JP7516182B2 - 光ファイバの製造方法および装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光ファイバの製造方法および装置に関する。
近年の光通信システムでは、光ファイバの伝送損失の低減がより強く要請されている。その理由の一つは、光通信伝送路としての光ファイバの伝送損失を低減することにより、長距離光通信システム、たとえば海底線ケーブルなどで使用する中継器の数を減らすことができるので、光通信システムの構築や維持におけるコストメリットが大きいからである。
光ファイバの伝送損失を低減するためには、レイリー散乱損失の低減が有効である。レイリー散乱は、光ファイバの製造工程における透明ガラス化時のひずみや、局部的に生じる特性低下領域の影響で、ガラスネットワークに粗密（密度ゆらぎ）ができることで生じる（非特許文献１、２）。このガラスネットワーク構造の緩和を目的として、線引き条件やアニール炉の導入により仮想温度を制御する方法が開示されている（非特許文献３、４）。また、レイリー散乱損失の低減の方法として、ガラスに圧力を加える方法が開示されている（特許文献１、非特許文献５、非特許文献６）。たとえば、特許文献１では、光ファイバ母材に熱間等方圧加圧法（Ｈｏｔ Ｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ：ＨＩＰ）と呼ばれる高温加圧工程を施す手法が開示されている。また、非特許文献６では、ＨＩＰ処理によれば、光ファイバ母材中のガラスネットワーク構造の緩和が進行するので、レイリー散乱損失が低下するとされている（非特許文献１）。
特開平５－２２１６７４号公報
Marie Wandel, "Attenuation in Silica-Based Optical Fibers," PhD Thesis, Industrial PhD program (EF 954), December 2005. B. Champagnon, C. Chemarin, E. Duval and R. Le Parc, "Glass structure and light scattering," Journal of Non-Crystalline Solids, vol. 274, pp. 81-86, 2000. P. Koziatek, J. L. Barrat, D. Rodney, "Short- and medium-range orders in as-quenched and deformed SiO2 glasses: An atomistic study," J. Non-Crystalline Solids, vol. 414, pp. 7-15, 2015. Yoshiaki Tamura, Hirotaka Sakuma, Keisei Morita, Masato Suzuki, Yoshinori Yamamoto, Kensaku Shimada, Yuya Honma, Kazuyuki Sohma, Takashi Fujii, and Takemi Hasegawa "The First 0.14-dB/km Loss Optical Fiber and its Impact on Submarine Transmission" Journal of Lightwave Technology Vol. 36, Issue 1, pp. 44-49 (2018) M. Ono, S. Aoyama, M. Fujinami, and S. Ito, "Significant suppression of Rayleigh scattering loss in silica glass formed by the compression of its melted phase," Optics Express, vol. 26, pp. 7942-7948, 2018. 小野円佳 他、「超低損失ファイバの実現に向けたシリカガラスの空隙構造制御」、シンポジウム Ｓ１０１２ｐ Ｖ０３、レーザ学会学術講演会第３９回年次大会講演予稿集、平成３１年１月
従来検討されているＨＩＰ処理は、いずれもが、光ファイバ母材におけるＨＩＰ処理に関するものである。このＨＩＰ処理によって、光ファイバ母材におけるガラスネットワーク構造の緩和とそれによるレイリー散乱損失の低減は実現できると考えられる。
