JP7482297B2 - Photocatalyst Products - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、光触媒製品に関する。 An embodiment of the present invention relates to a photocatalytic product.

光触媒は、光によって励起された電子と正孔を生じ、強い酸化力を有する。この酸化力は、触媒作用として、有害有機分子の分解除去や殺菌、基材の親水性維持等に利用される。光触媒をガラス基材などの無機基材に適用した場合には、周囲雰囲気に対し触媒作用を発揮することができる。一方、不織布壁紙や布製品等には化学薬剤で処理されたり、染色を施される等されるため、様々な有機物成分が多く含まれている。そのため、不織布等の有機基材に光触媒を適用すると、有機基材からの有害有機分子を多く吸着して分解するため、周囲雰囲気に対する触媒作用が低下するという課題があった。 Photocatalysts generate electrons and holes excited by light, and have strong oxidizing power. This oxidizing power is used as a catalytic action to decompose and remove harmful organic molecules, sterilize, and maintain the hydrophilicity of substrates. When photocatalysts are applied to inorganic substrates such as glass substrates, they can exert a catalytic action on the surrounding atmosphere. On the other hand, nonwoven wallpaper and cloth products contain many different organic components because they are treated with chemical agents or dyed. Therefore, when photocatalysts are applied to organic substrates such as nonwoven fabrics, they adsorb and decompose many harmful organic molecules from the organic substrate, which reduces the catalytic action on the surrounding atmosphere.

特許第5481629号公報Patent No. 5481629 国際公開第2015/056486号International Publication No. 2015/056486

本発明の実施形態は、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品を得ることを目的とする。 The objective of this embodiment of the present invention is to obtain a photocatalytic product that has good catalytic action on the surrounding atmosphere.

実施形態によれば、多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられた表面処理部とを備え、
前記表面処理部は、前記多孔質基材上の炭酸ジルコニウムアンモニウム層、及び前記炭酸ジルコニウムアンモニウム層上の酸化タングステンを含有する光触媒層を含む光触媒製品が提供される。
According to an embodiment, a porous substrate and
A surface treatment portion is provided on the porous substrate,
The surface treatment section provides a photocatalyst product comprising an ammonium zirconium carbonate layer on the porous substrate, and a photocatalyst layer containing tungsten oxide on the ammonium zirconium carbonate layer.

第1実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図である。FIG. 2 is a model diagram showing the configuration of a photocatalyst product according to the first embodiment. 第1実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図である。FIG. 11 is a model diagram showing another configuration of the photocatalyst product according to the first embodiment. 第1実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図である。FIG. 11 is a model diagram showing another configuration of the photocatalyst product according to the first embodiment. 第1実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図である。FIG. 11 is a model diagram showing another configuration of the photocatalyst product according to the first embodiment. 第2実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図である。FIG. 11 is a model diagram showing the configuration of a photocatalyst product according to a second embodiment. 実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。FIG. 2 is a graph showing the catalytic action of a photocatalyst product according to an embodiment. 実施形態にかかる光触媒製品の他のサンプルの触媒作用を示すグラフ図である。FIG. 11 is a graph showing the catalytic action of another sample of the photocatalyst product according to the embodiment. 比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。FIG. 2 is a graph showing the catalytic effect of a comparative photocatalytic product. 実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。FIG. 2 is a graph showing the catalytic action of the photocatalyst product according to the embodiment. 比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。FIG. 2 is a graph showing the catalytic effect of a comparative photocatalytic product. 実施形態に使用される多孔質基材の表面のSEM写真である。1 is a SEM photograph of the surface of a porous substrate used in an embodiment. 実施形態にかかる光触媒製品の表面のSEM写真である。1 is a SEM photograph of the surface of a photocatalyst product according to an embodiment. 実施形態にかかる光触媒製品の転着試験の結果を表す黒布表面の写真である。1 is a photograph of a black cloth surface showing the results of a transfer test of a photocatalyst product according to an embodiment. 実施形態にかかる光触媒製品の光触媒の転着試験の結果を表す黒布表面の写真である。1 is a photograph of a black cloth surface showing the results of a photocatalyst transfer test of a photocatalyst product according to an embodiment. 光照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を表すグラフ図である。FIG. 1 is a graph showing the relationship between light irradiation time and the residual rate of acetaldehyde.

