JP7500822B2 - Laminated molding manufacturing system - Google Patents
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Description
本発明は積層成形品の製造方法および積層成形品製造システムに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing laminated molded products and a system for manufacturing laminated molded products.
凹凸を有する基材に樹脂フィルムのような被積層材を積層することにより回路基板やIC基板等を製造する積層装置および積層方法が開発されている。 Lamination devices and methods have been developed to manufacture circuit boards, IC boards, etc. by laminating a lamination material, such as a resin film, onto a substrate with irregularities.
例えば特許文献1に開示されている方法は、上下キャリアフィルムとともに真空積層装置内に搬入した基材の上下部の積層成形空間を減圧し、一方の空間の減圧を継続しつつ他方の空間を加圧することにより基材をキャリアフィルムによって加圧する。 For example, the method disclosed in Patent Document 1 involves reducing the pressure in the upper and lower lamination molding spaces of a substrate that has been brought into a vacuum lamination device together with upper and lower carrier films, and pressurizing one space while continuing to reduce the pressure in the other space, thereby pressurizing the substrate with the carrier film.
また特許文献2に開示されている方法は、上盤と下盤を閉鎖した際に真空吸引可能なチャンバを形成し、少なくともいずれか一方の盤に設けられた弾性膜体をチャンバ内に膨出させて基材を加圧する。 The method disclosed in Patent Document 2 forms a chamber that can be suctioned by vacuum when the upper and lower plates are closed, and pressurizes the substrate by expanding an elastic membrane provided on at least one of the plates into the chamber.
特許文献3に開示されているシステムは、減圧されたチャンバ内で加圧体により基材を加圧し中間積層材を成形する真空積層装置と、真空積層装置の後工程に配設され中間積層材を加圧する平坦化プレス装置と、を有する。このシステムの平坦化プレス装置は、タイバの部分にそれぞれ加圧機構を備え、加圧機構を個別に位置制御可能とする。 The system disclosed in Patent Document 3 has a vacuum lamination device that pressurizes the base material with a pressurizing body in a decompressed chamber to form an intermediate laminate, and a flattening press device that is disposed downstream of the vacuum lamination device and pressurizes the intermediate laminate. The flattening press device of this system has a pressure mechanism in each tie bar portion, and the position of the pressure mechanism can be controlled individually.
しかしながら、ビルドアップ基板の製造工程に代表されるように、表面に微細な凹凸が加工された基材に、熱硬化性樹脂フィルムのような積層フィルムを繰り返し積層(ラミネート)することで、多層化された積層成形品を製造する工程においては、基材の厚さや凹凸の分布等の形状要素、積層成形品の密度や硬さ等の物性要素、積層成形品の反りやねじれ等の不良要素等が、積層段階毎やロット毎に異なるため、上述の技術だけでは好適に対応することが難しい。特に、近年の高性能化されたビルドアップ基板の製造工程においては、基材に施される凹凸パタンが微細化、深度化、および三次元的に複雑分布化する傾向にあり、それに伴い上記の各要素が重畳的かつ不確定的に作用するので、積層成形品の品質ばらつきが大きくなるという問題が発生している。そのため、積層成形品の歩留まり向上の観点から、積層成形品の積層段階毎やロット毎の品質安定化が強く望まれている。 However, as typified by the manufacturing process of build-up boards, in the process of manufacturing multilayered laminated molded products by repeatedly laminating a laminated film such as a thermosetting resin film onto a substrate whose surface has been processed with fine irregularities, the shape factors such as the thickness of the substrate and distribution of irregularities, the physical properties such as the density and hardness of the laminated molded product, and defects such as warping and twisting of the laminated molded product vary for each stacking stage and lot, making it difficult to respond appropriately with the above-mentioned technology alone. In particular, in the manufacturing process of recent high-performance build-up boards, the unevenness patterns applied to the substrate tend to become finer, deeper, and more complexly distributed in three dimensions, and as a result, the above-mentioned elements act in an overlapping and uncertain manner, resulting in problems of large variations in the quality of laminated molded products. Therefore, from the perspective of improving the yield of laminated molded products, there is a strong demand for stabilization of the quality of laminated molded products for each stacking stage and lot.
本開示は、このような課題を解決するためになされたものであって、多層化された積層成形品を好適に製造する方法およびシステムを提供するものである。 This disclosure has been made to solve these problems, and provides a method and system for optimally manufacturing multi-layered laminated molded products.
本開示にかかる積層成形品の製造方法は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を加圧する積層工程を有し、その積層工程を複数回繰り返すことで、所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製造する製造方法であって、以下の工程を含む。
工程(a)は、所定の構造構成体がそれぞれ異なる複数の押圧板を予め用意する。押圧板は加熱体を含んでいてもよい。
工程(b)は、基材に予め積層された積層フィルムの層数が所定の段階において、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて、複数の押圧板から1つの押圧板を選択する。
工程(c)は、平坦な主面を有する一対の盤体の各盤体の主面に対して選択にかかる押圧板を取り付けることにより、圧締部を用意する。
工程(d)は、圧締部の温度が所定の範囲内になるよう圧締部の温度を制御する。
工程(e)は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材の表面に圧締部を押圧する。
The method for producing a laminated molded product according to the present disclosure includes a lamination step of pressurizing a substrate to which at least a portion of a laminate film is temporarily bonded or laminated, and by repeating the lamination step multiple times, a laminated molded product is produced in which a predetermined number of layers of laminate film are laminated, and includes the following steps:
In the step (a), a plurality of pressing plates each having a different predetermined structural component are prepared in advance. The pressing plates may include a heating element.
In step (b), when the number of layers of the laminated film pre-laminated on the substrate is at a predetermined stage, one pressing plate is selected from a plurality of pressing plates depending on the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated.
In step (c), a pressing portion is prepared by attaching a pressing plate to the main surface of each of the pair of disks having flat main surfaces.
Step (d) includes controlling the temperature of the pressing part so that the temperature of the pressing part is within a predetermined range.
In step (e), a pressing portion is pressed against the surface of the substrate to which at least a portion of the laminate film is temporarily adhered or laminated.
本開示にかかる積層成形品の製造方法は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を加圧する積層工程を有し、その積層工程を複数回繰り返すことで、所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製作する製造方法であって、収容体、セレクタ、盤体、押圧板および温度制御装置を有する。収容体は、構造構成体がそれぞれ異なる複数の押圧板を収容する。セレクタは、基材に予め積層された積層フィルムの層数が所定の段階において、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて、複数の押圧板から1の押圧板を選択する。盤体は、平坦な主面に1の押圧板が交換可能に設置されることにより積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を押圧する圧締部を構成する。温度制御装置は、圧締部の温度が所定の範囲内になるよう圧締部の温度を制御する。 The manufacturing method of the laminated molded product according to the present disclosure has a lamination process in which a substrate to which at least a portion of the laminated film is temporarily bonded or laminated is pressed, and the lamination process is repeated multiple times to produce a laminated molded product in which a predetermined number of layers of laminated film are laminated, and has a container, a selector, a plate, a pressure plate, and a temperature control device. The container contains multiple pressure plates each having a different structural configuration. The selector selects one of the multiple pressure plates according to the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated at a stage in which the number of layers of the laminated film previously laminated on the substrate is predetermined. The plate constitutes a pressing section that presses the substrate to which at least a portion of the laminated film has been temporarily bonded or laminated by replacing one pressure plate on the flat main surface. The temperature control device controls the temperature of the pressing section so that the temperature of the pressing section is within a predetermined range.
本開示によれば、多層化された積層成形品を好適に製造する方法およびシステムを提供できる。 This disclosure provides a method and system for optimally manufacturing multi-layered laminated molded products.
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、特許請求の範囲にかかる発明を以下の実施形態に限定するものではない。また、実施形態で説明する構成の全てが課題を解決するための手段として必須であるとは限らない。説明の明確化のため、以下の記載および図面は、適宜、省略、および簡略化がなされている。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。 The present invention will be described below through embodiments of the invention, but the invention according to the claims is not limited to the following embodiments. Furthermore, not all of the configurations described in the embodiments are necessarily essential as means for solving the problems. For clarity of explanation, the following description and drawings have been omitted and simplified as appropriate. In addition, the same elements are given the same reference numerals in each drawing, and duplicate explanations have been omitted as necessary.