しかしながら、光ファイバは、一般的に光ファイバ母材の一端部を加熱炉にて加熱溶融し、そこから鉛直下方に引き出す線引き工程を行うことによって製造される。線引き工程において、光ファイバ母材は、２０００℃程度まで加熱される。したがって、光ファイバ母材において行ったＨＩＰ処理よるガラスネットワーク構造の緩和効果は、線引き工程におけるこのような高温処理で何らかの影響を受けると考えられるが、従来検討はされていなかった。さらに、光ファイバ母材にＨＩＰ処理を行なう場合、光ファイバ製造のリードタイムが非常に長くなるという課題があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、より効率的に伝送損失が低減された光ファイバを製造できる光ファイバの製造方法および装置を提供することにある。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、光ファイバ母材の一端部を加熱して溶融変形し、光ファイバを引き出す線引き工程を含み、前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を加圧しながら線引きを行うことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を１ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を１０ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を１００ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記溶融変形部を加圧媒体によって加圧することを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記光ファイバ母材の一端部を２０００℃以上に加熱して前記溶融変形部を形成することを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、前記光ファイバは、コア部と、前記コア部の外周を取り囲むクラッド部とを含み、前記コア部は、ゲルマニウム，塩素，フッ素，カリウム，ナトリウムのいずれか１つ以上が添加されたシリカガラスからなり、前記コア部の前記シリカガラスに対する比屈折率差が－０．２％以上０．２％以下であり、前記クラッド部の前記シリカガラスに対する比屈折率差が０％より小さいことを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造方法は、波長１５５０ｎｍにおける伝送損失が０．１５ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造装置は、光ファイバ母材の一端部を加熱して溶融変形する加熱器と、前記光ファイバ母材を収容する圧力容器を備え、前記光ファイバ母材の溶融変形された溶融変形部を加圧する加圧機構と、前記溶融変形部から引き出された光ファイバに被覆層を形成する被覆層形成機構と、を備えることを特徴とする。
本発明の一態様に係る光ファイバの製造装置は、前記光ファイバ母材を保護する光ファイバ母材保護部と、前記光ファイバ母材保護部で保護した光ファイバ母材を収容する光ファイバ母材収容機構と、をさらに備えることを特徴とする。
本発明によれは、伝送損失が低減された光ファイバを製造できるという効果を奏する。
図１は、実施形態に係る製造方法および光ファイバの製造装置の模式図である。 図２は、線引きを説明する模式図である。 図３は、実施形態に係る光ファイバにおいて用いることができる屈折率プロファイルの模式図である。 図４は、ダイスの模式的上面図である。 図５は、シリカガラスの員環数と存在率との関係を表す図である。 図６は、線引き時の圧力と光ファイバの密度との関係を表す図である。 図７は、線引き時の圧力と６員環の存在確立との関係を表す図である。
以下に、図面を参照しながら、本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態により本発明が限定されるものではない。また、各図面において、同一又は対応する構成要素には適宜同一の符号を付している。また、本明細書において特に定義しない用語については、ＩＴＵ－Ｔ Ｇ．６５０．１およびＧ．６５０．２における定義、測定方法に従うものとする。
