JP7488738B2 - Vacuum lamination device and method for manufacturing laminate - Google Patents

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Description

本発明は、特に、着脱可能な搬送板を備える真空積層装置及び積層体の製造方法に関する。 The present invention particularly relates to a vacuum lamination device equipped with a removable conveyor plate and a method for manufacturing a laminate.

真空積層装置は、電子部品を構成する複数枚のワークを積層するものであり、アライメント手段と、積層手段とを備える。このアライメント手段は、積層手段によってワークが積層される前に、各ワークの位置合わせを行うことより、形成される積層体の各ワーク同士のずれを抑制している。また、積層手段は、ワークの積層動作を行う際、真空下において積層することにより、ワークの層間への空気の混入を防止している。このような真空下において、ワークを吸着固定させるために、例えば、帯電固定などの負圧吸引以外の手段が採用されている。 The vacuum stacking device stacks multiple workpieces that make up electronic components, and is equipped with an alignment means and a stacking means. The alignment means aligns each workpiece before the workpieces are stacked by the stacking means, thereby preventing misalignment between the workpieces in the stack that is formed. In addition, when stacking the workpieces, the stacking means stacks them under a vacuum, thereby preventing air from getting between the layers of the workpieces. In order to adsorb and fix the workpieces under such a vacuum, a means other than negative pressure suction, such as electrostatic fixation, is used.

ここで、特許文献1には、真空積層装置であって、真空チャンバー内に、帯電手段と、アライメント手段と、を備え、一方のワークを帯電手段に帯電固定させるとともに、他方のワークをアライメント手段に載置し、真空下とした真空チャンバー内において、アライメント動作や積層動作を行うものが記載されている。 Patent document 1 describes a vacuum stacking device that is equipped with a charging means and an alignment means within a vacuum chamber, in which one workpiece is charged and fixed to the charging means, while the other workpiece is placed on the alignment means, and alignment and stacking operations are performed within the vacuum chamber under vacuum.

特開2013-167712号公報JP 2013-167712 A

しかしながら、特許文献1において、多数の部品から構成される帯電手段及びアライメント手段に対して、シール性や摺動性などを維持する真空対策を施すことにより、コストの増加が引き起こされるおそれがあった。 However, in Patent Document 1, there was a risk of increased costs being incurred by implementing vacuum measures to maintain the sealing and sliding properties of the charging means and alignment means, which are made up of many parts.

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、真空対策を施す必要がある部品を少なくし、アライメント動作及び積層動作を行うことができる真空積層装置及び積層体の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these problems, and aims to provide a vacuum stacking device and a method for manufacturing a stack that can perform alignment and stacking operations while reducing the number of parts that require vacuum measures.

上記課題を解決するために、本発明の複数のワークを順次積層する真空積層装置であって、前記ワークを保持する搬送板と、前記搬送板を固定支持しつつ、前記搬送板に保持された前記ワークの位置合わせを行うアライメント手段と、真空下において、位置合せされた前記ワークを積層ステージ上に積層する積層手段と、前記アライメント手段と前記積層手段との間を移動し、前記ワークが前記搬送板に保持された状態において、前記搬送板を固定支持しつつ、前記アライメント手段から前記積層手段へと前記ワークを搬送する搬送手段と、を備え、前記搬送板は、前記アライメント手段及び前記搬送手段のそれぞれと着脱可能であり、一側に前記ワークを帯電固定し、他側が前記搬送手段と磁気固定されるものである。 In order to solve the above problems, the present invention provides a vacuum stacking device for stacking multiple workpieces in sequence, comprising a conveying plate for holding the workpieces, an alignment means for aligning the workpieces held on the conveying plate while fixing and supporting the conveying plate, a stacking means for stacking the aligned workpieces on a stacking stage under vacuum, and a conveying means for moving between the alignment means and the stacking means and, while the workpieces are held on the conveying plate, for conveying the workpieces from the alignment means to the stacking means while fixing and supporting the conveying plate, the conveying plate is detachable from both the alignment means and the conveying means, the workpieces are charged and fixed to one side, and the other side is magnetically fixed to the conveying means.

また、上記真空積層装置であって、前記搬送板は、磁性体で構成されるとともに、前記搬送板の一側には、絶縁体が設けられているものとしてもよい。 In the above vacuum lamination device, the conveying plate may be made of a magnetic material, and an insulator may be provided on one side of the conveying plate.

また、上記真空積層装置であって、前記搬送板は、粘着性を有する前記ワークの第1面とは反対側にする非粘着性の第2面を帯電固定するものとしてもよい。 In addition, in the above-mentioned vacuum lamination device, the conveying plate may be configured to charge and fix a non-adhesive second surface opposite to the adhesive first surface of the workpiece.

また、上記真空積層装置であって、前記アライメント手段は、アライメントステージと、前記アライメントステージ上に設置ブロックとを備え、前記搬送板は、前記ワークと前記アライメントステージとが非接触状態となるように、前記設置ブロックに載置されるものとしてもよい。 In addition, in the above vacuum lamination device, the alignment means may include an alignment stage and a mounting block on the alignment stage, and the conveying plate may be placed on the mounting block so that the workpiece and the alignment stage are not in contact with each other.

また、上記真空積層装置であって、前記搬送手段を前記積層手段に当接させて、密閉空間を形成するとともに、真空下とした前記密閉空間内において、前記搬送手段により、前記搬送板を移動させて、前記ワークを積層するものとしてもよい。 In addition, in the above vacuum stacking device, the conveying means may be brought into contact with the stacking means to form an enclosed space, and the conveying means may move the conveying plate within the enclosed space under vacuum to stack the workpieces.

また、上記真空積層装置であって、搬送板回収手段をさらに備え、前記搬送板回収手段は、前記搬送板に対して除電を行って前記ワークから前記搬送板を剥離可能とし、前記搬送板を回収するものとしてもよい。 The vacuum stacking device may further include a conveying plate recovery means that discharges electricity from the conveying plate to enable the conveying plate to be peeled off from the workpiece and recovers the conveying plate.

上記課題を解決するために、本発明の複数のワークを順次積層する積層体の製造方法であって、搬送板の一側に前記ワークを帯電固定するステップと、前記搬送板をアライメントステージに固定支持した状態で、前記搬送板に帯電固定された前記ワークの位置合わせを行うステップと、前記搬送板の一側に前記ワークを帯電固定した状態で、前記搬送板の他側を磁気固定し、前記アライメントステージから積層ステージへと、位置合せされた前記ワークを搬送するステップと、真空下において、前記積層ステージ上に位置合せされた前記ワークを積層するステップと、を備えるものである。 In order to solve the above problem, the present invention provides a method for manufacturing a stack in which multiple workpieces are stacked in sequence, comprising the steps of: charging and fixing the workpiece to one side of a conveying plate; aligning the workpiece charged and fixed to the conveying plate while the conveying plate is fixed and supported on an alignment stage; magnetically fixing the other side of the conveying plate while the workpiece is charged and fixed to one side of the conveying plate, and transporting the aligned workpiece from the alignment stage to the stacking stage; and stacking the aligned workpieces on the stacking stage under vacuum.

また、上記積層体の製造方法であって、前記ワークを搬送するステップは、上壁及び側壁を有する真空チャンバー内に、前記搬送板を磁気固定させるものであり、前記真空チャンバーを前記積層ステージに当接させることにより、密閉空間を形成するものとしてもよい。 In addition, in the manufacturing method of the laminate, the step of transporting the workpiece may involve magnetically fixing the transport plate in a vacuum chamber having an upper wall and side walls, and forming an enclosed space by abutting the vacuum chamber against the stacking stage.

本発明によれば、真空対策を施す必要がある部品を少なくし、アライメント動作及び積層動作を行うことができる真空積層装置及び積層体の製造方法を提供することができる。 The present invention provides a vacuum stacking device and a method for manufacturing a stack that can perform alignment and stacking operations while reducing the number of parts that require vacuum measures.

本発明の実施形態に係る真空積層装置を示す平面模式図である。1 is a schematic plan view showing a vacuum lamination apparatus according to an embodiment of the present invention. 図1に示される真空積層装置をXZ平面において切断した断面模式図である。2 is a schematic cross-sectional view of the vacuum lamination apparatus shown in FIG. 1 cut in an XZ plane. ワークの積層工程における帯電動作からアライメント動作までを説明する断面模式図であり、(a)帯電動作、(b)保護層の剥離及び反転ユニットによる反転動作、(c)反転ユニットによる搬送動作、(d)アライメント動作、をそれぞれ表す。1A to 1D are schematic cross-sectional views illustrating the steps from the charging operation to the alignment operation in the work stacking process, showing (a) the charging operation, (b) the peeling off of the protective layer and the inversion operation by the inversion unit, (c) the transport operation by the inversion unit, and (d) the alignment operation. ワークの積層工程における搬送ユニットによる搬送動作を説明する断面模式図であり、(a)搬送準備状態、(b)搬送板の磁気固定状態、(c)アライメントステージからの離間状態、(d)積層ステージへの当接状態、をそれぞれ表す。1A to 1D are schematic cross-sectional views illustrating the transport operation by the transport unit during the work stacking process, showing (a) a transport preparation state, (b) a magnetically fixed state of the transport plate, (c) a state separated from the alignment stage, and (d) a state in contact with the stacking stage. ワークの積層工程における真空下の積層動作を説明する断面模式図であり、(a)真空引き状態、(b)積層状態、(c)引き剥がしピストンの伸張状態、(d)搬送板の磁気固定解除状態、(e)引き剥がしピストンの縮めた状態、をそれぞれ表す。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view illustrating the stacking operation under vacuum during the work stacking process, showing (a) a vacuum state, (b) a stacked state, (c) an extended state of the peel-off piston, (d) a state in which the magnetic fixation of the conveying plate is released, and (e) a retracted state of the peel-off piston. ワークの積層工程における搬送板の回収動作を説明する断面模式図(a)-(c),(e)、及び、平面模式図(d)であり、(a)大気開放状態、(b)搬送ユニットの積層ステージから離間状態、(c),(d)搬送板の回収動作、(e)搬送板の回収動作終了状態、をそれぞれ表す。Schematic cross-sectional views (a)-(c), (e) and a schematic plan view (d) illustrating the recovery operation of the conveying plate during the work stacking process, showing respectively (a) an atmospheric open state, (b) a state separated from the stacking stage of the conveying unit, (c), (d) the recovery operation of the conveying plate, and (e) the completed state of the recovery operation of the conveying plate.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下に説明する実施形態は、本発明を具体的に実現した形態を例示するものである。よって、本発明が適用される装置の構成や各種条件によって、以下に説明される実施形態の構成は適宜修正又は変更されるべきものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 The following describes in detail an embodiment of the present invention with reference to the drawings. The embodiment described below is an example of a specific realization of the present invention. Therefore, the configuration of the embodiment described below should be appropriately modified or changed depending on the configuration of the device to which the present invention is applied and various conditions, and the present invention is not limited to the following embodiment.