<実施の形態>
図1を参照しながら、実施の形態にかかる積層成形品製造システムの概要構成について説明する。図1は、実施の形態にかかる積層成形品製造システム1のブロック図である。積層成形品製造システム1は、複数の積層フィルムがラミネートされた積層成形品を製造するための機能を有している。積層成形品は、予め微細な凹凸が加工された所定の基材に、所定の層数の積層フィルムが積層されたものである。積層成形品製造システム1は、基材に予め積層された積層フィルムの層数が所定の段階において、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着された基材をラミネートし、ラミネートした基材の表面を段階的に平坦化する。積層成形品製造システム1は主な構成として、制御装置10、押圧板供給ブロック20および積層工程ブロック30を有する。
<Embodiment>
With reference to FIG. 1, a schematic configuration of a laminated molded product manufacturing system according to an embodiment will be described. FIG. 1 is a block diagram of a laminated molded product manufacturing system 1 according to an embodiment. The laminated molded product manufacturing system 1 has a function for manufacturing a laminated molded product in which a plurality of laminated films are laminated. A laminated molded product is a product in which a predetermined number of laminated films are laminated on a predetermined base material in which fine unevenness has been processed in advance. The laminated molded product manufacturing system 1 laminates a base material to which at least a part of the laminated film has been newly temporarily bonded at a stage in which the number of layers of the laminated film previously laminated on the base material is predetermined, and gradually flattens the surface of the laminated base material. The laminated molded product manufacturing system 1 has a
制御装置10は、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)またはMCU(Micro Controller Unit)等の演算装置を含む回路であって、押圧板供給ブロック20および積層工程ブロック30を適宜制御する。制御装置10は例えば押圧板供給ブロック20および積層工程ブロック30がそれぞれ有するモータ等の駆動部や、センサ等に通信可能に接続している。
The
また制御装置10は、メモリ11を有している。メモリ11は、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリを含む。これにより制御装置10は、メモリ11が予め格納している所定のプログラムを起動することにより上述の制御を実行できる。メモリ11はさらに、後述する押圧板40に関する押圧板データを記憶している。押圧板データは、複数の押圧板40と基材の積層状態との対応関係を示したデータである。これにより積層成形品製造システム1は、基材における積層状態に応じた押圧板40を選択できる。
The
押圧板供給ブロック20は、積層工程ブロック30に対して押圧板を供給または交換する。押圧板供給ブロック20は、制御装置10により制御される。押圧板供給ブロック20は主な構成として、収容体21、セレクタ22および交換装置23を有している。
The pressure
収容体21は、複数の押圧板40を交換可能に収容する。押圧板40は、積層工程ブロック30が有するラミネート装置31または平坦化装置32において用いられる部材である。押圧板40は、積層フィルムに接する面において、押圧体40’を有している。押圧体40’は、盤体に対する側において、加熱体を有していてもよい。また、押圧体40’は、種々の構造構成体を形成していてもよい。
The
例えば、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着された基材をラミネート装置31が減圧下でラミネートする工程において、押圧体40’は、仮接着された積層フィルムが基材の凹凸に正確に従うように、基材を押圧する。すなわち、押圧体40’は、例えば押圧後に基材の凹凸と積層フィルムとの間に気泡を残存させたり、溶融した積層フィルムの一部を基材の縁より外側に流出させたり、基材の表面の積層フィルムに皺を発生させたり、基材と積層フィルムの位置関係が所定の位置からずれたりしないように、押圧前の基材の状態に応じた所定の構造構成体を有する。この場合、押圧体40’は、構造構成体を形成し得る構成要素として、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択される。また押圧体40’は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有し得る。
For example, in a process in which the
また、押圧体40’は、例えば平坦化装置32が、積層フィルムがラミネートされた基材の表面を段階的に押圧し、基材の表面を均等に平坦化する。すなわち、押圧体40’は、例えば押圧後に基材の表面が所定の平坦度および平滑度となるように、押圧前の基材の状態に応じた所定の構造構成体を有する。この場合、押圧体40’は、構造構成体を形成し得る構成要素として、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択される。また押圧体40’は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有し得る。
The pressing body 40', for example, the flattening
なお、上述した「複数の種類」は、各々の物性要素が異なることを意味するものであってもよい。すなわち、複数の種類は、物性要素として、素材の成分組成が異なることを意味するものであってもよい。また複数の種類は、成分組成以外の物性要素として、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、光沢度で表される物性要素のうち少なくとも1つが異なることを意味するものであってもよい。 The above-mentioned "multiple types" may mean that the physical properties of each type are different. In other words, the multiple types may mean that the material has a different composition as a physical property. The multiple types may also mean that at least one of the physical properties expressed by the thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption, reflectance, and glossiness is different as a physical property other than the composition.
例えば、SUS304組成のステンレス板であっても、表面粗さがRa0.4のものと、Ra1.6のものを異なる複数の種類と解釈してもよい。また、上述の「2次元的に適切に組み合わせる」とは、例えば平坦化装置32に用いられる押圧体40’の構造構成体のうち、SUS304組成のステンレス板からなる剛性体において、中心付近の面粗さをRa0.4、周縁付近をRa1.6とし、それらの面積比率を新たにラミネートされた積層フィルムの直下に配置される導電体の状態に応じて、例えば5:1となるようにしてもよい。
For example, even in the case of a stainless steel plate of SUS304 composition, it may be interpreted as multiple different types, with one having a surface roughness of Ra0.4 and the other having a surface roughness of Ra1.6. In addition, the above-mentioned "two-dimensionally appropriately combined" may mean, for example, that in the structural component of the pressing body 40' used in the
また、「3次元的に適切に組み合わせる」とは、例えば上記のSUS304組成のステンレス板の内部において、以下のような構造を採用することを意味してもよい。すなわち、ステンレス板の内部の中央付近において、同心円状の空洞が、基材の面と平行になるように設けられる。さらに中央付近から周縁部に向かって基材の面に対して角度θを成すように放射状の空洞が広がるように設けられる。この場合に角度θは、積層フィルムの直下に配置される導電体の状態に応じて、例えば中心に近い領域をθ=0度、周縁に近い領域をθ=0.2度となるように設定される。 "Appropriately combining three-dimensionally" may also mean, for example, adopting the following structure inside the stainless steel plate of the above-mentioned SUS304 composition. That is, near the center inside the stainless steel plate, concentric cavities are provided so as to be parallel to the surface of the substrate. Furthermore, radial cavities are provided so as to extend from near the center toward the periphery at an angle θ with respect to the surface of the substrate. In this case, the angle θ is set according to the state of the conductor placed directly under the laminated film, for example, so that θ = 0 degrees in the region near the center and θ = 0.2 degrees in the region near the periphery.
なお、上記の2次元的な組み合わせ(所定のパタン構造)は、例えば適切な大きさの砥粒を用いた研磨加工により製作可能であり、上記の3次元的な組み合わせは、例えばレーザー焼結式の3Dプリンターにより製作可能である。 The above two-dimensional combination (predetermined pattern structure) can be produced, for example, by polishing using abrasive grains of appropriate size, and the above three-dimensional combination can be produced, for example, by a laser sintering 3D printer.
