JP7487932B2 - ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法 - Google Patents

ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7487932B2
JP7487932B2 JP2020116132A JP2020116132A JP7487932B2 JP 7487932 B2 JP7487932 B2 JP 7487932B2 JP 2020116132 A JP2020116132 A JP 2020116132A JP 2020116132 A JP2020116132 A JP 2020116132A JP 7487932 B2 JP7487932 B2 JP 7487932B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
machining
nozzle
type
liquid
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020116132A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2022014017A (ja
Inventor
政彦 金岡
浩巳 岡田
尚史 津村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JTEC Corp
Original Assignee
JTEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JTEC Corp filed Critical JTEC Corp
Priority to JP2020116132A priority Critical patent/JP7487932B2/ja
Publication of JP2022014017A publication Critical patent/JP2022014017A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7487932B2 publication Critical patent/JP7487932B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

本発明は、ノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法に係わり、更に詳しくは例えば真空紫外線領域から硬X線領域までの波長帯の光学系に使用する光学素子や高精度な表面を備えたガラス基板を製造するためのノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法に関するものである。
真空紫外線領域から軟X線領域、硬X線領域までの波長帯の光は、殆どの物質に吸収されるため、その光学系には透過光学素子は使用できず、物質表面での反射を利用した反射光学素子を使用する必要がある。例えば、大型放射光施設(SPring-8等)やX線自由電子レーザー(SACLA等)で発生させたX線の光学系には、高精度な平面ミラーあるいは球面ミラーや非球面ミラー等の各種の反射型X線ミラーが使われている。
従来より高精度なX線ミラーは、EEM(Elastic Emission Machining)加工方法によって製造されている。EEMは、微粒子を分散した加工液をワークの表面に沿って流動させて、該微粒子を表面上に略無荷重の状態で接触させ、その際の微粒子と表面界面での相互作用(一種の化学結合)により、表面原子を原子単位に近いオーダで除去して加工する超精密加工方法である(特許文献1、2)。
ワーク表面を任意曲面に加工する方法として、ノズル型加工ヘッドを数値制御するEEM加工方法がある。特許文献3には、加工槽内の超純水を主体とした液体中にワークとノズル型加工ヘッドとを所定の間隔を置いて配設し、粒径が1~100nmの微粒子が凝集して平均径が0.5~5μmの集合体となった凝集微粒子を超純水に分散させた加工液を、前記ノズル型加工ヘッドからワークの表面に噴射し、該ワークの表面近傍に加工液の剪断流を発生させるとともに、加工液の流れによってワークと化学的な反応性のある凝集微粒子をワーク表面に供給し、ワークと化学結合した凝集微粒子を剪断流にて取り除いてワーク表面の原子を除去し、加工を進行させるノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法が開示されている。尚、EEMプロセスに使用する微粒子としては、シリカ(SiO)微粒子が用いられている。
通常、EEM加工装置では、加工槽内に、純水若しくは超純水に微粒子を分散させた懸濁状態の加工液を満たし、該加工液中にワークとノズルを対向させて配置し、加工槽内の加工液を加圧ポンプで所定圧力に高めて前記ノズルに供給し、加工液中でワーク表面に向けて噴出させて加工し、加工液は循環させている。
特公平2-25745号公報 特許第3860352号公報 特許第4770165号公報
ところで、ノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法では、大気開放下の加工槽内の加工液中にノズルから所定圧力の加工液を噴出させるのであるが、加工液に空気が溶存していると、キャビテーションが発生し易くなり、キャビテーションが発生するとワーク表面にエロージョンが発生し、予期せぬ欠陥が形成されることがある。ここで、キャビテーションは、ノズル内あるいはノズル出口近傍において、流速が急激に高くなることで、静圧が飽和蒸気圧より低下し、溶液中に存在する微小な気泡核が沸騰することで発生する。また、単に加工液に気泡が混入していても気泡破裂の際の衝撃力で同様な欠陥が形成される恐れがある。特に、加工液中の微粒子がキャビテーション崩壊や気泡破裂の際の衝撃力で加速されると、ワーク表面に深い凹部が形成されることになる。
