JP7500822B2 - Laminated molding manufacturing system - Google Patents

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Description

本発明は積層成形品の製造方法および積層成形品製造システムに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing laminated molded products and a system for manufacturing laminated molded products.

凹凸を有する基材に樹脂フィルムのような被積層材を積層することにより回路基板やIC基板等を製造する積層装置および積層方法が開発されている。 Lamination devices and methods have been developed to manufacture circuit boards, IC boards, etc. by laminating a lamination material, such as a resin film, onto a substrate with irregularities.

例えば特許文献1に開示されている方法は、上下キャリアフィルムとともに真空積層装置内に搬入した基材の上下部の積層成形空間を減圧し、一方の空間の減圧を継続しつつ他方の空間を加圧することにより基材をキャリアフィルムによって加圧する。 For example, the method disclosed in Patent Document 1 involves reducing the pressure in the upper and lower lamination molding spaces of a substrate that has been brought into a vacuum lamination device together with upper and lower carrier films, and pressurizing one space while continuing to reduce the pressure in the other space, thereby pressurizing the substrate with the carrier film.

また特許文献2に開示されている方法は、上盤と下盤を閉鎖した際に真空吸引可能なチャンバを形成し、少なくともいずれか一方の盤に設けられた弾性膜体をチャンバ内に膨出させて基材を加圧する。 The method disclosed in Patent Document 2 forms a chamber that can be suctioned by vacuum when the upper and lower plates are closed, and pressurizes the substrate by expanding an elastic membrane provided on at least one of the plates into the chamber.

特許文献3に開示されているシステムは、減圧されたチャンバ内で加圧体により基材を加圧し中間積層材を成形する真空積層装置と、真空積層装置の後工程に配設され中間積層材を加圧する平坦化プレス装置と、を有する。このシステムの平坦化プレス装置は、タイバの部分にそれぞれ加圧機構を備え、加圧機構を個別に位置制御可能とする。 The system disclosed in Patent Document 3 has a vacuum lamination device that pressurizes the base material with a pressurizing body in a decompressed chamber to form an intermediate laminate, and a flattening press device that is disposed downstream of the vacuum lamination device and pressurizes the intermediate laminate. The flattening press device of this system has a pressure mechanism in each tie bar portion, and the position of the pressure mechanism can be controlled individually.

特開2004-058349号公報JP 2004-058349 A 特開2013-237230号公報JP 2013-237230 A 特開2021-100802号公報JP 2021-100802 A

しかしながら、ビルドアップ基板の製造工程に代表されるように、表面に微細な凹凸が加工された基材に、熱硬化性樹脂フィルムのような積層フィルムを繰り返し積層(ラミネート)することで、多層化された積層成形品を製造する工程においては、基材の厚さや凹凸の分布等の形状要素、積層成形品の密度や硬さ等の物性要素、積層成形品の反りやねじれ等の不良要素等が、積層段階毎やロット毎に異なるため、上述の技術だけでは好適に対応することが難しい。特に、近年の高性能化されたビルドアップ基板の製造工程においては、基材に施される凹凸パタンが微細化、深度化、および三次元的に複雑分布化する傾向にあり、それに伴い上記の各要素が重畳的かつ不確定的に作用するので、積層成形品の品質ばらつきが大きくなるという問題が発生している。そのため、積層成形品の歩留まり向上の観点から、積層成形品の積層段階毎やロット毎の品質安定化が強く望まれている。 However, as typified by the manufacturing process of build-up boards, in the process of manufacturing multilayered laminated molded products by repeatedly laminating a laminated film such as a thermosetting resin film onto a substrate whose surface has been processed with fine irregularities, the shape factors such as the thickness of the substrate and distribution of irregularities, the physical properties such as the density and hardness of the laminated molded product, and defects such as warping and twisting of the laminated molded product vary for each stacking stage and lot, making it difficult to respond appropriately with the above-mentioned technology alone. In particular, in the manufacturing process of recent high-performance build-up boards, the unevenness patterns applied to the substrate tend to become finer, deeper, and more complexly distributed in three dimensions, and as a result, the above-mentioned elements act in an overlapping and uncertain manner, resulting in problems of large variations in the quality of laminated molded products. Therefore, from the perspective of improving the yield of laminated molded products, there is a strong demand for stabilization of the quality of laminated molded products for each stacking stage and lot.

本開示は、このような課題を解決するためになされたものであって、多層化された積層成形品を好適に製造する方法およびシステムを提供するものである。 This disclosure has been made to solve these problems, and provides a method and system for optimally manufacturing multi-layered laminated molded products.

本開示にかかる積層成形品の製造方法は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を加圧する積層工程を有し、その積層工程を複数回繰り返すことで、所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製造する製造方法であって、以下の工程を含む。
工程(a)は、所定の構造構成体がそれぞれ異なる複数の押圧板を予め用意する。押圧板は加熱体を含んでいてもよい。
工程(b)は、基材に予め積層された積層フィルムの層数が所定の段階において、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて、複数の押圧板から1つの押圧板を選択する。
工程(c)は、平坦な主面を有する一対の盤体の各盤体の主面に対して選択にかかる押圧板を取り付けることにより、圧締部を用意する。
工程(d)は、圧締部の温度が所定の範囲内になるよう圧締部の温度を制御する。
工程(e)は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材の表面に圧締部を押圧する。
The method for producing a laminated molded product according to the present disclosure includes a lamination step of pressurizing a substrate to which at least a portion of a laminate film is temporarily bonded or laminated, and by repeating the lamination step multiple times, a laminated molded product is produced in which a predetermined number of layers of laminate film are laminated, and includes the following steps:
In the step (a), a plurality of pressing plates each having a different predetermined structural component are prepared in advance. The pressing plates may include a heating element.
In step (b), when the number of layers of the laminated film pre-laminated on the substrate is at a predetermined stage, one pressing plate is selected from a plurality of pressing plates depending on the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated.
In step (c), a pressing portion is prepared by attaching a pressing plate to the main surface of each of the pair of disks having flat main surfaces.
Step (d) includes controlling the temperature of the pressing part so that the temperature of the pressing part is within a predetermined range.
In step (e), a pressing portion is pressed against the surface of the substrate to which at least a portion of the laminate film is temporarily adhered or laminated.

本開示にかかる積層成形品の製造方法は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を加圧する積層工程を有し、その積層工程を複数回繰り返すことで、所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製作する製造方法であって、収容体、セレクタ、盤体、押圧板および温度制御装置を有する。収容体は、構造構成体がそれぞれ異なる複数の押圧板を収容する。セレクタは、基材に予め積層された積層フィルムの層数が所定の段階において、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて、複数の押圧板から1の押圧板を選択する。盤体は、平坦な主面に1の押圧板が交換可能に設置されることにより積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を押圧する圧締部を構成する。温度制御装置は、圧締部の温度が所定の範囲内になるよう圧締部の温度を制御する。 The manufacturing method of the laminated molded product according to the present disclosure has a lamination process in which a substrate to which at least a portion of the laminated film is temporarily bonded or laminated is pressed, and the lamination process is repeated multiple times to produce a laminated molded product in which a predetermined number of layers of laminated film are laminated, and has a container, a selector, a plate, a pressure plate, and a temperature control device. The container contains multiple pressure plates each having a different structural configuration. The selector selects one of the multiple pressure plates according to the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated at a stage in which the number of layers of the laminated film previously laminated on the substrate is predetermined. The plate constitutes a pressing section that presses the substrate to which at least a portion of the laminated film has been temporarily bonded or laminated by replacing one pressure plate on the flat main surface. The temperature control device controls the temperature of the pressing section so that the temperature of the pressing section is within a predetermined range.

本開示によれば、多層化された積層成形品を好適に製造する方法およびシステムを提供できる。 This disclosure provides a method and system for optimally manufacturing multi-layered laminated molded products.

実施の形態にかかる積層成形品製造システムのブロック図である。1 is a block diagram of a laminated molded product manufacturing system according to an embodiment. 積層成形品製造システムが行う積層成形品の製造方法を示すフローチャートである。4 is a flowchart showing a method for manufacturing a laminated molded product performed by the laminated molded product manufacturing system. 積層工程ブロックの具体例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a specific example of a stacking process block. 平坦化装置の具体例を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing a specific example of a planarization device. 平坦化装置における加工領域の構成の具体例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a specific example of the configuration of a processing area in a planarization apparatus. 圧締部の具体例を示す構成図である。4 is a configuration diagram showing a specific example of a clamping portion. FIG. 積層成形品の具体例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a specific example of a laminated molded product. 押圧板と積層工程との対応パタンの例を示す表である。11 is a table showing an example of a corresponding pattern between a pressing plate and a lamination process. 積層成形品製造システムの具体例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a specific example of a laminated molded product manufacturing system. 収容体およびセレクタの具体例を示す図である。11A and 11B are diagrams showing specific examples of containers and selectors. 押圧板供給ブロックの動作を示す第1の図である。FIG. 11 is a first diagram showing the operation of the press plate supply block. 押圧板供給ブロックの動作を示す第2の図である。FIG. 11 is a second diagram showing the operation of the pressure plate supply block.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、特許請求の範囲にかかる発明を以下の実施形態に限定するものではない。また、実施形態で説明する構成の全てが課題を解決するための手段として必須であるとは限らない。説明の明確化のため、以下の記載および図面は、適宜、省略、および簡略化がなされている。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。 The present invention will be described below through embodiments of the invention, but the invention according to the claims is not limited to the following embodiments. Furthermore, not all of the configurations described in the embodiments are necessarily essential as means for solving the problems. For clarity of explanation, the following description and drawings have been omitted and simplified as appropriate. In addition, the same elements are given the same reference numerals in each drawing, and duplicate explanations have been omitted as necessary.

<実施の形態>
図1を参照しながら、実施の形態にかかる積層成形品製造システムの概要構成について説明する。図1は、実施の形態にかかる積層成形品製造システム1のブロック図である。積層成形品製造システム1は、複数の積層フィルムがラミネートされた積層成形品を製造するための機能を有している。積層成形品は、予め微細な凹凸が加工された所定の基材に、所定の層数の積層フィルムが積層されたものである。積層成形品製造システム1は、基材に予め積層された積層フィルムの層数が所定の段階において、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着された基材をラミネートし、ラミネートした基材の表面を段階的に平坦化する。積層成形品製造システム1は主な構成として、制御装置10、押圧板供給ブロック20および積層工程ブロック30を有する。
<Embodiment>
With reference to FIG. 1, a schematic configuration of a laminated molded product manufacturing system according to an embodiment will be described. FIG. 1 is a block diagram of a laminated molded product manufacturing system 1 according to an embodiment. The laminated molded product manufacturing system 1 has a function for manufacturing a laminated molded product in which a plurality of laminated films are laminated. A laminated molded product is a product in which a predetermined number of laminated films are laminated on a predetermined base material in which fine unevenness has been processed in advance. The laminated molded product manufacturing system 1 laminates a base material to which at least a part of the laminated film has been newly temporarily bonded at a stage in which the number of layers of the laminated film previously laminated on the base material is predetermined, and gradually flattens the surface of the laminated base material. The laminated molded product manufacturing system 1 has a control device 10, a pressure plate supply block 20, and a lamination process block 30 as main components.

制御装置10は、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)またはMCU(Micro Controller Unit)等の演算装置を含む回路であって、押圧板供給ブロック20および積層工程ブロック30を適宜制御する。制御装置10は例えば押圧板供給ブロック20および積層工程ブロック30がそれぞれ有するモータ等の駆動部や、センサ等に通信可能に接続している。 The control device 10 is a circuit including a calculation device such as a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit) or an MCU (Micro Controller Unit), and appropriately controls the pressure plate supply block 20 and the stacking process block 30. The control device 10 is communicatively connected to, for example, the drive units such as motors and sensors that the pressure plate supply block 20 and the stacking process block 30 each have.

また制御装置10は、メモリ11を有している。メモリ11は、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリを含む。これにより制御装置10は、メモリ11が予め格納している所定のプログラムを起動することにより上述の制御を実行できる。メモリ11はさらに、後述する押圧板40に関する押圧板データを記憶している。押圧板データは、複数の押圧板40と基材の積層状態との対応関係を示したデータである。これにより積層成形品製造システム1は、基材における積層状態に応じた押圧板40を選択できる。 The control device 10 also has a memory 11. The memory 11 includes a non-volatile memory such as a flash memory. This allows the control device 10 to execute the above-mentioned control by starting a predetermined program previously stored in the memory 11. The memory 11 also stores press plate data relating to the press plate 40 described below. The press plate data is data showing the correspondence between the multiple press plates 40 and the stacking state of the base material. This allows the laminated molded product manufacturing system 1 to select a press plate 40 according to the stacking state of the base material.