収容体21が収容する複数の押圧板40は、各々の押圧板40に含まれる押圧体40’において、所定の構造構成体がそれぞれ異なる。ここで、構造構成体とは、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択されたものを指す。なお、構造構成体は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有していてもよい。また、構成要素の種類とは、素材の化学成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、および光沢度のうち少なくともいずれか1つを含み得る。
The
すなわち収容体21が収容する複数の押圧板40は、各々の押圧板40に含まれる押圧体40’において、例えば素材の化学成分組成が異なっていてもよいし、厚さが異なっていてもよい。また押圧体40’は、素材の化学成分組成や厚さが同じであって、硬度や弾性率が異なるものであってもよい。複数の押圧板40は、基材の状態に合わせて選択され、積層工程ブロック30に設置される。押圧板40はセレクタ22によって選択され、さらにセレクタ22によって取り出される。なお、積層工程ブロック30が積層成形品の製造工程において一度に複数の押圧板40を要する場合には、収容体21は、対応する複数の押圧板40を収容する。
In other words, the
セレクタ22は、収容体21が収容する複数の押圧板40から少なくとも1つの押圧板40を選択して取り出す。セレクタ22は、基材における積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて複数の押圧板から少なくとも1の押圧板40を選択する。積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの積層数である。また積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの材質や厚さであってもよい。積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態は、予め積層された積層フィルムを含む基材に施された加工の状態であってもよい。
The
予め基材に施された加工とは、基材表面の積層フィルムに対して施された切削加工や穴あけ加工を含む。また予め基材に施された加工は、例えば積層フィルムに敷設された薬剤や添付された金属箔(めっき)の状態を含む。また予め基材に施された加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。なお、積層工程ブロック30が積層成形品の製造工程において一度に複数の押圧板40を要する場合には、セレクタ22は複数の押圧板40を選択する。セレクタ22は、取り出した押圧板40を、交換装置23に引き渡す。
The processing performed on the substrate in advance includes cutting and drilling performed on the laminated film on the substrate surface. The processing performed on the substrate in advance also includes, for example, the state of the chemicals laid on the laminated film and the metal foil (plating) attached. The processing performed on the substrate in advance also includes, for example, heat treatment (curing treatment) in which the substrate is heated to a predetermined temperature. If the
交換装置23は、収容体21が収容する押圧板40のうち選択にかかる押圧板40と、積層工程ブロック30に取り付けられている押圧板40とを交換する。交換装置23はセレクタ22が取り出した交換用の押圧板40を受け取ると、受け取った押圧板40と、積層工程ブロック30に既に取り付けられている押圧板40とを交換する。また交換装置23は、交換により積層工程ブロック30から取外した押圧板40をセレクタ22に引き渡す。
The
積層工程ブロック30は、積層フィルムが新たに仮接着された基材をラミネートし、ラミネートした基材の表面を平坦化する。積層工程ブロック30は、制御装置10により制御される。積層工程ブロック30は主な構成として、ラミネート装置31、平坦化装置32および温度制御装置33を有している。
The
ラミネート装置31は、基材に新たに仮接着された積層フィルムをラミネートする。ラミネート装置31は、搬送用フィルムを介して基材の表面に接触し、且つ、圧力を付与することにより、かかる圧着処理(ラミネート)を実行する。ラミネート装置31は、盤体を上下動させることで積層フィルムを押圧したり、押圧状態から解放したりすることにより、ラミネート処理を行うものが望ましい。具体的には、ラミネート装置31は、サーボモータまたはトルクモータを用いた回転駆動を動力とし、ボールねじを介して盤体を上下動させることが望ましい。その場合、ラミネート装置31は、押圧体40’の構造構成体の構成要素うち、基材に面する主面において、シリコンゴムやフッ素樹脂等の耐熱性を有する弾性体が用いられることがさらに望ましい。
The
なお、ラミネート装置31は、上述の方式に限らず、可塑性と耐熱性を有する樹脂製のダイアフラムを用いて積層フィルムを押圧することによりラミネートを行ってもよい。あるいは、ラミネート装置31は例えばローラを有し、積層成形品の表面にローラを転がすことによりラミネートを行ってもよい。またラミネート装置31は上述の方式とはさらに異なる方式によりラミネートを行ってもよい。
The
ラミネート装置31は、圧締部50を有する。圧締部50は、押圧板40を含む。押圧板40は、構造構成体に加熱体51を含んでいても良い。またラミネート装置31は、押圧板40を交換可能に保持する。ラミネート装置31に交換可能に保持される押圧板40は、交換を容易とするため、ロボットアーム等がアクセス可能な位置と向きにボルト締結部を有していることが望ましい。なお、押圧板40は、交換可能にする手段として、上記のようにボルト締結する手段以外に、油圧シリンダやエアシリンダを用いたワンタッチ式チャックによる機械的な締結手段を有していても良いし、電磁石や吸引装置などを用いた吸着力を原理とする締結手段を有していても良い。
The
平坦化装置32はラミネート装置31がラミネートを施した基材の表面を平坦化する。平坦化装置32は主な構成として、圧締部50を有している。圧締部50は、新たにラミネートされた積層フィルムの表面に所定の熱と圧力を付与することにより、基材の表面を平坦化する。
The flattening
圧締部50は、押圧板40を含む。押圧板40は、構造構成体に加熱体51を含んでいても良い。加熱体51は、温度制御装置33により温度が制御される部材を含む。これにより押圧板40は、基材の表面に対して熱や圧力を伝える。平坦化装置32は、盤体を上下動させることで積層フィルムを押圧したり、押圧状態から解放したりすることにより、平坦化処理を行うものが望ましい。具体的には、平坦化装置32は、サーボモータまたはトルクモータを用いた回転駆動を動力とし、ボールねじを介して盤体を上下動させることが望ましい。その場合、押圧体40’が有する構造構成体の構成要素は、基材に面する主面における表面粗さが中心部分と周縁部分とで異なるステンレス板のような剛性体であることがさらに望ましい。
The
また平坦化装置32は、押圧板40を交換可能に保持する。平坦化装置32に交換可能に保持される押圧板40は、交換を容易とするため、ロボットアーム等がアクセス可能な位置と向きにボルト締結部を有していることが望ましい。なお、押圧板40は、交換可能にする手段として、上記のようにボルト締結する手段以外に、油圧シリンダやエアシリンダを用いたワンタッチ式チャックによる機械的な締結手段を有していても良いし、電磁石や吸引装置などを用いた吸着力を原理とする締結手段を有していても良い。
The flattening
基材において積層フィルムが多層化した場合、予め基材に積層された積層フィルムの材質や積層数、予め基材に積層された積層フィルムの厚みや平坦度や平滑度に対する累積公差、あるいは予め基材や積層フィルムに施された加工状態等により、ラミネートや平坦化するために好適な押圧体40’の構造構成要素が異なる。そのため、積層成形品製造システム1は、押圧体40’が有する構造構成要素に応じて押圧板40を適宜交換する。これにより積層成形品製造システム1は、好適にラミネートもしくは平坦化処理を実行できる。 When a laminate film is multi-layered on a substrate, the structural components of the pressing body 40' suitable for laminating or flattening vary depending on the material and number of layers of the laminate film previously laminated on the substrate, the thickness, flatness, and cumulative tolerance for smoothness of the laminate film previously laminated on the substrate, or the processing state previously applied to the substrate or laminate film. Therefore, the laminated product manufacturing system 1 appropriately replaces the pressing plate 40' depending on the structural components of the pressing body 40'. This allows the laminated product manufacturing system 1 to perform lamination or flattening processing appropriately.
温度制御装置33は、平坦化装置32が有する加熱体51の温度を制御する。例えば温度制御装置33はサーミスタおよびヒータを含み、加熱体51が設定された温度になるようにヒータを制御する。これにより積層成形品製造システム1は、基材を平坦化する際の圧締部50の温度が所定の範囲内になるように、圧締部50の温度を制御する。温度制御装置33は制御装置10により制御される。
The
図2は、積層成形品製造システムが行う積層成形品の製造方法を示すフローチャートである。本開示にかかる積層成形品の製造方法は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を加圧する積層工程を有し、その積層工程を複数回繰り返すことで、所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製作する製造方法であって、上述の積層成形品製造システム1を使用するユーザが積層成形品製造システム1を利用して実行する。 Figure 2 is a flowchart showing a method for manufacturing a laminated molded product performed by the laminated molded product manufacturing system. The method for manufacturing a laminated molded product according to the present disclosure has a lamination process in which a base material to which at least a portion of a laminate film is temporarily bonded or laminated is pressurized, and the lamination process is repeated multiple times to produce a laminated molded product in which a predetermined number of layers of laminate film are laminated, and is executed by a user of the laminated molded product manufacturing system 1 described above using the laminated molded product manufacturing system 1.
