JP7489366B2

JP7489366B2 - Particle Image Analyzer

Info

Publication number: JP7489366B2
Application number: JP2021179619A
Authority: JP
Inventors: 達也高橋; 修司笹邉
Original assignee: Hosokawa Micron Corp
Current assignee: Hosokawa Micron Corp
Priority date: 2021-11-02
Filing date: 2021-11-02
Publication date: 2024-05-23
Anticipated expiration: 2041-11-02
Also published as: JP2023068473A

Description

特許法第３０条第２項適用令和２年１１月１８日に、国際粉体工業展東京２０２０ＰＯＷＴＥＸＴＯＫＹＯ２０２０粉体工学会秋期研究発表会シンポジウム「乾式粉体操作の最新動向」にて公開Article 30, paragraph 2 of the Patent Act applied. Published on November 18, 2020 at the Symposium "Latest Trends in Dry Powder Processing" at the International Powder Technology Exhibition Tokyo 2020 POWTEX TOKYO 2020, the Society of Powder Technology's Fall Research Presentation Symposium.

本技術は、粒子を検出する粒子画像解析装置に関する。 This technology relates to a particle image analysis device that detects particles.

粒子を含むサンプル液をシース液によって取り囲まれた状態で流す透明なフローセルに光を照射し、粒子を撮像する粒子画像解析装置がある。撮像された粒子の画像は制御装置によって処理され、粒子の粒径及び円形度等を演算し、表示部に演算結果を表示する（例えば特許文献１参照）。 There is a particle image analysis device that captures particles by irradiating light onto a transparent flow cell in which a sample liquid containing particles flows while being surrounded by sheath liquid. The captured particle images are processed by a control device, which calculates the particle size and circularity of the particles, and displays the calculation results on a display unit (see, for example, Patent Document 1).

特許第４０７２４８９号公報Patent No. 4072489

粒子画像解析装置は、サンプル液をフローセルに供給する供給部を備える。異なる種類の粒子を含む第１サンプル液及び第２サンプル液それぞれについて、粒子を検出することがある。この場合、第１サンプル液を供給部に供給して、粒子を検出した後、供給部を洗浄し、改めて第２サンプル液を供給部に供給して、粒子を検出しなければならない。 The particle image analyzer includes a supply unit that supplies a sample liquid to a flow cell. Particles may be detected in each of a first sample liquid and a second sample liquid that contain different types of particles. In this case, the first sample liquid must be supplied to the supply unit, the particles must be detected, the supply unit must be cleaned, and the second sample liquid must be supplied to the supply unit again to detect the particles.

洗浄は、供給部に洗浄液を供給して攪拌し、洗浄液を排出することによって行う。洗浄中に洗浄液に微小な泡が発生した場合、洗浄液を排出した後も泡が供給部に残留することがある。泡の表面には第１サンプル液が残留して古い粒子が含まれるため、第２サンプル液の粒子を検出するときに、第１サンプル液の粒子がフローセルに供給されるおそれがある。また、供給部に残留した泡が第２サンプル液に混入することによって、流入部の閉塞や撮像トラブルを発生させる恐れもある。 Cleaning is performed by supplying cleaning liquid to the supply section, stirring it, and discharging the cleaning liquid. If tiny bubbles are generated in the cleaning liquid during cleaning, the bubbles may remain in the supply section even after the cleaning liquid is discharged. Since the surface of the bubbles contains old particles from the first sample liquid remaining on it, there is a risk that the particles of the first sample liquid will be supplied to the flow cell when detecting particles of the second sample liquid. In addition, bubbles remaining in the supply section may get mixed into the second sample liquid, causing blockage of the inlet section or problems with imaging.

本開示は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、前回のサンプル液に含まれていた粒子が供給部に残留することを抑制できる粒子画像解析装置を提供することを目的とする。 This disclosure has been made in consideration of these circumstances, and aims to provide a particle image analysis device that can prevent particles contained in the previous sample liquid from remaining in the supply section.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、粒子が混入された液体が内部に流れる透明なフローセルと、前記フローセルに前記液体を供給する供給口が底面に形成された有底筒状の供給部と、前記フローセルに光を照射する光源と、前記フローセルを挟んで前記光源の反対側に配置され、前記粒子を撮像する撮像部とを備え、前記供給部に洗浄液が流入する流入路が形成され、前記供給部の上部に前記洗浄液が排出される排出路が形成される。 A particle image analysis device according to one embodiment of the present disclosure includes a transparent flow cell through which a liquid containing particles flows, a bottomed cylindrical supply unit having a supply port formed on the bottom surface for supplying the liquid to the flow cell, a light source for irradiating light onto the flow cell, and an imaging unit for imaging the particles, which is disposed on the opposite side of the flow cell from the light source, and an inflow path through which cleaning liquid flows into the supply unit is formed, and an exhaust path through which the cleaning liquid is discharged is formed above the supply unit.

本開示の一実施形態においては、排出路を供給部の上部に形成することによって、洗浄液の液面に浮かんだ泡、液中に浮かんだ泡及び容器上部の側面に付着した泡等を洗浄中に排出路から排出する。 In one embodiment of the present disclosure, a discharge channel is formed above the supply unit, so that bubbles floating on the surface of the cleaning liquid, bubbles floating in the liquid, and bubbles adhering to the sides of the upper part of the container are discharged from the discharge channel during cleaning.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、前記排出路は前記流入路よりも高い位置に設けられている。 In one embodiment of the particle image analysis device of the present disclosure, the discharge passage is located at a higher position than the inlet passage.

本開示の一実施形態においては、排出路は流入路よりも高い位置に設けられているので、洗浄液の供給当初に洗浄液が流入路から排出路に直接到達し、十分な洗浄を行わないまま排出されることを防止できる。 In one embodiment of the present disclosure, the discharge passage is provided at a higher position than the inlet passage, which prevents the cleaning liquid from reaching the discharge passage directly from the inlet passage at the beginning of the supply of the cleaning liquid and being discharged without performing sufficient cleaning.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、前記供給部の内周面は平面視円形をなし、前記流入路は平面視における前記円形の第一接線上に配置される。 In one embodiment of the particle image analysis device of the present disclosure, the inner circumferential surface of the supply section is circular in plan view, and the inlet channel is positioned on a first tangent to the circle in plan view.