押圧板供給ブロック20は、積層工程ブロック30に対して押圧板を供給または交換する。押圧板供給ブロック20は、制御装置10により制御される。押圧板供給ブロック20は主な構成として、収容体21、セレクタ22および交換装置23を有している。 The pressure plate supply block 20 supplies or replaces pressure plates to the stacking process block 30. The pressure plate supply block 20 is controlled by the control device 10. The pressure plate supply block 20 mainly comprises a container 21, a selector 22, and an exchange device 23.

収容体21は、複数の押圧板40を交換可能に収容する。押圧板40は、積層工程ブロック30が有するラミネート装置31または平坦化装置32において用いられる部材である。押圧板40は、積層フィルムに接する面において、押圧体40’を有している。押圧体40’は、盤体に対する側において、加熱体を有していてもよい。また、押圧体40’は、種々の構造構成体を形成していてもよい。 The container 21 stores a plurality of replaceable pressure plates 40. The pressure plates 40 are members used in the laminating device 31 or the flattening device 32 of the lamination process block 30. The pressure plate 40 has a pressure body 40' on the surface that contacts the laminated film. The pressure body 40' may have a heating body on the side facing the plate body. The pressure body 40' may also form various structural configurations.

例えば、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着された基材をラミネート装置31が減圧下でラミネートする工程において、押圧体40’は、仮接着された積層フィルムが基材の凹凸に正確に従うように、基材を押圧する。すなわち、押圧体40’は、例えば押圧後に基材の凹凸と積層フィルムとの間に気泡を残存させたり、溶融した積層フィルムの一部を基材の縁より外側に流出させたり、基材の表面の積層フィルムに皺を発生させたり、基材と積層フィルムの位置関係が所定の位置からずれたりしないように、押圧前の基材の状態に応じた所定の構造構成体を有する。この場合、押圧体40’は、構造構成体を形成し得る構成要素として、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択される。また押圧体40’は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有し得る。 For example, in a process in which the laminating device 31 laminates a substrate to which at least a portion of the laminated film is temporarily attached under reduced pressure, the pressing body 40' presses the substrate so that the temporarily attached laminated film accurately follows the unevenness of the substrate. That is, the pressing body 40' has a predetermined structural configuration according to the state of the substrate before pressing, so that, for example, after pressing, air bubbles are left between the unevenness of the substrate and the laminated film, a part of the molten laminated film flows outward from the edge of the substrate, wrinkles are generated in the laminated film on the surface of the substrate, and the positional relationship between the substrate and the laminated film does not shift from a predetermined position. In this case, the pressing body 40' includes at least two components from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids as components that can form a structural configuration, as a selection criterion, and is selected based on this criterion. The pressing body 40' may also have a predetermined pattern structure in which those components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally.

また、押圧体40’は、例えば平坦化装置32が、積層フィルムがラミネートされた基材の表面を段階的に押圧し、基材の表面を均等に平坦化する。すなわち、押圧体40’は、例えば押圧後に基材の表面が所定の平坦度および平滑度となるように、押圧前の基材の状態に応じた所定の構造構成体を有する。この場合、押圧体40’は、構造構成体を形成し得る構成要素として、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択される。また押圧体40’は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有し得る。 The pressing body 40', for example, the flattening device 32, gradually presses the surface of the substrate laminated with the laminated film to evenly flatten the surface of the substrate. That is, the pressing body 40' has a predetermined structural configuration according to the state of the substrate before pressing, for example, so that the surface of the substrate has a predetermined flatness and smoothness after pressing. In this case, the pressing body 40' includes at least two components from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids as components that can form a structural configuration, as a selection criterion, and is selected based on this criterion. The pressing body 40' may also have a predetermined pattern structure in which those components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally.

なお、上述した「複数の種類」は、各々の物性要素が異なることを意味するものであってもよい。すなわち、複数の種類は、物性要素として、素材の成分組成が異なることを意味するものであってもよい。また複数の種類は、成分組成以外の物性要素として、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、光沢度で表される物性要素のうち少なくとも1つが異なることを意味するものであってもよい。 The above-mentioned "multiple types" may mean that the physical properties of each type are different. In other words, the multiple types may mean that the material has a different composition as a physical property. The multiple types may also mean that at least one of the physical properties expressed by the thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption, reflectance, and glossiness is different as a physical property other than the composition.

例えば、SUS304組成のステンレス板であっても、表面粗さがRa0.4のものと、Ra1.6のものを異なる複数の種類と解釈してもよい。また、上述の「2次元的に適切に組み合わせる」とは、例えば平坦化装置32に用いられる押圧体40’の構造構成体のうち、SUS304組成のステンレス板からなる剛性体において、中心付近の面粗さをRa0.4、周縁付近をRa1.6とし、それらの面積比率を新たにラミネートされた積層フィルムの直下に配置される導電体の状態に応じて、例えば5:1となるようにしてもよい。 For example, even in the case of a stainless steel plate of SUS304 composition, it may be interpreted as multiple different types, with one having a surface roughness of Ra0.4 and the other having a surface roughness of Ra1.6. In addition, the above-mentioned "two-dimensionally appropriately combined" may mean, for example, that in the structural component of the pressing body 40' used in the flattening device 32, a rigid body made of a stainless steel plate of SUS304 composition, the surface roughness near the center is Ra0.4 and near the periphery is Ra1.6, and the area ratio between them is, for example, 5:1 depending on the state of the conductor placed directly under the newly laminated laminate film.

また、「3次元的に適切に組み合わせる」とは、例えば上記のSUS304組成のステンレス板の内部において、以下のような構造を採用することを意味してもよい。すなわち、ステンレス板の内部の中央付近において、同心円状の空洞が、基材の面と平行になるように設けられる。さらに中央付近から周縁部に向かって基材の面に対して角度θを成すように放射状の空洞が広がるように設けられる。この場合に角度θは、積層フィルムの直下に配置される導電体の状態に応じて、例えば中心に近い領域をθ=0度、周縁に近い領域をθ=0.2度となるように設定される。 "Appropriately combining three-dimensionally" may also mean, for example, adopting the following structure inside the stainless steel plate of the above-mentioned SUS304 composition. That is, near the center inside the stainless steel plate, concentric cavities are provided so as to be parallel to the surface of the substrate. Furthermore, radial cavities are provided so as to extend from near the center toward the periphery at an angle θ with respect to the surface of the substrate. In this case, the angle θ is set according to the state of the conductor placed directly under the laminated film, for example, so that θ = 0 degrees in the region near the center and θ = 0.2 degrees in the region near the periphery.

なお、上記の2次元的な組み合わせ(所定のパタン構造)は、例えば適切な大きさの砥粒を用いた研磨加工により製作可能であり、上記の3次元的な組み合わせは、例えばレーザー焼結式の3Dプリンターにより製作可能である。 The above two-dimensional combination (predetermined pattern structure) can be produced, for example, by polishing using abrasive grains of appropriate size, and the above three-dimensional combination can be produced, for example, by a laser sintering 3D printer.

収容体21が収容する複数の押圧板40は、各々の押圧板40に含まれる押圧体40’において、所定の構造構成体がそれぞれ異なる。ここで、構造構成体とは、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択されたものを指す。なお、構造構成体は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有していてもよい。また、構成要素の種類とは、素材の化学成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、および光沢度のうち少なくともいずれか1つを含み得る。 The pressing plates 40 contained in the container 21 have different predetermined structural components in the pressing bodies 40' contained in each pressing plate 40. Here, the structural components refer to those selected based on a selection criterion that includes at least two components from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids. The structural components may have a predetermined pattern structure in which the components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally. The type of component may include at least one of the chemical composition, thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, tensile yield strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption rate, reflectance, and glossiness of the material.

すなわち収容体21が収容する複数の押圧板40は、各々の押圧板40に含まれる押圧体40’において、例えば素材の化学成分組成が異なっていてもよいし、厚さが異なっていてもよい。また押圧体40’は、素材の化学成分組成や厚さが同じであって、硬度や弾性率が異なるものであってもよい。複数の押圧板40は、基材の状態に合わせて選択され、積層工程ブロック30に設置される。押圧板40はセレクタ22によって選択され、さらにセレクタ22によって取り出される。なお、積層工程ブロック30が積層成形品の製造工程において一度に複数の押圧板40を要する場合には、収容体21は、対応する複数の押圧板40を収容する。 In other words, the presser plates 40 housed in the container 21 may have different chemical composition of the material or different thicknesses in the presser bodies 40' contained in each presser plate 40. The presser bodies 40' may have the same chemical composition of the material and thickness, but different hardness and elastic modulus. The presser plates 40 are selected according to the state of the base material and placed in the lamination process block 30. The presser plates 40 are selected by the selector 22 and are further removed by the selector 22. When the lamination process block 30 requires multiple presser plates 40 at once in the manufacturing process of the laminated molded product, the container 21 houses the corresponding multiple presser plates 40.

セレクタ22は、収容体21が収容する複数の押圧板40から少なくとも1つの押圧板40を選択して取り出す。セレクタ22は、基材における積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて複数の押圧板から少なくとも1の押圧板40を選択する。積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの積層数である。また積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの材質や厚さであってもよい。積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態は、予め積層された積層フィルムを含む基材に施された加工の状態であってもよい。 The selector 22 selects and removes at least one pressure plate 40 from the multiple pressure plates 40 contained in the container 21. The selector 22 selects at least one pressure plate 40 from the multiple pressure plates according to the state of the substrate to which the laminate film has been newly temporarily attached or laminated. The state of the substrate to which the laminate film has been newly temporarily attached or laminated is, for example, the number of layers of the laminate film previously laminated on the substrate. The state of the substrate to which the laminate film has been newly temporarily attached or laminated may be, for example, the material or thickness of the laminate film previously laminated on the substrate. The state of the substrate to which the laminate film has been newly temporarily attached or laminated may be the state of processing performed on the substrate including the previously laminated laminate film.

予め基材に施された加工とは、基材表面の積層フィルムに対して施された切削加工や穴あけ加工を含む。また予め基材に施された加工は、例えば積層フィルムに敷設された薬剤や添付された金属箔(めっき)の状態を含む。また予め基材に施された加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。なお、積層工程ブロック30が積層成形品の製造工程において一度に複数の押圧板40を要する場合には、セレクタ22は複数の押圧板40を選択する。セレクタ22は、取り出した押圧板40を、交換装置23に引き渡す。 The processing performed on the substrate in advance includes cutting and drilling performed on the laminated film on the substrate surface. The processing performed on the substrate in advance also includes, for example, the state of the chemicals laid on the laminated film and the metal foil (plating) attached. The processing performed on the substrate in advance also includes, for example, heat treatment (curing treatment) in which the substrate is heated to a predetermined temperature. If the lamination process block 30 requires multiple pressure plates 40 at once in the manufacturing process of the laminated molded product, the selector 22 selects multiple pressure plates 40. The selector 22 transfers the removed pressure plates 40 to the exchange device 23.

交換装置23は、収容体21が収容する押圧板40のうち選択にかかる押圧板40と、積層工程ブロック30に取り付けられている押圧板40とを交換する。交換装置23はセレクタ22が取り出した交換用の押圧板40を受け取ると、受け取った押圧板40と、積層工程ブロック30に既に取り付けられている押圧板40とを交換する。また交換装置23は、交換により積層工程ブロック30から取外した押圧板40をセレクタ22に引き渡す。 The exchange device 23 exchanges the pressure plate 40 selected from the pressure plates 40 housed in the container 21 with the pressure plate 40 attached to the stacking process block 30. When the exchange device 23 receives the replacement pressure plate 40 removed by the selector 22, it exchanges the received pressure plate 40 with the pressure plate 40 already attached to the stacking process block 30. The exchange device 23 also hands over the pressure plate 40 removed from the stacking process block 30 by the exchange to the selector 22.

積層工程ブロック30は、積層フィルムが新たに仮接着された基材をラミネートし、ラミネートした基材の表面を平坦化する。積層工程ブロック30は、制御装置10により制御される。積層工程ブロック30は主な構成として、ラミネート装置31、平坦化装置32および温度制御装置33を有している。 The lamination process block 30 laminates the substrate to which the laminated film has been newly temporarily attached, and flattens the surface of the laminated substrate. The lamination process block 30 is controlled by the control device 10. The lamination process block 30 mainly comprises a laminating device 31, a flattening device 32, and a temperature control device 33.