まず、ユーザは、工程(a)において、所定の構造構成体がそれぞれ異なる複数の押圧板40を予め用意する(ステップS11)。
First, in step (a), the user prepares a number of
工程(a)における所定の構造構成体は、押圧体40’において、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択されたものを指す。なお、構造構成体は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有している。また、構成要素の種類は、素材の化学成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、および光沢度のうち少なくともいずれか1つを含む。ユーザは、積層成形品を製造する工程から、基材の積層工程ごとに、適宜押圧板40を用意する。
The predetermined structural component in step (a) includes at least two components selected from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids in the pressing body 40' as selection criteria, and refers to a structural component selected based on this criterion. The structural component has a predetermined pattern structure in which these components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally. The type of component includes at least one of the chemical composition, thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, tensile yield strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption rate, reflectivity, and glossiness of the material. The user prepares an appropriate
次に、工程(b)において、積層成形品製造システム1は、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて、複数の押圧板から少なくとも1つの押圧板40を選択する(ステップS12)。
Next, in step (b), the laminated molding manufacturing system 1 selects at least one
工程(b)における基材の状態は、例えば基材に予め積層された積層フィルムの積層数である。また工程(b)における基材の状態は、例えば基材に予め積層された積層フィルムの材質や厚さであってもよい。工程(b)における基材の状態は、例えば予め積層された積層フィルムを含む基材に施された加工の状態であってもよい。予め基材に施された加工とは、基材表面の積層フィルムに対して施された切削加工や穴あけ加工を含む。また予め基材に施された加工は、例えば積層フィルムに敷設された薬剤や添付された金属箔(めっき)の状態や累積厚さや総敷設面積を含む。また予め基材に施された加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。 The state of the substrate in step (b) is, for example, the number of layers of the laminate film pre-laminated on the substrate. The state of the substrate in step (b) may also be, for example, the material or thickness of the laminate film pre-laminated on the substrate. The state of the substrate in step (b) may also be, for example, the state of processing applied to the substrate including the pre-laminated laminate film. The processing applied to the substrate in advance includes cutting and drilling applied to the laminate film on the substrate surface. The processing applied to the substrate in advance includes, for example, the state, cumulative thickness, and total area of the chemical agent or metal foil (plating) attached to the laminate film. The processing applied to the substrate in advance includes, for example, heat treatment (curing treatment) in which the substrate is heated at a predetermined temperature.
次に、工程(c)において、積層成形品製造システム1は、盤体の主面に対して上記選択にかかる押圧板40を取り付けることにより、圧締部50を用意する(ステップS13)。
Next, in step (c), the laminated molding manufacturing system 1 prepares the
なお、工程(c)において、積層成形品製造システム1は、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる群の中から少なくとも2つが選択され、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた押圧体40’を含む押圧板40を取り付けることにより圧締部50を用意するものであってもよい。
In step (c), the laminated molded product manufacturing system 1 may prepare the
次に、工程(d)において、積層成形品製造システム1は、圧締部50の温度が所定の範囲内になるよう圧締部50の温度を制御する(ステップS14)。
Next, in step (d), the laminated molded product manufacturing system 1 controls the temperature of the
次に、工程(e)において、積層成形品製造システム1は、積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の表面に圧締部50を押圧する(ステップS15)。
Next, in step (e), the laminated molding manufacturing system 1 presses the clamping
次に、工程(f)において、積層成形品製造システム1は、基材に積層フィルムが新たに仮接着もしくはラミネートされる毎に、工程(b)から工程(e)までの積層処理を実行する。すなわち、積層成形品製造システム1は、積層成形品の製造プロセスにおいて、積層処理が終了か否かを判定する(ステップS16)。積層処理が終了と判定する場合(ステップS16:YES)、積層成形品製造システム1は処理を終了する。一方、積層処理が終了と判定しない場合(ステップS16:NO)、積層成形品製造システム1は、工程(b)(ステップS12)に戻り、工程(b)から工程(e)までの積層処理を繰り返す。なお、積層処理を繰り返す場合において、工程(b)の前に、基材や基材に積層された積層フィルムに対して所定の加工を施してもよい。基材や積層フィルムに施す加工とは、例えば基材表面の積層フィルムに対して施す切削加工や穴あけ加工を含む。また基材や積層フィルムに施す加工は、例えば基材表面の積層フィルムに対して施す薬剤の敷設や金属箔(めっき)の添付を含む。また基材や積層フィルムに施す加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。なお、積層工程ブロック30が積層成形品の製造工程において一度に複数の押圧板40を要する場合には、セレクタ22は複数の押圧板40を選択する。
Next, in step (f), the laminated product manufacturing system 1 executes the lamination process from step (b) to step (e) each time a new laminated film is temporarily attached or laminated to the substrate. That is, the laminated product manufacturing system 1 judges whether the lamination process is completed in the manufacturing process of the laminated product (step S16). If it is judged that the lamination process is completed (step S16: YES), the laminated product manufacturing system 1 ends the process. On the other hand, if it is not judged that the lamination process is completed (step S16: NO), the laminated product manufacturing system 1 returns to step (b) (step S12) and repeats the lamination process from step (b) to step (e). In addition, when repeating the lamination process, a predetermined processing may be performed on the substrate or the laminated film laminated on the substrate before step (b). Processing performed on the substrate or laminated film includes, for example, cutting processing or drilling processing performed on the laminated film on the substrate surface. Processing performed on the substrate or laminated film also includes, for example, laying a chemical agent or attaching a metal foil (plating) to the laminated film on the substrate surface. The processing applied to the substrate or laminated film includes, for example, a heat treatment (curing process) in which the substrate is heated to a predetermined temperature. If the
次に、積層成形品製造システム1について具体例を挙げて説明する。図3は、積層工程ブロック30の具体例を示す構成図である。図3に示す積層工程ブロック30は、側面方向から観察した構成の概略を示したものである。
Next, the laminated molded product manufacturing system 1 will be described with a specific example. Figure 3 is a configuration diagram showing a specific example of the
なお、構成要素の位置関係を説明するための便宜的なものとして、図3は、右手系の直交座標系が付されている。また、図3以降において、直交座標系が付されている場合、図1のX軸、Y軸、およびZ軸方向と、これらの直交座標系のX軸、Y軸、およびZ軸方向はそれぞれ一致している。 For the sake of convenience in explaining the positional relationships of the components, FIG. 3 is illustrated using a right-handed Cartesian coordinate system. In addition, in FIG. 3 and subsequent figures where a Cartesian coordinate system is used, the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions in FIG. 1 coincide with the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions in these Cartesian coordinate systems, respectively.