本開示の一実施形態においては、ポンプによって流入路に圧送された洗浄液が高圧であっても、洗浄液は流入路から内面に沿って円滑に流入する。そのため、洗浄液がしぶきを上げて流入路から流入し、泡が発生することを防止することができる。 In one embodiment of the present disclosure, even if the cleaning liquid pumped into the inlet channel is at high pressure, the cleaning liquid flows smoothly from the inlet channel along the inner surface. This prevents the cleaning liquid from splashing and flowing from the inlet channel, which would otherwise cause bubbles.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、前記排出路は、平面視において、前記第一接線に直交する前記円形の第二接線の接点と前記流入路との間の１８０度以上の範囲に配置され、前記範囲に前記第一接線の接点が配置されない。 In one embodiment of the particle image analysis device of the present disclosure, the discharge passage is disposed in a range of 180 degrees or more between the tangent point of the second tangent line of the circle perpendicular to the first tangent line and the inlet passage in a plan view, and the tangent point of the first tangent line is not disposed within the range.

本開示の一実施形態においては、排出路は、平面視における第二接線の接点と流入路との間の前記範囲に配置される。そのため、洗浄液が流入路から排出路に至るまでの経路をできるだけ長くして、洗浄液が内面を洗浄する面積をできるだけ大きくすることができる。 In one embodiment of the present disclosure, the discharge passage is disposed in the range between the tangent point of the second tangent line in a plan view and the inlet passage. This makes it possible to make the path of the cleaning liquid from the inlet passage to the discharge passage as long as possible, thereby making it possible to maximize the area of the inner surface that the cleaning liquid cleans.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、前記供給部の内周面は、下側に向かうに従って直径が小さくなる傾斜面と、該傾斜面の上側に配置され、上側に向かうに従って直径が小さくなるか又は直径が同じである壁面とを備える。 In one embodiment of the particle image analysis device of the present disclosure, the inner circumferential surface of the supply section includes an inclined surface whose diameter decreases toward the bottom, and a wall surface disposed above the inclined surface whose diameter decreases toward the top or whose diameter remains the same.

本開示の一実施形態においては壁面を設けることによって、遠心力によって傾斜面を上昇した洗浄液が供給部の外側に漏れることを抑制することができる。 In one embodiment of the present disclosure, a wall surface is provided to prevent the cleaning liquid that rises up the inclined surface due to centrifugal force from leaking outside the supply section.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、前記供給部の上面に、前記液体又は洗浄液を横溢させるための凹部が形成される。 In one embodiment of the particle image analysis device of the present disclosure, a recess is formed on the upper surface of the supply unit to allow the liquid or cleaning liquid to overflow.

本開示の一実施形態においては、液体又は洗浄液が過剰に供給された場合には、凹部から横溢させる。凹部から横溢した液体又は洗浄液をセンサに検出させることによって、液体又は洗浄液の供給を停止させるか又は作業者に横溢の発生を報知し、液体又は洗浄液の供給の停止を促すことができる。 In one embodiment of the present disclosure, if an excess of liquid or cleaning liquid is supplied, it is allowed to overflow from the recess. By having a sensor detect the liquid or cleaning liquid that has overflowed from the recess, it is possible to stop the supply of the liquid or cleaning liquid or to notify an operator of the occurrence of overflow and prompt the operator to stop the supply of the liquid or cleaning liquid.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置は、前記供給部の外周部分に、前記流入路に接続される流入管が配置される第一切欠と、前記排出路に接続される排出管が配置される第二切欠とが形成される。 In a particle image analysis device according to one embodiment of the present disclosure, a first notch is formed on the outer periphery of the supply section, in which an inlet pipe connected to the inlet passage is disposed, and a second notch is formed in which an outlet pipe connected to the outlet passage is disposed.

本開示の一実施形態においては、第一切欠及び第二切欠を設けることによって、流入管及び排出管を配置する空間を確保し、粒子画像解析装置の小型化を促進させることができる。 In one embodiment of the present disclosure, by providing a first notch and a second notch, space can be secured for arranging the inlet pipe and the outlet pipe, facilitating miniaturization of the particle image analysis device.

本開示の一実施形態に係る粒子画像解析装置にあっては、排出路を供給部の上部に形成することによって、洗浄液の液面に浮かんだ泡を洗浄中に排出路から排出する。そのため、洗浄終了後に供給部に泡が残留することを抑制することができる。 In a particle image analysis device according to an embodiment of the present disclosure, a discharge path is formed above the supply section, so that bubbles floating on the surface of the cleaning liquid are discharged from the discharge path during cleaning. This makes it possible to prevent bubbles from remaining in the supply section after cleaning is completed.

粒子画像解析装置の構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a particle image analyzer. 上側から視認した供給部の略示斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of a supply unit as viewed from above. 下側から視認した供給部の略示斜視図である。FIG. 4 is a schematic perspective view of the supply unit as viewed from below. 供給部の略示平面図である。FIG. 供給部の略示左側面図である。FIG. 図４のＶＩ－ＶＩ線を切断線とし略示正面断面図である。6 is a schematic front cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. 4. 攪拌機を挿入した状態における供給部の略示正面断面図である。FIG. 4 is a schematic front cross-sectional view of the supply section with the agitator inserted therein;

以下本発明を実施の形態に係る粒子画像解析装置１を示す図面に基づいて説明する。以下の説明では図に示す上下左右を適宜使用する。図１は、粒子画像解析装置１の構成を示す模式図である。粒子画像解析装置１は供給部２と、フローセル３とを備える。供給部２は、粒子を含むサンプル液５０をフローセル３に供給する。供給部２の詳細は後述する。 The present invention will be described below based on the drawings showing a particle image analyzer 1 according to an embodiment. In the following description, the top, bottom, left and right directions shown in the drawings will be used as appropriate. Figure 1 is a schematic diagram showing the configuration of a particle image analyzer 1. The particle image analyzer 1 comprises a supply unit 2 and a flow cell 3. The supply unit 2 supplies a sample liquid 50 containing particles to the flow cell 3. The supply unit 2 will be described in detail later.

フローセル３は、ノズル４と、チャンバ５と、測定セル７とを備える。チャンバ５の上側にノズル４、下側に測定セル７が配置される。 The flow cell 3 includes a nozzle 4, a chamber 5, and a measurement cell 7. The nozzle 4 is disposed above the chamber 5, and the measurement cell 7 is disposed below it.

チャンバ５はブロック状をなし、チャンバ５の上面に貫通孔５ａが形成される。ノズル４は筒形をなし、上下に延びる流路４ａを備える。ノズル４の下端部は貫通孔５ａに挿入される。 The chamber 5 is block-shaped, and a through-hole 5a is formed in the upper surface of the chamber 5. The nozzle 4 is cylindrical, and has a flow path 4a that extends vertically. The lower end of the nozzle 4 is inserted into the through-hole 5a.

チャンバ５の内部に第一流路６ａと、第二流路６ｂとが形成される。第一流路６ａは上下に延び、流路４ａの下端に連なる。サンプル液５０は、流路４ａと第一流路６ａを通じて、チャンバ５内を通流する。 A first flow path 6a and a second flow path 6b are formed inside the chamber 5. The first flow path 6a extends vertically and is connected to the lower end of the flow path 4a. The sample liquid 50 flows through the chamber 5 via the flow path 4a and the first flow path 6a.