図１は、実施形態に係る製造方法および光ファイバの製造装置の模式図であり、全体の構成図とその一部を拡大して切り欠いた図とを含む。この製造装置１００は、加圧機構１と、加熱器であるヒータ２と、光ファイバ母材収容機構３と、冷却部４と、被覆層形成機構５と、プライマリ樹脂供給部６ａと、セカンダリ樹脂供給部６ｂと、ガイドロール７と、巻取装置８と、チャック９と、回転軸体１０と、光ファイバ母材保護部１１と、を備えている。
加圧機構１は、圧力容器１ａと加圧部１ｂとを備えている。加圧部１ｂは、圧力容器１ａに対して加圧媒体を送排出することによって圧力容器１ａ内の圧力を調整できるように構成されている。加圧媒体は流体であり、たとえば不活性ガスである。
ヒータ２は、圧力容器１ａを囲むように配設されており、光ファイバ母材Ｐを加熱変形するためのものである。
光ファイバ母材収容機構３は、圧力容器１ａ内に収容されており、光ファイバ母材Ｐを収容する。
冷却部４は、圧力容器１ａ内に収容されかつ光ファイバ母材収容機構３の下方に配置されている。冷却部４は、光ファイバ母材Ｐから線引きされたガラス光ファイバＦ１を冷却するものであり、たとえばヘリウムガスのような冷却媒体を流すことによってガラス光ファイバＦ１を冷却するように構成されている。
被覆層形成機構５は、ダイス５ａ、５ｂ、および紫外線照射装置５ｃを備えている。ダイス５ａ、５ｂ、および紫外線照射装置５ｃは、圧力容器１ａ内に収容されかつ冷却部４の下方にこの順番で配置されている。プライマリ樹脂供給部６ａおよびセカンダリ樹脂供給部６ｂは、圧力容器１ａ外に配置されている。プライマリ樹脂供給部６ａは、タンク内に収容された紫外線硬化樹脂であるプライマリ樹脂をダイス５ａに供給する。セカンダリ樹脂供給部６ｂは、タンク内に収容された紫外線硬化樹脂であるセカンダリ樹脂をダイス５ｂに供給する。
ガイドロール７および巻取装置８は、圧力容器１ａの下方に配置されている。
光ファイバ母材Ｐは、コア母材の周囲にクラッド部が形成された公知の材料および構造を有する。光ファイバ母材Ｐは、たとえば、ＶＡＤ（Ｖａｐｏｒ Ａｘｉａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法にて、コア部とクラッド部の一部とからなるコア母材を作製し、ＯＶＤ（Ｏｕｔｓｉｄｅ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法にて、コア母材の周囲に残りのクラッド部を形成したものである。なお、光ファイバ母材Ｐは、コア母材を、残りのクラッド部となるガラス管に挿入し、両者を加熱一体化することで製造したものでもよい。光ファイバ母材Ｐの上端にはコア母材の作製時に使用した円柱状の出発材Ｐａの一部が突出している。
光ファイバ母材Ｐを線引きして製造される光ファイバは、コア部と、コア部の外周を取り囲むクラッド部とを含む。コア部は、ゲルマニウム，塩素，フッ素，カリウム，ナトリウムのいずれか１つ以上が添加されたシリカガラス、又は添加物を含まないシリカガラスからなる。クラッド部は、添加物を含まないシリカガラスであってもよいが、フッ素等を添加するとコア部のドーパントの添加量を減らすことができるため、レイリー散乱による伝送損失を低減させる観点から好ましい。ここで、添加物を含まないシリカガラスとは、屈折率を変化させる添加物を実質的に含まず、波長１５５０ｎｍにおける屈折率が約１．４４４である、きわめて高純度のシリカガラスであるが、製造中に意図せず混入する程度の塩素は含まれていてもよい。
図３は、実施形態に係る光ファイバにおいて用いることができる屈折率プロファイルの模式図である。図３において、プロファイルＰ１１がコア部の屈折率プロファイルを示し、プロファイルＰ１２がクラッド部の屈折率プロファイルを示す。なお、屈折率プロファイルは、シリカガラスに対する比屈折率差を示しており、シリカガラスの屈折率を０としている。コア部のシリカガラスに対する比屈折率差Δ１は－０．２％以上０．２％以下であることが好ましい。クラッド部のシリカガラスに対する比屈折率差Δ２は０より小さいことが好ましい。クラッド部のシリカガラスに対する比屈折率差は、０％であってもよい。
チャック９は、出発材Ｐａを把持して光ファイバ母材Ｐを上方から保持する。回転軸体１０はチャック９および不図示の回転昇降機構と連結しており、回転昇降機構によって軸心回りに回転して光ファイバ母材Ｐを回転昇降させる。