実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられた表面処理部とを含む。表面処理部は、スメクタイトを含む粘土鉱物、または炭酸ジルコニウムアンモニウムのうち少なくとも1つと、酸化タングステンを含有する光触媒とを含む。
実施形態によれば、表面処理部に、スメクタイトを含む粘土鉱物、または炭酸ジルコニウムアンモニウムのうち少なくとも1つを用いることにより、多孔質基材として例えば有機基材を用いる場合、有機基材からのガス放出を防止することができる。また、光触媒と有機基材中の有機物成分が接触して光触媒反応することにより発生する例えばアルデヒド系のガス放出を防ぐことができる。これにより、光触媒の周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な状態が得られる。また、多孔質基材として有機多孔質基材、特に不織布壁紙や布製品を用いた場合の光触媒作用に対して有効である。
The photocatalyst product according to the embodiment includes a porous substrate and a surface treatment portion provided on the porous substrate. The surface treatment portion includes at least one of a clay mineral including smectite or ammonium zirconium carbonate, and a photocatalyst containing tungsten oxide.
According to the embodiment, by using at least one of clay minerals containing smectite or ammonium zirconium carbonate in the surface treatment portion, when an organic substrate is used as the porous substrate, gas emission from the organic substrate can be prevented. In addition, it is possible to prevent the emission of, for example, aldehyde-based gases that are generated by the contact of the photocatalyst with the organic components in the organic substrate and the photocatalytic reaction. This provides a good catalytic action of the photocatalyst to the surrounding atmosphere. In addition, it is effective for the photocatalytic action when an organic porous substrate, particularly a nonwoven wallpaper or a cloth product, is used as the porous substrate.

実施形態にかかる光触媒製品は、以下の第1実施形態、第2実施形態、及び第3実施形態にかかる光触媒製品に分けることができる。
第1実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備える。
スメクタイトは、層状の結晶構造を有するケイ酸塩鉱物である。実施形態に使用できるスメクタイトとして、例えば、サポナイト、ヘクトナイト、モンモリロナイト、及びスティブンサイト等があげられる。高アスペクト比で、薄膜状の結晶が積層した形状を有するもの、透明性が高いものを使用できる。
The photocatalyst products according to the embodiments can be divided into photocatalyst products according to the following first embodiment, second embodiment, and third embodiment.
The photocatalyst product according to the first embodiment includes a porous substrate and a surface treatment portion provided on the porous substrate, the surface treatment portion including a clay mineral including smectite and a photocatalyst containing tungsten oxide.
Smectite is a silicate mineral having a layered crystal structure. Examples of smectite that can be used in the embodiment include saponite, hectonite, montmorillonite, and stevensite. Smectite that has a high aspect ratio, a shape in which thin-film crystals are stacked, and has high transparency can be used.

第1実施形態によれば、多孔質基材を、薄膜状の結晶が積層した形状を有するスメクタイトを用いて表面処理することにより、有機物成分に対する多孔質基材のバリアー性が良好となる。例えばアクリルエマルジョンを分散した水性染料を塗布された有機基材に光触媒を用いる場合、有機基材からアクリルエマルジョンの成分である有機物が溶出し、光触媒を覆う。これに対し、有機基材にスメクタイト処理を施せば溶出した有機物と光触媒との接触を防止し、光触媒性能劣化や有機物と光触媒との反応に伴うアルデヒド系またはカルボン酸系のガス放出を防止することができる。また、光触媒と有機基材が直接接触して反応することを防ぐことができる。これにより、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品が得られる。 According to the first embodiment, the porous substrate is surface-treated with smectite, which has a shape in which thin-film crystals are laminated, and the barrier properties of the porous substrate against organic components are improved. For example, when a photocatalyst is used on an organic substrate coated with an aqueous dye in which an acrylic emulsion is dispersed, the organic matter, which is a component of the acrylic emulsion, is dissolved from the organic substrate and covers the photocatalyst. In contrast, if the organic substrate is treated with smectite, the dissolved organic matter is prevented from coming into contact with the photocatalyst, and deterioration of the photocatalyst performance and the release of aldehyde or carboxylic acid gases associated with the reaction between the organic matter and the photocatalyst can be prevented. In addition, the photocatalyst can be prevented from coming into direct contact with the organic substrate and reacting with it. This allows a photocatalyst product with good catalytic action in the surrounding atmosphere to be obtained.