図3に示す積層工程ブロック30は主な構成として、ラミネート装置31、平坦化装置32、温度制御装置33を有している。積層工程ブロック30は基材A1を押圧し、ラミネート処理を施した後、基材A1の表面をさらに段階的に押圧し、段階的な平坦化処理を施す。基材A1は、下部を支持する下部搬送用シート36と上部を覆う上部搬送用シート35とに挟まれた状態で、図の右側から左側に搬送される。積層工程ブロック30に投入される基材A1は、図3において右側に配置されているラミネート装置31に搬送される。
The
上部搬送用シート35と下部搬送用シート36とは、例えばポリエチレンテレフタレートを帯状に成形することにより形成されている。上部搬送用シート35と下部搬送用シート36とは、図3に示した積層工程ブロック30の左右端において巻き取られ、左右方向に同期して巻き取りまたは繰り出しが行われることにより、基材A1を挟み込んだ状態で搬送できる。
The upper conveying
ラミネート装置31は、基材A1を受け入れると、上下方向に圧力を付与して仮接着されている積層フィルムをラミネートする。ラミネート装置31は例えば上部ラミネート処理部311と下部ラミネート処理部312とを有している。ラミネート装置31は、上部ラミネート処理部311と下部ラミネート処理部312とにより基材A1を挟み込み、圧力をかけることによりラミネート処理を施す。ラミネート装置31は、上部ラミネート処理部311と下部ラミネート処理部312とにより基材A1を挟み込み、減圧可能なチャンバを形成するものであってもよい。ラミネート工程が完了すると、基材A1は上下の搬送用シートにより平坦化装置32に搬送される。
When the
図3に示す平坦化装置32は、第1平坦化装置32Aと、第2平坦化装置32Bとを含む。第1平坦化装置32Aは、ラミネート装置31においてラミネートが施された基材A1を受け取り、受け取った基材A1に対して平坦化処理を施す。第1平坦化装置32Aにより平坦化処理が施された基材A1は、上部搬送用シート35および下部搬送用シート36により第2平坦化装置32Bに搬送される。第2平坦化装置32Bは、第1平坦化装置32Aにより平坦化処理が施された基材A1を受け取り、受け取った基材A1に対してさらに平坦化処理を施す。このような段階的な平坦化処理により、積層成形品の製造工程における生産性が向上する。第2平坦化装置32Bにより平坦化処理が施された基材A1は、上部搬送用シート35および下部搬送用シート36により平坦化装置32の外へ搬送される。
The flattening
なお、本開示において平坦化装置32と称する場合は、第1平坦化装置32Aおよび第2平坦化装置32Bの両方を含む。図3に示す平坦化装置32は、生産性を高めるために、平坦化処理を段階的に2回実行できるように2つの平坦化装置が設けられているが、平坦化装置32が有する平坦化装置は1つであってもよいし、3つ以上であってもよい。
In this disclosure, the term "
温度制御装置33は、ラミネート装置31に接続し、ラミネート装置31における所定の部位の温度を制御する機能を有している。また温度制御装置33は、第1平坦化装置32Aと、第2平坦化装置32Bとに接続し、これらがそれぞれ有する加熱体51の温度を制御する。これにより、ラミネート装置31、第1平坦化装置32Aおよび第2平坦化装置32Bは基材A1に対して所定の熱と圧力を付与する。なお、温度制御装置33は、ラミネート装置31、第1平坦化装置32A、および第2平坦化装置32Bをそれぞれを異なる温度に制御可能である。
The
次に、図4を参照して平坦化装置32についてさらに説明する。図4は、平坦化装置32の具体例を示す構成図である。平坦化装置32は、主な構成として、基盤321、加圧装置322、固定盤体323、可動盤体324、ガイド孔325、ガイド軸326を有している。
Next, the flattening
基盤321は、平坦化装置32の下部において加圧装置322が摺動するためのガイド軸326を支持する。すなわち、加圧装置322は、基盤321により上下動可能に支持されている。加圧装置322は所定の駆動装置を有すると共に、可動盤体324の下部に係合し、可動盤体324を上下動させる。可動盤体324を上下動させる手段は特に限定されるものではないが、基板を正確にラミネート処理および均等に平坦化処理するために、サーボモータまたはトルクモータを用いた回転駆動を動力とし、ボールねじを介して上下動させることが望ましい。可動盤体324を上下動させる手段は、上記に限らず、油圧シリンダやエアシリンダを用いるものであっても良い。
The
固定盤体323は、基盤321が支持するガイド軸326の上端に固定され、下部において押圧板40を保持する。可動盤体324は、ガイド軸326が挿通されたガイド孔325を有し、ガイド軸326により上下方向に移動可能に支持される。また可動盤体324は下部において加圧装置322に係合している。これにより可動盤体324は、加圧装置322に制御されて上下動する。さらに可動盤体324は上面において押圧板40を保持する。
The fixed
ガイド軸326は、基盤321から上方に延出している軸であって、上端において固定盤体323を支持するとともに、基盤321と固定盤体323との間において可動盤体324を上下方向に移動可能に支持する。ガイド軸326は例えばボールスプライン軸を含み、ボールスプライン軸により可動盤体324を上下方向に案内してもよい。ガイド軸326はタイバと称されてもよい。
The
上述の構成において、平坦化装置32は、可動盤体324が下方に位置している状態で、上部搬送用シート35および下部搬送用シート36が搬送する基材A1を受け入れる。そして基材A1が所定の位置に停止した状態で、平坦化装置32は加圧装置322を駆動して可動盤体324を上方へ押し上げる。これにより平坦化装置32は固定盤体323が有する押圧板40と基材A1の上面とを接触させるとともに、可動盤体324が有する押圧板40と基材A1の下面とを接触させる。そして平坦化装置32は基材A1の上下面を圧締部50により圧締する。
In the above-described configuration, the flattening
図5を参照して平坦化装置32についてさらに説明する。図5は、平坦化装置における加工領域の構成の具体例を示す構成図である。図5に示す平坦化装置32は、基材A1を圧締する領域を示している。
The flattening
押圧板40は、断熱部52と、加熱体51と、押圧体40’と、を含む。断熱部52は、加熱体51と固定盤体323または加熱体51と可動盤体324との間の熱の伝達を押さえるために設けられた部材である。加熱体51は、例えば直方体状の部材であり、固定盤体323と可動盤体324とのそれぞれに固定されている。加熱体51はまた、複数のカートリッジヒータ330を有している。カートリッジヒータ330は、温度測定手段により測定された温度情報に基づき、温度制御装置33により出力が制御されている。温度測定手段は、サーモカップルを測定対象に接触させて測定する手段であっても良いし、放射温度計を用いて測定対象に接触させずに測定する手段であってもよい。また、温度測定手段は、それら以外の手段であっても良い。加熱体51は剛性が比較的に高く、また蓄熱量が比較的に高いものであることが好ましい。これにより圧締部50は好適に基材A1を圧締できる。
The
加熱体51は基材A1に近い側の主面において押圧体40’を交換可能に保持している。なお、加熱体51は、カートリッジヒータ330に代えて、ゴムヒータやプレートヒータを有していても良い。あるいは、加熱体51は、カートリッジヒータ330に代えて、水蒸気やオイルなどの熱媒を通流させる流路を有していても良い。また、加熱体51は、カートリッジヒータ330に対する通電部が着脱可能とされていても良い。同様に、加熱体51が、カートリッジヒータ330に代えて、ゴムヒータやプレートヒータを有する場合は、それらに対する通電部が着脱可能とされていても良い。また、加熱体51が、カートリッジヒータ330に代えて、水蒸気やオイルなどの熱媒を通流させる流路を有する場合は、例えば弁を備えた継手を用いて、熱媒の供給口と回収口を、熱媒の供給源と回収源から着脱可能とされていても良い。
The
押圧体40’は加熱体51の主面に交換可能に取り付けられている。加熱体51と押圧体40’とは、例えば端部がクランパにより固定されていてもよい。加熱体51と押圧体40’とは、例えば端部がボルトにより螺合されていてもよい。
The pressing body 40' is attached to the main surface of the
図6は、押圧板40の具体例を示す構成図である。図6には、可動盤体324に設けられている押圧板40の断面が示されている。押圧板40は主な構成として、可動盤体324に接触する側から順に、断熱部52、加熱体51および押圧体40’を有している。
Figure 6 is a structural diagram showing a specific example of the
なお、図6に示す押圧板40は、可動盤体324に設けられているものを示すが、固定盤体323に設けられている押圧板40も同様の構成を有している。また固定盤体323が有する押圧板40を上部押圧板と称し、可動盤体324が有する押圧板40を下部押圧板と称する場合がある。同様に、上部押圧板に含まれる押圧体40’を、上部押圧体と称し、下部押圧板に含まれる押圧体40’を下部押圧体と称する場合がある。
Note that while the
上述の構成において、断熱部52は、加熱体51と可動盤体324との間に介在して、加熱体51と可動盤体324との熱交換を抑制する。これにより平坦化装置32は効率よく加熱体51を加熱する。断熱部52は例えば熱伝導率が比較的に低い樹脂、金属、セラミックスまたはファイバー材等により構成されうる。
In the above-described configuration, the
加熱体51は直方体状の金属部材であって、例えば、鉄、アルミニウム、真鍮等の金属により構成され得る。これにより加熱体51は、ラミネート処理や平坦化処理において基材A1を圧締する際に歪まない程度の剛性を有する。また加熱体51は、ラミネート処理や平坦化処理において、基材A1の表面に所定の熱を付与するために充分な熱容量を有する。加熱体51は、温度制御装置33により摂氏80度から摂氏200度程度になるように制御される。
The
押圧体40’は、ラミネート処理や平坦化処理の対象である基材A1または基材A1を搬送する搬送用シートに接触する接触層42を、構造構成体として少なくとも有している。接触層42は、ラミネート装置31においては例えば耐熱性を有する樹脂などの弾性体であり、平坦化装置32においては例えば金属やセラミックスなどの剛性体、もしくは耐熱性を有する樹脂などの弾性体である。また押圧体40’は、構造構成体として、基材A1に接触したときの圧力を分散する緩衝層41を、接触層42と加熱体51の間に有していても良い。緩衝層41は、例えば耐熱性を有する樹脂などの弾性体である。なお、緩衝層41および接触層42は、上記に限らず、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択され、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有していても良い。