光ファイバ母材保護部１１は、光ファイバ母材収容機構３内に収容され、かつ光ファイバ母材Ｐが周囲の要素（たとえば光ファイバ母材収容機構３や圧力容器１ａ）と直接接触しないように保護するものである。
つぎに、製造装置１００を用いた光ファイバの製造方法について説明する。まず、光ファイバ母材Ｐを光ファイバ母材保護部１１とともに光ファイバ母材収容機構３内に収容する。このときチャック９で出発材Ｐａを把持する。
つづいて、図２に示すように、光ファイバ母材Ｐを回転降下させながら、一端部である下端部をヒータ２にて加熱し、溶融変形して溶融変形部Ｐｂを形成し、溶融変形部Ｐｂからガラス光ファイバＦ１を引き出す線引き工程を行う。このとき、光ファイバ母材Ｐの下端部をたとえば２０００℃以上に加熱して溶融変形部Ｐｂを形成する。ただし、下端部の加熱温度は溶融変形部Ｐｂを形成できる温度であればよい。
線引き工程では、溶融変形させる溶融変形部Ｐｂを１ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行う。具体的には、加圧機構１の加圧部１ｂが圧力容器１ａに対して加圧媒体を送排出し、溶融変形部Ｐｂを１ＭＰａ以上の圧力で加圧する。これにより、ガラス光ファイバＦ１におけるガラスネットワーク構造の緩和とそれによるレイリー散乱損失の低減が実現される。
このとき、溶融変形部Ｐｂが１ＭＰａ以上の圧力で加圧されればよい。したがって、圧力容器１ａ内全体の圧力が１ＭＰａ以上であってもよいし、溶融変形部Ｐｂの周囲だけが１ＭＰａ以上の圧力であってもよい。また、引き出されたガラス光ファイバＦ１の外径Ｄｆはたとえば１５０μｍ以下である。ガラス光ファイバＦ１の外径Ｄｆは、溶融変形部Ｐｂを加圧する圧力を制御することによって調整してもよい。２０００℃以上に加熱して溶融変形部Ｐｂを形成すれば、圧力による外径Ｄｆの調整は容易となる。たとえば、圧力を高めると外径Ｄｆは小さくなる。外径Ｄｆはたとえば１２５μｍとしてもよい。
冷却部４は、ガラス光ファイバＦ１を冷却する。ダイス５ａは、冷却されたガラス光ファイバＦ１の外周にプライマリ樹脂を塗布する。ダイス５ｂは、ガラス光ファイバＦ１のプライマリ樹脂のさらに外周にセカンダリ樹脂を重ねて塗布する。紫外線照射装置５ｃは、ガラス光ファイバＦ１の外周に塗布された２層の樹脂に紫外線を照射して硬化させ、２層構造の被覆層とする。これにより被覆層を有する光ファイバＦ２が製造される。
図４は、ダイスの模式的上面図である。ダイス５ａには、ガラス光ファイバＦ１が通過する孔５ａａが形成されている。ガラス光ファイバＦ１が孔５ａａを通過する際に樹脂が塗布される。この孔５ａａの直径Ｄｈは、ガラス光ファイバＦ１が通過可能であればよいが、たとえば５０ｍｍ以下であることが好ましい。
つづいて、ガイドロール７は、光ファイバＦ２を巻取装置８にガイドする。巻取装置８は、光ファイバＦ２をボビンに巻き取る。このボビンの回転速度によって、ガラス光ファイバＦ１および光ファイバＦ２の線引き速度が変更される。
製造された光ファイバＦ２は、伝送損失の低減が実現されている。本実施形態によれば、ガラスネットワーク構造の緩和と線引きとを一つの加熱処理により行うので、緩和の効果が光ファイバＦ２において維持されやすい。また、光ファイバ母材Ｐに対してＨＩＰ処理を行う場合よりもリードタイムが大幅に短縮され、かつ加熱に掛かる電力が節約される。
また、製造装置１００は、被覆層形成機構５が圧力容器１ａに収容されているので、装置が構成し易い。
なお、光ファイバ母材Ｐにおいて、たとえばコア部にカリウムなどのアルカリ金属が添加され、クラッド部にフッ素が添加されている場合、コア部の仮想温度が低くなるため、コア部に圧縮応力、クラッド部に引張応力が発生している状態とすることができる。そのため、ガラスネットワーク構造の緩和の効果を、線引き後の光ファイバＦ２のコア部においても、より一層維持しやすいと考えられる。光ファイバの伝送損失の低減のためには、特にコア部におけるレイリー散乱損失の低減が重要なので、コア部に圧縮応力が発生している方が好ましい。