チャンバ５の側面に貫通孔５ｂが形成される。第二流路６ｂはチャンバ５の上部に形成される。第二流路６ｂは、差し込まれた筒形のノズル４の周囲に形成される。第二流路６ｂの上端は貫通孔５ｂに連なり、第二流路６ｂの下端は第一流路６ａに連なる。貫通孔５ｂからシース液５１が供給され、第二流路６ｂ及び第一流路６ａを通流する。 A through hole 5b is formed in the side of the chamber 5. A second flow path 6b is formed in the upper part of the chamber 5. The second flow path 6b is formed around the inserted cylindrical nozzle 4. The upper end of the second flow path 6b is connected to the through hole 5b, and the lower end of the second flow path 6b is connected to the first flow path 6a. Sheath liquid 51 is supplied from the through hole 5b and flows through the second flow path 6b and the first flow path 6a.

チャンバ５の下側に測定セル７が配置される。測定セル７は石英等の透明な部材によって構成されている。測定セル７の内部に上下に延びる流路７ａが形成されている。流路７ａは測定セル７を貫通する。 The measurement cell 7 is placed below the chamber 5. The measurement cell 7 is made of a transparent material such as quartz. A flow path 7a is formed inside the measurement cell 7, extending vertically. The flow path 7a passes through the measurement cell 7.

流路４ａを流下したサンプル液５０と、第二流路６ｂを流下したシース液５１は第一流路６ａにおいて合流する。第一流路６ａはチャンバ５の下部に形成され、下方に向かうに従って左右幅が徐々に短くなり、測定セル７の流路７aに連なる。 The sample liquid 50 that has flowed down the flow path 4a and the sheath liquid 51 that has flowed down the second flow path 6b join together in the first flow path 6a. The first flow path 6a is formed in the lower part of the chamber 5, and its width gradually decreases as it goes downward, and it connects to the flow path 7a of the measurement cell 7.

供給部２から供給されたサンプル液５０は、ノズル４の流路４ａ、第一流路６ａ及び測定セル７の流路７ａを通流する。押込みポンプ（図示略）によって、シース液５１が貫通孔５ｂから第二流路６ｂに供給される。シース液５１は、サンプル液５０を取り囲みながら、第一流路６ａ及び測定セル７の流路７ａを通流する。測定セル７の流路７ａを通流したサンプル液５０及びシース液５１は吸引ポンプ９によって吸引される。押込みポンプの吐出流量及び吸引ポンプ９の吸引流量を適切に調整することによって、サンプル液５０は、測定セル７の流路７ａにおいて薄い層を形成し、この薄い層の中で粒子が配列される。サンプル液５０は層状態を保ったまま、即ち粒子が配列された状態を保ったまま測定セル７の流路７ａを通流する。 The sample liquid 50 supplied from the supply unit 2 flows through the flow path 4a of the nozzle 4, the first flow path 6a, and the flow path 7a of the measurement cell 7. A push pump (not shown) supplies sheath liquid 51 from the through hole 5b to the second flow path 6b. The sheath liquid 51 flows through the first flow path 6a and the flow path 7a of the measurement cell 7 while surrounding the sample liquid 50. The sample liquid 50 and sheath liquid 51 that have flowed through the flow path 7a of the measurement cell 7 are sucked by the suction pump 9. By appropriately adjusting the discharge flow rate of the push pump and the suction flow rate of the suction pump 9, the sample liquid 50 forms a thin layer in the flow path 7a of the measurement cell 7, and the particles are aligned in this thin layer. The sample liquid 50 flows through the flow path 7a of the measurement cell 7 while maintaining the layer state, i.e., while maintaining the state in which the particles are aligned.

測定セル７の流路７ａの中途部において、流路７ａの左側に光源８が設けられ、流路７ａの右側に対物レンズ１０及びカメラ１２が設けられる。カメラ１２は撮像部に対応する。測定セル７を挟んで両側に光源８及び対物レンズ１０が配置され、光源８から測定セル７に向けて光が照射され、流路７ａを流れる粒子をカメラ１２が撮像する。カメラ１２の撮像は制御装置１３によって制御される。なお、光源８と、対物レンズ１０及びカメラ１２とは、測定セル７を挟んで両側に配置されればよく、光源８の位置と、対物レンズ１０及びカメラ１２の位置とは左右逆でもよい。 A light source 8 is provided on the left side of the flow path 7a in the middle of the flow path 7a of the measurement cell 7, and an objective lens 10 and a camera 12 are provided on the right side of the flow path 7a. The camera 12 corresponds to an imaging unit. The light source 8 and the objective lens 10 are arranged on both sides of the measurement cell 7, light is irradiated from the light source 8 toward the measurement cell 7, and the camera 12 images the particles flowing through the flow path 7a. The imaging of the camera 12 is controlled by the control device 13. Note that the light source 8, the objective lens 10, and the camera 12 may be arranged on both sides of the measurement cell 7, and the positions of the light source 8, the objective lens 10, and the camera 12 may be reversed.

対物レンズ１０には、対物レンズ１０を移動させる駆動部１１が設けてある。駆動部１１は対物レンズ１０を移動させ、対物レンズ１０の焦点距離を調整する。駆動部１１は制御装置１３によって制御される。作業者は操作部１４を操作して、制御装置１３に指令を入力する。操作部１４は、例えばスイッチ、ボタン、キーボード、マウス又はタッチパネル等である。制御装置１３は入力された指令に基づいて、対物レンズ１０の移動、カメラ１２による粒子の撮像、撮像した画像の記憶、撮像した画像の表示部１５への表示等を実行する。制御装置１３は不揮発性メモリ又はハードディスク等の記憶部（図示略）を有し、記憶部に画像を記憶する。表示部１５は、例えば液晶ディスプレイである。制御装置１３は、撮像した画像に対して画像処理を実行し、粒子の粒径及び円形度等を演算し、演算結果を表示部１５に表示する。 The objective lens 10 is provided with a drive unit 11 that moves the objective lens 10. The drive unit 11 moves the objective lens 10 to adjust the focal length of the objective lens 10. The drive unit 11 is controlled by the control device 13. The operator operates the operation unit 14 to input commands to the control device 13. The operation unit 14 is, for example, a switch, a button, a keyboard, a mouse, or a touch panel. Based on the input command, the control device 13 performs operations such as moving the objective lens 10, capturing images of particles with the camera 12, storing the captured images, and displaying the captured images on the display unit 15. The control device 13 has a storage unit (not shown) such as a non-volatile memory or a hard disk, and stores images in the storage unit. The display unit 15 is, for example, a liquid crystal display. The control device 13 performs image processing on the captured image, calculates the particle size and circularity of the particles, and displays the calculation results on the display unit 15.