The pressing body 40' has at least a
緩衝層41は、ラミネート処理および平坦化処理において接触層42が受ける圧力を好適に分散する。緩衝層41は例えば樹脂、ゴム、紙、繊維強化材または不織布などが用いられる。緩衝層41の厚さは例えば100マイクロメートルから5ミリメートル程度である。ラミネート処理において、接触層42は樹脂板であって、例えば100マイクロメートルから5ミリメートル程度のシリコン樹脂やフッ素樹脂が採用され得る。また平坦化処理において、接触層42は金属板であって、例えば100マイクロメートルから5ミリメートル程度のステンレス板が採用され得る。接触層42に金属板のような剛性体を用いた場合であっても、圧締処理において負荷される荷重に対して、わずかに弾性変形する程度の剛性を有していることが好ましい。
The
なお、弾性体と剛性体の区別は、例えば弾性率に基づいても良い。すなわち、弾性率が30キロニュートン毎ミリメートル平米(kN/mm2)を区別の基準とし、これ未満の弾性率を持つ場合を弾性体とし、これ以上の弾性率をもつ場合を剛性体としても良い。また剛性の大小は、弾性率の大小により表されても良い。また接触層42は、表面粗さが小さいことが好ましい。そのため接触層42に金属やセラミックスを用いる場合は、鏡面となる程度の仕上げ研磨加工が施されていることが好ましい。また、接触層42は、表面に例えば窒化チタン(TiN)等のセラミック被膜、クロムやニッケル等のめっき、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)等の潤滑被膜のようなコーティングが施されても良い。
The distinction between elastic and rigid bodies may be based on, for example, the modulus of elasticity. That is, the modulus of elasticity may be set to 30 kilonewtons per millimeter squared (kN/mm 2 ), and bodies with modulus of elasticity less than this value may be considered elastic, and bodies with modulus of elasticity greater than this value may be considered rigid. The magnitude of rigidity may also be expressed by the magnitude of modulus of elasticity. The
以上、ラミネート装置31および平坦化装置32が有する圧締部50の構成について説明した。なお、ラミネート装置31の場合、ラミネート装置31は、ラミネート処理をするための真空チャンバを有し、この真空チャンバ内に圧締部50を有する。
The above describes the configuration of the
次に、図7を参照して、基材A1について説明する。図7は、基材の具体例を示す構成図である。図7に示す基材A1は、ビルドアップ基板または多層基板と呼ばれるものである。ビルドアップ基板または多層基板は、積層成形品の一実施態様である。基材A1は、基材A10の両面に積層フィルムA11~A23が積層されており、それぞれの層に適宜、穴開け加工が施され、さらに導電箔が付加されている。基材A10は例えばエポキシ系の熱硬化性樹脂や、エポキシ系樹脂とガラス繊維との複合材またはポリエチレンテレフタレート等の樹脂が用いられる。積層フィルムは、例えばポリエチレンテレフタレートやポリイミド等の樹脂が用いられる。 Next, the substrate A1 will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a structural diagram showing a specific example of the substrate. The substrate A1 shown in FIG. 7 is called a build-up substrate or a multi-layer substrate. A build-up substrate or a multi-layer substrate is one embodiment of a laminated molded product. The substrate A1 has laminated films A11 to A23 laminated on both sides of the substrate A10, and each layer is appropriately perforated, and conductive foil is further added. For the substrate A10, for example, an epoxy-based thermosetting resin, a composite material of an epoxy-based resin and glass fiber, or a resin such as polyethylene terephthalate is used. For the laminated film, for example, a resin such as polyethylene terephthalate or polyimide is used.
上述の構成において、基材A1はまず、基材A10が形成され、形成された基材A10に対して、第1積層工程、第2積層工程および第3積層工程が施される。以下に、これらの工程の概要を説明する。 In the above-mentioned configuration, the substrate A1 is first formed as substrate A10, and the formed substrate A10 is subjected to the first lamination process, the second lamination process, and the third lamination process. The following provides an overview of these processes.
まず、シート状の基材A10は、孔開け加工等を施された後に、銅めっきが施され、さらにエッチング処理により配線パタンが形成される。これにより例えばビアホールA30が形成され、基材A10の加工が完了する。 First, the sheet-like base material A10 is subjected to processes such as drilling holes, then copper plating is applied, and a wiring pattern is formed by etching. This forms, for example, via holes A30, and the processing of the base material A10 is completed.
次に、第1積層工程において、基材A10は、積層フィルムA11および積層フィルムA21が積層される。ここで積層フィルムA11および積層フィルムA21が仮接着された基材A10は、積層成形品製造システム1に投入される。積層成形品製造システム1において、ラミネート装置31は積層フィルムA11および積層フィルムA21が仮接着された基材A1にラミネート処理を施し、さらに平坦化装置32はラミネートされた積層フィルムA11および積層フィルムA21の表面を平坦化する。積層成形品製造システム1から取り出された基材A1は次に、銅めっきおよびエッチングが施されることにより、パタンA31やビアホールA32等が形成される。
Next, in the first lamination step, the laminate film A11 and the laminate film A21 are laminated onto the substrate A10. Here, the substrate A10 to which the laminate film A11 and the laminate film A21 are temporarily attached is fed into the laminated product manufacturing system 1. In the laminated product manufacturing system 1, the
次に、第2積層工程において、基材A1は上記第1積層工程と同様に、積層フィルムA12および積層フィルムA22が仮接着、ラミネートおよび平坦化される。さらに基材A1は、積層フィルムA12および積層フィルムA22に対して銅めっきおよびエッチングが施される。 Next, in the second lamination process, the laminate film A12 and the laminate film A22 are temporarily attached, laminated, and flattened to the base material A1 in the same manner as in the first lamination process. Furthermore, the base material A1 is copper-plated and etched on the laminate film A12 and the laminate film A22.
さらに第3積層工程において、上記第1積層工程および第2積層工程と同様に、基材A1は積層フィルムA13および積層フィルムA23が仮接着、ラミネートおよび平坦化され、めっき等による銅箔のパタンが形成される。 Furthermore, in the third lamination process, similar to the first and second lamination processes described above, the laminate film A13 and the laminate film A23 are temporarily attached, laminated and flattened to the base material A1, and a copper foil pattern is formed by plating or the like.