以下、本発明者らがシミュレーション計算を用いて鋭意検討した結果について説明する。シリカガラス中では、四面体構造のＳｉＯ４が、酸素を共有しながらリング構造を形成することが知られている。たとえば、３個のＳｉＯ４がリング構造を形成している場合は３員環などと呼ばれる。図５は、シリカガラスの員環数と存在率との関係を表す図である。図５は、３－ｂｏｄｙ ｔｅｒｍｓの力学場（Ｐ． Ｖａｓｈｉｓｈｔａ， Ｒ． Ｋ． Ｋａｌｉａ， Ｊ． Ｐ． Ｒｉｎｏ ａｎｄ Ｉ． Ｅｂｂｓｊo， “Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎ ｐｏｔｅｎｔｉａｌ ｆｏｒ ＳｉＯ２： Ａ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ ｄｉｎａｍｉｃｓ ｓｔｕｄｙ ｏｆ ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎｓ，” Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｂ， ｖｏｌ． ４１， ｐｐ． １２１９７－１２２０９， １９９０．を参照）を用いて、数千の原子数の分子動力学シミュレーションにより算出した典型的な線引き後の光ファイバの員環数の分布を表す。図５において、横軸はシリカガラスの員環数、縦軸は各員環数のシリカガラスの存在率を表す。このシミュレーションにおいて、光ファイバは２０００℃において線引きされ、１０１２Ｋ／ｓの冷却率で冷却されたものとした。
図５によれば、線引き後の光ファイバは、様々な員環数の分布を有していることがわかる。この員環数の存在率のばらつきが光ファイバのガラス構造の乱れの原因であり、この構造の乱れによりレイリー散乱による伝送損失が引き起こされる。この構造の乱れは、光ファイバを構成するガラスが２０００℃から冷却される際に、熱的な振動によってガラス構造に乱れが生じ、その状態で凍結することに起因する。
図６は、線引き時の圧力と光ファイバの密度との関係を表す図である。図６は、３－ｂｏｄｙ ｔｅｒｍｓの力学場とＴｅｒｓｏｆｆ ｐｏｔｅｎｔｉａｌ（Ｊ． Ｔｅｒｓｏｆｆ， “Ｎｅｗ ｅｍｐｉｒｉｃａｌ ａｐｐｒｏａｃｈ ｆｏｒ ｔｈｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ａｎｄ ｅｎｅｒｇｙ ｏｆ ｃｏｖａｌｅｎｔ ｓｙｓｔｅｍｓ，” Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｂ， ｖｏｌ． ３７， ｐｐ． ６９９１－７０００， １９８８．を参照）とＮＰＴアンサンブル条件とを用いて、３３７５の原子数の分子動力学シミュレーションにより算出した。図６において、横軸は線引きから凍結までにかける圧力、縦軸は製造された光ファイバの密度を表す。このシミュレーションにおいて、光ファイバは２０００℃において線引きされ、１０１２Ｋ／ｓの冷却率で冷却されたものとした。
図６によれば、圧力を１Ｍｐａから１００ＭＰａまで上昇させることにより、密度が約０．０５ｇ／ｃｍ３上昇していることを確認することができる。さらに、圧力を１００ＭＰａ以上に上昇させると、急激に密度が上昇することを確認することができる。これは、線引き時に加圧することにより、ガラス構造に変化が生じたことを意味している。すなわち、線引き工程では、溶融変形させる溶融変形部を１ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことにより、光ファイバのガラス構造を均質にし、レイリー散乱による伝送損失を低減させることができる。さらに、線引き工程では、溶融変形させる溶融変形部を１００ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことにより、光ファイバのガラス構造をより均質にし、レイリー散乱による伝送損失をさらに低減させることができる。
さらに、ガラスの員環構造についてもシミュレーション解析を行った。図７は、線引き時の圧力と６員環の存在確立との関係を表す図である。図７に示すシミュレーション結果より明らかなように、加圧すると、特に１ＭＰａを超えたあたりからガラス構造も急激に変化し、より好ましい６員環が存在する割合が増えていることが分かる。
以上説明したように、線引き工程において、例えば１ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことにより、ガラス構造の乱れを低減させることができる。さらに、線引き工程において、１０ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことにより、密度を増大させることができる。その結果、光ファイバのガラス構造をより均質にし、レイリー散乱による伝送損失をさらに低減させることができる。この伝送損失を低減させる効果は、線引き時にかける圧力が高いほど大きくなるため、圧力が１ＭＰａ以上であることが好ましく、圧力が１０ＭＰａ以上であることがさらに好ましく、圧力が１００ＭＰａ以上であることがさらに好ましい。そして、線引き時の圧力を適切に制御することにより、波長１５５０ｎｍにおける伝送損失を０．１５ｄＢ／ｋｍ以下とすることが好ましい。