ラミネート装置31は、基材に新たに仮接着された積層フィルムをラミネートする。ラミネート装置31は、搬送用フィルムを介して基材の表面に接触し、且つ、圧力を付与することにより、かかる圧着処理(ラミネート)を実行する。ラミネート装置31は、盤体を上下動させることで積層フィルムを押圧したり、押圧状態から解放したりすることにより、ラミネート処理を行うものが望ましい。具体的には、ラミネート装置31は、サーボモータまたはトルクモータを用いた回転駆動を動力とし、ボールねじを介して盤体を上下動させることが望ましい。その場合、ラミネート装置31は、押圧体40’の構造構成体の構成要素うち、基材に面する主面において、シリコンゴムやフッ素樹脂等の耐熱性を有する弾性体が用いられることがさらに望ましい。 The laminating device 31 laminates the newly temporarily bonded laminated film to the substrate. The laminating device 31 performs this pressure bonding process (lamination) by contacting the surface of the substrate via the transport film and applying pressure. The laminating device 31 preferably performs lamination by pressing the laminated film by moving a platen up and down and releasing it from the pressed state. Specifically, the laminating device 31 preferably uses a rotation drive using a servo motor or torque motor as power and moves the platen up and down via a ball screw. In this case, it is even more preferable that the laminating device 31 uses a heat-resistant elastic material such as silicone rubber or fluororesin on the main surface facing the substrate among the components of the structural component of the pressing body 40'.

なお、ラミネート装置31は、上述の方式に限らず、可塑性と耐熱性を有する樹脂製のダイアフラムを用いて積層フィルムを押圧することによりラミネートを行ってもよい。あるいは、ラミネート装置31は例えばローラを有し、積層成形品の表面にローラを転がすことによりラミネートを行ってもよい。またラミネート装置31は上述の方式とはさらに異なる方式によりラミネートを行ってもよい。 The laminating device 31 is not limited to the above-mentioned method, and may perform lamination by pressing the laminated film using a diaphragm made of plastic and heat-resistant resin. Alternatively, the laminating device 31 may have a roller, for example, and perform lamination by rolling the roller over the surface of the laminated molded product. The laminating device 31 may also perform lamination by a method different from the above-mentioned method.

ラミネート装置31は、圧締部50を有する。圧締部50は、押圧板40を含む。押圧板40は、構造構成体に加熱体51を含んでいても良い。またラミネート装置31は、押圧板40を交換可能に保持する。ラミネート装置31に交換可能に保持される押圧板40は、交換を容易とするため、ロボットアーム等がアクセス可能な位置と向きにボルト締結部を有していることが望ましい。なお、押圧板40は、交換可能にする手段として、上記のようにボルト締結する手段以外に、油圧シリンダやエアシリンダを用いたワンタッチ式チャックによる機械的な締結手段を有していても良いし、電磁石や吸引装置などを用いた吸着力を原理とする締結手段を有していても良い。 The laminating device 31 has a clamping section 50. The clamping section 50 includes a pressure plate 40. The pressure plate 40 may include a heater 51 in the structural component. The laminating device 31 also holds the pressure plate 40 in an exchangeable manner. The pressure plate 40 held in an exchangeable manner in the laminating device 31 desirably has a bolt fastening section in a position and orientation accessible by a robot arm or the like to facilitate replacement. In addition to the bolt fastening means as described above, the pressure plate 40 may have a mechanical fastening means using a one-touch chuck using a hydraulic cylinder or an air cylinder, or a fastening means based on the principle of suction force using an electromagnet or a suction device, as a means for making it exchangeable.

平坦化装置32はラミネート装置31がラミネートを施した基材の表面を平坦化する。平坦化装置32は主な構成として、圧締部50を有している。圧締部50は、新たにラミネートされた積層フィルムの表面に所定の熱と圧力を付与することにより、基材の表面を平坦化する。 The flattening device 32 flattens the surface of the substrate that has been laminated by the laminating device 31. The flattening device 32 mainly comprises a pressing section 50. The pressing section 50 flattens the surface of the substrate by applying a predetermined amount of heat and pressure to the surface of the newly laminated laminate film.

圧締部50は、押圧板40を含む。押圧板40は、構造構成体に加熱体51を含んでいても良い。加熱体51は、温度制御装置33により温度が制御される部材を含む。これにより押圧板40は、基材の表面に対して熱や圧力を伝える。平坦化装置32は、盤体を上下動させることで積層フィルムを押圧したり、押圧状態から解放したりすることにより、平坦化処理を行うものが望ましい。具体的には、平坦化装置32は、サーボモータまたはトルクモータを用いた回転駆動を動力とし、ボールねじを介して盤体を上下動させることが望ましい。その場合、押圧体40’が有する構造構成体の構成要素は、基材に面する主面における表面粗さが中心部分と周縁部分とで異なるステンレス板のような剛性体であることがさらに望ましい。 The pressing unit 50 includes a pressing plate 40. The pressing plate 40 may include a heating body 51 in the structural component. The heating body 51 includes a member whose temperature is controlled by the temperature control device 33. As a result, the pressing plate 40 transmits heat and pressure to the surface of the substrate. The flattening device 32 is preferably one that performs flattening processing by pressing the laminated film by moving the plate body up and down and releasing it from the pressed state. Specifically, the flattening device 32 is preferably one that uses a rotation drive using a servo motor or a torque motor as a power source and moves the plate body up and down via a ball screw. In that case, it is more preferable that the structural component of the pressing body 40' is a rigid body such as a stainless steel plate whose main surface facing the substrate has different surface roughness between the center and the peripheral portion.

また平坦化装置32は、押圧板40を交換可能に保持する。平坦化装置32に交換可能に保持される押圧板40は、交換を容易とするため、ロボットアーム等がアクセス可能な位置と向きにボルト締結部を有していることが望ましい。なお、押圧板40は、交換可能にする手段として、上記のようにボルト締結する手段以外に、油圧シリンダやエアシリンダを用いたワンタッチ式チャックによる機械的な締結手段を有していても良いし、電磁石や吸引装置などを用いた吸着力を原理とする締結手段を有していても良い。 The flattening device 32 also holds the pressure plate 40 in a replaceable manner. The pressure plate 40 held in the flattening device 32 in a replaceable manner desirably has a bolt fastening portion in a position and orientation accessible by a robot arm or the like to facilitate replacement. In addition to the bolt fastening means described above, the pressure plate 40 may have a mechanical fastening means such as a one-touch chuck using a hydraulic cylinder or an air cylinder, or a fastening means based on the principle of suction force using an electromagnet or a suction device, as a means for making it replaceable.

基材において積層フィルムが多層化した場合、予め基材に積層された積層フィルムの材質や積層数、予め基材に積層された積層フィルムの厚みや平坦度や平滑度に対する累積公差、あるいは予め基材や積層フィルムに施された加工状態等により、ラミネートや平坦化するために好適な押圧体40’の構造構成要素が異なる。そのため、積層成形品製造システム1は、押圧体40’が有する構造構成要素に応じて押圧板40を適宜交換する。これにより積層成形品製造システム1は、好適にラミネートもしくは平坦化処理を実行できる。 When a laminate film is multi-layered on a substrate, the structural components of the pressing body 40' suitable for laminating or flattening vary depending on the material and number of layers of the laminate film previously laminated on the substrate, the thickness, flatness, and cumulative tolerance for smoothness of the laminate film previously laminated on the substrate, or the processing state previously applied to the substrate or laminate film. Therefore, the laminated product manufacturing system 1 appropriately replaces the pressing plate 40' depending on the structural components of the pressing body 40'. This allows the laminated product manufacturing system 1 to perform lamination or flattening processing appropriately.

温度制御装置33は、平坦化装置32が有する加熱体51の温度を制御する。例えば温度制御装置33はサーミスタおよびヒータを含み、加熱体51が設定された温度になるようにヒータを制御する。これにより積層成形品製造システム1は、基材を平坦化する際の圧締部50の温度が所定の範囲内になるように、圧締部50の温度を制御する。温度制御装置33は制御装置10により制御される。 The temperature control device 33 controls the temperature of the heating element 51 of the flattening device 32. For example, the temperature control device 33 includes a thermistor and a heater, and controls the heater so that the heating element 51 is at a set temperature. In this way, the laminated molded product manufacturing system 1 controls the temperature of the pressing part 50 so that the temperature of the pressing part 50 when flattening the substrate is within a predetermined range. The temperature control device 33 is controlled by the control device 10.

図2は、積層成形品製造システムが行う積層成形品の製造方法を示すフローチャートである。本開示にかかる積層成形品の製造方法は、積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を加圧する積層工程を有し、その積層工程を複数回繰り返すことで、所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製作する製造方法であって、上述の積層成形品製造システム1を使用するユーザが積層成形品製造システム1を利用して実行する。 Figure 2 is a flowchart showing a method for manufacturing a laminated molded product performed by the laminated molded product manufacturing system. The method for manufacturing a laminated molded product according to the present disclosure has a lamination process in which a base material to which at least a portion of a laminate film is temporarily bonded or laminated is pressurized, and the lamination process is repeated multiple times to produce a laminated molded product in which a predetermined number of layers of laminate film are laminated, and is executed by a user of the laminated molded product manufacturing system 1 described above using the laminated molded product manufacturing system 1.

まず、ユーザは、工程(a)において、所定の構造構成体がそれぞれ異なる複数の押圧板40を予め用意する(ステップS11)。 First, in step (a), the user prepares a number of pressure plates 40 each having a different predetermined structural component (step S11).

工程(a)における所定の構造構成体は、押圧体40’において、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択されたものを指す。なお、構造構成体は、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有している。また、構成要素の種類は、素材の化学成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、および光沢度のうち少なくともいずれか1つを含む。ユーザは、積層成形品を製造する工程から、基材の積層工程ごとに、適宜押圧板40を用意する。 The predetermined structural component in step (a) includes at least two components selected from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids in the pressing body 40' as selection criteria, and refers to a structural component selected based on this criterion. The structural component has a predetermined pattern structure in which these components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally. The type of component includes at least one of the chemical composition, thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, tensile yield strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption rate, reflectivity, and glossiness of the material. The user prepares an appropriate pressing plate 40 for each process of laminating the base material from the process of manufacturing the laminated molded product.

次に、工程(b)において、積層成形品製造システム1は、積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた基材の状態に応じて、複数の押圧板から少なくとも1つの押圧板40を選択する(ステップS12)。 Next, in step (b), the laminated molding manufacturing system 1 selects at least one press plate 40 from the multiple press plates depending on the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated (step S12).

工程(b)における基材の状態は、例えば基材に予め積層された積層フィルムの積層数である。また工程(b)における基材の状態は、例えば基材に予め積層された積層フィルムの材質や厚さであってもよい。工程(b)における基材の状態は、例えば予め積層された積層フィルムを含む基材に施された加工の状態であってもよい。予め基材に施された加工とは、基材表面の積層フィルムに対して施された切削加工や穴あけ加工を含む。また予め基材に施された加工は、例えば積層フィルムに敷設された薬剤や添付された金属箔(めっき)の状態や累積厚さや総敷設面積を含む。また予め基材に施された加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。 The state of the substrate in step (b) is, for example, the number of layers of the laminate film pre-laminated on the substrate. The state of the substrate in step (b) may also be, for example, the material or thickness of the laminate film pre-laminated on the substrate. The state of the substrate in step (b) may also be, for example, the state of processing applied to the substrate including the pre-laminated laminate film. The processing applied to the substrate in advance includes cutting and drilling applied to the laminate film on the substrate surface. The processing applied to the substrate in advance includes, for example, the state, cumulative thickness, and total area of the chemical agent or metal foil (plating) attached to the laminate film. The processing applied to the substrate in advance includes, for example, heat treatment (curing treatment) in which the substrate is heated at a predetermined temperature.

次に、工程(c)において、積層成形品製造システム1は、盤体の主面に対して上記選択にかかる押圧板40を取り付けることにより、圧締部50を用意する(ステップS13)。 Next, in step (c), the laminated molding manufacturing system 1 prepares the clamping section 50 by attaching the above-mentioned pressing plate 40 to the main surface of the plate body (step S13).

なお、工程(c)において、積層成形品製造システム1は、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる群の中から少なくとも2つが選択され、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた押圧体40’を含む押圧板40を取り付けることにより圧締部50を用意するものであってもよい。 In step (c), the laminated molded product manufacturing system 1 may prepare the pressing section 50 by attaching a pressing plate 40 including a pressing body 40' in which at least two components are selected from a group consisting of a plurality of types of elastic bodies, a plurality of types of rigid bodies, a plurality of types of fibrous bodies, a plurality of types of particulate bodies, and voids, and these components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally.

次に、工程(d)において、積層成形品製造システム1は、圧締部50の温度が所定の範囲内になるよう圧締部50の温度を制御する(ステップS14)。 Next, in step (d), the laminated molded product manufacturing system 1 controls the temperature of the pressing unit 50 so that the temperature of the pressing unit 50 is within a predetermined range (step S14).

次に、工程(e)において、積層成形品製造システム1は、積層フィルムが新たに仮接着またはラミネートされた基材の表面に圧締部50を押圧する(ステップS15)。 Next, in step (e), the laminated molding manufacturing system 1 presses the clamping unit 50 against the surface of the substrate to which the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated (step S15).