以上、基材A1の構成および積層工程の概略について説明した。ここに示した基材A1は、基材A10の両面のそれぞれに3層ずつの積層フィルムが積層されている。また基材A1のそれぞれの積層フィルムは、個別の銅箔パタンやビアホールを有している。そのため、ラミネート処理や平坦化処理を行う場合、押圧板40の構造構成体が各積層工程に個別に設定されるのが好ましい。
The above describes the configuration of the substrate A1 and an overview of the lamination process. The substrate A1 shown here has three layers of laminated film laminated on each side of the substrate A10. Each laminated film of the substrate A1 also has an individual copper foil pattern and via holes. Therefore, when performing lamination processing or flattening processing, it is preferable that the structural components of the
次に、図8を参照して、積層工程と押圧板40との関係について説明する。図8は、押圧板と積層工程との対応パタンの例を示す表である。図8に示す表は、第1平坦化装置32Aおよび第2平坦化装置32Bにそれぞれ取り付けられる押圧板の、積層工程ごとの構成を示している。
Next, the relationship between the lamination process and the
第1平坦化装置32Aの固定盤体323に取り付けられる上部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-11を有する。第1平坦化装置32Aの可動盤体324に取り付けられる下部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-12を有する。同様に、第2平坦化装置32Bの上部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-13を有する。第2平坦化装置32Bの下部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-14を有する。
The upper pressure plate attached to the fixed
以下、同様に、第2積層工程において、第1平坦化装置32Aの上部押圧板は、構成No.2-11を有し、下部押圧板は、構成No.2-12を有する。第2平坦化装置32Bの上部押圧板は、構成No.2-13を有し、下部押圧板は、構成No.2-14を有する。
Similarly, in the second lamination process, the upper pressure plate of the
第3積層工程において、第1平坦化装置32Aの上部押圧板は、構成No.3-11を有し、下部押圧板は、構成No.3-12を有する。第2平坦化装置32Bの上部押圧板は、構成No.3-13を有し、下部押圧板は、構成No.3-14を有する。
In the third lamination step, the upper pressure plate of the
上述のように、押圧板40の構造構成体は、各層の積層工程に応じて別個に設定され得る。また押圧板40の構造構成体は、平坦化装置32における押圧の順序や配置に応じても設定され得る。さらに、押圧板40の構造構成体は、押圧する面における積層フィルムがラミネートされた基材の状態に応じて設定される。ここで、積層フィルムがラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの積層数である。また積層フィルムがラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの材質や厚さであってもよい。積層フィルムがラミネートされた基材の状態とは、例えば予め積層された積層フィルムを含む基材に施された加工の状態であってもよい。予め基材に施された加工とは、基材表面の積層フィルムに対して施された切削加工や穴あけ加工を含む。また予め基材に施された加工は、例えば積層フィルムに敷設された薬剤や添付された金属箔(めっき)の状態や累積厚さや総敷設面積を含む。また予め基材に施された加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。積層成形品製造システム1を使用するユーザは、積層成形品を製造するに際し、予め積層工程を鑑みて、図8に示したそれぞれの工程および取り付けられる位置に対応した押圧板40の構造構成体を決定する。
As described above, the structural components of the
また上述の構成の決定において、ユーザは、緩衝層41および接触層42の構成要素を参照する。緩衝層41および接触層42の構成要素とは、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択されたものを指す。また、それらの構成要素は2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有していても良い。上記の「複数の種類」は、素材の成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、光沢度で表される物性要素のうち少なくとも1つが異なることを意味するものであってもよい。なお、構造構成体の組合せは上述のものに限られない。ユーザは、このような構造構成体に鑑みて、種々の組み合わせから、それぞれの工程に好適な構成を決定する。
In addition, in determining the above-mentioned configuration, the user refers to the components of the
またユーザは、図8に示した情報に対応する構成を有する押圧板40をそれぞれ用意すると、用意した押圧板40を押圧板供給ブロック20の収容体21にセットする。さらに、ユーザは、図8に示した情報を、積層成形品製造システム1のメモリ11に記憶させる。これにより、積層成形品製造システム1は、それぞれの積層工程における押圧板40を平坦化装置32に取り付けることが出来る。
When the user prepares each
なお、図8に示した構成のそれぞれは、同じ構成を有するものであってもよい。すなわち、例えば第2積層工程における第1平坦化装置32Aの上部押圧板に設定された構成No.2-11と、第3積層工程における第1平坦化装置32Aの上部押圧板に設定された構成No.3-11とは、同じであってもよい。あるいは、第2積層工程における第1平坦化装置32Aに設定されている構成No.2-11、構成No.2-12と、第2積層工程における第2平坦化装置32Bに設定されている構成No.2-13、構成No.2-14とは、同じであってもよい。そのため、収容体21は、複数の同じ種類の押圧板40を収容していてもよい。
The configurations shown in FIG. 8 may each have the same configuration. That is, for example, the configuration No. 2-11 set on the upper pressure plate of the
次に、図9を参照して、押圧板供給ブロック20の具体的な構成について説明する。図9は、積層成形品製造システムの具体例を示す図である。図9に示す押圧板供給ブロック20は、積層工程ブロック30の傍らに設置され、平坦化装置32に対して押圧板40を交換する。
Next, the specific configuration of the pressure
交換装置23は、収容体21が収容する複数の押圧板40のうち選択にかかる押圧板40と、圧締部50に取り付けられている押圧板40とを交換する。押圧板供給ブロック20が有する交換装置23は主な構成として、搬送部230、搭載部231、回転軸232およびレール部233を有している。
The
搬送部230は、搭載部231を支持するとともに、レール部233に水平方向に移動可能に支持されている。これにより搬送部230は、搭載部231をレール部233に沿って移動させることができる。
The
搭載部231は、搬送部230に支持されており、搬送部230の上で図9のY方向に直動可能かつ回転軸232を中心にZ軸周りに回動可能に構成されている。また搭載部231は、セレクタ22との間で押圧板40の受け渡しが可能であり、セレクタ22から受け取った押圧板40を搬送可能に搭載する。搭載部231は、搬送した押圧板40を平坦化装置32の圧締部50に取り付ける。さらに搭載部231は、圧締部50に取り付けられている押圧板40を取り外す。
The mounting
レール部233は、搬送部230を設定されたレールに沿って移動可能に支持する。図9に示したレール部233は、積層工程ブロック30の上部搬送用シート35に平行にレールが延伸しており、セレクタ22と平坦化装置32との間を搬送部230が往復できるように設定されている。
The
図10を併せて参照しながら押圧板供給ブロック20についてさらに説明する。図10は、収容体21およびセレクタ22の具体例を示す図である。
The pressure
収容体21は、複数の押圧板40を交換可能に収容する。図10に示す収容体21は、上下方向に複数の押圧板40がスタック可能に構成されている。収容体21が収容する押圧板40は、図8を参照して説明した情報にしたがって収容されている。収容体21に収容された押圧板40は、セレクタ22により取り出される。またセレクタ22により取り出された押圧板40は、セレクタ22により収容される。
The
セレクタ22は、収容体21が収容している複数の押圧板40から1つの押圧板40を選択して取り出す。セレクタ22は、収容体21から取り出した押圧板40を、交換装置23に引き渡す。またセレクタ22は、交換装置23から受け取った押圧板40を、収容体21の所定の場所に収容する。上述の機能を実現するため、セレクタ22は押圧板40を搭載するトレー部が上下方向に移動可能に構成されている。さらにセレクタ22は、押圧板40を受け渡しするための機構を有している。
The
次に、図11および図12を参照して、押圧板供給ブロック20の動作を説明する。図11は、押圧板供給ブロック20の動作を示す第1の図である。ここで示す押圧板供給ブロック20の動作は、積層工程ブロック30におけるラミネート装置および平坦化装置32がラミネート処理および平坦化処理を実行していないタイミングにおいて行われる動作である。ここでは一例として、第1平坦化装置32Aが有している押圧板40Aと、収容体21が有している押圧板40Sとを交換する動作について時刻Tの流れに沿って説明する。
Next, the operation of the pressure
まず時刻T1において、セレクタ22は、収容体21から所定の押圧板40Sを選択して取り出す。そしてセレクタ22は取り出した押圧板40Sを、交換装置23に引き渡す。なお、このとき積層成形品製造システム1の制御装置10は、メモリ11を参照し、第1平坦化装置32Aに新たに取り付ける押圧板40を選択する。交換装置23は、交換にかかる押圧板40Sを搭載すると、レール部233に沿って移動を開始する。
First, at time T1, the
次に、時刻T1の後の時刻T2において、押圧板40Sを搭載した状態でレール部233を移動した交換装置23は、第1平坦化装置32A近傍に停止する。さらに、搭載部231は、押圧板40Aを取り出すために、押圧板40Aに近づく。
Next, at time T2 after time T1, the
次に、時刻T2の後の時刻T3において、搭載部231は、押圧板40Aを取り外し、取り外した押圧板40Aを搭載して第1平坦化装置32Aから離れる方向に所定の距離を移動する。
Next, at time T3 after time T2, the mounting
次に、時刻T3の後の時刻T4において、交換装置23の搭載部231は、押圧板40Aと押圧板40Sとを交換するために、回転軸232を中心に180度回動する。
Next, at time T4 after time T3, the mounting
図12を参照して引き続き押圧板供給ブロック20の動作について説明する。時刻T4の後の時刻T5において、搭載部231は、交換するための押圧板40Sを第1平坦化装置32Aに近づける。
The operation of the pressure
次に、時刻T5後の時刻T6において、交換装置23は、押圧板40Sを圧締部50に取り付ける。押圧板40Sを圧締部50に取り付けると、次に搭載部231は第1平坦化装置32Aから離れる方向に移動を開始する。
Next, at time T6 after time T5, the
次に、時刻T6の後の時刻T7において、取り外した押圧板40Aを搭載した交換装置23は、レール部233に沿ってセレクタ22に向かって移動する。
Next, at time T7 after time T6, the
次に、時刻T7の後の時刻T8において、交換装置23は、押圧板40Aをセレクタ22に引き渡す。そしてセレクタ22は、交換装置23から受け取った押圧板40Aを、収容体21に収容する。
Next, at time T8 after time T7, the
以上、押圧板供給ブロック20の動作について説明した。上述の構成により、積層成形品製造システム1は、基材の各層における積層工程に応じて、適宜、押圧板40を交換出来る。なお、上述の構成または動作は、押圧板供給ブロック20の一例を示したものであって、押圧板供給ブロック20の構成または動作はこれに限られない。例えば収容体21はセレクタ22に代えて上下動してもよい。押圧板供給ブロック20が有する機構は、上述の構成に代えて、例えば多関節ロボットを用いるものであっても良い。例えば交換装置23はレール部233および搬送部230に代えて、ロボットアームにより搭載部231を搬送するものであってもよい。積層成形品製造システム1は、積層工程ブロック30のうちラミネート装置31が積層成形品製造システム1とは別個のものであってもよい。
The above describes the operation of the pressure
交換装置23は、選択にかかる押圧板40を圧締部50に取り付ける前に予熱する予熱装置を含んでもよい。収容体21は、予め押圧板40を所定の温度に制御して保温する保温装置を有していてもよい。特に押圧板40が、熱容量の大きな加熱体51や断熱部52を含んでいる場合、生産性を高めるため、予め所定の温度となるように予熱することが望ましい。
The
セレクタ22および交換装置23の機能の少なくとも一部は、積層成形品製造システム1のユーザが担ってもよい。すなわち押圧板供給ブロック20は全て自動で制御されるものに代えて、その動作の一部をマニュアルで操作されるものであってもよい。
At least some of the functions of the
また、本実施の形態は、押圧板40として緩衝層41と接触層42とを含む構成により説明したが、収容体21が収容し、交換装置23が交換するのはこれらのいずれか1つであってもよい。あるいは、収容体21が収容し、交換装置23が交換する押圧板40が、加熱体51や断熱部52を含んでいてもよい。