図1に、第1実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図を示す。
図示するように、第1実施形態にかかる光触媒製品10は、例えば多孔質基材1と、多孔質基材1上に設けられた表面処理部4とを含む。表面処理部4は、多孔質基材1上に順に形成された粘土鉱物層2及び光触媒層3を含む。多孔質基材1として不織布など表面が不均一な基材を使用した場合、粘土鉱物層2は、一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。同様に、光触媒層3も一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。なお、多孔質基材1が粘土鉱物を吸収する場合には、粘土鉱物層2は基材に染み込んでいても構わない。
FIG. 1 shows a model diagram showing the configuration of a photocatalyst product according to the first embodiment.
As shown in the figure, the photocatalyst product 10 according to the first embodiment includes, for example, a porous substrate 1 and a surface treatment section 4 provided on the porous substrate 1. The surface treatment section 4 includes a clay mineral layer 2 and a photocatalyst layer 3 formed in order on the porous substrate 1. When a substrate having an uneven surface such as a nonwoven fabric is used as the porous substrate 1, the clay mineral layer 2 does not need to be a uniform layer and may be scattered on the substrate surface. Similarly, the photocatalyst layer 3 does not need to be a uniform layer and may be scattered on the substrate surface. In addition, when the porous substrate 1 absorbs clay minerals, the clay mineral layer 2 may be soaked into the substrate.

表面処理部4にはスメクタイトを含む粘土鉱物が豊富な領域、光触媒が豊富な領域、及び粘土鉱物と光触媒の両方が混在する領域が存在し得る。触媒作用を示すのは、表面処理部4上に露出している光触媒である。
多孔質基材としては、布製品、不織布、織物、樹脂フィルム、樹脂シート等の有機基材、また、有機物を含む塗料または染料、顔料、バインダー、糊、油剤等が含まれる有機物基材及びそれらのうち少なくとも1つを用いた製品などを使用することができる。
多孔質基材に対するスメクタイトの使用量は、固形分として1.0~6.0g/mにすることができる。6.0g/mを超えると、基材の質感や、柔軟性が失われる状態となったり、その上に固定化する光触媒粒子が取れやすくなり、1.0g/m未満であると、不均一塗布となることにより十分に効果が出なくなる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、多孔質基材に応じて適切な範囲が決定される。
The surface-treated part 4 may have a region rich in clay minerals including smectite, a region rich in photocatalyst, and a region where both clay minerals and photocatalyst are mixed. It is the photocatalyst exposed on the surface-treated part 4 that exhibits catalytic activity.
Examples of the porous substrate that can be used include organic substrates such as cloth products, nonwoven fabrics, woven fabrics, resin films, and resin sheets, as well as organic substrates containing paints or dyes, pigments, binders, glues, oils, and the like that contain organic substances, and products that use at least one of these.
The amount of smectite used relative to the porous substrate can be 1.0 to 6.0 g/m 2 in terms of solid content. If it exceeds 6.0 g/m 2 , the texture and flexibility of the substrate will be lost, and the photocatalyst particles fixed thereon will be easily removed. If it is less than 1.0 g/m 2 , the coating will be non-uniform and the effect will tend to be insufficient. However, this will vary depending on the basis weight, surface area, and manufacturing history of the porous substrate, and an appropriate range will be determined depending on the porous substrate.