次に、工程(f)において、積層成形品製造システム1は、基材に積層フィルムが新たに仮接着もしくはラミネートされる毎に、工程(b)から工程(e)までの積層処理を実行する。すなわち、積層成形品製造システム1は、積層成形品の製造プロセスにおいて、積層処理が終了か否かを判定する(ステップS16)。積層処理が終了と判定する場合(ステップS16:YES)、積層成形品製造システム1は処理を終了する。一方、積層処理が終了と判定しない場合(ステップS16:NO)、積層成形品製造システム1は、工程(b)(ステップS12)に戻り、工程(b)から工程(e)までの積層処理を繰り返す。なお、積層処理を繰り返す場合において、工程(b)の前に、基材や基材に積層された積層フィルムに対して所定の加工を施してもよい。基材や積層フィルムに施す加工とは、例えば基材表面の積層フィルムに対して施す切削加工や穴あけ加工を含む。また基材や積層フィルムに施す加工は、例えば基材表面の積層フィルムに対して施す薬剤の敷設や金属箔(めっき)の添付を含む。また基材や積層フィルムに施す加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。なお、積層工程ブロック30が積層成形品の製造工程において一度に複数の押圧板40を要する場合には、セレクタ22は複数の押圧板40を選択する。 Next, in step (f), the laminated product manufacturing system 1 executes the lamination process from step (b) to step (e) each time a new laminated film is temporarily attached or laminated to the substrate. That is, the laminated product manufacturing system 1 judges whether the lamination process is completed in the manufacturing process of the laminated product (step S16). If it is judged that the lamination process is completed (step S16: YES), the laminated product manufacturing system 1 ends the process. On the other hand, if it is not judged that the lamination process is completed (step S16: NO), the laminated product manufacturing system 1 returns to step (b) (step S12) and repeats the lamination process from step (b) to step (e). In addition, when repeating the lamination process, a predetermined processing may be performed on the substrate or the laminated film laminated on the substrate before step (b). Processing performed on the substrate or laminated film includes, for example, cutting processing or drilling processing performed on the laminated film on the substrate surface. Processing performed on the substrate or laminated film also includes, for example, laying a chemical agent or attaching a metal foil (plating) to the laminated film on the substrate surface. The processing applied to the substrate or laminated film includes, for example, a heat treatment (curing process) in which the substrate is heated to a predetermined temperature. If the lamination process block 30 requires multiple press plates 40 at once in the manufacturing process of the laminated molded product, the selector 22 selects multiple press plates 40.

次に、積層成形品製造システム1について具体例を挙げて説明する。図3は、積層工程ブロック30の具体例を示す構成図である。図3に示す積層工程ブロック30は、側面方向から観察した構成の概略を示したものである。 Next, the laminated molded product manufacturing system 1 will be described with a specific example. Figure 3 is a configuration diagram showing a specific example of the lamination process block 30. The lamination process block 30 shown in Figure 3 shows an outline of the configuration as observed from the side.

なお、構成要素の位置関係を説明するための便宜的なものとして、図3は、右手系の直交座標系が付されている。また、図3以降において、直交座標系が付されている場合、図1のX軸、Y軸、およびZ軸方向と、これらの直交座標系のX軸、Y軸、およびZ軸方向はそれぞれ一致している。 For the sake of convenience in explaining the positional relationships of the components, FIG. 3 is illustrated using a right-handed Cartesian coordinate system. In addition, in FIG. 3 and subsequent figures where a Cartesian coordinate system is used, the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions in FIG. 1 coincide with the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions in these Cartesian coordinate systems, respectively.

図3に示す積層工程ブロック30は主な構成として、ラミネート装置31、平坦化装置32、温度制御装置33を有している。積層工程ブロック30は基材A1を押圧し、ラミネート処理を施した後、基材A1の表面をさらに段階的に押圧し、段階的な平坦化処理を施す。基材A1は、下部を支持する下部搬送用シート36と上部を覆う上部搬送用シート35とに挟まれた状態で、図の右側から左側に搬送される。積層工程ブロック30に投入される基材A1は、図3において右側に配置されているラミネート装置31に搬送される。 The lamination process block 30 shown in FIG. 3 mainly comprises a laminating device 31, a flattening device 32, and a temperature control device 33. The lamination process block 30 presses the substrate A1, performs lamination processing, and then further presses the surface of the substrate A1 in stages to perform flattening processing in stages. The substrate A1 is transported from the right side to the left side of the figure while being sandwiched between a lower conveying sheet 36 that supports the lower part and an upper conveying sheet 35 that covers the upper part. The substrate A1 input into the lamination process block 30 is transported to the laminating device 31 located on the right side in FIG. 3.

上部搬送用シート35と下部搬送用シート36とは、例えばポリエチレンテレフタレートを帯状に成形することにより形成されている。上部搬送用シート35と下部搬送用シート36とは、図3に示した積層工程ブロック30の左右端において巻き取られ、左右方向に同期して巻き取りまたは繰り出しが行われることにより、基材A1を挟み込んだ状態で搬送できる。 The upper conveying sheet 35 and the lower conveying sheet 36 are formed, for example, by molding polyethylene terephthalate into a strip shape. The upper conveying sheet 35 and the lower conveying sheet 36 are wound up at the left and right ends of the stacking process block 30 shown in FIG. 3, and are wound up or unwound synchronously in the left and right directions, allowing them to be conveyed with the substrate A1 sandwiched between them.

ラミネート装置31は、基材A1を受け入れると、上下方向に圧力を付与して仮接着されている積層フィルムをラミネートする。ラミネート装置31は例えば上部ラミネート処理部311と下部ラミネート処理部312とを有している。ラミネート装置31は、上部ラミネート処理部311と下部ラミネート処理部312とにより基材A1を挟み込み、圧力をかけることによりラミネート処理を施す。ラミネート装置31は、上部ラミネート処理部311と下部ラミネート処理部312とにより基材A1を挟み込み、減圧可能なチャンバを形成するものであってもよい。ラミネート工程が完了すると、基材A1は上下の搬送用シートにより平坦化装置32に搬送される。 When the laminating device 31 receives the substrate A1, it applies pressure in the vertical direction to laminate the laminated film that is temporarily attached. The laminating device 31 has, for example, an upper laminating processing section 311 and a lower laminating processing section 312. The laminating device 31 sandwiches the substrate A1 between the upper laminating processing section 311 and the lower laminating processing section 312, and performs lamination processing by applying pressure. The laminating device 31 may sandwich the substrate A1 between the upper laminating processing section 311 and the lower laminating processing section 312 to form a chamber that can be depressurized. When the laminating process is completed, the substrate A1 is transported to the flattening device 32 by upper and lower transport sheets.

図3に示す平坦化装置32は、第1平坦化装置32Aと、第2平坦化装置32Bとを含む。第1平坦化装置32Aは、ラミネート装置31においてラミネートが施された基材A1を受け取り、受け取った基材A1に対して平坦化処理を施す。第1平坦化装置32Aにより平坦化処理が施された基材A1は、上部搬送用シート35および下部搬送用シート36により第2平坦化装置32Bに搬送される。第2平坦化装置32Bは、第1平坦化装置32Aにより平坦化処理が施された基材A1を受け取り、受け取った基材A1に対してさらに平坦化処理を施す。このような段階的な平坦化処理により、積層成形品の製造工程における生産性が向上する。第2平坦化装置32Bにより平坦化処理が施された基材A1は、上部搬送用シート35および下部搬送用シート36により平坦化装置32の外へ搬送される。 The flattening device 32 shown in FIG. 3 includes a first flattening device 32A and a second flattening device 32B. The first flattening device 32A receives the substrate A1 laminated in the laminating device 31 and flattens the substrate A1. The substrate A1 flattened by the first flattening device 32A is transported to the second flattening device 32B by the upper conveying sheet 35 and the lower conveying sheet 36. The second flattening device 32B receives the substrate A1 flattened by the first flattening device 32A and further flattens the substrate A1. This step-by-step flattening process improves productivity in the manufacturing process of laminated molded products. The substrate A1 flattened by the second flattening device 32B is transported outside the flattening device 32 by the upper conveying sheet 35 and the lower conveying sheet 36.

なお、本開示において平坦化装置32と称する場合は、第1平坦化装置32Aおよび第2平坦化装置32Bの両方を含む。図3に示す平坦化装置32は、生産性を高めるために、平坦化処理を段階的に2回実行できるように2つの平坦化装置が設けられているが、平坦化装置32が有する平坦化装置は1つであってもよいし、3つ以上であってもよい。 In this disclosure, the term "planarization device 32" includes both the first planarization device 32A and the second planarization device 32B. The planarization device 32 shown in FIG. 3 is provided with two planarization devices so that the planarization process can be performed twice in stages to increase productivity, but the planarization device 32 may have one planarization device or three or more planarization devices.

温度制御装置33は、ラミネート装置31に接続し、ラミネート装置31における所定の部位の温度を制御する機能を有している。また温度制御装置33は、第1平坦化装置32Aと、第2平坦化装置32Bとに接続し、これらがそれぞれ有する加熱体51の温度を制御する。これにより、ラミネート装置31、第1平坦化装置32Aおよび第2平坦化装置32Bは基材A1に対して所定の熱と圧力を付与する。なお、温度制御装置33は、ラミネート装置31、第1平坦化装置32A、および第2平坦化装置32Bをそれぞれを異なる温度に制御可能である。 The temperature control device 33 is connected to the laminating device 31 and has the function of controlling the temperature of a specified portion of the laminating device 31. The temperature control device 33 is also connected to the first flattening device 32A and the second flattening device 32B and controls the temperature of the heater 51 that each of these devices has. This allows the laminating device 31, the first flattening device 32A, and the second flattening device 32B to apply a specified amount of heat and pressure to the substrate A1. The temperature control device 33 can control the laminating device 31, the first flattening device 32A, and the second flattening device 32B to different temperatures.

次に、図4を参照して平坦化装置32についてさらに説明する。図4は、平坦化装置32の具体例を示す構成図である。平坦化装置32は、主な構成として、基盤321、加圧装置322、固定盤体323、可動盤体324、ガイド孔325、ガイド軸326を有している。 Next, the flattening device 32 will be further described with reference to FIG. 4. FIG. 4 is a configuration diagram showing a specific example of the flattening device 32. The flattening device 32 mainly includes a base 321, a pressure device 322, a fixed platen 323, a movable platen 324, a guide hole 325, and a guide shaft 326.

基盤321は、平坦化装置32の下部において加圧装置322が摺動するためのガイド軸326を支持する。すなわち、加圧装置322は、基盤321により上下動可能に支持されている。加圧装置322は所定の駆動装置を有すると共に、可動盤体324の下部に係合し、可動盤体324を上下動させる。可動盤体324を上下動させる手段は特に限定されるものではないが、基板を正確にラミネート処理および均等に平坦化処理するために、サーボモータまたはトルクモータを用いた回転駆動を動力とし、ボールねじを介して上下動させることが望ましい。可動盤体324を上下動させる手段は、上記に限らず、油圧シリンダやエアシリンダを用いるものであっても良い。 The base 321 supports a guide shaft 326 along which the pressure device 322 slides at the bottom of the flattening device 32. That is, the pressure device 322 is supported by the base 321 so that it can move up and down. The pressure device 322 has a predetermined drive device and engages with the bottom of the movable platen 324 to move the movable platen 324 up and down. The means for moving the movable platen 324 up and down is not particularly limited, but in order to accurately laminate and evenly flatten the substrate, it is preferable to use a rotational drive using a servo motor or torque motor as power and move the movable platen 324 up and down via a ball screw. The means for moving the movable platen 324 up and down is not limited to the above, and may also use a hydraulic cylinder or an air cylinder.

固定盤体323は、基盤321が支持するガイド軸326の上端に固定され、下部において押圧板40を保持する。可動盤体324は、ガイド軸326が挿通されたガイド孔325を有し、ガイド軸326により上下方向に移動可能に支持される。また可動盤体324は下部において加圧装置322に係合している。これにより可動盤体324は、加圧装置322に制御されて上下動する。さらに可動盤体324は上面において押圧板40を保持する。 The fixed platen 323 is fixed to the upper end of the guide shaft 326 supported by the base 321, and holds the pressure plate 40 at its lower part. The movable platen 324 has a guide hole 325 through which the guide shaft 326 is inserted, and is supported by the guide shaft 326 so that it can move up and down. The movable platen 324 is also engaged with the pressure device 322 at its lower part. This allows the movable platen 324 to move up and down under the control of the pressure device 322. Furthermore, the movable platen 324 holds the pressure plate 40 on its upper surface.