In addition, in this embodiment, the
以上に述べたように、実施の形態によれば、本開示によれば、多層化された積層成形品を好適に製造する方法およびシステムを提供できる。なお、上述の積層成形品は、ビルドアップ基板または多層基板と呼ばれるものである。よって、本開示の技術は、ビルドアップ基板の製造方法およびビルドアップ基板製造システム、または多層基板の製造方法および多層基板製造システムと称されても良い。 As described above, according to the embodiments, the present disclosure can provide a method and system for suitably manufacturing a multi-layered laminated molded product. The above-mentioned laminated molded product is called a build-up board or a multi-layer board. Therefore, the technology of the present disclosure may be called a build-up board manufacturing method and a build-up board manufacturing system, or a multi-layer board manufacturing method and a multi-layer board manufacturing system.
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as appropriate without departing from the spirit and scope of the invention.
1 積層成形品製造システム
10 制御装置
11 メモリ
20 押圧板供給ブロック
21 収容体
22 セレクタ
23 交換装置
30 積層工程ブロック
31 ラミネート装置
32 平坦化装置
33 温度制御装置
35 上部搬送用シート
36 下部搬送用シート
40 押圧板
40’ 押圧体
41 緩衝層
42 接触層
50 圧締部
51 加熱体
52 断熱部
230 搬送部
231 搭載部
232 回転軸
233 レール部
321 基盤
322 加圧装置
323 固定盤体
324 可動盤体
325 ガイド孔
326 ガイド軸
330 カートリッジヒータ
A1 積層成形品
REFERENCE SIGNS LIST 1 Laminated
Claims (14)
前記押圧体を構成する少なくとも1の構造構成体がそれぞれ異なる複数の前記押圧体を収容する収容体と、
前記積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた前記基材の状態に応じて複数の前記押圧体から選択された少なくとも1の前記押圧体を加熱体に取り付けて圧締部を形成するための取付部と、
前記圧締部の温度が所定の範囲内になるよう前記加熱体の温度を制御する温度制御装置と、を備える、
積層成形品製造システム。 A laminated molded product manufacturing system having a lamination process in which a substrate to which at least a portion of a laminate film is temporarily bonded or laminated is pressed by a pressing body, and the lamination process is repeated a plurality of times to manufacture a laminated molded product in which a predetermined number of laminate films are laminated,
A container that contains a plurality of the pressing bodies, each of which has at least one structural component that constitutes the pressing body being different from the others;
An attachment portion for attaching at least one of the pressing bodies selected from the plurality of pressing bodies to a heating body according to the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been temporarily bonded or laminated to form a pressing portion;
A temperature control device that controls the temperature of the heater so that the temperature of the clamping part is within a predetermined range.
Laminated molding manufacturing system.
請求項1に記載の積層成形品製造システム。 The plurality of pressing bodies are each composed of the structural components having different physical properties in at least one of chemical composition, thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, tensile yield strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption rate, reflectance, and glossiness.
The laminate molding manufacturing system according to claim 1 .
請求項2に記載の積層成形品製造システム。 The structural construct is configured by combining at least two of the components including the same type of component from a set of components including a plurality of different types of elastic bodies, a plurality of different types of rigid bodies, a plurality of different types of fibrous bodies, a plurality of different types of particulate bodies, and voids.
The laminate molding manufacturing system according to claim 2 .
請求項3に記載の積層成形品製造システム。 The combination of the components includes a predetermined pattern structure in which a plurality of different components are formed in two or three dimensions.
The laminate molding manufacturing system according to claim 3 .
請求項1~4のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 Further comprising a selector for selecting at least one of the pressing bodies according to the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated,
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 4.
請求項3を従属する場合の請求項5に記載の積層成形品製造システム。 The selector makes the selection based on a combination of the components constituting the structural structure to press the substrate so that the temporarily bonded laminated film conforms to the unevenness of the substrate.
A laminate molding manufacturing system according to claim 5 when claim 3 is dependent thereon.
請求項3を従属する場合の請求項5に記載の積層成形品製造システム。 The selector performs the selection based on a combination of the components constituting the structural structure to press the substrate so that the surface of the substrate after the lamination film is laminated and before pressing has a preset flatness.
A laminate molding manufacturing system according to claim 5 when claim 3 is dependent thereon.
請求項5~7のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 The state of the substrate referred to by the selector includes the number of layers of the substrate after at least a portion of the laminate film has been newly temporarily bonded or laminated and before being pressed;
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 5 to 7.
請求項5~8のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 The state of the substrate referred to by the selector includes the material and thickness of the substrate after at least a portion of the laminate film is newly temporarily bonded or laminated and before being pressed;
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 5 to 8.
請求項5~9のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 The state of the substrate referred to by the selector includes a state of processing applied to the substrate, including the laminate film pre-laminated on the substrate to which at least a portion of the laminate film is newly temporarily bonded or laminated,
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 5 to 9.
請求項1~10のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 The pressing body may be selected from among the pressing bodies accommodated in the container, and the pressing body attached to the clamping portion may be replaced with an exchange device.
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 10.
請求項11に記載の積層成形品製造システム。 The replacement device includes a preheating device that preheats the pressing body before attaching it to the clamping part.
The laminate molding manufacturing system according to claim 11.
請求項1~12のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 The pressing body includes a buffer layer as a structural component for dispersing pressure when the pressing body contacts the laminated molded product.
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 12.
請求項1~13のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。 The pressing body has an elastic body as the structural component on a surface that presses the base material so that the temporarily bonded or laminated laminated film conforms to the unevenness of the base material.
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 13.
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