<用語について>
本明細書および特許請求の範囲の記載において、各用語を以下のように定義する。「積層」とは、複数枚(2枚も含む)の貼り合わせを示す。「積層体」とは、複数枚(2枚も含む)のワークWを貼り合わせたものを示す。「XYθ軸への移動」とは、X軸方向及びY軸方向への移動とθ方向への回動を示す。
<Terminology>
In this specification and the claims, the terms are defined as follows: "Laminate" refers to bonding multiple sheets (including two sheets). "Laminate" refers to bonding multiple sheets (including two sheets) of workpieces W. "Movement in the XYθ axes" refers to movement in the X-axis and Y-axis directions and rotation in the θ direction.

図1は、本発明の実施形態に係る真空積層装置100を示す平面模式図であり、図2は、図1に示される真空積層装置100をXZ平面において切断した断面模式図である。ここで、X軸方向は、ワークWに対する各処理工程が実施される際にワークWが移動する方向を示すものであり、Y軸方向は、X軸方向と直交する方向を示すものである。また、Z軸方向は、X軸方向及びY軸方向と直交し、かつ、ワークWに対する各処理工程が実施される際にワークWが面する方向を示すものである。 Figure 1 is a schematic plan view showing a vacuum lamination apparatus 100 according to an embodiment of the present invention, and Figure 2 is a schematic cross-sectional view of the vacuum lamination apparatus 100 shown in Figure 1 cut in the XZ plane. Here, the X-axis direction indicates the direction in which the workpiece W moves when each processing step is performed on the workpiece W, and the Y-axis direction indicates a direction perpendicular to the X-axis direction. The Z-axis direction is perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction, and indicates the direction in which the workpiece W faces when each processing step is performed on the workpiece W.

<真空積層装置について>
真空積層装置100は、電子部品の薄化された各種基板である複数のワークWを高精度かつ高速に積層するものである。この真空積層装置100は、搬送板1と、反転ユニット(反転手段)10と、帯電ユニット(帯電手段)20と、アライメントユニット(アライメント手段)30と、搬送ユニット(搬送手段)40と、積層ユニット(積層手段)50と、搬送板回収ユニット(搬送板回収手段)60と、を備える。以下、それらを順に説明する。なお、真空積層装置100は、反転ユニット10、帯電ユニット20、アライメントユニット30、搬送ユニット40、積層ユニット50、及び、搬送板回収ユニット60の駆動などを制御する制御手段(不図示)をさらに備える。
<About the vacuum lamination device>
The vacuum lamination apparatus 100 laminates a plurality of workpieces W, which are various thinned substrates of electronic components, with high accuracy and high speed. The vacuum lamination apparatus 100 includes a conveying plate 1, an inversion unit (inversion means) 10, a charging unit (charging means) 20, an alignment unit (alignment means) 30, a conveying unit (conveying means) 40, a lamination unit (lamination means) 50, and a conveying plate recovery unit (conveying plate recovery means) 60. These will be described in order below. The vacuum lamination apparatus 100 further includes a control means (not shown) for controlling the driving of the inversion unit 10, the charging unit 20, the alignment unit 30, the conveying unit 40, the lamination unit 50, and the conveying plate recovery unit 60.

本実施形態において、ワークWは、図3(a)に示すように、片面側(第1面)に粘着層a及びこの粘着層aに埃等が付着することを防ぐ保護層pを設けるものを用いている。しかしながら、これに限らず、例えば、両面側に粘着層a及び保護層pを設けるものや、いずれの面にも粘着層a及び保護層pを設けないものなど、様々な様態のワークWを用いることができる。 In this embodiment, as shown in FIG. 3(a), the workpiece W has an adhesive layer a on one side (first side) and a protective layer p to prevent dust and the like from adhering to the adhesive layer a. However, this is not limited to this, and various types of workpieces W can be used, such as a workpiece W having an adhesive layer a and a protective layer p on both sides, or a workpiece W having neither an adhesive layer a nor a protective layer p on either side.

<搬送板について>
搬送板1は、Z軸方向から見て、ワークWがはみ出さないように載置可能とするように設定された略矩形形状を有し、鉄系及びSUS440などの磁性体から構成される。また、搬送板1の表面である一側1a(図3(a)参照)における、少なくともワークWが載置される領域には、絶縁体(不図示)、例えば、シリコンゴム等のシリコン系材料が設けられる。この絶縁体を介して、搬送板1の一側1aには、ワークWが帯電固定される。一方、一側1aとは反対側に位置する搬送板1の裏面である他側1b(図3(a)参照)は、搬送板チャック42(図4(b)参照)によって磁気固定される。
<About the conveyor plate>
The conveying plate 1 has a substantially rectangular shape when viewed from the Z-axis direction so that the workpiece W can be placed without protruding, and is made of a magnetic material such as iron and SUS440. An insulator (not shown), for example, a silicon-based material such as silicon rubber, is provided on at least the area on one side 1a (see FIG. 3(a)), which is the surface of the conveying plate 1, where the workpiece W is placed. The workpiece W is charged and fixed to the one side 1a of the conveying plate 1 through this insulator. On the other hand, the other side 1b (see FIG. 3(a)), which is the back surface of the conveying plate 1 located opposite to the one side 1a, is magnetically fixed by a conveying plate chuck 42 (see FIG. 4(b)).

本実施形態の搬送板1は、磁性体から構成され、一側1aに、絶縁体が設けられることにより、同一の搬送板1に対して、異なる固定手段(搬送板1の一側1aに帯電固定、及び、搬送板1の他側1bに磁気固定)を適用することができる。また、本実施形態において、搬送板1を、各ユニット(反転ユニット10、アライメントユニット30、搬送ユニット40)に対して着脱可能とすることにより、ワークWが、搬送板1を介して、各ユニットへと移動することができる。このように、各ユニットを物理的に分けることができるため、特許文献1のように、真空チャンバー内に、帯電ユニット及びアライメントユニットを配置するのではなく、ワークWが帯電固定される搬送板1のみを配置することができる。これにより、真空対策を施す必要がある部材を少なくし、アライメント動作及び積層動作を行うことができる。 The conveying plate 1 of this embodiment is made of a magnetic material, and an insulator is provided on one side 1a, so that different fixing means (charge fixing on one side 1a of the conveying plate 1 and magnetic fixing on the other side 1b of the conveying plate 1) can be applied to the same conveying plate 1. In addition, in this embodiment, the conveying plate 1 is made detachable from each unit (reversal unit 10, alignment unit 30, conveying unit 40), so that the workpiece W can move to each unit via the conveying plate 1. In this way, since each unit can be physically separated, instead of arranging the charging unit and alignment unit in the vacuum chamber as in Patent Document 1, only the conveying plate 1 to which the workpiece W is charged and fixed can be arranged. This reduces the number of members that need to be subjected to vacuum measures, and allows alignment and stacking operations to be performed.

<反転ユニットについて>
反転ユニット10は、反転ステージ11と、反転ユニット10のX軸方向(矢印III方向:帯電・反転位置A、アライメントステージ位置B)の移動、Z軸方向(矢印IV方向)への移動、及び、Y軸周り(矢印II方向)への回転を行う反転ユニット駆動機構(不図示)と、を備える。反転ステージ11は、反転ステージ11上に搬送板1を載置した状態で固定する搬送板固定機構(不図示)を備える。この搬送板固定機構は、反転ステージ11上に設ける複数の吸着ポートによる真空吸着、メカチャック及び磁力など、又は、これらの組み合わせから構成してもよい。なお、搬送板固定機構による保持力は、搬送板1を固定した反転ステージ11が反転した際に、反転ステージ11から搬送板1が落下しないような値に予め設定されている。
<About the reversing unit>
The reversal unit 10 includes an inversion stage 11 and an inversion unit drive mechanism (not shown) that moves the inversion unit 10 in the X-axis direction (arrow III direction: charging/inversion position A, alignment stage position B), moves in the Z-axis direction (arrow IV direction), and rotates around the Y-axis (arrow II direction). The inversion stage 11 includes a conveying plate fixing mechanism (not shown) that fixes the conveying plate 1 in a state in which it is placed on the inversion stage 11. This conveying plate fixing mechanism may be configured by vacuum suction using a plurality of suction ports provided on the inversion stage 11, a mechanical chuck, a magnetic force, or a combination of these. The holding force of the conveying plate fixing mechanism is preset to a value that prevents the conveying plate 1 from falling from the inversion stage 11 when the inversion stage 11 to which the conveying plate 1 is fixed is inverted.