図２は、上側から視認した供給部２の略示斜視図、図３は、下側から視認した供給部２の略示斜視図、図４は、供給部２の略示平面図、図５は、供給部２の略示左側面図、図６は、図４のＶＩ－ＶＩ線を切断線とし略示正面断面図である。図２～図６において、攪拌機４０（図７参照）の記載を省略している。 Figure 2 is a schematic perspective view of the supply unit 2 as viewed from above, Figure 3 is a schematic perspective view of the supply unit 2 as viewed from below, Figure 4 is a schematic plan view of the supply unit 2, Figure 5 is a schematic left side view of the supply unit 2, and Figure 6 is a schematic front cross-sectional view taken along line VI-VI in Figure 4. The agitator 40 (see Figure 7) is omitted from Figures 2 to 6.

供給部２は、開口を上側に向けた有底円筒状をなす。供給部２は、円筒形の小径部２０と、該小径部２０よりも直径の大きい円筒形の中径部２１と、該中径部２１よりも直径の大きい円筒形の大径部２２とを備える。小径部２０の上側に中径部２１が配置され、中径部２１の上側に大径部２２が配置される。小径部２０、中径部２１及び大径部２２は同軸的に配置され、一体形成されている。中径部２１の軸方向寸法は小径部２０よりも短く、大径部２２の軸方向寸法は中径部２１よりも短い。 The supply section 2 is cylindrical with a bottom and an opening facing upward. The supply section 2 includes a cylindrical small diameter section 20, a cylindrical medium diameter section 21 having a larger diameter than the small diameter section 20, and a cylindrical large diameter section 22 having a larger diameter than the medium diameter section 21. The medium diameter section 21 is disposed above the small diameter section 20, and the large diameter section 22 is disposed above the medium diameter section 21. The small diameter section 20, the medium diameter section 21, and the large diameter section 22 are disposed coaxially and integrally formed. The axial dimension of the medium diameter section 21 is shorter than the small diameter section 20, and the axial dimension of the large diameter section 22 is shorter than the medium diameter section 21.

小径部２０、中径部２１及び大径部２２に亘って、筒状の内面２３が形成されている。図６に示すように、内面２３は、第一内周面２３ａと、第二内周面２３ｂと、第三内周面２３ｃと、凹面２３ｄとを備える。第一内周面２３ａは、大径部２２の上端部に形成されており、上側に向かうに従って直径が小さくなるように傾斜した偏平な円錐台の周面の如き形状をなす。第二内周面２３ｂは、大径部２２の軸方向中途部であって、第一内周面２３ａの下側に形成される。第二内周面２３ｂは、偏平な円筒の周面の如き形状をなす。第二内周面２３ｂの直径は上下方向の各位置において略同じである。第二内周面２３ｂの軸方向寸法は第一内周面２３ａと同程度である。 A cylindrical inner surface 23 is formed across the small diameter portion 20, the medium diameter portion 21, and the large diameter portion 22. As shown in FIG. 6, the inner surface 23 includes a first inner peripheral surface 23a, a second inner peripheral surface 23b, a third inner peripheral surface 23c, and a concave surface 23d. The first inner peripheral surface 23a is formed at the upper end of the large diameter portion 22, and has a shape like the peripheral surface of a flat truncated cone that is inclined so that the diameter decreases toward the upper side. The second inner peripheral surface 23b is formed at the axial middle portion of the large diameter portion 22, below the first inner peripheral surface 23a. The second inner peripheral surface 23b has a shape like the peripheral surface of a flat cylinder. The diameter of the second inner peripheral surface 23b is approximately the same at each position in the vertical direction. The axial dimension of the second inner peripheral surface 23b is approximately the same as that of the first inner peripheral surface 23a.

第三内周面２３ｃは、大径部２２の下部から中径部２１の上部に亘って形成されており、第二内周面２３ｂの下側に形成される。第三内周面２３ｃは、下側に向かうに従って直径が小さくなるように傾斜した円錐台の周面の如き形状をなす。第三内周面２３ｃの軸方向寸法は、第一内周面２３ａ及び第二内周面２３ｂの軸方向寸法の合計よりも長い。第一内周面２３ａ及び第二内周面２３ｂは壁面に対応し、第三内周面２３ｃは傾斜面に対応する。なお第一内周面２３ａ、第二内周面２３ｂ及び第三内周面２３ｃを曲面状に形成し、滑らかに連結させてもよい。第三内周面２３ｃの上側に第一内周面２３ａ又は第二内周面２３ｂのいずれか一方のみを設けてもよい。また第一内周面２３ａの上側に、上側に向かうに従って直径が小さくなるように傾斜した第四内周面、又は、上下方向の各位置において直径が略同じの第五内周面を更に設けてもよい。 The third inner circumferential surface 23c is formed from the lower part of the large diameter portion 22 to the upper part of the medium diameter portion 21, and is formed below the second inner circumferential surface 23b. The third inner circumferential surface 23c has a shape like a peripheral surface of a truncated cone that is inclined so that the diameter decreases toward the lower side. The axial dimension of the third inner circumferential surface 23c is longer than the sum of the axial dimensions of the first inner circumferential surface 23a and the second inner circumferential surface 23b. The first inner circumferential surface 23a and the second inner circumferential surface 23b correspond to the wall surface, and the third inner circumferential surface 23c corresponds to the inclined surface. The first inner circumferential surface 23a, the second inner circumferential surface 23b, and the third inner circumferential surface 23c may be formed in a curved shape and smoothly connected. Only one of the first inner circumferential surface 23a or the second inner circumferential surface 23b may be provided above the third inner circumferential surface 23c. Additionally, above the first inner circumferential surface 23a, a fourth inner circumferential surface may be provided that is inclined so that the diameter decreases toward the top, or a fifth inner circumferential surface that has approximately the same diameter at each position in the vertical direction.

凹面２３ｄは、中径部２１の下部から小径部２０の上部に亘って形成されており、第三内周面２３ｃの下側に形成される。凹面２３ｄは、底面が下向きに突出するように湾曲した有底円筒形をなす。凹面２３ｄの底面の中心に、サンプル液５０を供給するための供給路２０ａが形成されている。図６に示すように、供給路２０ａは上下に延び、小径部２０を貫通する。 The concave surface 23d is formed from the lower part of the medium diameter section 21 to the upper part of the small diameter section 20, and is formed below the third inner circumferential surface 23c. The concave surface 23d is a curved cylindrical shape with a bottom that protrudes downward. A supply path 20a for supplying the sample liquid 50 is formed in the center of the bottom surface of the concave surface 23d. As shown in FIG. 6, the supply path 20a extends vertically and penetrates the small diameter section 20.

