JP7503900B2 - 歯科修復物の製造のためのプロセス - Google Patents
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Description
(項目1)
歯科修復物の製造のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、酸化物セラミック材料が、
(a) 第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここで前記ステップ(a)における加熱処理が、前記ステップ(b)における加熱処理より低い圧力で行われる、プロセス。
(項目2)
ステップ(a)において、前記酸化物セラミック材料が、1100から1600℃までの範囲、特に1200から1500℃までの範囲、好ましくは1250から1450℃までの範囲、そしてさらに好ましくは1300から1400℃までの範囲にある温度、そして最も好ましくは約1350℃である温度まで加熱される、上記項目に記載のプロセス。
(項目3)
ステップ(a)において、前記酸化物セラミック材料が、10から500K/分まで、特に50~250K/分、そして好ましくは100~200K/分の範囲の加熱速度で加熱される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目4)
前記ステップ(a)における加熱処理が、200mbar未満、好ましくは100mbar未満、そして特に好ましくは50mbar未満、そして特に0.1から200mbarまでの範囲の圧力、好ましくは1から150mbarまでの範囲の圧力、そして特に好ましくは50から100mbarまでの範囲の圧力で行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目5)
ステップ(b)において、前記酸化物セラミック材料が、(b1)必要に応じてさらに加熱され、そして(b2)1100から1700℃までの範囲、特に1300から1600℃までの範囲、そして好ましくは1350から1550℃までの範囲、そして特に好ましくは約1500℃の温度で、好ましくは一定の温度で保持および焼成される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目6)
前記ステップ(b2)における保持が、1~60分間、特に2~30分間、好ましくは3~15分間、そして特に好ましくは約5分間行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目7)
前記ステップ(b)における加熱処理が、500mbarより高い圧力で、そして特に周囲圧力で行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目8)
前記ステップ(b)における加熱処理が、酸素含有雰囲気中で、そして特に、空気中、酸素濃縮空気中または酸素中で行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目9)
酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素濃縮空気、または酸素が、ステップ(b)中に加熱チャンバを通って、不連続にかまたは好ましくは連続的に、特に0.1から50l/分まで、好ましくは1~20l/分、そして特に好ましくは4~8l/分の流量で流れる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目10)
ステップ(a)において、前記酸化物セラミック材料が、前記酸化物セラミック材料がステップ(b)において保持される温度または温度範囲よりも、0~500K低い、特に10~250K低い、好ましくは50~200K低い、そして特に好ましくは100~150K低い温度まで加熱される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目11)
ステップ(c)において、前記酸化物セラミック材料が、20から1300℃までの範囲、特に100から1250℃までの範囲、そして好ましくは1000から1200℃までの範囲にある温度まで冷却される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目12)
前記酸化物セラミック材料が、ジルコニアベースであり、特に正方晶系ジルコニア多結晶(TZP)ベースである、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目13)
前記ジルコニアが、Y2O3、CeO2、MgOおよび/またはCaOで安定化されており、そして好ましくは、該ジルコニアの含有量に対して、2~12mol%、特に3~5mol%のこれらの酸化物で安定化されている、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目14)
前記酸化物セラミック材料が着色されており、そして好ましくは、特に色が異なる少なくとも2つの層を含む、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目15)
前記歯科修復物が、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、前装、咬合局面または支台であり、そして好ましくは、2つまたはそれより多くのユニットを備える、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目16)
歯科修復物の製造のための、酸化物セラミック材料の使用であって、該酸化物セラミック材料は、
(a) 第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここで前記ステップ(a)における加熱処理が、前記ステップ(b)における加熱処理より低い圧力で行われる、使用。
本発明は、歯科修復物の製造のためのプロセスに関し、このプロセスにおいて、酸化物セラミック材料は、
(a) 第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここでステップ(a)における加熱処理は、ステップ(b)における加熱処理より低い圧力で行われる。
(a) 第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここでステップ(a)における加熱処理が、ステップ(b)より低い圧力で行われることを特徴とする。