<帯電ユニットについて>
帯電ユニット20は、荷電粒子cを照射する荷電粒子照射部21と、帯電ユニット20のX軸方向(矢印I方向)への移動を行う帯電ユニット駆動機構(不図示)と、を備え、反転ユニット10のZ軸方向の上方に配置されている。荷電粒子照射部21は、荷電粒子cを鉛直方向下側に照射するものであり、例えば、陰イオンや陽イオンを照射するイオナイザであってもよい。この荷電粒子照射部21は、図1に示すように、Y軸方向において、反転ステージ11を覆うように延在する。
<About the charging unit>
The charging unit 20 includes a charged particle irradiation section 21 that irradiates charged particles c, and a charging unit drive mechanism (not shown) that moves the charging unit 20 in the X-axis direction (direction of arrow I), and is disposed above the inversion unit 10 in the Z-axis direction. The charged particle irradiation section 21 irradiates the charged particles c vertically downward, and may be, for example, an ionizer that irradiates negative ions or positive ions. As shown in FIG. 1, the charged particle irradiation section 21 extends in the Y-axis direction so as to cover the inversion stage 11.

<アライメントユニットについて>
アライメントユニット30は、アライメントステージ31と、アライメントステージ31上に設けられる設置ブロック32と、アライメントステージ31のXYθ軸への移動を行うXYθ軸電動アクチュエータ33と、を備える。さらに、アライメントユニット30は、ワークWの位置合わせ参照用のマークであるアライメントマークを下方より撮像するアライメント撮像ユニット34を備える。以下、それらを順に説明する。
<About the alignment unit>
The alignment unit 30 includes an alignment stage 31, a mounting block 32 provided on the alignment stage 31, and an XYθ-axis electric actuator 33 that moves the alignment stage 31 along the X, Y, and θ axes. The alignment unit 30 further includes an alignment imaging unit 34 that images, from below, an alignment mark that is a reference mark for aligning the workpiece W. Each of these will be described in turn below.

アライメントステージ31は、アライメントステージ31の各角部から中心部に向かって延在し、透明な部材からなる複数の窓部(不図示)と、を備える。 The alignment stage 31 has multiple windows (not shown) made of a transparent material, which extend from each corner of the alignment stage 31 toward the center.

設置ブロック32は、Z軸方向からみて、アライメントステージ31の中心に対して、点対称となるように、アライメントステージ31上の外周縁に沿って、複数配置されている。また、設置ブロック32は、上面に、搬送板1を真空吸着させる複数の吸着ポート(不図示)を備える。本実施形態における設置ブロック32は、アライメントステージ31の中心に対して、点対称となるように複数配置されるものであるが、これに限らず、アライメントステージ31上の外周縁を全て囲むように設けてもよい。 When viewed from the Z-axis direction, multiple installation blocks 32 are arranged along the outer periphery of the alignment stage 31 so as to be point symmetrical with respect to the center of the alignment stage 31. Furthermore, the installation blocks 32 have multiple suction ports (not shown) on the upper surface for vacuum-adsorbing the conveying plate 1. In this embodiment, multiple installation blocks 32 are arranged so as to be point symmetrical with respect to the center of the alignment stage 31, but this is not limiting, and the installation blocks 32 may be arranged to surround the entire outer periphery of the alignment stage 31.

XYθ軸電動アクチュエータ33は、ワークWを基準位置へと位置合わせするために、XYθ軸への移動、つまり、XY平面内における移動及び回動を行うことができる。 The XYθ-axis electric actuator 33 can move along the XYθ-axis, that is, move and rotate within the XY plane, to align the workpiece W to a reference position.

アライメント撮像ユニット34は、アライメント用カメラ(不図示)及びアライメント用照明(不図示)を備えるものであり、複数の窓部を介して、アライメントステージ31の下方からワークWのアライメントマークを撮像する。 The alignment imaging unit 34 is equipped with an alignment camera (not shown) and alignment lighting (not shown), and captures an image of the alignment mark of the workpiece W from below the alignment stage 31 through multiple windows.

<搬送ユニットについて>
搬送ユニット40は、真空チャンバー41と、搬送板チャック42と、搬送ユニット40のX軸方向(矢印V方向:アライメントステージ位置B、待機位置C,積層ステージ位置D)及びZ軸方向(矢印IV及びVI方向)への移動を行う搬送ユニット駆動機構(不図示)と、を備える。以下、それらを順に説明する。
<About the transport unit>
The transport unit 40 includes a vacuum chamber 41, a transport plate chuck 42, and a transport unit drive mechanism (not shown) that moves the transport unit 40 in the X-axis direction (direction of arrow V: alignment stage position B, standby position C, stacking stage position D) and the Z-axis direction (direction of arrows IV and VI). Each of these will be described in turn below.

真空チャンバー41は、略矩形形状の上壁41tと、上壁41tの各外周縁を連続的に囲むように垂下する周壁41sと、を備える。 The vacuum chamber 41 has a generally rectangular upper wall 41t and a peripheral wall 41s that hangs down so as to continuously surround each outer edge of the upper wall 41t.

真空チャンバー41の上壁41tには、昇降ピストン43と、一対のガイドシャフト部44と、一対の引き剥がしピストン45とから構成され、真空チャンバー41内における駆動をになう駆動機構が設けられる。まず、昇降ピストン43は、下端が搬送板チャック42に固定されており、Z軸方向に縮んだ待機状態と、Z軸方向(矢印VII方向)に伸張した伸張状態との間を伸縮することにより、搬送板チャック42をZ軸方向(矢印VII方向)に移動させる。また、一対のガイドシャフト部44は、下端が搬送板チャック42にそれぞれ固定されており、昇降ピストン43がZ軸方向に伸縮する際に、搬送板チャック42の水平度を維持するために、昇降ピストン43に同期して伸縮する。さらに、一対の引き剥がしピストン45は、Z軸方向に縮んだ待機状態と、搬送板チャック42の貫通孔42hを介して、Z軸方向(矢印VIII方向)に伸張した移動規制状態との間を伸縮する。なお、この一対の引き剥がしピストン45が、Z軸方向(矢印VIII方向)に伸張した移動規制状態においては、引き剥がしピストン45の下端が、搬送板チャック42の下面と面一となるように設定されている(図5(c)参照)。 The upper wall 41t of the vacuum chamber 41 is provided with a drive mechanism that is composed of a lifting piston 43, a pair of guide shafts 44, and a pair of peeling pistons 45, and drives the vacuum chamber 41. First, the lifting piston 43 has its lower end fixed to the conveying plate chuck 42, and moves the conveying plate chuck 42 in the Z-axis direction (arrow VII direction) by expanding and contracting between a standby state in which it is contracted in the Z-axis direction and an extended state in which it is extended in the Z-axis direction (arrow VII direction). In addition, the pair of guide shafts 44 have their lower ends fixed to the conveying plate chuck 42, and when the lifting piston 43 expands and contracts in the Z-axis direction, they expand and contract in sync with the lifting piston 43 to maintain the horizontality of the conveying plate chuck 42. Furthermore, the pair of peeling pistons 45 expand and contract between a standby state in which it is contracted in the Z-axis direction and a movement restriction state in which it is extended in the Z-axis direction (arrow VIII direction) through the through hole 42h of the conveying plate chuck 42. In addition, when the pair of peeling pistons 45 are in a restricted movement state in which they are extended in the Z-axis direction (the direction of arrow VIII), the lower ends of the peeling pistons 45 are set to be flush with the lower surface of the conveying plate chuck 42 (see FIG. 5(c)).

本実施形態において、昇降ピストン43及び一対の引き剥がしピストン45は、例えば、エアシリンダや油圧シリンダなどにより伸縮自在に構成される。また、本実施形態の真空チャンバー41内の駆動機構は、シール部材を介在させるガイドブロック構造を採用するものであり、これにより、真空チャンバー41の内部空間と外部空間とが、駆動機構を介して流体連通することを防止している。なお、本実施形態における真空チャンバー41内の駆動機構の配置や個数は、単なる例示にすぎず、最適な配置や個数を適宜選択することができる。 In this embodiment, the lifting piston 43 and the pair of peeling pistons 45 are configured to be freely expandable and contractible, for example, by air cylinders or hydraulic cylinders. In addition, the drive mechanism in the vacuum chamber 41 in this embodiment employs a guide block structure with a seal member interposed therebetween, thereby preventing fluid communication between the internal space and the external space of the vacuum chamber 41 via the drive mechanism. Note that the arrangement and number of drive mechanisms in the vacuum chamber 41 in this embodiment are merely examples, and the optimal arrangement and number can be selected as appropriate.

真空チャンバー41の周壁41sの下端には、Z軸方向の下方から見て、閉じた領域を形成するようにシール部材(不図示)が連続して設けられる。この真空チャンバー41のシール部材を、積層ステージ51上に当接及び密着させることにより、真空チャンバー41の内部空間を密閉状態に維持することができる(図4(d)参照)。 A sealing member (not shown) is provided continuously at the lower end of the peripheral wall 41s of the vacuum chamber 41 so as to form a closed area when viewed from below in the Z-axis direction. The internal space of the vacuum chamber 41 can be kept sealed by abutting and closely adhering the sealing member of the vacuum chamber 41 onto the stacking stage 51 (see FIG. 4(d)).