図５及び図６に示すように、小径部２０の左部に排出路２０ｂが形成されている。排出路２０ｂは左右に延びる。排出路２０ｂの右端部は右斜め上に延び、凹面２３ｄの底面を貫通する。 As shown in Figures 5 and 6, a discharge passage 20b is formed in the left part of the small diameter portion 20. The discharge passage 20b extends left and right. The right end of the discharge passage 20b extends diagonally upward to the right and penetrates the bottom surface of the concave surface 23d.

大径部２２の左後部分に平面視Ｌ形の第一切欠２４が形成されている。第一切欠２４は、右面２４ｂと前面２４ａとを備える。右面２４ｂを貫通して、左右に延びる流入路２２ａが大径部２２の内部に形成されている。流入路２２ａは、内面２３と大径部２２の外部とを連通させる。流入路２２ａは第二内周面２３ｂを貫通する。図４に示すように、平面視において、内面２３の上縁は円形をなす。図４の一点鎖線は、この円形に対する接線Ｓ１及びＳ２である。接線Ｓ１は円形の後端に接する。接線Ｓ１と円形との接点は第一接点Ｐ１である。流入路２２ａは接線Ｓ１上に形成されている。接線Ｓ２は円形の右端に接する。接線Ｓ２と円形との接点は第二接点Ｐ２である。 The first notch 24, which is L-shaped in plan view, is formed in the left rear portion of the large diameter portion 22. The first notch 24 has a right surface 24b and a front surface 24a. An inflow passage 22a extending left and right is formed inside the large diameter portion 22, penetrating the right surface 24b. The inflow passage 22a connects the inner surface 23 to the outside of the large diameter portion 22. The inflow passage 22a penetrates the second inner peripheral surface 23b. As shown in FIG. 4, the upper edge of the inner surface 23 is circular in plan view. The dashed dotted lines in FIG. 4 are tangents S1 and S2 to this circle. The tangent S1 is tangent to the rear end of the circle. The tangent S1 and the circle are at the first tangent P1. The inflow passage 22a is formed on the tangent S1. The tangent S2 is tangent to the right end of the circle. The tangent S2 and the circle are at the second tangent P2.

大径部２２の左前部分に平面視Ｌ形の第二切欠２５が形成されている。第二切欠２５は、右面２５ｂと後面２５ａとを備える。右面２５ｂを貫通して、左右に延びる排出路２２ｂが大径部２２の内部に形成されている。排出路２２ｂは、大径部２２の外部と内面２３とを連通させる。排出路２２ｂは第二内周面２３ｂを貫通する。平面視において、排出路２２ｂは、前記円形の前端に接する接線（図示略）上に形成されている。図４にて矢印で示すように、排出路２２ｂは、平面視において、大径部２２の周方向における第二接点Ｐ２と流入路２２ａとの間の１８０度以上の範囲であって、第一接点Ｐ１が配置されない範囲Ｒに配置されている。なお流入路２２ａは範囲Ｒの外側に配置される。図５に示すように、排出路２２ｂは供給部２の上部に形成され、流入路２２ａよりも若干上側に配置されている。 A second notch 25 having an L-shape in plan view is formed in the left front portion of the large diameter portion 22. The second notch 25 has a right surface 25b and a rear surface 25a. A discharge passage 22b extending left and right is formed inside the large diameter portion 22, penetrating the right surface 25b. The discharge passage 22b connects the outside of the large diameter portion 22 with the inner surface 23. The discharge passage 22b penetrates the second inner circumferential surface 23b. In plan view, the discharge passage 22b is formed on a tangent line (not shown) that touches the front end of the circle. As shown by the arrow in FIG. 4, the discharge passage 22b is arranged in a range R that is 180 degrees or more between the second contact point P2 and the inlet passage 22a in the circumferential direction of the large diameter portion 22, and where the first contact point P1 is not arranged, in plan view. The inlet passage 22a is arranged outside the range R. As shown in FIG. 5, the discharge passage 22b is formed in the upper part of the supply portion 2 and is arranged slightly above the inlet passage 22a.

第一切欠２４に流入管３０（図２参照）の一端部が配置され、流入路２２ａに接続される。流入管３０の他端部は洗浄液５２（図７参照）を供給するポンプ（図示略）に接続される。ポンプが駆動して、洗浄液５２が流入管３０を通流し、供給部２の内側に流入する。第二切欠２５に第一排出管３１（図２参照）の一端部が配置され、排出路２２ｂに接続される。第一排出管３１の他端部は前記吸引ポンプ９に接続される。排出路２０ｂに第二排出管３２（図２参照）の一端部が接続される。第二排出管３２の他端部は吸引ポンプ９に接続される。流入管３０、第一排出管３１及び第二排出管３２それぞれに開閉弁（図示略）が取り付けられている。サンプル液５０の測定時に各開閉弁は閉止される。 One end of the inlet pipe 30 (see FIG. 2) is placed in the first notch 24 and connected to the inlet passage 22a. The other end of the inlet pipe 30 is connected to a pump (not shown) that supplies a cleaning solution 52 (see FIG. 7). When the pump is driven, the cleaning solution 52 flows through the inlet pipe 30 and flows into the inside of the supply section 2. One end of the first discharge pipe 31 (see FIG. 2) is placed in the second notch 25 and connected to the discharge passage 22b. The other end of the first discharge pipe 31 is connected to the suction pump 9. One end of the second discharge pipe 32 (see FIG. 2) is connected to the discharge passage 20b. The other end of the second discharge pipe 32 is connected to the suction pump 9. An opening/closing valve (not shown) is attached to each of the inlet pipe 30, the first discharge pipe 31, and the second discharge pipe 32. When the sample liquid 50 is measured, each opening/closing valve is closed.

図７は、攪拌機４０を挿入した状態における供給部２の略示正面断面図である。図７に示すように、供給部２の内側に攪拌機４０が挿入されている。攪拌機４０は、上下方向を軸方向とした支持柱４１と、該支持柱４１の下端から下方に突出した振動棒４２と、支持柱４１の下端部に取り付けられ、支持柱４１の軸回りに回転可能な回転筒４３と、該回転筒４３から下方に突出した複数の回転棒４４とを備える。 Figure 7 is a schematic front cross-sectional view of the supply unit 2 with the agitator 40 inserted. As shown in Figure 7, the agitator 40 is inserted inside the supply unit 2. The agitator 40 includes a support column 41 with an axial direction extending vertically, a vibration rod 42 protruding downward from the lower end of the support column 41, a rotating cylinder 43 attached to the lower end of the support column 41 and rotatable around the axis of the support column 41, and a plurality of rotating rods 44 protruding downward from the rotating cylinder 43.