ガイド軸326は、基盤321から上方に延出している軸であって、上端において固定盤体323を支持するとともに、基盤321と固定盤体323との間において可動盤体324を上下方向に移動可能に支持する。ガイド軸326は例えばボールスプライン軸を含み、ボールスプライン軸により可動盤体324を上下方向に案内してもよい。ガイド軸326はタイバと称されてもよい。 The guide shaft 326 is a shaft extending upward from the base 321, supports the fixed platen 323 at its upper end, and supports the movable platen 324 between the base 321 and the fixed platen 323 so that the movable platen 324 can move up and down. The guide shaft 326 may include, for example, a ball spline shaft, which guides the movable platen 324 up and down. The guide shaft 326 may also be called a tie bar.

上述の構成において、平坦化装置32は、可動盤体324が下方に位置している状態で、上部搬送用シート35および下部搬送用シート36が搬送する基材A1を受け入れる。そして基材A1が所定の位置に停止した状態で、平坦化装置32は加圧装置322を駆動して可動盤体324を上方へ押し上げる。これにより平坦化装置32は固定盤体323が有する押圧板40と基材A1の上面とを接触させるとともに、可動盤体324が有する押圧板40と基材A1の下面とを接触させる。そして平坦化装置32は基材A1の上下面を圧締部50により圧締する。 In the above-described configuration, the flattening device 32 receives the substrate A1 conveyed by the upper conveying sheet 35 and the lower conveying sheet 36 with the movable platen 324 positioned downward. Then, with the substrate A1 stopped at a predetermined position, the flattening device 32 drives the pressure device 322 to push the movable platen 324 upward. As a result, the flattening device 32 brings the pressure plate 40 of the fixed platen 323 into contact with the upper surface of the substrate A1, and brings the pressure plate 40 of the movable platen 324 into contact with the lower surface of the substrate A1. The flattening device 32 then clamps the upper and lower surfaces of the substrate A1 with the clamping section 50.

図5を参照して平坦化装置32についてさらに説明する。図5は、平坦化装置における加工領域の構成の具体例を示す構成図である。図5に示す平坦化装置32は、基材A1を圧締する領域を示している。 The flattening device 32 will be further described with reference to FIG. 5. FIG. 5 is a configuration diagram showing a specific example of the configuration of the processing area in the flattening device. The flattening device 32 shown in FIG. 5 shows the area where the substrate A1 is clamped.

押圧板40は、断熱部52と、加熱体51と、押圧体40’と、を含む。断熱部52は、加熱体51と固定盤体323または加熱体51と可動盤体324との間の熱の伝達を押さえるために設けられた部材である。加熱体51は、例えば直方体状の部材であり、固定盤体323と可動盤体324とのそれぞれに固定されている。加熱体51はまた、複数のカートリッジヒータ330を有している。カートリッジヒータ330は、温度測定手段により測定された温度情報に基づき、温度制御装置33により出力が制御されている。温度測定手段は、サーモカップルを測定対象に接触させて測定する手段であっても良いし、放射温度計を用いて測定対象に接触させずに測定する手段であってもよい。また、温度測定手段は、それら以外の手段であっても良い。加熱体51は剛性が比較的に高く、また蓄熱量が比較的に高いものであることが好ましい。これにより圧締部50は好適に基材A1を圧締できる。 The pressing plate 40 includes a heat insulating section 52, a heating body 51, and a pressing body 40'. The heat insulating section 52 is a member provided to suppress the transfer of heat between the heating body 51 and the fixed platen 323 or between the heating body 51 and the movable platen 324. The heating body 51 is, for example, a rectangular parallelepiped member, and is fixed to each of the fixed platen 323 and the movable platen 324. The heating body 51 also has a plurality of cartridge heaters 330. The cartridge heaters 330 have their output controlled by the temperature control device 33 based on temperature information measured by the temperature measuring means. The temperature measuring means may be a means for measuring by bringing a thermocouple into contact with the measurement object, or a means for measuring without contacting the measurement object using a radiation thermometer. The temperature measuring means may also be other means. It is preferable that the heating body 51 has a relatively high rigidity and a relatively high heat storage capacity. This allows the pressing section 50 to press the substrate A1 suitably.

加熱体51は基材A1に近い側の主面において押圧体40’を交換可能に保持している。なお、加熱体51は、カートリッジヒータ330に代えて、ゴムヒータやプレートヒータを有していても良い。あるいは、加熱体51は、カートリッジヒータ330に代えて、水蒸気やオイルなどの熱媒を通流させる流路を有していても良い。また、加熱体51は、カートリッジヒータ330に対する通電部が着脱可能とされていても良い。同様に、加熱体51が、カートリッジヒータ330に代えて、ゴムヒータやプレートヒータを有する場合は、それらに対する通電部が着脱可能とされていても良い。また、加熱体51が、カートリッジヒータ330に代えて、水蒸気やオイルなどの熱媒を通流させる流路を有する場合は、例えば弁を備えた継手を用いて、熱媒の供給口と回収口を、熱媒の供給源と回収源から着脱可能とされていても良い。 The heating body 51 holds the pressing body 40' in an exchangeable manner on the main surface close to the substrate A1. The heating body 51 may have a rubber heater or a plate heater instead of the cartridge heater 330. Alternatively, the heating body 51 may have a flow path for passing a heat medium such as steam or oil instead of the cartridge heater 330. The heating body 51 may have a detachable current-cartridge heater 330. Similarly, when the heating body 51 has a rubber heater or a plate heater instead of the cartridge heater 330, the current-cartridge heater 330 may be detachable. When the heating body 51 has a flow path for passing a heat medium such as steam or oil instead of the cartridge heater 330, the supply port and the recovery port of the heat medium may be detachable from the supply source and the recovery source of the heat medium, for example, by using a joint with a valve.

押圧体40’は加熱体51の主面に交換可能に取り付けられている。加熱体51と押圧体40’とは、例えば端部がクランパにより固定されていてもよい。加熱体51と押圧体40’とは、例えば端部がボルトにより螺合されていてもよい。 The pressing body 40' is attached to the main surface of the heating body 51 in a replaceable manner. The heating body 51 and the pressing body 40' may be fixed at their ends, for example, by a clamper. The heating body 51 and the pressing body 40' may be screwed at their ends, for example, by a bolt.

図6は、押圧板40の具体例を示す構成図である。図6には、可動盤体324に設けられている押圧板40の断面が示されている。押圧板40は主な構成として、可動盤体324に接触する側から順に、断熱部52、加熱体51および押圧体40’を有している。 Figure 6 is a structural diagram showing a specific example of the pressure plate 40. Figure 6 shows a cross section of the pressure plate 40 provided on the movable platen 324. The pressure plate 40 mainly comprises, in order from the side in contact with the movable platen 324, a heat insulating section 52, a heater 51, and a pressure body 40'.

なお、図6に示す押圧板40は、可動盤体324に設けられているものを示すが、固定盤体323に設けられている押圧板40も同様の構成を有している。また固定盤体323が有する押圧板40を上部押圧板と称し、可動盤体324が有する押圧板40を下部押圧板と称する場合がある。同様に、上部押圧板に含まれる押圧体40’を、上部押圧体と称し、下部押圧板に含まれる押圧体40’を下部押圧体と称する場合がある。 Note that while the pressure plate 40 shown in FIG. 6 is provided on the movable platen 324, the pressure plate 40 provided on the fixed platen 323 has the same configuration. The pressure plate 40 on the fixed platen 323 may be referred to as the upper pressure plate, and the pressure plate 40 on the movable platen 324 may be referred to as the lower pressure plate. Similarly, the pressure body 40' included in the upper pressure plate may be referred to as the upper pressure body, and the pressure body 40' included in the lower pressure plate may be referred to as the lower pressure body.

上述の構成において、断熱部52は、加熱体51と可動盤体324との間に介在して、加熱体51と可動盤体324との熱交換を抑制する。これにより平坦化装置32は効率よく加熱体51を加熱する。断熱部52は例えば熱伝導率が比較的に低い樹脂、金属、セラミックスまたはファイバー材等により構成されうる。 In the above-described configuration, the heat insulating section 52 is interposed between the heating body 51 and the movable platen 324 to suppress heat exchange between the heating body 51 and the movable platen 324. This allows the flattening device 32 to efficiently heat the heating body 51. The heat insulating section 52 can be made of, for example, a resin, metal, ceramic, or fiber material that has a relatively low thermal conductivity.

加熱体51は直方体状の金属部材であって、例えば、鉄、アルミニウム、真鍮等の金属により構成され得る。これにより加熱体51は、ラミネート処理や平坦化処理において基材A1を圧締する際に歪まない程度の剛性を有する。また加熱体51は、ラミネート処理や平坦化処理において、基材A1の表面に所定の熱を付与するために充分な熱容量を有する。加熱体51は、温度制御装置33により摂氏80度から摂氏200度程度になるように制御される。 The heating element 51 is a rectangular metal member, and may be made of metal such as iron, aluminum, or brass. This provides the heating element 51 with sufficient rigidity to prevent distortion when the substrate A1 is pressed during lamination or flattening. The heating element 51 also has sufficient heat capacity to apply a predetermined amount of heat to the surface of the substrate A1 during lamination or flattening. The heating element 51 is controlled by the temperature control device 33 to be approximately 80 degrees Celsius to 200 degrees Celsius.

押圧体40’は、ラミネート処理や平坦化処理の対象である基材A1または基材A1を搬送する搬送用シートに接触する接触層42を、構造構成体として少なくとも有している。接触層42は、ラミネート装置31においては例えば耐熱性を有する樹脂などの弾性体であり、平坦化装置32においては例えば金属やセラミックスなどの剛性体、もしくは耐熱性を有する樹脂などの弾性体である。また押圧体40’は、構造構成体として、基材A1に接触したときの圧力を分散する緩衝層41を、接触層42と加熱体51の間に有していても良い。緩衝層41は、例えば耐熱性を有する樹脂などの弾性体である。なお、緩衝層41および接触層42は、上記に限らず、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択され、それらの構成要素が2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有していても良い。 The pressing body 40' has at least a contact layer 42 as a structural component that contacts the substrate A1 or the conveying sheet that conveys the substrate A1, which is the subject of lamination or flattening. The contact layer 42 is an elastic body such as a heat-resistant resin in the laminating device 31, and is a rigid body such as a metal or ceramic, or an elastic body such as a heat-resistant resin in the flattening device 32. The pressing body 40' may also have a buffer layer 41 between the contact layer 42 and the heating body 51 as a structural component, which disperses the pressure when it contacts the substrate A1. The buffer layer 41 is an elastic body such as a heat-resistant resin. The buffer layer 41 and the contact layer 42 are not limited to the above, and may include at least two components selected from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids as a selection criterion, and may have a predetermined pattern structure in which the components are appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally based on this criterion.

緩衝層41は、ラミネート処理および平坦化処理において接触層42が受ける圧力を好適に分散する。緩衝層41は例えば樹脂、ゴム、紙、繊維強化材または不織布などが用いられる。緩衝層41の厚さは例えば100マイクロメートルから5ミリメートル程度である。ラミネート処理において、接触層42は樹脂板であって、例えば100マイクロメートルから5ミリメートル程度のシリコン樹脂やフッ素樹脂が採用され得る。また平坦化処理において、接触層42は金属板であって、例えば100マイクロメートルから5ミリメートル程度のステンレス板が採用され得る。接触層42に金属板のような剛性体を用いた場合であっても、圧締処理において負荷される荷重に対して、わずかに弾性変形する程度の剛性を有していることが好ましい。 The buffer layer 41 appropriately distributes the pressure that the contact layer 42 receives during lamination and flattening. The buffer layer 41 may be made of, for example, resin, rubber, paper, fiber reinforced material, or nonwoven fabric. The buffer layer 41 may have a thickness of, for example, about 100 micrometers to 5 millimeters. In the lamination process, the contact layer 42 is a resin plate, and may be made of, for example, a silicone resin or a fluororesin having a thickness of about 100 micrometers to 5 millimeters. In the flattening process, the contact layer 42 is a metal plate, and may be made of, for example, a stainless steel plate having a thickness of about 100 micrometers to 5 millimeters. Even if a rigid body such as a metal plate is used for the contact layer 42, it is preferable that the rigidity is such that it is slightly elastically deformed against the load applied in the pressing process.