搬送板チャック42は、Z軸方向から見て、搬送板1がはみ出さないように保持可能とするように設定された略矩形形状を有し、一対の貫通孔42hと、複数の磁力部42mと、を備える。この一対の貫通孔42hは、引き剥がしピストン45と対応する位置に配置され、引き剥がしピストン45が非接触状態で挿通し得るように、貫通孔42hの直径が、引き剥がしピストン45の直径より大きく設定されている。また、複数の磁力部42mは、搬送板1を搬送板チャック42に磁気固定するためのものであり、永久磁石からなる。 The conveying plate chuck 42 has a generally rectangular shape when viewed from the Z-axis direction so that it can hold the conveying plate 1 without it protruding, and is equipped with a pair of through holes 42h and multiple magnetic parts 42m. The pair of through holes 42h are disposed at positions corresponding to the peeling piston 45, and the diameter of the through holes 42h is set to be larger than the diameter of the peeling piston 45 so that the peeling piston 45 can be inserted in a non-contact state. The multiple magnetic parts 42m are for magnetically fixing the conveying plate 1 to the conveying plate chuck 42, and are made of permanent magnets.

本実施形態の搬送板チャック42は、引き剥がしピストン45のZ軸方向の伸縮を許容するように、貫通孔42hを有するものであるが、これに限らず、例えば、搬送板チャック42の外周縁に連続する切り欠き部を設けてもよい。また、本実施形態の磁力部42mは、永久磁石からなるが、これに限らず、例えば、制御手段からの指示により、ON・OFF制御を行う電磁石を用いても良い。なお、本実施形態の搬送板チャック42における貫通孔42h及び磁力部42mの配置や個数は、単なる例示にすぎず、最適な配置や個数を適宜選択することができる。 The conveying plate chuck 42 of this embodiment has a through hole 42h to allow the peeling piston 45 to expand and contract in the Z-axis direction, but is not limited to this, and for example, a continuous notch may be provided on the outer periphery of the conveying plate chuck 42. In addition, the magnetic force portion 42m of this embodiment is made of a permanent magnet, but is not limited to this, and for example, an electromagnet that performs ON/OFF control according to instructions from a control means may be used. Note that the arrangement and number of the through holes 42h and magnetic force portions 42m in the conveying plate chuck 42 of this embodiment are merely examples, and the optimal arrangement and number can be selected as appropriate.

搬送ユニット駆動機構は、搬送ユニット40を、X軸方向(矢印V方向:アライメントステージ位置B、待機位置C,積層ステージ位置D)及びZ軸方向(矢印IV及びVI方向)へと移動させることができる。特に、搬送ユニット駆動機構が、搬送ユニット40を、Z軸方向(矢印IV及びVI方向)へと移動させることにより、搬送板1の回収(図4(b)及び図4(c)参照)や、真空引きに用いられる密閉空間の形成(図4(d)参照)などを行うことができるが、詳細は後述する。 The transport unit drive mechanism can move the transport unit 40 in the X-axis direction (arrow V direction: alignment stage position B, standby position C, stacking stage position D) and the Z-axis direction (arrows IV and VI direction). In particular, by moving the transport unit 40 in the Z-axis direction (arrows IV and VI direction), the transport unit drive mechanism can recover the transport plate 1 (see Figures 4(b) and 4(c)) and form an airtight space used for vacuuming (see Figure 4(d)), which will be described in detail later.

<積層ユニットについて>
積層ユニット50は、ワークWが積層される積層ステージ51を備える。この積層ステージ51は、Z軸方向から見て、搬送ユニット40の真空チャンバー41がはみ出さないように設置可能とするように設定された略矩形形状を有し、真空チャンバー41の周壁41sが積層ステージ51上に着座することにより、密閉空間が形成される。また、積層ステージ51は、真空チャンバー41及び積層ステージ51により形成される密閉空間を、真空引き及び大気開放するための排気ポート(不図示)及び開放ポート(不図示)を備える。さらに、積層ステージ51は、積層ステージ51上にワークWを載置した状態で固定するワーク固定機構(不図示)を備える。
<About the stacked unit>
The stacking unit 50 includes a stacking stage 51 on which the workpieces W are stacked. The stacking stage 51 has a substantially rectangular shape that is set so that the vacuum chamber 41 of the transport unit 40 can be installed without protruding when viewed from the Z-axis direction, and a sealed space is formed by seating the peripheral wall 41s of the vacuum chamber 41 on the stacking stage 51. The stacking stage 51 also includes an exhaust port (not shown) and an opening port (not shown) for evacuating and opening the sealed space formed by the vacuum chamber 41 and the stacking stage 51 to the atmosphere. The stacking stage 51 also includes a workpiece fixing mechanism (not shown) for fixing the workpiece W in a state in which it is placed on the stacking stage 51.

本実施形態における排気ポート及び開放ポートは、積層ステージ51に設けられるものであるが、これに限らず、例えば、真空チャンバー41に設けられても良い。また、本実施形態におけるワーク固定機構は、ワークWが積層ステージ51上に固定されていれば、どのような形態であってもよく、例えば、真空吸着や接着剤による貼り付け等を採用することができる。ここで、ワーク固定機構が真空吸着である場合には、ワークWの真空吸着における真空度を、真空チャンバー41内に形成される密閉空間の真空度に比べ、大きく設定する。 In this embodiment, the exhaust port and the release port are provided in the stacking stage 51, but are not limited thereto and may be provided in the vacuum chamber 41, for example. Furthermore, the workpiece fixing mechanism in this embodiment may be in any form as long as the workpiece W is fixed on the stacking stage 51, and for example, vacuum suction or attachment with an adhesive may be used. Here, when the workpiece fixing mechanism is vacuum suction, the degree of vacuum in vacuum suction of the workpiece W is set to be greater than the degree of vacuum in the sealed space formed in the vacuum chamber 41.

<搬送板回収ユニットについて>
搬送板回収ユニット60は、把持手段61と、除電手段62と、搬送板回収ユニット60のX軸方向(矢印IX方向)への移動を行う搬送板回収ユニット駆動機構(不図示)と、を備える。以下、それらを順に説明する。
<About the conveyor plate recovery unit>
The transport plate recovery unit 60 includes a gripping means 61, a charge removing means 62, and a transport plate recovery unit drive mechanism (not shown) for moving the transport plate recovery unit 60 in the X-axis direction (the direction of the arrow IX). Each of these will be described below in order.

把持手段61は、搬送板1を上下方向より把持するともに、搬送板1を、XY平面内(XY軸方向及びθ方向)(図6(d)参照)へと移動させることができる。この把持手段61は、搬送板1を把持できれば、どのような形態であってもよく、例えば、電動アクチュエータやエアアクチュエータなどにより駆動されるメカハンドやプッシャーなどを採用してもよい。 The gripping means 61 grips the conveying plate 1 from above and below, and can move the conveying plate 1 within the XY plane (XY axis direction and θ direction) (see FIG. 6(d)). This gripping means 61 may be in any form as long as it can grip the conveying plate 1, and may be, for example, a mechanical hand or pusher driven by an electric actuator or air actuator.

除電手段62は、電荷中和に必要な電荷を生成し、この電荷を除電エアiとして、帯電物体(搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体)へと供給するイオナイザからなる。この除電手段62が、図6(c)に示すように、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体に対して、除電エアiを流し込むことにより、搬送板1と積層体Lの最上部との静電吸着力を積極的に低下させる。 The charge neutralizing means 62 is an ionizer that generates the charge necessary for charge neutralization and supplies this charge as charge neutralizing air i to the charged object (insulator provided on one side 1a of the conveying plate 1). As shown in FIG. 6(c), the charge neutralizing means 62 actively reduces the electrostatic adsorption force between the conveying plate 1 and the top of the laminate L by blowing charge neutralizing air i into the insulator provided on one side 1a of the conveying plate 1.

本実施形態における除電手段62は、イオナイザを採用するものであるが、これに加え、例えば、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体を、ワークWが載置される領域より広く形成し、この絶縁体の外周縁を導電性がある把持手段61で直接把持するものを採用してもよい。これにより、絶縁体の外周縁及び把持手段61を介して、絶縁体における電荷中和が行われるため、搬送板1と積層体Lの最上部との静電吸着力をより積極的に低下させることができる。 In this embodiment, the charge removal means 62 employs an ionizer, but in addition to this, for example, an insulator provided on one side 1a of the conveying plate 1 may be formed wider than the area on which the workpiece W is placed, and the outer edge of this insulator may be directly gripped by the conductive gripping means 61. This allows charge neutralization in the insulator via the outer edge of the insulator and the gripping means 61, so that the electrostatic adsorption force between the conveying plate 1 and the top of the stack L can be more actively reduced.

搬送板回収ユニット駆動機構は、把持手段61を、搬送板1に近接させるとともに、除電手段62を、積層ステージ51に近接させるように、それぞれをX軸方向(矢印IX方向)へと移動させることができる。 The conveying plate recovery unit drive mechanism can move the gripping means 61 close to the conveying plate 1 and the static electricity removal means 62 close to the stacking stage 51 in the X-axis direction (direction of arrow IX).

<ワークの積層工程について>
図3乃至図6を用いて、具体的な真空積層装置100におけるワークWの積層工程を順に説明する。なお、各ユニット(反転ユニット10、帯電ユニット20、アライメントユニット30、搬送ユニット40、積層ユニット50、及び、搬送板回収ユニット60)の駆動は、制御手段を主体とし、制御手段からの指示により実行される。ここで、このワークの積層工程において、搬送板1は、常に、各ユニットの何れかに、固定されているため、ワークWの位置合わせや搬送などを安定した状態で行うことができる。
<About the work stacking process>
3 to 6, the stacking process of the workpieces W in the vacuum stacking device 100 will be described in order. The driving of each unit (the inversion unit 10, the charging unit 20, the alignment unit 30, the transport unit 40, the stacking unit 50, and the transport plate recovery unit 60) is mainly performed by the control means and is executed by instructions from the control means. Here, in this stacking process of the workpieces, the transport plate 1 is always fixed to one of the units, so that the alignment and transport of the workpieces W can be performed in a stable state.