振動棒４２が回転筒４３の内側に挿入されるように、回転筒４３は支持柱４１に対して同軸的に取り付けられている。回転棒４４は回転筒４３の下端から下方に突出している。振動棒４２は振動し、超音波を発生する。サンプル液５０の測定時に回転筒４３及び振動棒４２は停止している。 The rotating cylinder 43 is attached coaxially to the support column 41 so that the vibrating rod 42 is inserted inside the rotating cylinder 43. The rotating rod 44 protrudes downward from the lower end of the rotating cylinder 43. The vibrating rod 42 vibrates and generates ultrasonic waves. When the sample liquid 50 is measured, the rotating cylinder 43 and the vibrating rod 42 are stopped.

サンプル液５０の測定終了後、供給部２を洗浄する場合、流入管３０及び第一排出管３１それぞれの開閉弁が開放される。流入路２２ａを通して洗浄液５２が供給部２の内側に流入する。洗浄液５２は接線Ｓ１に沿って供給され、供給当初に、内面２３の表面を平面視時計回りに渦を巻くように下方に移動し、内面２３の表面全体を洗浄することができる。なお洗浄液５２の供給時の圧力が高い場合、洗浄液５２が第三内周面２３ｃを上昇することがある。その場合でも、第二内周面２３ｂによって洗浄液５２の上昇を防止し、更に傾斜した第一内周面２３ａによって、洗浄液５２の移動方向を供給部２の内側に誘導し、洗浄液５２が供給部２の外側に漏れることを抑制することができる。 When the supply unit 2 is to be cleaned after the measurement of the sample liquid 50 is completed, the on-off valves of the inlet pipe 30 and the first outlet pipe 31 are opened. The cleaning liquid 52 flows into the inside of the supply unit 2 through the inlet passage 22a. The cleaning liquid 52 is supplied along the tangent line S1, and at the beginning of the supply, it moves downward in a vortex clockwise in a plan view on the surface of the inner surface 23, and can clean the entire surface of the inner surface 23. If the pressure when the cleaning liquid 52 is supplied is high, the cleaning liquid 52 may rise up the third inner surface 23c. Even in that case, the second inner surface 23b prevents the cleaning liquid 52 from rising, and the inclined first inner surface 23a guides the movement direction of the cleaning liquid 52 toward the inside of the supply unit 2, thereby suppressing the cleaning liquid 52 from leaking out of the supply unit 2.

また排出路２２ｂは流入路２２ａよりも高い位置に配置されているので、洗浄液５２の供給当初に洗浄液５２が流入路２２ａから排出路２２ｂに直接到達し、十分な洗浄を行わないまま排出されることを抑制できる。 In addition, because the discharge passage 22b is positioned higher than the inlet passage 22a, the cleaning liquid 52 is prevented from reaching the discharge passage 22b directly from the inlet passage 22a at the beginning of the supply of the cleaning liquid 52, and is prevented from being discharged without being sufficiently cleaned.

また排出路２２ｂを範囲Ｒに配置させることによって、洗浄液５２の供給当初に流入路２２ａから流入した洗浄液５２を、排出路２２ｂに至るまでに重力によって排出路２２ｂよりも下方に移動させ、洗浄液５２が流入路２２ａから排出路２２ｂに直接到達することを抑制することができる。 In addition, by locating the discharge path 22b in range R, the cleaning liquid 52 that flows in from the inlet path 22a when the cleaning liquid 52 is first supplied is moved by gravity below the discharge path 22b before reaching the discharge path 22b, thereby preventing the cleaning liquid 52 from directly reaching the discharge path 22b from the inlet path 22a.

吸引ポンプ９が駆動し、排出路２２ｂからの吸引が開始される。排出路２２ｂは流入路２２ａよりも高い位置に配置されているので、洗浄液５２の液面が排出路２２ｂの位置まで上昇した後、排出路２２ｂからの洗浄液５２の排出が行われる。なお供給路２０ａからも洗浄液５２の排出が行われるが、供給路２０ａからの排出量は流入路２２ａからの流入量よりも少ないので、液面は排出路２２ｂの位置まで上昇する。排出路２２ｂからの排出量は流入量よりも多いので、液面の位置は排出路２２ｂ付近となる。 The suction pump 9 is driven and suction from the discharge path 22b begins. Because the discharge path 22b is positioned higher than the inlet path 22a, the liquid level of the cleaning liquid 52 rises to the position of the discharge path 22b, and then the cleaning liquid 52 is discharged from the discharge path 22b. The cleaning liquid 52 is also discharged from the supply path 20a, but because the amount of liquid discharged from the supply path 20a is less than the amount of liquid inflowing from the inlet path 22a, the liquid level rises to the position of the discharge path 22b. Because the amount of liquid discharged from the discharge path 22b is greater than the amount of liquid inflowing, the liquid level is located near the discharge path 22b.

回転筒４３が回転を開始し、振動棒４２が振動を開始する。供給部２に貯留された洗浄液５２は回転し、攪拌される。回転筒４３及び回転棒４４は平面視反時計回りに回転し、流入口からの流入方向とは逆向きに回転するので、洗浄液５２は大きく攪拌される。また振動棒４２の振動によって洗浄液５２の攪拌が促進される。攪拌及び振動によって洗浄液５２には気泡が発生する。発生した気泡は液面に浮かび、排出路２２ｂから排出される。前述のように、液面の位置は排出路２２ｂ付近なので、気泡の排出は効率的に行われる。洗浄を終了する場合、流入管３０の開閉弁を閉止し、第二排出管３２の開閉弁を開放して、排出路２０ｂから洗浄液５２を吸引する。吸引は所定時間行われる。所定時間は、吸引ポンプ９による吸引流量と所定時間との積が、供給部２内の容積以上となるように、設定される。所定時間経過後、吸引ポンプ９は停止し、第一排出管３１及び第二排出管３２の開閉弁は閉止される。なお攪拌機４０による攪拌を行わずに、又は攪拌機４０を設けずに、供給部２を洗浄してもよい。 The rotating cylinder 43 starts to rotate, and the vibrating rod 42 starts to vibrate. The cleaning liquid 52 stored in the supply section 2 rotates and is stirred. The rotating cylinder 43 and the rotating rod 44 rotate counterclockwise in a plan view, rotating in the opposite direction to the inflow direction from the inlet, so the cleaning liquid 52 is stirred greatly. The vibration of the vibrating rod 42 also promotes the stirring of the cleaning liquid 52. Bubbles are generated in the cleaning liquid 52 due to the stirring and vibration. The generated bubbles float on the liquid surface and are discharged from the discharge path 22b. As described above, the liquid surface is located near the discharge path 22b, so the bubbles are efficiently discharged. When the cleaning is to be terminated, the opening and closing valve of the inlet pipe 30 is closed, and the opening and closing valve of the second discharge pipe 32 is opened to aspirate the cleaning liquid 52 from the discharge path 20b. The suction is performed for a predetermined time. The predetermined time is set so that the product of the suction flow rate by the suction pump 9 and the predetermined time is equal to or greater than the volume in the supply section 2. After a predetermined time has elapsed, the suction pump 9 is stopped, and the on-off valves of the first discharge pipe 31 and the second discharge pipe 32 are closed. The supply unit 2 may be cleaned without stirring by the agitator 40 or without providing the agitator 40.