なお、弾性体と剛性体の区別は、例えば弾性率に基づいても良い。すなわち、弾性率が30キロニュートン毎ミリメートル平米(kN/mm)を区別の基準とし、これ未満の弾性率を持つ場合を弾性体とし、これ以上の弾性率をもつ場合を剛性体としても良い。また剛性の大小は、弾性率の大小により表されても良い。また接触層42は、表面粗さが小さいことが好ましい。そのため接触層42に金属やセラミックスを用いる場合は、鏡面となる程度の仕上げ研磨加工が施されていることが好ましい。また、接触層42は、表面に例えば窒化チタン(TiN)等のセラミック被膜、クロムやニッケル等のめっき、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)等の潤滑被膜のようなコーティングが施されても良い。 The distinction between elastic and rigid bodies may be based on, for example, the modulus of elasticity. That is, the modulus of elasticity may be set to 30 kilonewtons per millimeter squared (kN/mm 2 ), and bodies with modulus of elasticity less than this value may be considered elastic, and bodies with modulus of elasticity greater than this value may be considered rigid. The magnitude of rigidity may also be expressed by the magnitude of modulus of elasticity. The contact layer 42 preferably has a small surface roughness. Therefore, when using metal or ceramics for the contact layer 42, it is preferable that the contact layer 42 is polished to a mirror finish. The contact layer 42 may have a coating on its surface, such as a ceramic coating of titanium nitride (TiN), plating of chromium or nickel, or a lubricating coating of diamond-like carbon (DLC).

以上、ラミネート装置31および平坦化装置32が有する圧締部50の構成について説明した。なお、ラミネート装置31の場合、ラミネート装置31は、ラミネート処理をするための真空チャンバを有し、この真空チャンバ内に圧締部50を有する。 The above describes the configuration of the pressing unit 50 of the laminating device 31 and the flattening device 32. In the case of the laminating device 31, the laminating device 31 has a vacuum chamber for performing the laminating process, and the pressing unit 50 is located within this vacuum chamber.

次に、図7を参照して、基材A1について説明する。図7は、基材の具体例を示す構成図である。図7に示す基材A1は、ビルドアップ基板または多層基板と呼ばれるものである。ビルドアップ基板または多層基板は、積層成形品の一実施態様である。基材A1は、基材A10の両面に積層フィルムA11~A23が積層されており、それぞれの層に適宜、穴開け加工が施され、さらに導電箔が付加されている。基材A10は例えばエポキシ系の熱硬化性樹脂や、エポキシ系樹脂とガラス繊維との複合材またはポリエチレンテレフタレート等の樹脂が用いられる。積層フィルムは、例えばポリエチレンテレフタレートやポリイミド等の樹脂が用いられる。 Next, the substrate A1 will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a structural diagram showing a specific example of the substrate. The substrate A1 shown in FIG. 7 is called a build-up substrate or a multi-layer substrate. A build-up substrate or a multi-layer substrate is one embodiment of a laminated molded product. The substrate A1 has laminated films A11 to A23 laminated on both sides of the substrate A10, and each layer is appropriately perforated, and conductive foil is further added. For the substrate A10, for example, an epoxy-based thermosetting resin, a composite material of an epoxy-based resin and glass fiber, or a resin such as polyethylene terephthalate is used. For the laminated film, for example, a resin such as polyethylene terephthalate or polyimide is used.

上述の構成において、基材A1はまず、基材A10が形成され、形成された基材A10に対して、第1積層工程、第2積層工程および第3積層工程が施される。以下に、これらの工程の概要を説明する。 In the above-mentioned configuration, the substrate A1 is first formed as substrate A10, and the formed substrate A10 is subjected to the first lamination process, the second lamination process, and the third lamination process. The following provides an overview of these processes.

まず、シート状の基材A10は、孔開け加工等を施された後に、銅めっきが施され、さらにエッチング処理により配線パタンが形成される。これにより例えばビアホールA30が形成され、基材A10の加工が完了する。 First, the sheet-like base material A10 is subjected to processes such as drilling holes, then copper plating is applied, and a wiring pattern is formed by etching. This forms, for example, via holes A30, and the processing of the base material A10 is completed.

次に、第1積層工程において、基材A10は、積層フィルムA11および積層フィルムA21が積層される。ここで積層フィルムA11および積層フィルムA21が仮接着された基材A10は、積層成形品製造システム1に投入される。積層成形品製造システム1において、ラミネート装置31は積層フィルムA11および積層フィルムA21が仮接着された基材A1にラミネート処理を施し、さらに平坦化装置32はラミネートされた積層フィルムA11および積層フィルムA21の表面を平坦化する。積層成形品製造システム1から取り出された基材A1は次に、銅めっきおよびエッチングが施されることにより、パタンA31やビアホールA32等が形成される。 Next, in the first lamination step, the laminate film A11 and the laminate film A21 are laminated onto the substrate A10. Here, the substrate A10 to which the laminate film A11 and the laminate film A21 are temporarily attached is fed into the laminated product manufacturing system 1. In the laminated product manufacturing system 1, the laminating device 31 performs lamination processing on the substrate A1 to which the laminate film A11 and the laminate film A21 are temporarily attached, and further, the flattening device 32 flattens the surfaces of the laminated laminate film A11 and the laminate film A21. The substrate A1 removed from the laminated product manufacturing system 1 is then copper-plated and etched to form the pattern A31, via holes A32, etc.

次に、第2積層工程において、基材A1は上記第1積層工程と同様に、積層フィルムA12および積層フィルムA22が仮接着、ラミネートおよび平坦化される。さらに基材A1は、積層フィルムA12および積層フィルムA22に対して銅めっきおよびエッチングが施される。 Next, in the second lamination process, the laminate film A12 and the laminate film A22 are temporarily attached, laminated, and flattened to the base material A1 in the same manner as in the first lamination process. Furthermore, the base material A1 is copper-plated and etched on the laminate film A12 and the laminate film A22.

さらに第3積層工程において、上記第1積層工程および第2積層工程と同様に、基材A1は積層フィルムA13および積層フィルムA23が仮接着、ラミネートおよび平坦化され、めっき等による銅箔のパタンが形成される。 Furthermore, in the third lamination process, similar to the first and second lamination processes described above, the laminate film A13 and the laminate film A23 are temporarily attached, laminated and flattened to the base material A1, and a copper foil pattern is formed by plating or the like.

以上、基材A1の構成および積層工程の概略について説明した。ここに示した基材A1は、基材A10の両面のそれぞれに3層ずつの積層フィルムが積層されている。また基材A1のそれぞれの積層フィルムは、個別の銅箔パタンやビアホールを有している。そのため、ラミネート処理や平坦化処理を行う場合、押圧板40の構造構成体が各積層工程に個別に設定されるのが好ましい。 The above describes the configuration of the substrate A1 and an overview of the lamination process. The substrate A1 shown here has three layers of laminated film laminated on each side of the substrate A10. Each laminated film of the substrate A1 also has an individual copper foil pattern and via holes. Therefore, when performing lamination processing or flattening processing, it is preferable that the structural components of the pressure plate 40 are set individually for each lamination process.

次に、図8を参照して、積層工程と押圧板40との関係について説明する。図8は、押圧板と積層工程との対応パタンの例を示す表である。図8に示す表は、第1平坦化装置32Aおよび第2平坦化装置32Bにそれぞれ取り付けられる押圧板の、積層工程ごとの構成を示している。 Next, the relationship between the lamination process and the pressure plate 40 will be described with reference to FIG. 8. FIG. 8 is a table showing an example of a corresponding pattern between the pressure plate and the lamination process. The table shown in FIG. 8 shows the configuration of the pressure plate attached to each of the first flattening device 32A and the second flattening device 32B for each lamination process.

第1平坦化装置32Aの固定盤体323に取り付けられる上部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-11を有する。第1平坦化装置32Aの可動盤体324に取り付けられる下部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-12を有する。同様に、第2平坦化装置32Bの上部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-13を有する。第2平坦化装置32Bの下部押圧板は、第1積層工程において、構成No.1-14を有する。 The upper pressure plate attached to the fixed platen 323 of the first flattening device 32A has the configuration No. 1-11 in the first lamination process. The lower pressure plate attached to the movable platen 324 of the first flattening device 32A has the configuration No. 1-12 in the first lamination process. Similarly, the upper pressure plate of the second flattening device 32B has the configuration No. 1-13 in the first lamination process. The lower pressure plate of the second flattening device 32B has the configuration No. 1-14 in the first lamination process.

以下、同様に、第2積層工程において、第1平坦化装置32Aの上部押圧板は、構成No.2-11を有し、下部押圧板は、構成No.2-12を有する。第2平坦化装置32Bの上部押圧板は、構成No.2-13を有し、下部押圧板は、構成No.2-14を有する。 Similarly, in the second lamination process, the upper pressure plate of the first flattening device 32A has structure No. 2-11, and the lower pressure plate has structure No. 2-12. The upper pressure plate of the second flattening device 32B has structure No. 2-13, and the lower pressure plate has structure No. 2-14.

第3積層工程において、第1平坦化装置32Aの上部押圧板は、構成No.3-11を有し、下部押圧板は、構成No.3-12を有する。第2平坦化装置32Bの上部押圧板は、構成No.3-13を有し、下部押圧板は、構成No.3-14を有する。 In the third lamination step, the upper pressure plate of the first flattening device 32A has structure No. 3-11, and the lower pressure plate has structure No. 3-12. The upper pressure plate of the second flattening device 32B has structure No. 3-13, and the lower pressure plate has structure No. 3-14.

上述のように、押圧板40の構造構成体は、各層の積層工程に応じて別個に設定され得る。また押圧板40の構造構成体は、平坦化装置32における押圧の順序や配置に応じても設定され得る。さらに、押圧板40の構造構成体は、押圧する面における積層フィルムがラミネートされた基材の状態に応じて設定される。ここで、積層フィルムがラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの積層数である。また積層フィルムがラミネートされた基材の状態とは、例えば基材に予め積層された積層フィルムの材質や厚さであってもよい。積層フィルムがラミネートされた基材の状態とは、例えば予め積層された積層フィルムを含む基材に施された加工の状態であってもよい。予め基材に施された加工とは、基材表面の積層フィルムに対して施された切削加工や穴あけ加工を含む。また予め基材に施された加工は、例えば積層フィルムに敷設された薬剤や添付された金属箔(めっき)の状態や累積厚さや総敷設面積を含む。また予め基材に施された加工は、例えば基材を所定の温度で加熱する熱処理(キュア処理)を含む。積層成形品製造システム1を使用するユーザは、積層成形品を製造するに際し、予め積層工程を鑑みて、図8に示したそれぞれの工程および取り付けられる位置に対応した押圧板40の構造構成体を決定する。 As described above, the structural components of the pressing plate 40 can be set separately according to the lamination process of each layer. The structural components of the pressing plate 40 can also be set according to the order and arrangement of pressing in the flattening device 32. Furthermore, the structural components of the pressing plate 40 are set according to the state of the substrate on which the laminated film is laminated on the pressing surface. Here, the state of the substrate on which the laminated film is laminated is, for example, the number of laminated films pre-laminated on the substrate. The state of the substrate on which the laminated film is laminated may be, for example, the material and thickness of the laminated film pre-laminated on the substrate. The state of the substrate on which the laminated film is laminated may be, for example, the state of processing performed on the substrate including the pre-laminated laminated film. The processing performed on the substrate in advance includes cutting and drilling performed on the laminated film on the substrate surface. The processing performed on the substrate in advance includes, for example, the state, cumulative thickness, and total laying area of the chemical agent laid on the laminated film and the attached metal foil (plating). The processing performed on the substrate in advance includes, for example, a heat treatment (curing treatment) in which the substrate is heated at a predetermined temperature. When manufacturing a laminated molded product, a user of the laminated molded product manufacturing system 1 considers the lamination process in advance and determines the structural configuration of the press plate 40 that corresponds to each process and the installation position shown in Figure 8.

また上述の構成の決定において、ユーザは、緩衝層41および接触層42の構成要素を参照する。緩衝層41および接触層42の構成要素とは、複数の種類の弾性体、複数の種類の剛性体、複数の種類の繊維体、複数の種類の粒子体、および空隙からなる構成要素の群の中から少なくとも2つの構成要素を選択の基準として含み、この基準により選択されたものを指す。また、それらの構成要素は2次元的および3次元的に適切に組み合わされた所定のパタン構造を有していても良い。上記の「複数の種類」は、素材の成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、光沢度で表される物性要素のうち少なくとも1つが異なることを意味するものであってもよい。なお、構造構成体の組合せは上述のものに限られない。ユーザは、このような構造構成体に鑑みて、種々の組み合わせから、それぞれの工程に好適な構成を決定する。 In addition, in determining the above-mentioned configuration, the user refers to the components of the buffer layer 41 and the contact layer 42. The components of the buffer layer 41 and the contact layer 42 include at least two components from a group of components consisting of multiple types of elastic bodies, multiple types of rigid bodies, multiple types of fibrous bodies, multiple types of particulate bodies, and voids as selection criteria, and refer to those selected based on this criterion. In addition, those components may have a predetermined pattern structure that is appropriately combined two-dimensionally and three-dimensionally. The above-mentioned "multiple types" may mean that at least one of the physical property elements represented by the component composition, thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, tensile yield strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption rate, reflectance, and glossiness of the material is different. The combination of structural components is not limited to the above. The user determines a configuration suitable for each process from various combinations in consideration of such structural components.