<帯電動作について>
まず、図3(a)に示すように、帯電・反転位置Aに配置された反転ステージ11上に、搬送板供給ユニット(不図示)により、搬送板1の他側1bが接触するように載置されるとともに、搬送板1が、搬送板固定機構により、反転ステージ11に固定される。次に、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体上に、ワーク供給ユニット(不図示)により、粘着層a及び保護層pが設けられていないワークWの面(第2面)が接触するように載置される。さらに、反転ステージ11の上方を横切るように、帯電ユニット駆動機構により、帯電ユニット20が、X軸方向(矢印I(1)方向)に移動される。この際、荷電粒子cが、荷電粒子照射部21から下方に向けて照射されることにより、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体が、面的に帯電され、この絶縁体を介して、ワークWが搬送板1の一側1aに帯電固定される。ここで、図1に示すように、ワークWが載置された搬送板1の一側1aを、Z軸方向から見ると、ワークWが載置されていない領域がワークWを囲むように、形成されている。
<About charging operation>
First, as shown in FIG. 3A, the conveying plate 1 is placed on the inversion stage 11 arranged at the charging and inversion position A by a conveying plate supply unit (not shown) so that the other side 1b of the conveying plate 1 is in contact with the inversion stage 11, and the conveying plate 1 is fixed to the inversion stage 11 by a conveying plate fixing mechanism. Next, the workpiece W is placed on the insulator provided on one side 1a of the conveying plate 1 by a work supply unit (not shown) so that the surface (second surface) on which the adhesive layer a and the protective layer p are not provided is in contact with the insulator. Furthermore, the charging unit drive mechanism moves the charging unit 20 in the X-axis direction (arrow I(1) direction) so as to cross above the inversion stage 11. At this time, the charged particles c are irradiated downward from the charged particle irradiation unit 21, so that the insulator provided on one side 1a of the conveying plate 1 is charged in a planar manner, and the workpiece W is charged and fixed to the one side 1a of the conveying plate 1 through the insulator. Here, as shown in Figure 1, when one side 1a of the conveying plate 1 on which the workpiece W is placed is viewed from the Z-axis direction, an area on which the workpiece W is not placed is formed so as to surround the workpiece W.

本実施形態における帯電動作は、反転ステージ11に固定された搬送板1上にワークWを載置した後に、帯電ユニット20により、ワークWを絶縁体に帯電固定させるものとしたが、これに限らない。例えば、反転ステージ11に固定された搬送板1上にワークWを載置する前に、帯電ユニット20により、搬送板1の絶縁体を帯電させて、その後、ワークWを絶縁体に帯電固定させてもよい。なお、本実施形態の帯電動作のように、反転ステージ11に固定された搬送板1上にワークWを載置した後に、ワークWを絶縁体に帯電固定させることにより、搬送板1におけるワークWの位置ずれや、シワの発生などを抑制できるとともに、絶縁体からの放電の危険性や、絶縁体にコンタミメーションが発生することなどを抑制することができる。 In the charging operation in this embodiment, the workpiece W is placed on the conveying plate 1 fixed to the inversion stage 11, and then the charging unit 20 charges and fixes the workpiece W to the insulator, but this is not limited to the above. For example, before placing the workpiece W on the conveying plate 1 fixed to the inversion stage 11, the charging unit 20 may charge the insulator of the conveying plate 1, and then the workpiece W may be charged and fixed to the insulator. In addition, by charging and fixing the workpiece W to the insulator after placing it on the conveying plate 1 fixed to the inversion stage 11 as in the charging operation in this embodiment, it is possible to suppress the positional deviation of the workpiece W on the conveying plate 1 and the occurrence of wrinkles, and to suppress the risk of discharge from the insulator and the occurrence of contamination of the insulator.

<反転ユニットによる反転及び搬送動作について>
まず、図3(b)に示すように、搬送板1に帯電固定されたワークWに設けられる保護層pが、剥離ユニット(不図示)により、剥離される。これにより、搬送板1上に帯電固定されたワークWは、粘着性を有する粘着層aを片面側のみに設けたワークW(以下、「粘着剤付きワークWa」という)となる。その後、反転ユニット10が、反転ユニット駆動機構により、Y軸周り(矢印II(2)方向)に180°回転されるとともに、粘着剤付きワークWaの粘着層aが、下方を向くように配置される。ここで、搬送板固定機構による反転ステージ11に対する搬送板1の他側1bの固定保持力、及び、帯電固定による搬送板1の一側1aに対する粘着剤付きワークWaの静電吸着力は、反転ステージ11が反転した際に、搬送板1及び粘着剤付きワークWaが反転ステージ11から落下しないような値に、予め設定されている。
<About the reversing and conveying operations by the reversing unit>
First, as shown in FIG. 3(b), the protective layer p provided on the workpiece W charged and fixed to the conveying plate 1 is peeled off by a peeling unit (not shown). As a result, the workpiece W charged and fixed on the conveying plate 1 becomes a workpiece W (hereinafter referred to as "adhesive-attached workpiece Wa") having an adhesive layer a having adhesiveness provided only on one side. After that, the reversing unit 10 is rotated 180° around the Y axis (in the direction of the arrow II(2)) by the reversing unit driving mechanism, and the adhesive layer a of the adhesive-attached workpiece Wa is arranged so as to face downward. Here, the fixing and holding force of the other side 1b of the conveying plate 1 to the reversing stage 11 by the conveying plate fixing mechanism and the electrostatic adsorption force of the adhesive-attached workpiece Wa to the one side 1a of the conveying plate 1 by the charging fixation are preset to values such that the conveying plate 1 and the adhesive-attached workpiece Wa do not fall from the reversing stage 11 when the reversing stage 11 is reversed.

本実施形態においては、搬送板1上に帯電固定されるワークWとして、粘着層a及び保護層pを片面側のみに設けるワークWを採用するものであるが、これに限らず、例えば、粘着層a及び保護層pを両面側に設けるワークWや、粘着層a及び保護層pを両面側に設けないワークWを採用してもよい。なお、搬送板1上に帯電固定されるワークWとして、粘着層a及び保護層pを両面側に設けるワークWを採用する場合には、ワークWの何れかの面の保護層pが、搬送板1の一側1aの絶縁体上に直接載置される。 In this embodiment, the work W to be charged and fixed on the conveying plate 1 is a work W having an adhesive layer a and a protective layer p on only one side, but this is not limited thereto. For example, a work W having an adhesive layer a and a protective layer p on both sides, or a work W not having an adhesive layer a and a protective layer p on both sides may be used. When a work W having an adhesive layer a and a protective layer p on both sides is used as the work W to be charged and fixed on the conveying plate 1, the protective layer p on one side of the work W is placed directly on the insulator on one side 1a of the conveying plate 1.

次に、図3(c)に示すように、反転ユニット10が、反転ユニット駆動機構により、帯電・反転位置Aからアライメントステージ位置Bへと、X軸方向(矢印III(3)方向)に移動された後、Z軸方向の下方(矢印IV(4)方向)へと移動される。これにより、搬送板1の一側1aのワークWaが載置されていない領域を、アライメントユニット30の設置ブロック32の上面に当接させる。そして、搬送板1を設置ブロック32の上面に吸着固定させた後、搬送板固定機構による反転ステージ11に対する搬送板1の他側1bへの固定を解除する。その後、図3(d)に示すように、反転ユニット10が、反転ユニット駆動機構により、Z軸方向の上方(矢印IV(5)方向)に移動された後、アライメントステージ位置Bから帯電・反転位置Aへと、X軸方向(矢印III(6)方向)に移動される。 Next, as shown in FIG. 3(c), the reversal unit 10 is moved by the reversal unit drive mechanism from the charging/reversal position A to the alignment stage position B in the X-axis direction (arrow III(3) direction), and then moved downward in the Z-axis direction (arrow IV(4) direction). As a result, the area on one side 1a of the conveying plate 1 where the workpiece Wa is not placed is brought into contact with the upper surface of the installation block 32 of the alignment unit 30. Then, after the conveying plate 1 is adsorbed and fixed to the upper surface of the installation block 32, the fixation of the other side 1b of the conveying plate 1 to the reversal stage 11 by the conveying plate fixing mechanism is released. Then, as shown in FIG. 3(d), the reversal unit 10 is moved by the reversal unit drive mechanism upward in the Z-axis direction (arrow IV(5) direction), and then moved from the alignment stage position B to the charging/reversal position A in the X-axis direction (arrow III(6) direction).

<アライメント動作について>
図3(d)に示すように、アライメント撮像ユニット34が、粘着剤付きワークWaに設けられた一対のアライメントマークを下方より撮像する。この撮像された画像は、画像処理装置(不図示)に送信され、画像処理により、一対のアライメントマークのそれぞれの位置が算出されるとともに、この算出された一対のアライメントマークの位置と予め定められた基準位置との誤差が算出される。ここで、この誤差が所定範囲内であれば、粘着剤付きワークWaの位置合わせが適切に行われたものと判断され、粘着剤付きワークWaの位置合わせ動作を終了にする。一方、この誤差が所定範囲外であれば、粘着剤付きワークWaの位置合わせが適切に行われなかったものと判断される。この際、XYθ軸電動アクチュエータ33が、誤差が最小となるように、アライメントステージ31、設置ブロック32及び搬送板1を介して、粘着剤付きワークWaのXYθ軸への移動を行う。この予め定められた基準位置への位置合わせは、誤差が所定範囲内となるまで続けられる。
<About alignment operation>
As shown in FIG. 3(d), the alignment imaging unit 34 captures an image of a pair of alignment marks provided on the adhesive-attached workpiece Wa from below. The captured image is sent to an image processing device (not shown), and the positions of the pair of alignment marks are calculated by image processing, and the error between the calculated positions of the pair of alignment marks and a predetermined reference position is calculated. If the error is within a predetermined range, it is determined that the adhesive-attached workpiece Wa has been properly aligned, and the alignment operation of the adhesive-attached workpiece Wa is terminated. On the other hand, if the error is outside the predetermined range, it is determined that the adhesive-attached workpiece Wa has not been properly aligned. At this time, the XYθ-axis electric actuator 33 moves the adhesive-attached workpiece Wa to the XYθ-axis via the alignment stage 31, the installation block 32, and the conveying plate 1 so as to minimize the error. This alignment to the predetermined reference position is continued until the error falls within a predetermined range.

