部をさらに備え、
前記距離画像信頼度算出部は、前記第1の距離画像および前記第2の距離画像と、前記第1の信頼度画像および前記第2の信頼度画像とを生成し、
前記統計量算出部は、前記合成距離画像の統計量を算出し、
前記パラメータ決定部は、前記第1の露出制御パラメータと、前記第2の露出制御パラメータとを決定する
前記(5)に記載の信号処理装置。
(7)
前記評価指標は、前記距離画像の統計量と、前記信頼度画像とを用いて算出される値である
前記(5)または(6)に記載の信号処理装置。
(8)
前記距離画像の統計量は、前記距離情報の出現頻度である
前記(7)に記載の信号処理装置。
(9)
前記評価指標は、前記距離情報の出現頻度と、前記信頼度画像を用いた前記距離情報に応じたSN比とを畳み込んだ式で計算される値である
前記(8)に記載の信号処理装置。
(10)
前記パラメータ決定部は、前記露出制御パラメータとして、前記受光センサが受光する光を発光させる光源の発光量を決定する
前記(1)乃至(9)のいずれかに記載の信号処理装置。
(11)
前記パラメータ決定部は、前記露出制御パラメータとして、前記受光センサが受光する光を発光させる光源の変調周波数を決定する
前記(1)乃至(10)のいずれかに記載の信号処理装置。
(12)
前記パラメータ決定部は、前記露出制御パラメータとして、前記受光センサの露光時間を決定する
前記(1)乃至(11)のいずれかに記載の信号処理装置。
(13)
前記パラメータ決定部は、環境光成分の割合が大きい場合、前記受光センサの露光時間を短くし、前記受光センサが受光する光を発光させる光源の発光量を大きくする前記露出制御パラメータを決定する
前記(1)乃至(12)のいずれかに記載の信号処理装置。
(14)
前記露出制御パラメータを決定する際の制約条件を設定する制約設定部をさらに備え、
前記パラメータ決定部は、前記制約条件を満たす前記露出制御パラメータを決定する
前記(1)乃至(13)のいずれかに記載の信号処理装置。
(15)
前記受光センサの全画素領域のなかで特に注目する注目領域を決定する注目領域決定部をさらに備え、
前記パラメータ決定部は、前記注目領域の距離情報と輝度情報とを用いた前記評価指標に基づいて、前記露出制御パラメータを決定する
前記(1)乃至(14)のいずれかに記載の信号処理装置。
(16)
前記注目領域決定部は、前記距離情報または前記輝度情報の少なくとも一方を用いて、前記注目領域を決定する
前記(15)に記載の信号処理装置。
(17)
前記注目領域決定部は、外部からから供給される、前記注目領域を示す領域特定信号に基づいて、前記注目領域を決定する
前記(15)または(16)に記載の信号処理装置。
(18)
信号処理装置が、
受光センサの検出信号から算出された距離情報と輝度情報とを用いた評価指標に基づいて、露出制御パラメータを決定する
信号処理方法。
(19)
所定の周波数で発光させる発光部と、
前記発光部からの光が物体で反射した反射光を受光する受光センサと、
前記受光センサの検出信号から算出された距離情報と輝度情報とを用いた評価指標に基づいて、露出制御パラメータを決定するパラメータ決定部と
を備える測距モジュール。
Claims (12)
- 発光部からの光が物体で反射した反射光を受光した受光センサの検出信号から、間接ToF法による前記物体までの距離を画素値として格納したデプスマップと、画素で受光した前記反射光の大きさを画素値として格納した信頼度マップとを生成する距離画像信頼度算出部と、
前記デプスマップにおける距離のヒストグラムを算出する統計量算出部と、
前記ヒストグラムと前記信頼度マップを用いて、前記受光センサの全画素のSN比の平均値を評価値として算出する評価値算出部と、
前記発光部の光源の発光量と前記受光センサの露光時間とを含む露出制御パラメータであって、前記評価値が最大となる前記露出制御パラメータを決定するパラメータ決定部と
を備える信号処理装置。 - 前記評価値の演算式を記憶する評価指標記憶部をさらに備え、
前記評価値算出部は、前記評価指標記憶部から供給された前記演算式に基づく前記評価値を算出する