そこで、本発明が前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、第1には加工液から溶存空気を除去してノズルから高圧加工液を噴出した際のキャビテーション発生を抑制することにより、また第2には加工液中から混入気泡を除去するこにより、欠陥の少ないワーク表面を得ることが可能なノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法を提供する点にある。
本発明は、前述の課題解決のために、以下に構成するノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法を提供する。
(1)
ワークの表面に対して物理化学的な相互作用により付着可能な加工微粒子を純水若しくは超純水に分散させた加工液を用い、
加工槽内に満たした加工液中に前記ワークと、加工を進行させるためのノズル型加工ヘッドを対向させて配置し、
加工液を加圧ポンプで所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッドに供給し、
前記ノズル型加工ヘッドの加工ノズルから噴出させた加工液を前記ワーク表面に沿って流動させ、無加重状態でワーク表面に付着した前記加工微粒子を、加工液の剪断流によって該加工微粒子に結合したワーク表面原子と共に除去してワークを加工するEEMプロセスにおいて、
前記加工液の循環系であって前記加圧ポンプの前段に加工液から溶存空気と混入気泡を除去する脱気手段を設けた、
ことを特徴とするノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
(2)
前記加工槽内の加工液を送液ポンプで前記脱気手段に送り、溶存空気と混入気泡を除去した加工液を前記加工槽に戻す(1)記載のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
(3)
前記加工槽内の加工液を送液ポンプで前記脱気手段に送り、溶存空気と混入気泡を除去した加工液を、加工槽内に区画して設けた貯液槽若しくは加工槽とは別に設けた貯液槽に供給し、該貯液槽内の加工液を加圧ポンプで所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッドに供給する(1)記載のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
(4)
前記加工槽内の加工液を前記脱気手段を介して加圧ポンプで所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッドに供給する(1)記載のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
このような本発明のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法によれば、脱気手段によって加工液中から溶存空気や混入気泡が除去されるので、キャビテーションの発生が抑制され、また混入気泡のノズルからの噴出も抑制されるので、ワーク表面を欠陥が少なく高品位の面に加工できる。
本発明のノズル型加工ヘッド方式EEMの簡略説明図である。 本発明の第1実施形態を示す概念図である。 本発明の第2実施形態を示す概念図である。 本発明の第3実施形態を示す概念図である。
次に、添付図面に示した実施形態に基づき、本発明を更に詳細に説明する。図1は本発明のノズル型加工ヘッド方式EEMの簡略説明図を示し、図中符号1はワーク、2は表面、3は加工微粒子、21は加工ノズルを示している。
本発明のワークとしては、X線光学系やEUV光学系に使用される光学素子材料であるSi単結晶や各種酸化物が挙げられる。Si単結晶は、非常に純度が高く格子欠陥が少ないものが提供されているので、X線領域の反射光学系の材料として適している。また、本発明は、水晶、石英ガラスや極低膨張ガラスセラミックス等の単成分又は多成分系の酸化物からなるガラス基板にも良好に適用できる。
本発明の加工原理は、ワークの表面に対して物理化学的な相互作用により付着可能な加工微粒子を溶媒に分散させた加工液を用い、前記加工液を前記ワーク表面に沿って流動させ、無加重状態でワーク表面に付着した前記加工微粒子を、加工液の剪断流によって該加工微粒子に結合したワーク表面原子と共に除去してワークを加工するEEMプロセスを用いている。
前記加工液は、純水又は超純水などの不純物の少ない水を溶媒として、加工微粒子を所定の濃度で分散させた懸濁液である。尚、加工液には、水以外に界面活性剤やその他の補助剤を混合する場合もある。また、前記加工液を前記ワーク表面に沿って流動させる手段として、回転球型加工ヘッド方式とノズル型加工ヘッド方式とがあるが、キャビテーションが発生する可能性があるのは後者の方式であり、本発明の対象である。
図1に、ノズル型加工ヘッド方式EEMを簡略的に示す。ノズル型加工ヘッド方式EEMは、前記ワーク1と加工ノズル21の少なくとも先端を加工槽内の加工液中に浸漬し、該加工ノズル21の先端面をワーク1の表面2に対して平行に配するとともに、噴出方向を表面2に対して垂直に配し、ワーク1の表面原子と化学的な反応性のある加工微粒子3を均一に分散させた加工液を、前記加工ノズル21の噴出口22から液中にて噴出させ、前記表面2近傍に沿って加工液の高剪断流を発生させ、表面原子と化学結合した加工微粒子3を高剪断流にて取り除いて表面原子を除去し、加工を進行させる。図1中符号Pは加工液の流れを示している。