本実施形態におけるアライメント動作は、粘着剤付きワークWaとアライメントステージ31とが非接触状態において行われるため、粘着層aに埃等が付着することなく、円滑に行うことができる。 In this embodiment, the alignment operation is performed in a non-contact state between the adhesive-coated workpiece Wa and the alignment stage 31, so it can be performed smoothly without dust or other particles adhering to the adhesive layer a.

<搬送ユニットによる搬送動作について>
搬送ユニットによる搬送動作について、図4(a)乃至図4(d)を用いて、搬送板の磁気固定状態及び搬送状態の2つの状態に分けてそれぞれ説明する。
<Transport operation by the transport unit>
The conveying operation by the conveying unit will be described with reference to FIGS. 4A to 4D, with the conveying plate being in two states, a magnetically fixed state and a conveying state.

(搬送板の磁気固定状態)
搬送ユニット40は、昇降ピストン43及び引き剥がしピストン45を縮めた待機状態で、待機位置Cに停止している。まず、アライメントユニット30において、粘着剤付きワークWaの位置合わせが適切に行われたと判断されると、図4(a)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、待機位置Cからアライメントステージ位置Bへと、X軸方向(矢印V(7)方向)に移動される。その後、図4(b)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、Z軸方向の下方(矢印IV(8)方向)に移動され、搬送板チャック42が、搬送板1の他側1bに当接される。この際、磁性体からなる搬送板1が、永久磁石からなる複数の磁力部42mにより、搬送板チャック42に磁気固定される。ここで、搬送板1において、Z軸方向の下方に作用する設置ブロック32への吸着保持力が、Z軸方向の上方に作用する磁力部42mへの磁力より大きく設定されている。これにより、搬送板1が、設置ブロック32から浮上することなく、設置ブロック32に吸着固定された状態で、搬送板チャック42に磁気固定されるため、搬送板1上に帯電固定された粘着剤付きワークWaの位置がずれることを防止できる。
(Transport plate magnetically fixed state)
The transport unit 40 is stopped at the standby position C in a standby state in which the lift piston 43 and the peeling piston 45 are contracted. First, when it is determined that the alignment of the adhesive-attached workpiece Wa has been properly performed in the alignment unit 30, the transport unit 40 is moved from the standby position C to the alignment stage position B in the X-axis direction (arrow V (7) direction) by the transport unit drive mechanism, as shown in FIG. 4(a). Then, as shown in FIG. 4(b), the transport unit 40 is moved downward in the Z-axis direction (arrow IV (8) direction) by the transport unit drive mechanism, and the transport plate chuck 42 is brought into contact with the other side 1b of the transport plate 1. At this time, the transport plate 1 made of a magnetic material is magnetically fixed to the transport plate chuck 42 by a plurality of magnetic force parts 42m made of permanent magnets. Here, in the transport plate 1, the attraction and holding force acting on the installation block 32 downward in the Z-axis direction is set to be greater than the magnetic force acting on the magnetic force part 42m upward in the Z-axis direction. As a result, the conveying plate 1 is magnetically fixed to the conveying plate chuck 42 while being adsorbed and fixed to the mounting block 32 without floating up from the mounting block 32, thereby preventing the position of the adhesive-covered workpiece Wa charged and fixed to the conveying plate 1 from shifting.

本実施形態において、磁力部42mは、永久磁石を採用するものであるが、これに代えて、ON・OFF制御を行う電磁石を採用する場合には、搬送板チャック42が、搬送板1の他側1bに当接する前後のタイミングで、OFF制御からON制御へと切り換えて、磁力を発生させてもよい。 In this embodiment, the magnetic section 42m uses a permanent magnet, but if an electromagnet that performs ON/OFF control is used instead, the magnetic force may be generated by switching from OFF control to ON control around the time when the conveying plate chuck 42 abuts against the other side 1b of the conveying plate 1.

(搬送状態)
まず、設置ブロック32の上面に対する搬送板1の一側1aの吸着固定を解除した後、図4(c)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、Z軸方向の上方(矢印IV(9)方向)に移動される。その後、図4(d)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、アライメントステージ位置Bから積層ステージ位置Dへと、X軸方向(矢印V(10)方向)に移動された後、Z軸方向の下方(矢印VI(11)方向)に移動される。これにより、真空チャンバー41の周壁41sの下端に設けられるシール部材が、積層ステージ51に当接及び密着することにより、真空チャンバー41内に密閉空間(内部圧力は大気圧Pa)が形成される。この際、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWa、及び、積層ステージ51に積層されている積層体Lは、非接触状態で上下方向に対向配置される。
(Transportation state)
First, after releasing the suction fixation of one side 1a of the conveying plate 1 from the upper surface of the installation block 32, as shown in FIG. 4(c), the conveying unit 40 is moved upward in the Z-axis direction (arrow IV(9) direction) by the conveying unit drive mechanism. Then, as shown in FIG. 4(d), the conveying unit 40 is moved in the X-axis direction (arrow V(10) direction) from the alignment stage position B to the stacking stage position D by the conveying unit drive mechanism, and then moved downward in the Z-axis direction (arrow VI(11) direction). As a result, the seal member provided at the lower end of the peripheral wall 41s of the vacuum chamber 41 abuts and adheres to the stacking stage 51, forming an enclosed space (internal pressure is atmospheric pressure Pa) in the vacuum chamber 41. At this time, the adhesive-attached workpiece Wa charged and fixed to the conveying plate 1 and the stacked body L stacked on the stacking stage 51 are arranged opposite each other in the vertical direction in a non-contact state.

ここで、積層ステージ51に積層されている積層体Lにおいて、最下部のワークWのみが、粘着層aを設けないワークWであり、ワーク固定機構により、積層ステージ51に固定されており、その他のワークWは、粘着剤付きワークWaからなり、互いの接着力により固定されている。本実施形態において、搬送ユニット駆動機構により、積層ステージ51に対する真空チャンバー41の押圧力が、所望の値となるように調整することにより、真空チャンバー41内に形成される密閉空間の気密度を高めている。 Here, in the laminate L stacked on the stacking stage 51, only the bottom workpiece W is a workpiece W that does not have an adhesive layer a and is fixed to the stacking stage 51 by the workpiece fixing mechanism, while the other workpieces W are made of adhesive-attached workpieces Wa and are fixed to each other by their adhesive force. In this embodiment, the pressure of the vacuum chamber 41 against the stacking stage 51 is adjusted by the transport unit driving mechanism to a desired value, thereby increasing the airtightness of the sealed space formed in the vacuum chamber 41.

<積層動作について>
ここから、積層動作について、図5(a)乃至図5(e)を用いて、真空引き状態、積層状態及び搬送板の磁気固定解除状態の3つの状態に分けてそれぞれ説明する。なお、図5(b)乃至図5(e)において、昇降ピストン43又は一対の引き剥がしピストン45の動作を把握し易くするために、動作状態にある部材を灰色で示している。
<About stacking operation>
From now on, the stacking operation will be explained in three states, namely, a vacuum state, a stacking state, and a magnetic fixation release state of the conveying plate, with reference to Fig. 5(a) to Fig. 5(e). In Fig. 5(b) to Fig. 5(e), the members in the operating state are shown in gray to make it easier to understand the operation of the lifting piston 43 or the pair of peeling pistons 45.

(真空引き状態)
まず、図5(a)に示すように、真空チャンバー41内に形成された密閉空間内の気体が、積層ステージ51に設けられる排気ポートを介して、排気されることにより、真空引きが行われる(図中のドット領域参照)。この密閉空間内における真空圧Pvは、例えば、-100(kpa)程度に設定されている。ここで、粘着剤付きワークWaは、搬送板1に帯電固定されるとともに、搬送板1は、搬送板チャック42に磁気固定されるため、真空下においても、粘着剤付きワークWaや搬送板1が搬送板チャック42から落下することはない。
(Vacuum state)
5A, the gas in the sealed space formed in the vacuum chamber 41 is exhausted through an exhaust port provided in the stacking stage 51, thereby drawing a vacuum (see the dotted area in the figure). The vacuum pressure Pv in this sealed space is set to, for example, about -100 (kPa). Here, the adhesive-attached workpiece Wa is charged and fixed to the conveying plate 1, and the conveying plate 1 is magnetically fixed to the conveying plate chuck 42, so that the adhesive-attached workpiece Wa and the conveying plate 1 do not fall from the conveying plate chuck 42 even under vacuum.

(積層状態)
真空チャンバー41内の真空圧Pvが所望の値に達した後、図5(b)に示すように、昇降ピストン43は、伸張状態へと移行し、搬送板チャック42が、Z軸方向の下方(矢印VII(12)方向)に移動される。そして、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWaが、積層ステージ51に積層されている積層体Lの最上部に当接される。さらに、この状態から、昇降ピストン43は、粘着剤付きワークWaに用いられている粘着剤の種類により、予め設定されている押し込み量だけ、搬送板チャック42を、Z軸方向の下方(矢印VII(12)方向)へと移動させる。これにより、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWaは、接着力により積層体Lと一体的に積層される。
(Laminated state)
After the vacuum pressure Pv in the vacuum chamber 41 reaches a desired value, the lifting piston 43 transitions to an extended state, and the conveying plate chuck 42 is moved downward in the Z-axis direction (in the direction of the arrow VII (12)), as shown in FIG. 5(b). Then, the adhesive-attached workpiece Wa charged and fixed to the conveying plate 1 is abutted against the top of the stack L stacked on the stacking stage 51. From this state, the lifting piston 43 further moves the conveying plate chuck 42 downward in the Z-axis direction (in the direction of the arrow VII (12)) by a pressing amount that is preset depending on the type of adhesive used in the adhesive-attached workpiece Wa. As a result, the adhesive-attached workpiece Wa charged and fixed to the conveying plate 1 is stacked integrally with the stack L by the adhesive force.