(a) 第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここでステップ(a)における加熱処理は、ステップ(b)における加熱処理より低い圧力で行われる。
17mmの高さ、15.5mmの幅および2.5~3.5mmの厚さを有する試験片を、市販の酸化物セラミックのブロックまたは円板から、ダイヤモンド鋸を使用する乾式鋸引きによって製造した。この鋸引きの後に、これらの試験片を、乾燥キャビネット内で80℃で2時間乾燥させた。
一般手順に従って、市販の3mol%のY2O3を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック(IPS e.max ZirCAD LT BL,Ivoclar Vivadent)から得られた試験片を、SiC加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片をこの焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして約50~100mbarの最終圧力の部分減圧をこの加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約1000℃の温度まで約180K/分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約1350℃の温度まで約80K/分の加熱速度で加熱した。この温度に達したら、この加熱チャンバを新鮮な空気で満たし、次いで新鮮な空気を、約5l/分の流量で連続的に流し、この間に、試験片を1500℃の温度まで約80K/分の加熱速度でさらに加熱し、この温度で約5分間保持し、次いで約1100℃の温度まで約140K/分の速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。この焼成プロセスの合計の持続時間は、約19.5分間であった。
実施例1Aを繰り返したが、今回は、減圧を発生させず、その代わりに、新鮮な空気を加熱チャンバに通して、焼成プロセスの全持続時間にわたって連続的に、約5l/分の流量で流した。
一般手順に従って、市販の3mol%のY2O3を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック(IPS e.max ZirCAD LT BL,Ivoclar Vivadent)から得られた試験片を、Programat CS4型の焼成炉(Ivoclar Vivadent)内で、プログラムP2を用いて、自動予備乾燥を用いずに焼成した。ここで、試験片を室温から約900℃まで、約130K/分の加熱速度で加熱し、さらに、約1035℃まで約50K/分の加熱速度で加熱し、そして最後に、約1460℃まで約15K/分の加熱速度で加熱した。試験片をこの温度で約6分間保持し、次いで約1200℃の温度まで約70K/分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。この焼成プロセスの全持続時間は、約47分間であった。
一般手順に従って、市販の3mol%のY2O3を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック(IPS e.max ZirCAD LT BL B45もしくはIPS e.max ZirCAD LT A3 B45,Ivoclar Vivadent)から、または市販のジルコニアをベースとする酸化物セラミック円板(Zenostar MT 3,Wieland Dental+Technik)から得られた試験片を、各場合に、MoSi2加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片を、この焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして50mbar未満の最終圧力の部分減圧を、この加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約1050℃の温度まで約180K/分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約1500℃の温度まで約80K/分の加熱速度で加熱した。表2に従って、1350℃、1400℃、1450℃または1500℃の温度に達したら、この加熱チャンバに新鮮な空気を満たし、次いで新鮮な空気を、この焼成プロセスの残りの間、約5l/分の流量で連続的に流した。試験片を、約1500℃の温度で約5分間保持し、次いで約1100℃の温度まで約140K/分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。
一般手順に従って、市販の3mol%のY2O3を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック(IPS e.max ZirCAD LT A3 B45,Ivoclar Vivadent)から、または市販のジルコニアをベースとする酸化物セラミック円板(Zenostar MT 3,Wieland Dental+Technik)から得られた試験片を、各場合に、MoSi2加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片を、この焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして表3に従って、50mbar、100mbarまたは200mbarの最終圧力の部分減圧を、この加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約1000℃の温度まで約180K/分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約1350℃の温度まで約80K/分の加熱速度で加熱した。この温度に達したら、この加熱チャンバに新鮮な空気を満たし、次いで新鮮な空気を、約5l/分の流量で連続的に流し、この間に、試験片を、1500℃の温度まで約80K/分の加熱速度でさらに加熱し、この温度で約5分間保持し、次いで約1100℃の温度まで約140K/分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。