そして、広い面積のワーク表面2を連続的に加工するには、ノズル型加工ヘッドによる単位加工痕を表面2に対して相対的に走査するのである。ここで、ノズル型加工ヘッドは、前記加工ノズル21を含む部分のことであり、図1中符号Xはノズル型加工ヘッドの相対的移動方向を示している。一方、表面2の局所加工を行うには、予め計測した加工前の表面プロファイルから目的面プロファイルを差し引いて求めた加工量に応じてノズル型加工ヘッドの滞在時間を数値制御して加工する。また、前記加工ノズル21の噴出口22は、円孔の他、横長のスリット孔も可能である。前記噴出口22が、円孔の場合、単位加工痕が小さくなるので局所加工に適し、スリット孔の場合には広い面積を一様に加工するのに適している。尚、前記加工ノズル21の噴出口22による加工液の噴出方向が、ワーク1の表面2に対して傾斜しても構わない。その場合には、単位加工痕のプロファイルが対称ではなくなる。
本発明のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法は、図2に示すように、ワーク1の表面に対して物理化学的な相互作用により付着可能な加工微粒子を純水若しくは超純水に分散させた加工液10を用い、加工槽11内に満たした加工液中に前記ワーク1とノズル型加工ヘッド(加工ノズル21)を対向させて配置し、加工液10を加圧ポンプ12で所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッド21に供給し、前記ノズル21から噴出させた加工液10を前記ワーク表面2に沿って流動させ、無加重状態でワーク表面に付着した前記加工微粒子3を、加工液10の剪断流によって該加工微粒子3に結合したワーク表面原子と共に除去してワーク1を加工するEEMプロセスにおいて、前記加工液10の循環系であって前記加圧ポンプ12の前段に加工液10から溶存空気と混入気泡を除去する脱気手段13を設けたことを特徴とする。図中符号14は、加工液10を加圧ポンプ12によって加工ノズル21へ供給する加工用配管であり、加工循環系を構成している。
通常のEEMプロセスで用いる加工微粒子としては、シリカ(SiO)、ジルコニア(ZrO)、セリア(CeO)、アルミナ(Al)等の酸化物が挙げられ、主にコロイダルシリカを用いる。また、ノズル型加工ヘッド方式EEMでは、加工ノズル21の先端とワーク表面2との加工ギャップを10μm~5mmと比較的広く取れるので、平均粒径が1nm~10μmと広い範囲の加工微粒子3を使用することができる。但し、微粒子の粒径が大きくなり過ぎると表面2に加工微粒子3の接触による引っ掻き傷が生じる恐れがあるので、実用上は上限を数μm程度とし、また粒径が小さくなり過ぎると表面2に付着した加工微粒子3を取り除くための剪断流の速度勾配を極端に大きくする必要があるので、実用上は下限を0.1μm程度とすることが好ましい。実際には、加工微粒子3として、複数の微粒子の集合体である凝集微粒子を用いて加工速度を速めている。前記凝集微粒子としては、粒径が1~100nmのシリカ微粒子が凝集して平均径が0.5~5μmの集合体となったものを用いる。ここで、前記加工液中の無機微粒子からなる加工微粒子3の濃度は数vol%~10vol%とすることが好ましい。また、加工微粒子3として、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂又はスチレン系樹脂からなる有機微粒子を用いることも可能である。有機微粒子を用いる場合、平均粒径は0.3~10μmの範囲、濃度は10~50wt%の範囲とすることが好ましい。
ここで、脱気手段13としては市販のものを用いることができる。脱気方式にも各種存在し、中空糸膜脱気方式、タービン脱気方式、加熱脱気方式、真空脱気方式などがある。また、加工液の脱気と平行して、加工液をフィルターに通して大型化した凝集粒子や異物を取り除くようにすることが望ましい。尚、フィルターは気泡の混入の原因ともなり得るので配置には注意が必要である。
本発明の第1実施形態を図2に示す。本実施形態は、前記加工槽11内の加工液10を送液ポンプ15で前記脱気手段13に送り、溶存空気と混入気泡を除去した加工液10を前記加工槽11に戻す、前記加工循環系とは独立した脱気循環系とした構造である。図中符号16は脱気用配管を示す。脱気手段13として、中空糸膜を用いた脱気ユニットを使用した場合、約1日の連続運転によって加工液中の溶存酸素量がほぼゼロになったことを確認している。尚、本実施形態の変形例として、加工液10の液面からの空気の溶存速度は遅く、低い溶存空気の状態を長時間保つことができるので、脱気した加工液10を溜め置き、加工中は脱気手段13を循環させなくても一定時間、脱気状態を保った加工が可能である。
本発明の第2実施形態を図3に示す。本実施形態は、前記加工槽11内の加工液10を送液ポンプ15で前記脱気手段13に送り、溶存空気と混入気泡を除去した加工液を、加工槽11内に区画して設けた貯液槽17若しくは加工槽11とは別に設けた貯液槽17に供給し、該貯液槽17内の加工液10を加圧ポンプ12で所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッド21に供給する構造である。ここで、前記加圧ポンプ12で加工ノズル21へ供給する流量よりも前記送液ポンプ15で貯液槽17へ供給する流量が多くなるので、加工槽11と貯液槽17の水位を一定に維持するため、貯液槽17の余剰分を加工槽11へ戻す機構が必要である。本実施形態では、加工槽11内を仕切った区画壁18の高さを調節し、貯液槽17から区画壁18をオーバーフローした加工液10を加工槽11に戻すようにしている。
本発明の第3実施形態を図4に示す。本実施形態は、前記加工槽11内の加工液10を前記脱気手段13を介して加圧ポンプ12で所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッド21に供給する構造である。つまり、前記加圧ポンプ12の上流側の加工用配管14に前記脱気手段13を接続した構造で、いわゆるインラインと呼ばれている直列配置である。
1 ワーク
2 表面
3 加工微粒子
10 加工液
11 加工槽
12 加圧ポンプ
13 脱気手段
14 加工用配管
15 送液ポンプ
16 脱気用配管
17 貯液槽
18 区画壁
21 加工ノズル
22 噴出口