図２～図４に示すように、大径部２２の上面における正面部分に凹部２２ｃが形成されている。凹部２２ｃは前後方向に延びる。供給部２の外側であって、凹部２２ｃの下側に液体を検出するセンサ（図示略）が設けてある。供給部２に過剰なサンプル液５０又は洗浄液５２が供給され、液面が凹部２２ｃまで上昇した場合、凹部２２ｃからサンプル液５０又は洗浄液５２が横溢する。横溢したサンプル液５０又は洗浄液５２は、センサによって検出され、横溢が検出される。横溢が検出された場合、制御装置１３は例えば流入管３０の開閉弁を閉じ、供給部２への洗浄液５２の流入を停止させるか、又は横溢の発生を表示部１５に表示して作業者に報知し、作業者にサンプル液５０の供給の停止を促す。なお自動的にサンプル液５０を供給部２に供給する場合、横溢が検出された場合、制御装置１３はサンプル液５０の供給を停止させてもよく、洗浄液５２を手動で供給部２に供給する場合、横溢が検出された場合、横溢の発生を表示部１５に表示して作業者に報知してもよい。 As shown in Figures 2 to 4, a recess 22c is formed in the front portion of the upper surface of the large diameter section 22. The recess 22c extends in the front-rear direction. A sensor (not shown) for detecting liquid is provided outside the supply section 2, below the recess 22c. When an excess of sample liquid 50 or cleaning liquid 52 is supplied to the supply section 2 and the liquid level rises to the recess 22c, the sample liquid 50 or cleaning liquid 52 overflows from the recess 22c. The overflowed sample liquid 50 or cleaning liquid 52 is detected by the sensor, and the overflow is detected. When the overflow is detected, the control device 13 closes, for example, the on-off valve of the inlet pipe 30 to stop the inflow of the cleaning liquid 52 into the supply section 2, or notifies the operator of the occurrence of the overflow on the display section 15, and prompts the operator to stop the supply of the sample liquid 50. When the sample liquid 50 is automatically supplied to the supply unit 2, if spillage is detected, the control device 13 may stop the supply of the sample liquid 50. When the cleaning liquid 52 is manually supplied to the supply unit 2, if spillage is detected, the occurrence of spillage may be displayed on the display unit 15 to notify the operator.

実施の形態に係る粒子画像解析装置１にあっては、供給部２の上部に排出路２２ｂが形成されているので、洗浄液５２の液面に浮かんだ泡、液中に浮かんだ泡及び容器上部の側面に付着した泡等を洗浄中に排出路２２ｂから排出し、洗浄終了後に供給部２に泡が残留することを抑制することができる。泡に含まれる粒子も、泡と共に排出されるので、粒子が供給部２に残留して、次に行う測定において、測定精度が低下することを抑制することができる。 In the particle image analyzer 1 according to the embodiment, a discharge path 22b is formed at the top of the supply unit 2, so that bubbles floating on the surface of the cleaning liquid 52, bubbles floating in the liquid, bubbles attached to the side of the upper part of the container, etc. can be discharged from the discharge path 22b during cleaning, and bubbles remaining in the supply unit 2 after cleaning is completed can be prevented. Since particles contained in the bubbles are also discharged together with the bubbles, it is possible to prevent particles from remaining in the supply unit 2 and reducing the measurement accuracy in the next measurement.

また排出路２２ｂは流入路２２ａよりも高い位置に設けられているので、洗浄液５２の供給当初に洗浄液５２が流入路２２ａから排出路２２ｂに直接到達し、十分な洗浄を行わないまま排出されることを防止できる。 In addition, because the discharge path 22b is located at a higher position than the inlet path 22a, it is possible to prevent the cleaning liquid 52 from reaching the discharge path 22b directly from the inlet path 22a at the beginning of the supply of the cleaning liquid 52 and being discharged without being sufficiently cleaned.

また流入路２２ａは、平面視円形をなす内面２３上縁の接線Ｓ上に配置される。ポンプによって流入路２２ａに圧送された洗浄液５２が高圧であっても、洗浄液５２は流入路２２ａから内面２３に沿って円滑に流入する。そのため、洗浄液５２がしぶきを上げて流入路２２ａから流入し、泡が発生することを防止することができる。 In addition, the inlet passage 22a is disposed on a tangent line S of the upper edge of the inner surface 23, which is circular in plan view. Even if the cleaning liquid 52 pumped into the inlet passage 22a by the pump is at high pressure, the cleaning liquid 52 flows smoothly from the inlet passage 22a along the inner surface 23. This prevents the cleaning liquid 52 from splashing and flowing from the inlet passage 22a, which would otherwise cause bubbles to form.

また排出路２２ｂは、平面視における第二接線Ｓ２の接点Ｐ２と流入路２２ａとの間の範囲Ｒに配置される。そのため、洗浄液５２が流入路２２ａから排出路２２ｂに至るまでの経路をできるだけ長くして、洗浄液５２が内面２３を洗浄する面積をできるだけ大きくすることができる。また流入路２２ａから流入した洗浄液５２を排出路２２ｂよりも下方に移動させ、供給直後の洗浄液５２が排出路２２ｂから直ちに排出されることを抑制することができる。 The discharge passage 22b is disposed in a range R between the contact point P2 of the second tangent line S2 in a plan view and the inlet passage 22a. This makes it possible to make the path of the cleaning liquid 52 from the inlet passage 22a to the outlet passage 22b as long as possible, thereby making it possible to maximize the area over which the cleaning liquid 52 cleans the inner surface 23. In addition, the cleaning liquid 52 that flows in from the inlet passage 22a can be moved below the outlet passage 22b, which prevents the cleaning liquid 52 from being immediately discharged from the outlet passage 22b immediately after supply.