なお、上記実施形態では、圧力容器１ａ内に冷却部４、ダイス５ａ、５ｂ、および紫外線照射装置５ｃが収容されている。しかしながら圧力容器１ａ内の圧力によっては、さらにガイドロール７が圧力容器１ａに収容されていてもよく、さらには巻取装置８が圧力容器１ａに収容されていてもよい。また、光ファイバ母材収容機構３と光ファイバ母材保護部１１とは実施形態において必須の構成ではなく、適宜削除してもよい。
また、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上述した各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
１ 加圧機構
１ａ 圧力容器
１ｂ 加圧部
２ ヒータ
３ 光ファイバ母材収容機構
４ 冷却部
５ 被覆層形成機構
５ａ、５ｂ ダイス
５ａａ 孔
５ｃ 紫外線照射装置
６ａ プライマリ樹脂供給部
６ｂ セカンダリ樹脂供給部
７ ガイドロール
８ 巻取装置
９ チャック
１０ 回転軸体
１１ 光ファイバ母材保護部
１００ 製造装置
Ｆ１ ガラス光ファイバ
Ｆ２ 光ファイバ
Ｐ 光ファイバ母材
Ｐａ 出発材
Ｐｂ 溶融変形部

Claims (9)

  1. 光ファイバ母材の一端部を加熱して溶融変形し、光ファイバを引き出す線引き工程を含み、前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を１ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことを特徴とする光ファイバの製造方法。
  2. 前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を１０ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
  3. 前記線引き工程では、前記溶融変形させる溶融変形部を１００ＭＰａ以上の圧力で加圧しながら線引きを行うことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
  4. 前記溶融変形部を加圧媒体によって加圧することを特徴とする請求項１～３のいずれか１つに記載の光ファイバの製造方法。
  5. 前記光ファイバ母材の一端部を２０００℃以上に加熱して前記溶融変形部を形成することを特徴とする請求項１～４のいずれか１つに記載の光ファイバの製造方法。
  6. 前記光ファイバは、コア部と、前記コア部の外周を取り囲むクラッド部とを含み、前記コア部は、ゲルマニウム，塩素，フッ素，カリウム，ナトリウムのいずれか１つ以上が添加されたシリカガラスからなり、
    前記コア部の前記シリカガラスに対する比屈折率差が－０．２％以上０．２％以下であり、
    前記クラッド部の前記シリカガラスに対する比屈折率差が０％より小さいことを特徴とする請求項１～５のいずれか１つに記載の光ファイバの製造方法。
  7. 波長１５５０ｎｍにおける伝送損失が０．１５ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする請求項１～６のいずれか１つに記載の光ファイバの製造方法。
  8. 光ファイバ母材の一端部を加熱して溶融変形する加熱器と、
    前記光ファイバ母材を収容する圧力容器を備え、前記光ファイバ母材の溶融変形された溶融変形部を１ＭＰａ以上の圧力で加圧する加圧機構と、
    前記溶融変形部から引き出された光ファイバに被覆層を形成する被覆層形成機構と、
    を備えることを特徴とする光ファイバの製造装置。
  9. 前記光ファイバ母材を保護する光ファイバ母材保護部と、
    前記光ファイバ母材保護部で保護した光ファイバ母材を収容する光ファイバ母材収容機構と、
    をさらに備えることを特徴とする請求項８に記載の光ファイバの製造装置。
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