Claims (4)

  1. ワークの表面に対して物理化学的な相互作用により付着可能な加工微粒子を純水若しくは超純水に分散させた加工液を用い、
    加工槽内に満たした加工液中に前記ワークと、加工を進行させるためのノズル型加工ヘッドを対向させて配置し、
    加工液を加圧ポンプで所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッドに供給し、
    前記ノズル型加工ヘッドの加工ノズルから噴出させた加工液を前記ワーク表面に沿って流動させ、無加重状態でワーク表面に付着した前記加工微粒子を、加工液の剪断流によって該加工微粒子に結合したワーク表面原子と共に除去してワークを加工するEEMプロセスにおいて、
    前記加工液の循環系であって前記加圧ポンプの前段に加工液から溶存空気と混入気泡を除去する脱気手段を設けた、
    ことを特徴とするノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
  2. 前記加工槽内の加工液を送液ポンプで前記脱気手段に送り、溶存空気と混入気泡を除去した加工液を前記加工槽に戻す請求項1記載のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
  3. 前記加工槽内の加工液を送液ポンプで前記脱気手段に送り、溶存空気と混入気泡を除去した加工液を、加工槽内に区画して設けた貯液槽若しくは加工槽とは別に設けた貯液槽に供給し、該貯液槽内の加工液を加圧ポンプで所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッドに供給する請求項1記載のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
  4. 前記加工槽内の加工液を前記脱気手段を介して加圧ポンプで所定圧力に加圧して前記ノズル型加工ヘッドに供給する請求項1記載のノズル型加工ヘッド方式EEM加工方法。
JP2020116132A 2020-07-06 2020-07-06 ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法 Active JP7487932B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020116132A JP7487932B2 (ja) 2020-07-06 2020-07-06 ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020116132A JP7487932B2 (ja) 2020-07-06 2020-07-06 ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022014017A JP2022014017A (ja) 2022-01-19
JP7487932B2 true JP7487932B2 (ja) 2024-05-21