本実施形態において、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWaと、積層ステージ51に積層されている積層体Lとの間の空間を真空引きした後に、粘着剤付きワークWaが、積層体Lへと一体的に積層されることにより、積層体Lの層間への空気の混入が防止される。また、本実施形態において、搬送ユニット40は、単に、搬送板1の搬送を行うのみならず、密閉空間の形成や、ワークWの積層などを行うことができるため、真空積層装置100を構成する各ユニットの簡略化や、コストの削減を行うことができる。なお、本実施形態の積層動作において、積層体Lの積層精度をさらに向上させるために、例えば、ピンガイド積層方式、つまり、積層ステージ51及び搬送板チャック42に設けたピン及びガイド穴を互いに係合させて、積層を行う方法を採用してもよい。 In this embodiment, after the space between the adhesive-attached workpiece Wa charged and fixed to the conveying plate 1 and the laminate L stacked on the stacking stage 51 is evacuated, the adhesive-attached workpiece Wa is stacked integrally with the laminate L, thereby preventing air from entering between the layers of the laminate L. In addition, in this embodiment, the conveying unit 40 not only transports the conveying plate 1, but also forms a sealed space and stacks the workpieces W, so that each unit constituting the vacuum stacking device 100 can be simplified and costs can be reduced. In addition, in order to further improve the stacking accuracy of the laminate L in the stacking operation of this embodiment, for example, a pin guide stacking method, that is, a method of stacking by engaging pins and guide holes provided on the stacking stage 51 and the conveying plate chuck 42 with each other, may be adopted.

(搬送板の磁気固定解除状態)
まず、図5(c)に示すように、一対の引き剥がしピストン45が、Z軸方向の下方(矢印VIII(13)方向)へと伸張されるとともに、搬送板チャック42に設けられる貫通孔42hを非接触状態で挿通される。そして、引き剥がしピストン45の下端が、搬送板チャック42の下面と面一となる位置、つまり、搬送板1の他側1bに当接する位置に達した状態で、引き剥がしピストン45の伸張が停止される。ここで、引き剥がしピストン45は、下端が搬送板1に当接するとともに、堅固に固定された移動規制状態となっているため、搬送板1のZ軸方向の上方への移動が規制される。
(Transport plate magnetically released)
First, as shown in Fig. 5(c), a pair of peeling pistons 45 are extended downward in the Z-axis direction (in the direction of arrow VIII (13)) and are inserted in a non-contact state through the through-holes 42h provided in the conveying plate chuck 42. Then, when the lower ends of the peeling pistons 45 reach a position where they are flush with the lower surface of the conveying plate chuck 42, that is, a position where they abut against the other side 1b of the conveying plate 1, the extension of the peeling pistons 45 is stopped. Here, the lower ends of the peeling pistons 45 abut against the conveying plate 1 and are firmly fixed in a movement restricted state, so that the upward movement of the conveying plate 1 in the Z-axis direction is restricted.

次に、図5(d)に示すように、昇降ピストン43により、搬送板チャック42は、Z軸方向の上方(矢印VII(14)方向)に移動されるとともに、縮んだ待機状態に置かれる。この際、搬送板1に作用する磁力部42mの磁力より大きい力が、昇降ピストン43により、搬送板チャック42に負荷されて、搬送板チャック42と搬送板1との磁気固定が解除される。また、引き剥がしピストン45により、搬送板1のZ軸方向の上方への移動が規制されているため、積層体Lの層間には、引き剥がされるような外力が負荷されず、積層体Lの積層精度を維持することができる。そして、図5(e)に示すように、一対の引き剥がしピストン45は、Z軸方向の上方(矢印VIII(15)方向)に移動され、縮んだ待機状態に置かれる。 Next, as shown in FIG. 5(d), the lifting piston 43 moves the conveying plate chuck 42 upward in the Z-axis direction (in the direction of the arrow VII (14)) and places it in a retracted standby state. At this time, a force greater than the magnetic force of the magnetic part 42m acting on the conveying plate 1 is applied to the conveying plate chuck 42 by the lifting piston 43, and the magnetic fixation between the conveying plate chuck 42 and the conveying plate 1 is released. In addition, since the peeling piston 45 restricts the upward movement of the conveying plate 1 in the Z-axis direction, no external force that would peel off the layers of the laminate L is applied between the layers, and the stacking accuracy of the laminate L can be maintained. Then, as shown in FIG. 5(e), the pair of peeling pistons 45 are moved upward in the Z-axis direction (in the direction of the arrow VIII (15)) and placed in a retracted standby state.

本実施形態において、磁力部42mは、永久磁石を採用するものであるが、これに代えて、ON・OFF制御を行う電磁石を採用する場合には、引き剥がしピストン45の下端が、搬送板1の他側1bに当接する前後のタイミングで、ON制御からOFF制御へと切り換えて、磁力を消失させてもよい。 In this embodiment, the magnetic section 42m uses a permanent magnet, but if an electromagnet that performs ON/OFF control is used instead, the magnetic force may be switched from ON control to OFF control around the time when the lower end of the peeling piston 45 abuts against the other side 1b of the conveying plate 1, thereby causing the magnetic force to disappear.

<搬送板の回収動作について>
搬送板の回収動作について、図6(a)乃至図6(e)を用いて、回収準備状態及び回収状態の2つの状態に分けてそれぞれ説明する。なお、図6(a)乃至図6(c)、図6(e)は、搬送板1の回収動作を説明する断面模式図であり、図6(d)は、図6(c)における搬送板1及び積層体Lのみを示す平面模式図である。
<About the collection operation of the transport plate>
The recovery operation of the conveying plate will be described in two states, a recovery preparation state and a recovery state, with reference to Fig. 6(a) to Fig. 6(e). Fig. 6(a) to Fig. 6(c) and Fig. 6(e) are schematic cross-sectional views explaining the recovery operation of the conveying plate 1, and Fig. 6(d) is a schematic plan view showing only the conveying plate 1 and the laminate L in Fig. 6(c).

(回収準備状態)
まず、図6(a)に示すように、真空チャンバー41内に形成される密閉空間内へと、積層ステージ51に設けられる開放ポートを介して、気体を供給し、内部圧力が大気圧Paとなるように大気開放が行われる。そして、図6(b)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、Z軸方向の上方(矢印VI(16)方向)に移動された後、積層ステージ位置Dから待機位置Cへと、X軸方向(矢印V(17)方向)に移動される。
(Ready for collection)
First, as shown in Fig. 6(a), gas is supplied into the sealed space formed in the vacuum chamber 41 via an opening port provided in the stacking stage 51, and the space is opened to the atmosphere so that the internal pressure becomes atmospheric pressure Pa. Then, as shown in Fig. 6(b), the transport unit 40 is moved upward in the Z-axis direction (in the direction of arrow VI (16)) by the transport unit drive mechanism, and then moved in the X-axis direction (in the direction of arrow V (17)) from the stacking stage position D to the standby position C.

(回収状態)
図6(c)に示すように、搬送板回収ユニット60が、搬送板回収ユニット駆動機構により、X軸方向(矢印IX方向)に移動されることにより、把持手段61が、搬送板1に近接されるとともに、除電手段62が、積層ステージ51に近接される。そして、把持手段61により、把持位置Gにおいて搬送板1が、上下方向から把持された後、図6(d)に示すように、搬送板1がXY平面内(XY軸方向及びθ方向)に移動される。加えて、除電手段62により、搬送板1と積層体Lとの間には、除電エアiが流し込まれる。
(Recovery status)
As shown in Fig. 6(c), the conveying plate recovery unit 60 is moved in the X-axis direction (direction of arrow IX) by the conveying plate recovery unit drive mechanism, so that the gripping means 61 approaches the conveying plate 1 and the static electricity removing means 62 approaches the stacking stage 51. Then, after the conveying plate 1 is gripped from above and below at the gripping position G by the gripping means 61, the conveying plate 1 is moved within the XY plane (XY-axis direction and θ direction) as shown in Fig. 6(d). In addition, the static electricity removing means 62 flows static electricity removing air i between the conveying plate 1 and the stack L.

ここで、把持手段61及び除電手段62を用いた除電メカニズムについて説明する。まず、積層体Lの最上部に積層された粘着剤付きワークWaと搬送板1との間の帯電固定は、Z軸方向への引張力に対しては、強固であるが、XY平面に平行なせん断力に対しては、比較的容易に横ずれを生じる。このため、図6(d)に示すように、積層体Lの位置は、固定されたままで、把持手段61により、搬送板1が、積層体Lに対して、XY平面内へとスライドされる。この際、搬送板1と積層体Lとの間には、除電手段62により、除電エアiが流し込まれるため、積層体Lの最上部に積層された粘着剤付きワークWaと搬送板1との静電吸着力は、絶縁体の外側から内側に向かって順に弱まっていく。このスライド及び除電エアiの流し込みが繰り返されることにより、搬送板1が積層体Lから分離され、回収される。その結果、図6(e)に示すように、積層ステージ51上には、粘着剤付きワークWaが、積層体Lの最上部に一体的に積層される。 Here, the static elimination mechanism using the gripping means 61 and the static elimination means 62 will be described. First, the charge fixation between the adhesive-attached workpiece Wa stacked on the top of the stack L and the conveying plate 1 is strong against tensile forces in the Z-axis direction, but is relatively easy to shift sideways against shear forces parallel to the XY plane. For this reason, as shown in FIG. 6(d), the position of the stack L remains fixed, and the conveying plate 1 is slid into the XY plane relative to the stack L by the gripping means 61. At this time, static elimination air i is poured between the conveying plate 1 and the stack L by the static elimination means 62, so that the electrostatic adsorption force between the adhesive-attached workpiece Wa stacked on the top of the stack L and the conveying plate 1 weakens in sequence from the outside to the inside of the insulator. By repeating this sliding and the pouring of static elimination air i, the conveying plate 1 is separated from the stack L and collected. As a result, as shown in FIG. 6(e), the adhesive-attached workpiece Wa is stacked integrally on the top of the stack L on the stacking stage 51.