請求項1に記載の信号処理装置。 - 前記評価値の演算式は、前記距離のヒストグラムと、前記信頼度マップを用いた前記距離に応じたSN比とを畳み込んだ式である
請求項2に記載の信号処理装置。 - 前記露出制御パラメータとして第1の露出制御パラメータと第2の露出制御パラメータの2つがあり、前記第1の露出制御パラメータにおける第1のデプスマップと前記第2の露出制御パラメータにおける第2のデプスマップとを合成した合成デプスマップと、前記第1の露出制御パラメータにおける第1の信頼度マップと前記第2の露出制御パラメータにおける第2の信頼度マップとを合成した合成信頼度マップとを生成する画像合成部をさらに備え、
前記距離画像信頼度算出部は、前記第1のデプスマップおよび前記第2のデプスマップと、前記第1の信頼度マップおよび前記第2の信頼度マップとを生成し、
前記統計量算出部は、前記合成デプスマップにおける距離のヒストグラムを算出し、
前記評価値算出部は、前記合成デプスマップにおける距離のヒストグラムと前記合成信頼度マップを用いて前記評価値を算出し、
前記パラメータ決定部は、前記評価値が最大となる前記第1の露出制御パラメータ及び前記第2の露出制御パラメータを決定する
請求項1に記載の信号処理装置。 - 前記パラメータ決定部は、前記露出制御パラメータとして、前記光源の変調周波数をさらに決定する
請求項1に記載の信号処理装置。 - 前記パラメータ決定部は、環境光成分の割合が大きい場合、前記受光センサの露光時間を短くし、前記光源の発光量を大きくする前記露出制御パラメータを決定する
請求項1に記載の信号処理装置。 - 前記露出制御パラメータを決定する際の制約条件を設定する制約設定部をさらに備え、
前記パラメータ決定部は、前記制約条件を満たす前記露出制御パラメータを決定する
請求項1に記載の信号処理装置。 - 前記受光センサの全画素領域のなかで特に注目する注目領域を決定する注目領域決定部をさらに備え、
前記パラメータ決定部は、前記注目領域の前記デプスマップと前記信頼度マップとを用いた前記評価値に基づいて、前記露出制御パラメータを決定する
請求項1に記載の信号処理装置。 - 前記注目領域決定部は、前記デプスマップまたは前記信頼度マップの少なくとも一方を用いて、前記注目領域を決定する
請求項8に記載の信号処理装置。 - 前記注目領域決定部は、外部からから供給される、前記注目領域を示す領域特定信号に基づいて、前記注目領域を決定する
請求項8に記載の信号処理装置。 - 信号処理装置が、
発光部からの光が物体で反射した反射光を受光した受光センサの検出信号から、間接ToF法による前記物体までの距離を画素値として格納したデプスマップと、画素で受光した前記反射光の大きさを画素値として格納した信頼度マップとを生成することと、
前記デプスマップにおける距離のヒストグラムを算出することと、
前記ヒストグラムと前記信頼度マップを用いて、前記受光センサの全画素のSN比の平均値を評価値として算出することと、
前記発光部の光源の発光量と前記受光センサの露光時間とを含む露出制御パラメータであって、前記評価値が最大となる前記露出制御パラメータを決定することと
を含む信号処理方法。 - 光源を所定の周波数で発光させる発光部と、
前記発光部からの光が物体で反射した反射光を受光する受光センサと、
前記反射光を受光した前記受光センサの検出信号から、間接ToF法による前記物体までの距離を画素値として格納したデプスマップと、画素で受光した前記反射光の大きさを画素値として格納した信頼度マップとを生成する距離画像信頼度算出部と、
前記デプスマップにおける距離のヒストグラムを算出する統計量算出部と、
前記ヒストグラムと前記信頼度マップを用いて、前記受光センサの全画素のSN比の平均値を評価値として算出する評価値算出部と、
前記発光部の光源の発光量と前記受光センサの露光時間とを含む露出制御パラメータであって、前記評価値が最大となる前記露出制御パラメータを決定するパラメータ決定部と
を備える測距モジュール。
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