Family

ID=80185124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020116132A Active JP7487932B2 (ja) 2020-07-06 2020-07-06 ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7487932B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006218558A (ja) 2005-02-09 2006-08-24 Canon Inc 研磨工具、研磨装置及び研磨方法
JP2017140698A (ja) 2017-05-30 2017-08-17 株式会社ジェイテックコーポレーション Eem加工方法
JP6446590B1 (ja) 2018-08-09 2018-12-26 国立大学法人 東京大学 局所研磨加工方法、および局所研磨加工装置、並びに該局所研磨加工装置を用いた修正研磨加工装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006218558A (ja) 2005-02-09 2006-08-24 Canon Inc 研磨工具、研磨装置及び研磨方法
JP2017140698A (ja) 2017-05-30 2017-08-17 株式会社ジェイテックコーポレーション Eem加工方法
JP6446590B1 (ja) 2018-08-09 2018-12-26 国立大学法人 東京大学 局所研磨加工方法、および局所研磨加工装置、並びに該局所研磨加工装置を用いた修正研磨加工装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022014017A (ja) 2022-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kordonski et al. Magnetorheological (MR) jet finishing technology
Tricard et al. Magnetorheological jet finishing of conformal, freeform and steep concave optics
JP5009356B2 (ja) ジェットによる基板表面の仕上げ装置
JP4723425B2 (ja) リソグラフィ装置
US5451267A (en) Process for the wet-chemical treatment of disk-shaped workpieces
JP6115878B2 (ja) 超平滑研磨のための磁気流動学的流体
Kordonski et al. New magnetically assisted finishing method: material removal with magnetorheological fluid jet
US20100190413A1 (en) Polishing composition
JP2003234320A (ja) 基板の洗浄方法、洗浄薬液、洗浄装置及び半導体装置
JP7487932B2 (ja) ノズル型加工ヘッド方式eem加工方法
CN108192506A (zh) 一种金属表面研磨抛光剂及制备方法
CN102528624B (zh) 机械加工装置与机械加工方法
TW440603B (en) Process for preparing metal oxide slurry suitable for semiconductor chemical mechanical polishing
Horiuchi et al. Nano-abrasion machining of brittle materials and its application to corrective figuring
Beaucamp Micro fluid jet polishing
JP6831541B2 (ja) 光学素子の製造方法
JPH02257627A (ja) 半導体ウエーハの研磨方法及び装置
CN105255368B (zh) 一种超精密抛光用微米亚微米抛光液的筛选方法
Kanaoka et al. Processing efficiency of elastic emission machining for low‐thermal‐expansion material
JP7464216B2 (ja) 有機微粒子による加工方法
JP2000167770A (ja) 高速剪断流による加工方法
JP2019155232A (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
KR100691859B1 (ko) 나노입자 분산액을 포함하는 기체 흡수 장치
Wills-Moren et al. Ductile regime grinding of glass and other brittle materials by the use of ultrastiff machine tools
JP2005262344A (ja) 超精密研磨方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230330

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240227

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240423

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240430

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7487932

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150