またユーザは、図8に示した情報に対応する構成を有する押圧板40をそれぞれ用意すると、用意した押圧板40を押圧板供給ブロック20の収容体21にセットする。さらに、ユーザは、図8に示した情報を、積層成形品製造システム1のメモリ11に記憶させる。これにより、積層成形品製造システム1は、それぞれの積層工程における押圧板40を平坦化装置32に取り付けることが出来る。 When the user prepares each press plate 40 having a configuration corresponding to the information shown in FIG. 8, the user sets the prepared press plate 40 in the container 21 of the press plate supply block 20. Furthermore, the user stores the information shown in FIG. 8 in the memory 11 of the laminated molded product manufacturing system 1. This allows the laminated molded product manufacturing system 1 to attach the press plate 40 for each lamination process to the flattening device 32.

なお、図8に示した構成のそれぞれは、同じ構成を有するものであってもよい。すなわち、例えば第2積層工程における第1平坦化装置32Aの上部押圧板に設定された構成No.2-11と、第3積層工程における第1平坦化装置32Aの上部押圧板に設定された構成No.3-11とは、同じであってもよい。あるいは、第2積層工程における第1平坦化装置32Aに設定されている構成No.2-11、構成No.2-12と、第2積層工程における第2平坦化装置32Bに設定されている構成No.2-13、構成No.2-14とは、同じであってもよい。そのため、収容体21は、複数の同じ種類の押圧板40を収容していてもよい。 The configurations shown in FIG. 8 may each have the same configuration. That is, for example, the configuration No. 2-11 set on the upper pressure plate of the first flattening device 32A in the second stacking process may be the same as the configuration No. 3-11 set on the upper pressure plate of the first flattening device 32A in the third stacking process. Alternatively, the configuration No. 2-11 and the configuration No. 2-12 set on the first flattening device 32A in the second stacking process may be the same as the configuration No. 2-13 and the configuration No. 2-14 set on the second flattening device 32B in the second stacking process. Therefore, the container 21 may contain multiple pressure plates 40 of the same type.

次に、図9を参照して、押圧板供給ブロック20の具体的な構成について説明する。図9は、積層成形品製造システムの具体例を示す図である。図9に示す押圧板供給ブロック20は、積層工程ブロック30の傍らに設置され、平坦化装置32に対して押圧板40を交換する。 Next, the specific configuration of the pressure plate supply block 20 will be described with reference to FIG. 9. FIG. 9 is a diagram showing a specific example of a laminated molded product manufacturing system. The pressure plate supply block 20 shown in FIG. 9 is installed next to the lamination process block 30, and replaces the pressure plate 40 for the flattening device 32.

交換装置23は、収容体21が収容する複数の押圧板40のうち選択にかかる押圧板40と、圧締部50に取り付けられている押圧板40とを交換する。押圧板供給ブロック20が有する交換装置23は主な構成として、搬送部230、搭載部231、回転軸232およびレール部233を有している。 The replacement device 23 replaces a selected pressure plate 40 from among the multiple pressure plates 40 housed in the container 21 with the pressure plate 40 attached to the clamping unit 50. The replacement device 23 of the pressure plate supply block 20 mainly comprises a conveying unit 230, a mounting unit 231, a rotating shaft 232, and a rail unit 233.

搬送部230は、搭載部231を支持するとともに、レール部233に水平方向に移動可能に支持されている。これにより搬送部230は、搭載部231をレール部233に沿って移動させることができる。 The transport unit 230 supports the mounting unit 231 and is supported on the rail portion 233 so that it can move horizontally. This allows the transport unit 230 to move the mounting unit 231 along the rail portion 233.

搭載部231は、搬送部230に支持されており、搬送部230の上で図9のY方向に直動可能かつ回転軸232を中心にZ軸周りに回動可能に構成されている。また搭載部231は、セレクタ22との間で押圧板40の受け渡しが可能であり、セレクタ22から受け取った押圧板40を搬送可能に搭載する。搭載部231は、搬送した押圧板40を平坦化装置32の圧締部50に取り付ける。さらに搭載部231は、圧締部50に取り付けられている押圧板40を取り外す。 The mounting unit 231 is supported by the transport unit 230, and is configured to be movable linearly in the Y direction in FIG. 9 on the transport unit 230 and to be rotatable around the Z axis centered on the rotation axis 232. The mounting unit 231 is also capable of transferring the pressure plate 40 between the selector 22, and mounts the pressure plate 40 received from the selector 22 so that it can be transported. The mounting unit 231 attaches the transported pressure plate 40 to the clamping unit 50 of the flattening device 32. The mounting unit 231 also removes the pressure plate 40 attached to the clamping unit 50.

レール部233は、搬送部230を設定されたレールに沿って移動可能に支持する。図9に示したレール部233は、積層工程ブロック30の上部搬送用シート35に平行にレールが延伸しており、セレクタ22と平坦化装置32との間を搬送部230が往復できるように設定されている。 The rail section 233 supports the conveying section 230 so that it can move along a set rail. The rail section 233 shown in FIG. 9 has a rail extending parallel to the upper conveying sheet 35 of the stacking process block 30, and is set so that the conveying section 230 can move back and forth between the selector 22 and the flattening device 32.

図10を併せて参照しながら押圧板供給ブロック20についてさらに説明する。図10は、収容体21およびセレクタ22の具体例を示す図である。 The pressure plate supply block 20 will be further described with reference to FIG. 10. FIG. 10 shows a specific example of the container 21 and the selector 22.

収容体21は、複数の押圧板40を交換可能に収容する。図10に示す収容体21は、上下方向に複数の押圧板40がスタック可能に構成されている。収容体21が収容する押圧板40は、図8を参照して説明した情報にしたがって収容されている。収容体21に収容された押圧板40は、セレクタ22により取り出される。またセレクタ22により取り出された押圧板40は、セレクタ22により収容される。 The container 21 stores multiple pressure plates 40 in an exchangeable manner. The container 21 shown in FIG. 10 is configured so that multiple pressure plates 40 can be stacked vertically. The pressure plates 40 stored in the container 21 are stored according to the information described with reference to FIG. 8. The pressure plates 40 stored in the container 21 are removed by the selector 22. The pressure plates 40 removed by the selector 22 are stored by the selector 22.

セレクタ22は、収容体21が収容している複数の押圧板40から1つの押圧板40を選択して取り出す。セレクタ22は、収容体21から取り出した押圧板40を、交換装置23に引き渡す。またセレクタ22は、交換装置23から受け取った押圧板40を、収容体21の所定の場所に収容する。上述の機能を実現するため、セレクタ22は押圧板40を搭載するトレー部が上下方向に移動可能に構成されている。さらにセレクタ22は、押圧板40を受け渡しするための機構を有している。 The selector 22 selects and removes one pressure plate 40 from the multiple pressure plates 40 housed in the container 21. The selector 22 delivers the pressure plate 40 removed from the container 21 to the exchange device 23. The selector 22 also stores the pressure plate 40 received from the exchange device 23 in a specified location in the container 21. To achieve the above-mentioned functions, the selector 22 is configured so that the tray portion on which the pressure plate 40 is mounted can move in the vertical direction. Furthermore, the selector 22 has a mechanism for transferring the pressure plate 40.

次に、図11および図12を参照して、押圧板供給ブロック20の動作を説明する。図11は、押圧板供給ブロック20の動作を示す第1の図である。ここで示す押圧板供給ブロック20の動作は、積層工程ブロック30におけるラミネート装置および平坦化装置32がラミネート処理および平坦化処理を実行していないタイミングにおいて行われる動作である。ここでは一例として、第1平坦化装置32Aが有している押圧板40Aと、収容体21が有している押圧板40Sとを交換する動作について時刻Tの流れに沿って説明する。 Next, the operation of the pressure plate supply block 20 will be described with reference to Figures 11 and 12. Figure 11 is the first diagram showing the operation of the pressure plate supply block 20. The operation of the pressure plate supply block 20 shown here is an operation performed when the laminating device and flattening device 32 in the stacking process block 30 are not performing the laminating process and flattening process. As an example, the operation of replacing the pressure plate 40A held by the first flattening device 32A with the pressure plate 40S held by the container 21 will be described along the flow of time T.

まず時刻T1において、セレクタ22は、収容体21から所定の押圧板40Sを選択して取り出す。そしてセレクタ22は取り出した押圧板40Sを、交換装置23に引き渡す。なお、このとき積層成形品製造システム1の制御装置10は、メモリ11を参照し、第1平坦化装置32Aに新たに取り付ける押圧板40を選択する。交換装置23は、交換にかかる押圧板40Sを搭載すると、レール部233に沿って移動を開始する。 First, at time T1, the selector 22 selects and removes a predetermined press plate 40S from the container 21. The selector 22 then transfers the removed press plate 40S to the replacement device 23. At this time, the control device 10 of the laminated molded product manufacturing system 1 refers to the memory 11 and selects a new press plate 40 to be attached to the first flattening device 32A. Once the replacement press plate 40S is loaded into the replacement device 23, the replacement device 23 starts moving along the rail portion 233.

次に、時刻T1の後の時刻T2において、押圧板40Sを搭載した状態でレール部233を移動した交換装置23は、第1平坦化装置32A近傍に停止する。さらに、搭載部231は、押圧板40Aを取り出すために、押圧板40Aに近づく。 Next, at time T2 after time T1, the exchange device 23, which has moved along the rail section 233 with the pressure plate 40S mounted thereon, stops near the first flattening device 32A. Furthermore, the mounting section 231 approaches the pressure plate 40A in order to remove the pressure plate 40A.

次に、時刻T2の後の時刻T3において、搭載部231は、押圧板40Aを取り外し、取り外した押圧板40Aを搭載して第1平坦化装置32Aから離れる方向に所定の距離を移動する。 Next, at time T3 after time T2, the mounting unit 231 removes the pressure plate 40A, mounts the removed pressure plate 40A, and moves a predetermined distance in a direction away from the first flattening device 32A.

次に、時刻T3の後の時刻T4において、交換装置23の搭載部231は、押圧板40Aと押圧板40Sとを交換するために、回転軸232を中心に180度回動する。 Next, at time T4 after time T3, the mounting portion 231 of the exchange device 23 rotates 180 degrees around the rotation axis 232 to exchange the pressure plate 40A for the pressure plate 40S.

図12を参照して引き続き押圧板供給ブロック20の動作について説明する。時刻T4の後の時刻T5において、搭載部231は、交換するための押圧板40Sを第1平坦化装置32Aに近づける。 The operation of the pressure plate supply block 20 will be further described with reference to FIG. 12. At time T5 after time T4, the mounting section 231 brings the replacement pressure plate 40S closer to the first flattening device 32A.

次に、時刻T5後の時刻T6において、交換装置23は、押圧板40Sを圧締部50に取り付ける。押圧板40Sを圧締部50に取り付けると、次に搭載部231は第1平坦化装置32Aから離れる方向に移動を開始する。 Next, at time T6 after time T5, the exchange device 23 attaches the pressure plate 40S to the clamping unit 50. After the pressure plate 40S is attached to the clamping unit 50, the mounting unit 231 then starts moving in a direction away from the first flattening device 32A.

次に、時刻T6の後の時刻T7において、取り外した押圧板40Aを搭載した交換装置23は、レール部233に沿ってセレクタ22に向かって移動する。 Next, at time T7 after time T6, the exchange device 23 with the removed pressure plate 40A mounted thereon moves along the rail portion 233 toward the selector 22.

次に、時刻T7の後の時刻T8において、交換装置23は、押圧板40Aをセレクタ22に引き渡す。そしてセレクタ22は、交換装置23から受け取った押圧板40Aを、収容体21に収容する。 Next, at time T8 after time T7, the exchange device 23 hands over the pressure plate 40A to the selector 22. The selector 22 then stores the pressure plate 40A received from the exchange device 23 in the storage body 21.

以上、押圧板供給ブロック20の動作について説明した。上述の構成により、積層成形品製造システム1は、基材の各層における積層工程に応じて、適宜、押圧板40を交換出来る。なお、上述の構成または動作は、押圧板供給ブロック20の一例を示したものであって、押圧板供給ブロック20の構成または動作はこれに限られない。例えば収容体21はセレクタ22に代えて上下動してもよい。押圧板供給ブロック20が有する機構は、上述の構成に代えて、例えば多関節ロボットを用いるものであっても良い。例えば交換装置23はレール部233および搬送部230に代えて、ロボットアームにより搭載部231を搬送するものであってもよい。積層成形品製造システム1は、積層工程ブロック30のうちラミネート装置31が積層成形品製造システム1とは別個のものであってもよい。 The above describes the operation of the pressure plate supply block 20. With the above configuration, the laminated molded product manufacturing system 1 can replace the pressure plate 40 as appropriate depending on the lamination process for each layer of the base material. The above configuration or operation is an example of the pressure plate supply block 20, and the configuration or operation of the pressure plate supply block 20 is not limited to this. For example, the container 21 may move up and down instead of the selector 22. The mechanism of the pressure plate supply block 20 may use, for example, a multi-joint robot instead of the above configuration. For example, the exchange device 23 may transport the mounting part 231 by a robot arm instead of the rail part 233 and the transport part 230. In the laminated molded product manufacturing system 1, the lamination device 31 of the lamination process block 30 may be separate from the laminated molded product manufacturing system 1.