本実施形態において、搬送板1を積層体Lから分離し回収する際に、積層体Lの層間には、引き剥がされるような外力が負荷されないため、層間に空気が混入することを防止できる。また、本実施形態におけるワークWは、粘着剤付きワークWaを用いて説明したが、これに代えて、粘着層a及び保護層pを両面側に設けるワークWを用いる場合には、ワークWが積層体Lに積層された後に、ワークWの上面側に位置する保護層pが剥離されてもよい。さらに、本実施形態において、積層体Lにおける層間の粘着剤の接着力が、積層体Lと搬送板1との静電吸着力より比較的大きい場合には、搬送板1は、把持手段61により、XY平面内に移動されるのに加え、Z軸方向へと移動されてもよい。これは、把持手段61により、積層体Lに対してZ軸方向の外力が負荷されても、積層体Lの層間が引き剥がされないため、層間への空気の混入を防止することや、積層精度を維持することができるためである。 In this embodiment, when the conveying plate 1 is separated from the laminate L and collected, no external force that would cause the layers of the laminate L to be peeled off is applied between the layers, so that air can be prevented from being mixed between the layers. In addition, the workpiece W in this embodiment has been described using an adhesive-attached workpiece Wa, but instead, when a workpiece W having an adhesive layer a and a protective layer p on both sides is used, the protective layer p located on the upper surface side of the workpiece W may be peeled off after the workpiece W is stacked on the laminate L. Furthermore, in this embodiment, if the adhesive strength between the layers of the laminate L is relatively greater than the electrostatic adsorption force between the laminate L and the conveying plate 1, the conveying plate 1 may be moved by the gripping means 61 in the Z-axis direction in addition to being moved within the XY plane. This is because, even if an external force in the Z-axis direction is applied to the laminate L by the gripping means 61, the layers of the laminate L are not peeled off, so that air can be prevented from being mixed between the layers and the stacking accuracy can be maintained.

以上のように、一枚のワークWを積層体Lに積層する積層工程について説明したが、さらなるワークWを積層体Lに積層する必要がある場合には、積層工程(図3乃至6)を必要枚数分さらに繰り返すことにより、所望の積層体Lを形成することができる。 As described above, the stacking process for stacking one workpiece W into the laminate L has been described. However, if it is necessary to stack additional workpieces W into the laminate L, the stacking process (Figures 3 to 6) can be repeated for the required number of workpieces to form the desired laminate L.

100 真空積層装置
1 搬送板
10 反転ユニット(反転手段)
11 反転ステージ
20 帯電ユニット(帯電手段)
30 アライメントユニット(アライメント手段)
31 アライメントステージ
32 設置ブロック
40 搬送ユニット(搬送手段)
41 真空チャンバー
42 搬送板チャック
43 昇降ピストン
44 ガイドシャフト部
45 引き剥がしピストン
50 積層ユニット(積層手段)
51 積層ステージ
60 搬送板回収ユニット(搬送板回収手段)
61 把持手段
62 除電手段
A 帯電・反転位置
B アライメントステージ位置
C 待機位置
D 積層ステージ位置
L 積層体
W ワーク
Wa 粘着剤付きワーク
100 Vacuum lamination device 1 Conveyor plate 10 Reversal unit (reversal means)
11 Inversion stage 20 Charging unit (charging means)
30 Alignment unit (alignment means)
31 Alignment stage 32 Installation block 40 Transport unit (transport means)
41 Vacuum chamber 42 Conveyor plate chuck 43 Lifting piston 44 Guide shaft portion 45 Peeling piston 50 Stacking unit (stacking means)
51 Stacking stage 60 Carrying plate recovery unit (carrying plate recovery means)
61 gripping means 62 charge removing means A charging/reversing position B alignment stage position C standby position D stacking stage position L stacked body W work Wa adhesive-attached work

Claims (8)

複数のワークを順次積層する真空積層装置であって、
前記ワークを保持する搬送板と、
前記搬送板を固定支持しつつ、前記搬送板に保持された前記ワークの位置合わせを行うアライメント手段と、
真空下において、位置合せされた前記ワークを積層ステージ上に積層する積層手段と、
常時、互いに離隔配置される、前記アライメント手段と前記積層手段との間を移動し、前記ワークが前記搬送板に保持された状態において、前記搬送板を固定支持しつつ、前記アライメント手段から前記積層手段へと前記ワークを搬送する搬送手段と、を備え、
前記搬送板は、前記アライメント手段及び前記搬送手段のそれぞれと着脱可能であり、一側に前記ワークを帯電固定し、他側が前記搬送手段と磁気固定されることを特徴とする真空積層装置。
A vacuum stacking apparatus for stacking a plurality of workpieces in sequence,
A conveying plate for holding the workpiece;
an alignment means for aligning the workpiece held on the conveying plate while fixing and supporting the conveying plate;
A stacking means for stacking the aligned workpieces on a stacking stage under vacuum;
a conveying means that moves between the alignment means and the stacking means , which are always spaced apart from each other, and conveys the workpiece from the alignment means to the stacking means while fixing and supporting the conveying plate in a state in which the workpiece is held by the conveying plate;
A vacuum lamination apparatus, characterized in that the conveying plate is detachable from each of the alignment means and the conveying means, the workpiece is charged and fixed to one side, and the other side is magnetically fixed to the conveying means.
前記搬送板は、磁性体で構成されるとともに、前記搬送板の一側には、絶縁体が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空積層装置。 The vacuum stacking device according to claim 1, characterized in that the conveying plate is made of a magnetic material and an insulator is provided on one side of the conveying plate. 前記搬送板は、粘着性を有する前記ワークの第1面とは反対側にする非粘着性の第2面を帯電固定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空積層装置。 The vacuum lamination device according to claim 1 or 2, characterized in that the conveying plate charges and fixes a non-adhesive second surface opposite to the adhesive first surface of the workpiece. 前記アライメント手段は、アライメントステージと、前記アライメントステージ上に設置ブロックとを備え、
前記搬送板は、前記ワークと前記アライメントステージとが非接触状態となるように、前記設置ブロックに載置されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の真空積層装置。
The alignment means includes an alignment stage and a mounting block on the alignment stage;
4. The vacuum lamination apparatus according to claim 1, wherein the conveying plate is placed on the mounting block so that the workpiece and the alignment stage are in a non-contact state.
前記搬送手段を前記積層手段に当接させて、密閉空間を形成するとともに、真空下とした前記密閉空間内において、前記搬送手段により、前記搬送板を移動させて、前記ワークを積層することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の真空積層装置。 The vacuum stacking device according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the conveying means is brought into contact with the stacking means to form an enclosed space, and the conveying means moves the conveying plate within the enclosed space under vacuum to stack the workpieces. 搬送板回収手段をさらに備え、
前記搬送板回収手段は、前記搬送板に対して除電を行って前記ワークから前記搬送板を剥離可能とし、前記搬送板を回収することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の真空積層装置。
Further comprising a conveying plate collecting means,
6. The vacuum lamination apparatus according to claim 1, wherein the conveying plate recovery means removes electricity from the conveying plate to enable the conveying plate to be peeled off from the workpiece, and recovers the conveying plate.
複数のワークを順次積層する積層体の製造方法であって、
搬送板の一側に前記ワークを帯電固定するステップと、
前記搬送板をアライメントステージに固定支持した状態で、前記搬送板に帯電固定された前記ワークの位置合わせを行うステップと、
前記搬送板の一側に前記ワークを帯電固定した状態で、前記搬送板の他側を磁気固定し、常時、互いに離隔配置される、前記アライメントステージから積層ステージへと、位置合せされた前記ワークを搬送するステップと、
真空下において、前記積層ステージ上に位置合せされた前記ワークを積層するステップと、
を備えることを特徴とする積層体の製造方法。
A method for manufacturing a laminate in which a plurality of workpieces are sequentially laminated, comprising the steps of:
charging and fixing the workpiece to one side of a conveying plate;
aligning the workpiece charged and fixed to the conveying plate while the conveying plate is fixed and supported on an alignment stage;
A step of transporting the aligned workpiece from the alignment stage to a stacking stage, in which the workpiece is charged and fixed to one side of the transport plate, the other side of the transport plate is magnetically fixed, and the workpiece is always spaced apart from the other side of the transport plate;
stacking the workpieces aligned on the stacking stage under vacuum;
A method for producing a laminate, comprising:
前記ワークを搬送するステップは、上壁及び側壁を有する真空チャンバー内に、前記搬送板を磁気固定させるものであり、前記真空チャンバーを前記積層ステージに当接させることにより、密閉空間を形成することを特徴とする請求項7に記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate described in claim 7, characterized in that the step of transporting the workpiece involves magnetically fixing the transport plate in a vacuum chamber having an upper wall and side walls, and forming an enclosed space by abutting the vacuum chamber against the stacking stage.
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