また第一内周面２３ａ及び第二内周面２３ｂを設けることによって、第三内周面２３ｃを上昇した洗浄液５２が供給部２の外側に漏れることを抑制することができる。即ち、洗浄液５２の漏洩を生じさせることなく、洗浄液５２の流量を大きくし、洗浄力を高めることができる。 In addition, by providing the first inner circumferential surface 23a and the second inner circumferential surface 23b, it is possible to prevent the cleaning liquid 52 that has risen up the third inner circumferential surface 23c from leaking outside the supply section 2. In other words, it is possible to increase the flow rate of the cleaning liquid 52 and improve the cleaning power without causing leakage of the cleaning liquid 52.

またサンプル液５０又は洗浄液５２が過剰に供給された場合には、凹部２２ｃから横溢させる。凹部２２ｃから横溢したサンプル液５０又は洗浄液５２をセンサに検出させることによって、サンプル液５０又は洗浄液５２の供給を停止させるか、または作業者に横溢の発生を報知し、サンプル液５０又は洗浄液５２の供給の停止を促すことができる。 If an excess of sample liquid 50 or cleaning liquid 52 is supplied, it will overflow from recess 22c. By having a sensor detect the sample liquid 50 or cleaning liquid 52 that has overflowed from recess 22c, the supply of sample liquid 50 or cleaning liquid 52 can be stopped, or the operator can be notified of the occurrence of overflow and be prompted to stop the supply of sample liquid 50 or cleaning liquid 52.

また第一切欠２４及び第二切欠２５を設けることによって、流入管３０及び第一排出管３１を配置する空間を確保し、粒子画像解析装置１の小型化を促進させることができる。 In addition, by providing the first notch 24 and the second notch 25, space can be secured to place the inlet pipe 30 and the first outlet pipe 31, which can facilitate miniaturization of the particle image analyzer 1.

今回開示した実施の形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。各実施例にて記載されている技術的特徴は互いに組み合わせることができ、本発明の範囲は、特許請求の範囲内での全ての変更及び特許請求の範囲と均等の範囲が含まれることが意図される。 The embodiments disclosed herein are illustrative in all respects and should not be considered limiting. The technical features described in each embodiment can be combined with each other, and the scope of the present invention is intended to include all modifications within the scope of the claims and equivalents to the scope of the claims.

１粒子画像解析装置
２供給部
３フローセル
４ノズル
４ａ流路
５チャンバ
５ａ貫通孔
５ｂ貫通孔
６ａ第一流路
６ｂ第二流路
７測定セル
７ａ流路
８光源
１０対物レンズ
１２カメラ（撮像部）
１３制御装置
１４操作部
１５表示部
２０小径部
２０ａ供給路
２０ｂ排出路
２１中径部
２２大径部
２２ａ流入路
２２ｂ排出路
２２ｃ凹部
２３内面
２３ａ第一内周面
２３ｂ第二内周面
２３ｃ第三内周面
２３ｄ凹面
２４第一切欠
２４ａ前面
２４ｂ右面
２５第二切欠
２５ａ後面
２５ｂ右面
３０流入管
３１第一排出管
３２第二排出管
４０攪拌機
４１支持柱
４２振動棒
４３回転筒
４４回転棒
５０サンプル液
５１シース液
５２洗浄液
Ｓ１、Ｓ２接線
Ｐ１第一接点
Ｐ２第二接点 REFERENCE SIGNS LIST 1 Particle image analyzer 2 Supply unit 3 Flow cell 4 Nozzle 4a Flow path 5 Chamber 5a Through hole 5b Through hole 6a First flow path 6b Second flow path 7 Measurement cell 7a Flow path 8 Light source 10 Objective lens 12 Camera (imaging unit)
13 Control device 14 Operation unit 15 Display unit 20 Small diameter section 20a Supply channel 20b Discharge channel 21 Medium diameter section 22 Large diameter section 22a Inlet channel 22b Discharge channel 22c Recess 23 Inner surface 23a First inner circumferential surface 23b Second inner circumferential surface 23c Third inner circumferential surface 23d Concave surface 24 First notch 24a Front surface 24b Right surface 25 Second notch 25a Rear surface 25b Right surface 30 Inlet pipe 31 First discharge pipe 32 Second discharge pipe 40 Stirrer 41 Support column 42 Vibrating rod 43 Rotating cylinder 44 Rotating rod 50 Sample liquid 51 Sheath liquid 52 Cleaning liquid S1, S2 Tangent P1 First contact point P2 Second contact point

Claims

A transparent flow cell through which the liquid containing the particles flows;
a bottomed cylindrical supply part having a supply port formed on a bottom surface thereof for supplying the liquid to the flow cell;
A light source that irradiates the flow cell with light;
an imaging unit that is disposed on the opposite side of the light source across the flow cell and captures an image of the particles;
an inflow path through which the cleaning liquid flows into the supply part;
a discharge passage for discharging the cleaning liquid is formed above the supply unit ;
The inner circumferential surface of the supply portion is circular in plan view,
The inlet passage is disposed on a first tangent line of the circle in a plan view.
Particle image analyzer.

A transparent flow cell through which the liquid containing the particles flows;
a bottomed cylindrical supply part having a supply port formed on a bottom surface thereof for supplying the liquid to the flow cell;
A light source that irradiates the flow cell with light;
an imaging unit that is disposed on the opposite side of the light source across the flow cell and captures an image of the particles;
Equipped with
an inflow path through which the cleaning liquid flows into the supply part;
a discharge passage for discharging the cleaning liquid is formed above the supply unit;
A particle image analysis apparatus in which a recess for overflowing the liquid or cleaning liquid is formed on the upper surface of the supply unit .

A transparent flow cell through which the liquid containing the particles flows;
a bottomed cylindrical supply part having a supply port formed on a bottom surface thereof for supplying the liquid to the flow cell;
A light source that irradiates the flow cell with light;
an imaging unit that is disposed on the opposite side of the light source across the flow cell and captures an image of the particles;
Equipped with
an inflow path through which the cleaning liquid flows into the supply part;
a discharge passage for discharging the cleaning liquid is formed above the supply unit;
A particle image analysis device in which a first notch in which an inlet pipe connected to the inlet passage is positioned and a second notch in which a discharge pipe connected to the discharge passage is positioned are formed on an outer circumferential portion of the supply section .

The particle image analysis device according to claim 1 , wherein the discharge passage is provided at a higher position than the inlet passage.

The discharge passage is disposed in a range of 180 degrees or more between a tangent point of a second tangent line of the circle perpendicular to the first tangent line and the inlet passage in a plan view,
The particle image analysis device according to claim 1 , wherein the first tangent line has no contact point located in the range.

6. The particle image analysis device according to claim 1, wherein the inner peripheral surface of the supply portion comprises an inclined surface whose diameter decreases toward the bottom, and a wall surface disposed above the inclined surface and whose diameter decreases toward the top or whose diameter remains the same.