粘土鉱物層2は、例えば、スメクタイトを含む塗付液をディップコート、グラビアコート、スピンコート、バーコート、あるいはロータリースクリーンコート等の塗付方法を用いて塗付することにより、形成することができる。例えばディップコートのように多孔質基材の両面に適用すると、例えば多孔質基材が有機基材であり、光触媒製品をロール状で、あるいはスタックして保管する場合に、有機基材の裏面からのガス放出を防止することができる。また、光触媒と有機基材が接触して反応することを防ぐことができる。 The clay mineral layer 2 can be formed, for example, by applying a coating liquid containing smectite using a coating method such as dip coating, gravure coating, spin coating, bar coating, or rotary screen coating. For example, when the coating is applied to both sides of the porous substrate, such as by dip coating, it is possible to prevent gas emission from the back side of the organic substrate, for example, when the porous substrate is an organic substrate and the photocatalyst product is stored in a roll or stack. It is also possible to prevent the photocatalyst and the organic substrate from coming into contact and reacting with each other.

実施形態に用いられる光触媒としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化スズなどからなる少なくとも1種の金属酸化物があげられる。また、光触媒には、酸化ジルコニウム、白金、ルテニウム、または銅等のうち少なくとも1つを添加することができる。 The photocatalyst used in the embodiment includes at least one metal oxide such as titanium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, niobium oxide, and tin oxide. In addition, at least one of zirconium oxide, platinum, ruthenium, and copper can be added to the photocatalyst.

多孔質基材に対する光触媒の使用量は、固形分として0.2~2.0g/mにすることができる。2.0g/mを超えると、色調の変化等および粒子が取れやすくなることが問題となり、0.2g/m未満であると、触媒作用不足となる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、多孔質基材に応じて適切な範囲が決定される。
光触媒層3は、例えば、光触媒を含むスラリーをディップコート、グラビアコート、スピンコート、バーコート、あるいはロータリースクリーンコート等の塗付方法を用いて塗付することにより、形成することができる。
The amount of photocatalyst used relative to the porous substrate can be 0.2 to 2.0 g/m 2 in terms of solid content. If it exceeds 2.0 g/m 2 , problems such as changes in color tone and particles becoming easily removed can occur, and if it is less than 0.2 g/m 2 , the catalytic action tends to be insufficient, but this varies depending on the basis weight, surface area, manufacturing history, etc. of the porous substrate, and an appropriate range is determined depending on the porous substrate.
The photocatalyst layer 3 can be formed, for example, by applying a slurry containing a photocatalyst using a coating method such as dip coating, gravure coating, spin coating, bar coating, or rotary screen coating.

表面処理部は、少なくとも炭酸ジルコニウムアンモニウムまたはアジピン酸ジヒドラジドのうち1つをさらに含むことができる。
炭酸ジルコニウムアンモニウムは、多孔質基材に含まれる有機物を架橋させる架橋剤として使用されると考えられる。炭酸ジルコニウムアンモニウムを多孔質基材例えば不織布のような有機基材中の水溶性高分子のカルボキシル基や水酸基と反応させて、不溶化(固定化)することにより、不必要なガスの放出やブリードを防止することができる。実施形態によれば、表面処理部に炭酸ジルコニウムアンモニウムをさらに含むことにより、周囲雰囲気に対する触媒作用がより良好な光触媒製品が得られる。
The surface treatment may further include at least one of ammonium zirconium carbonate or adipic dihydrazide.
Ammonium zirconium carbonate is considered to be used as a crosslinking agent for crosslinking organic matter contained in a porous substrate. Ammonium zirconium carbonate is reacted with carboxyl groups or hydroxyl groups of water-soluble polymers in an organic substrate such as a nonwoven fabric to insolubilize (fix) the porous substrate, thereby preventing unnecessary gas emission or bleeding. According to an embodiment, by further including ammonium zirconium carbonate in the surface treatment portion, a photocatalyst product having better catalytic action on the surrounding atmosphere can be obtained.