交換装置23は、選択にかかる押圧板40を圧締部50に取り付ける前に予熱する予熱装置を含んでもよい。収容体21は、予め押圧板40を所定の温度に制御して保温する保温装置を有していてもよい。特に押圧板40が、熱容量の大きな加熱体51や断熱部52を含んでいる場合、生産性を高めるため、予め所定の温度となるように予熱することが望ましい。 The exchange device 23 may include a preheating device that preheats the selected pressure plate 40 before attaching it to the clamping section 50. The container 21 may have a heat retention device that controls the pressure plate 40 to a predetermined temperature and keeps it warm. In particular, when the pressure plate 40 includes a heater 51 or a heat insulating section 52 with a large heat capacity, it is desirable to preheat it to a predetermined temperature in order to increase productivity.

セレクタ22および交換装置23の機能の少なくとも一部は、積層成形品製造システム1のユーザが担ってもよい。すなわち押圧板供給ブロック20は全て自動で制御されるものに代えて、その動作の一部をマニュアルで操作されるものであってもよい。 At least some of the functions of the selector 22 and the exchange device 23 may be performed by the user of the laminated molded product manufacturing system 1. In other words, instead of being fully automatically controlled, the pressure plate supply block 20 may be partially operated manually.

また、本実施の形態は、押圧板40として緩衝層41と接触層42とを含む構成により説明したが、収容体21が収容し、交換装置23が交換するのはこれらのいずれか1つであってもよい。あるいは、収容体21が収容し、交換装置23が交換する押圧板40が、加熱体51や断熱部52を含んでいてもよい。 In addition, in this embodiment, the pressure plate 40 has been described as including the buffer layer 41 and the contact layer 42, but the pressure plate 40 housed in the housing 21 and replaced by the replacement device 23 may be any one of these. Alternatively, the pressure plate 40 housed in the housing 21 and replaced by the replacement device 23 may include a heating element 51 and a heat insulating section 52.

以上に述べたように、実施の形態によれば、本開示によれば、多層化された積層成形品を好適に製造する方法およびシステムを提供できる。なお、上述の積層成形品は、ビルドアップ基板または多層基板と呼ばれるものである。よって、本開示の技術は、ビルドアップ基板の製造方法およびビルドアップ基板製造システム、または多層基板の製造方法および多層基板製造システムと称されても良い。 As described above, according to the embodiments, the present disclosure can provide a method and system for suitably manufacturing a multi-layered laminated molded product. The above-mentioned laminated molded product is called a build-up board or a multi-layer board. Therefore, the technology of the present disclosure may be called a build-up board manufacturing method and a build-up board manufacturing system, or a multi-layer board manufacturing method and a multi-layer board manufacturing system.

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as appropriate without departing from the spirit and scope of the invention.

1 積層成形品製造システム
10 制御装置
11 メモリ
20 押圧板供給ブロック
21 収容体
22 セレクタ
23 交換装置
30 積層工程ブロック
31 ラミネート装置
32 平坦化装置
33 温度制御装置
35 上部搬送用シート
36 下部搬送用シート
40 押圧板
40’ 押圧体
41 緩衝層
42 接触層
50 圧締部
51 加熱体
52 断熱部
230 搬送部
231 搭載部
232 回転軸
233 レール部
321 基盤
322 加圧装置
323 固定盤体
324 可動盤体
325 ガイド孔
326 ガイド軸
330 カートリッジヒータ
A1 積層成形品
REFERENCE SIGNS LIST 1 Laminated product manufacturing system 10 Control device 11 Memory 20 Press plate supply block 21 Container 22 Selector 23 Exchange device 30 Lamination process block 31 Laminating device 32 Flattening device 33 Temperature control device 35 Upper conveying sheet 36 Lower conveying sheet 40 Press plate 40' Pressing body 41 Buffer layer 42 Contact layer 50 Clamping section 51 Heating body 52 Heat insulating section 230 Conveying section 231 Mounting section 232 Rotating shaft 233 Rail section 321 Base 322 Pressurizing device 323 Fixed plate body 324 Movable plate body 325 Guide hole 326 Guide shaft 330 Cartridge heater A1 Laminated product

Claims (14)

積層フィルムの少なくとも一部が仮接着またはラミネートされた基材を押圧体により押圧する積層工程を有し、前記積層工程を複数回繰り返すことで所定の層数分の積層フィルムが積層された積層成形品を製造する積層成形品製造システムであって、
前記押圧体を構成する少なくとも1の構造構成体がそれぞれ異なる複数の前記押圧体を収容する収容体と、
前記積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた前記基材の状態に応じて複数の前記押圧体から選択された少なくとも1の前記押圧体を加熱体に取り付けて圧締部を形成するための取付部と、
前記圧締部の温度が所定の範囲内になるよう前記加熱体の温度を制御する温度制御装置と、を備える、
積層成形品製造システム。
A laminated molded product manufacturing system having a lamination process in which a substrate to which at least a portion of a laminate film is temporarily bonded or laminated is pressed by a pressing body, and the lamination process is repeated a plurality of times to manufacture a laminated molded product in which a predetermined number of laminate films are laminated,
A container that contains a plurality of the pressing bodies, each of which has at least one structural component that constitutes the pressing body being different from the others;
An attachment portion for attaching at least one of the pressing bodies selected from the plurality of pressing bodies to a heating body according to the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been temporarily bonded or laminated to form a pressing portion;
A temperature control device that controls the temperature of the heater so that the temperature of the clamping part is within a predetermined range.
Laminated molding manufacturing system.
複数の前記押圧体は、それぞれ、化学成分組成、厚さ、重さ、弾性率、表面硬さ、断面硬さ、引張強さ、引張降伏強さ、圧縮強さ、かさ密度、断面積、断面形状、投影面積、投影輪郭形状、表面粗さ、平面度、平行度、熱伝導度、比熱容量、電気伝導度、誘電率、磁化率、吸水率、反射率、および光沢度のうち少なくともいずれか1つの物性が異なる前記構造構成体により構成される、
請求項1に記載の積層成形品製造システム。
The plurality of pressing bodies are each composed of the structural components having different physical properties in at least one of chemical composition, thickness, weight, elastic modulus, surface hardness, cross-sectional hardness, tensile strength, tensile yield strength, compressive strength, bulk density, cross-sectional area, cross-sectional shape, projected area, projected contour shape, surface roughness, flatness, parallelism, thermal conductivity, specific heat capacity, electrical conductivity, dielectric constant, magnetic susceptibility, water absorption rate, reflectance, and glossiness.
The laminate molding manufacturing system according to claim 1 .
前記構造構成体は、種類の異なる複数の弾性体、種類の異なる複数の剛性体、種類の異なる複数の繊維体、種類の異なる複数の粒子体、および空隙からなる構成要素の集合の中から同じ種類の前記構成要素を含む少なくとも2つの前記構成要素を組み合わせて構成される、
請求項2に記載の積層成形品製造システム。
The structural construct is configured by combining at least two of the components including the same type of component from a set of components including a plurality of different types of elastic bodies, a plurality of different types of rigid bodies, a plurality of different types of fibrous bodies, a plurality of different types of particulate bodies, and voids.
The laminate molding manufacturing system according to claim 2 .
前記構成要素の組み合わせは、複数の異なる前記構成要素が2次元または3次元に形成された所定のパタン構造を含む、
請求項3に記載の積層成形品製造システム。
The combination of the components includes a predetermined pattern structure in which a plurality of different components are formed in two or three dimensions.
The laminate molding manufacturing system according to claim 3 .
前記積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた前記基材の状態に応じて複数の前記押圧体から少なくとも1の前記押圧体を選択するセレクタをさらに備える、
請求項1~4のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
Further comprising a selector for selecting at least one of the pressing bodies according to the state of the substrate to which at least a portion of the laminated film has been newly temporarily bonded or laminated,
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 4.
前記セレクタは、前記構造構成体を構成する前記構成要素の組み合わせに基づいて、仮接着された前記積層フィルムが前記基材の凹凸に従うように前記基材を押圧するための、前記選択をする、
請求項3を従属する場合の請求項5に記載の積層成形品製造システム。
The selector makes the selection based on a combination of the components constituting the structural structure to press the substrate so that the temporarily bonded laminated film conforms to the unevenness of the substrate.
A laminate molding manufacturing system according to claim 5 when claim 3 is dependent thereon.
前記セレクタは、前記構造構成体を構成する前記構成要素の組み合わせに基づいて、前記積層フィルムがラミネートされた後であって押圧される前の前記基材の表面が予め設定された平坦度になるように前記基材を押圧するための、前記選択をする、
請求項3を従属する場合の請求項5に記載の積層成形品製造システム。
The selector performs the selection based on a combination of the components constituting the structural structure to press the substrate so that the surface of the substrate after the lamination film is laminated and before pressing has a preset flatness.
A laminate molding manufacturing system according to claim 5 when claim 3 is dependent thereon.
前記セレクタが参照する前記基材の状態は、前記積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた後であって押圧される前の前記基材の積層数を含む、
請求項5~7のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
The state of the substrate referred to by the selector includes the number of layers of the substrate after at least a portion of the laminate film has been newly temporarily bonded or laminated and before being pressed;
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 5 to 7.
前記セレクタが参照する前記基材の状態は、前記積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた後であって押圧される前の前記基材の材質や厚さを含む、
請求項5~8のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
The state of the substrate referred to by the selector includes the material and thickness of the substrate after at least a portion of the laminate film is newly temporarily bonded or laminated and before being pressed;
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 5 to 8.
前記セレクタが参照する前記基材の状態は、前記積層フィルムの少なくとも一部が新たに仮接着またはラミネートされた前記基材に予め積層された前記積層フィルムを含む前記基材に施された加工の状態を含む、
請求項5~9のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
The state of the substrate referred to by the selector includes a state of processing applied to the substrate, including the laminate film pre-laminated on the substrate to which at least a portion of the laminate film is newly temporarily bonded or laminated,
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 5 to 9.
前記収容体が収容する前記押圧体のうち前記選択にかかる前記押圧体と、前記圧締部に取り付けられている前記押圧体とを交換する交換装置をさらに備える、
請求項1~10のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
The pressing body may be selected from among the pressing bodies accommodated in the container, and the pressing body attached to the clamping portion may be replaced with an exchange device.
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 10.
前記交換装置は、前記選択にかかる前記押圧体を前記圧締部に取り付ける前に予熱する予熱装置を含む、
請求項11に記載の積層成形品製造システム。
The replacement device includes a preheating device that preheats the pressing body before attaching it to the clamping part.
The laminate molding manufacturing system according to claim 11.
前記押圧体は、前記積層成形品に接触したときの圧力を分散するために設けられた緩衝層を前記構造構成体として備える、
請求項1~12のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
The pressing body includes a buffer layer as a structural component for dispersing pressure when the pressing body contacts the laminated molded product.
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 12.
前記押圧体は、仮接着またはラミネートされた前記積層フィルムが前記基材の凹凸に従うように、前記基材を押圧する面に弾性体を前記構造構成体として備える、
請求項1~13のいずれか一項に記載の積層成形品製造システム。
The pressing body has an elastic body as the structural component on a surface that presses the base material so that the temporarily bonded or laminated laminated film conforms to the unevenness of the base material.
The laminated molded product manufacturing system according to any one of claims 1 to 13.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006049502A (en) 2004-08-03 2006-02-16 Denso Corp Method of manufacturing multilayer substrate
JP2009177021A (en) 2008-01-25 2009-08-06 Panasonic Electric Works Co Ltd Method for manufacturing multilayer board
JP2012526679A (en) 2009-05-15 2012-11-01 サイレックス コンプ オサケ ユキチュア Method of manufacturing molded product using mold and mold apparatus
WO2016199687A1 (en) 2015-06-08 2016-12-15 ニッコー・マテリアルズ株式会社 Laminating apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006049502A (en) 2004-08-03 2006-02-16 Denso Corp Method of manufacturing multilayer substrate
JP2009177021A (en) 2008-01-25 2009-08-06 Panasonic Electric Works Co Ltd Method for manufacturing multilayer board
JP2012526679A (en) 2009-05-15 2012-11-01 サイレックス コンプ オサケ ユキチュア Method of manufacturing molded product using mold and mold apparatus
WO2016199687A1 (en) 2015-06-08 2016-12-15 ニッコー・マテリアルズ株式会社 Laminating apparatus

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