一般手順に従って、市販の3mol%のY2O3を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック(IPS e.max ZirCAD LT BL B45もしくはIPS e.max ZirCAD LT A3 B45,Ivoclar Vivadent)から、または市販のジルコニアをベースとする酸化物セラミック円板(Zenostar MT 3,Wieland Dental+Technik)から得られた試験片を、各場合に、SiC加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片を、この焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして約50~100mbarの最終圧力の部分減圧を、この加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約1050℃の温度まで約180K/分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約1500℃の温度まで約80K/分の加熱速度で加熱した。表4に従って、1250℃、1300℃または1350℃の温度に達したら、この加熱チャンバに新鮮な空気または酸素を満たし、次いでこれを、この焼成プロセスの残りの間、約5l/分の流量で連続的に流した。試験片を、約1500℃の温度で約5分間保持し、次いで約1100℃の温度まで約140K/分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。
Claims (17)
- 歯科修復物の製造のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、酸化物セラミック材料が、
(a) 前記酸化物セラミック材料を1100から1600℃までの範囲にある温度まで加熱することを含む、第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここで前記ステップ(a)における加熱処理が、前記ステップ(b)における加熱処理より低い圧力で行われ、前記ステップ(a)における加熱処理が200mbar未満の圧力で行われ、前記ステップ(b)における加熱処理が酸素含有雰囲気中で行われる、プロセス。 - 前記ステップ(a)において、前記酸化物セラミック材料が、1200から1500℃までの範囲にある温度まで加熱される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記ステップ(a)において、前記酸化物セラミック材料が、10から500K/分までの範囲の加熱速度で加熱される、請求項1または2に記載のプロセス。
- 前記ステップ(a)における加熱処理が、0.1から200mbarまでの範囲の圧力で行われる、請求項1~3のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ステップ(b)において、前記酸化物セラミック材料が、(b1)さらに加熱され、そして(b2)1100から1700℃までの範囲の温度で保持および焼成される、請求項1~4のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ステップ(b)において、前記酸化物セラミック材料が、1100から1700℃までの範囲の温度で保持および焼成される、請求項1~4のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ステップ(b)における保持が、1~60分間行われる、請求項5または6に記載のプロセス。
- 前記ステップ(b)における加熱処理が、500mbarより高い圧力で行われる、請求項1~7のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ステップ(b)における加熱処理が、空気中、酸素濃縮空気中または酸素中で行われる、請求項1~8のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記空気、酸素濃縮空気、または酸素が、前記ステップ(b)中に加熱チャンバを通って、不連続にかまたは連続的に流れる、請求項9に記載のプロセス。
- 前記ステップ(a)において、前記酸化物セラミック材料が、前記酸化物セラミック材料が前記ステップ(b)において保持される温度または温度範囲よりも、最大500K低い温度まで加熱される、請求項5~10のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ステップ(c)において、前記酸化物セラミック材料が、20から1300℃までの範囲にある温度まで冷却される、請求項1~11のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記酸化物セラミック材料が、ジルコニアベースである、請求項1~12のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ジルコニアが、Y2O3、CeO2、MgOおよび/またはCaOで安定化されている、請求項13に記載のプロセス。
- 前記酸化物セラミック材料が着色されている、請求項1~14のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記歯科修復物が、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、前装、咬合局面または支台である、請求項1~15のいずれか1項に記載のプロセス。
- 歯科修復物の製造のための、酸化物セラミック材料の使用であって、該酸化物セラミック材料は、
(a) 前記酸化物セラミック材料を1100から1600℃までの範囲にある温度まで加熱することを含む、第一の加熱処理に供され、
(b) 第二の加熱処理に供され、そして
(c) 冷却され、
ここで前記ステップ(a)における加熱処理が、前記ステップ(b)における加熱処理より低い圧力で行われ、前記ステップ(a)における加熱処理が200mbar未満の圧力で行われ、前記ステップ(b)における加熱処理が酸素含有雰囲気中で行われる、使用。
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