多孔質基材に対する炭酸ジルコニウムアンモニウムの使用量は、ZrO換算で固形分として0.1~10.0g/mにすることができる。10.0g/mを超えると、基材の柔軟性が失われた状態となり、0.1g/m未満であると、固定化不足となる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、好ましい範囲は限定されるものではない。
なお、ここでは、ZrO換算とは、まず、炭酸ジルコニウムアンモニウム溶液を秤量したのち完全蒸発乾固し、蒸発乾固した重量を(NH4)[Zr(CO3)(OH)]の分子量281.33で除し、ZrOの分子量123.22で乗することにより、蒸発乾固した炭酸ジルコニウムアンモニウムのZrOへの重量換算値を求めることをいう。この重量換算値を固形分の重量として、単位面積当たりの固着量(固形分量)を算出することができる。
The amount of ammonium zirconium carbonate used relative to the porous substrate can be 0.1 to 10.0 g/ m2 in terms of solids in terms of ZrO2 . If it exceeds 10.0 g/ m2 , the substrate loses flexibility, and if it is less than 0.1 g/ m2 , immobilization tends to be insufficient, but this varies depending on the basis weight, surface area, manufacturing history, etc. of the porous substrate, and the preferred range is not limited.
In this case, the term " ZrO2 conversion" refers to the process of first weighing the ammonium zirconium carbonate solution, completely evaporating it to dryness, dividing the evaporated and dried weight by the molecular weight of (NH4) 2 [Zr(CO3) 2 (OH) 2 ] (281.33), and multiplying it by the molecular weight of ZrO2 (123.22) to obtain the weight conversion value of the evaporated and dried ammonium zirconium carbonate to ZrO2 . Using this weight conversion value as the weight of the solid content, the adhesion amount (solid content amount) per unit area can be calculated.

アジピン酸ジヒドラジドは、ホルムアルデヒド等の有害有機分子を吸着する吸着剤として使用される。実施形態によれば、表面処理部にアジピン酸ジヒドラジドを用いることにより、周囲雰囲気に対する触媒作用がより良好な光触媒製品が得られる。
多孔質基材に対するアジピン酸ジヒドラジドの使用量は、固形分として0.5~15.0g/mにすることができる。15.0g/mを超えると、粉状物の発生原因となり、0.1g/m未満であると、十分な効果が得られない状態となる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、好ましい範囲は限定されるものではない。
Adipic acid dihydrazide is used as an adsorbent for adsorbing harmful organic molecules such as formaldehyde. According to the embodiment, by using adipic acid dihydrazide in the surface treatment portion, a photocatalyst product having a better catalytic action on the surrounding atmosphere can be obtained.
The amount of adipic acid dihydrazide used relative to the porous substrate can be 0.5 to 15.0 g/m 2 in terms of solid content. If it exceeds 15.0 g/m 2 , it may cause the generation of powdery matter, and if it is less than 0.1 g/m 2 , it tends to be in a state where sufficient effects cannot be obtained, but this varies depending on the basis weight, surface area, and manufacturing history of the porous substrate, and the preferred range is not limited.

図2ないし図4に、第1実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図を示す。
炭酸ジルコニウムアンモニウムを適用する場合、例えば、図2に示すように、多孔質基材1上に粘土鉱物層2を形成する前に、炭酸ジルコニウムアンモニウムを含む架橋剤層5を形成することができる。得られた光触媒製品20は、表面処理部4-1として、多孔質基材1上に順に形成された、架橋剤層5、粘土鉱物層2、及び光触媒層3を含む。
なお、多孔質基材1が架橋剤や粘土鉱物を吸収する場合には、架橋剤層5や粘土鉱物層2は多孔質基材に染み込んでいても構わない。
2 to 4 show model diagrams showing other configurations of the photocatalyst product according to the first embodiment.
When ammonium zirconium carbonate is used, for example, as shown in Fig. 2, a crosslinker layer 5 containing ammonium zirconium carbonate can be formed before forming a clay mineral layer 2 on a porous substrate 1. The obtained photocatalyst product 20 includes a crosslinker layer 5, a clay mineral layer 2, and a photocatalyst layer 3, which are formed in this order on the porous substrate 1, as a surface treatment portion 4-1.
When the porous substrate 1 absorbs a crosslinking agent or a clay mineral, the crosslinking agent layer 5 and the clay mineral layer 2 may permeate the porous substrate.

アジピン酸ジヒドラジドを適用する場合、例えば、図3に示すように、多孔質基材上に粘土鉱物層を形成する前に、アジピン酸ジヒドラジドを含む吸着剤層6を形成することができる。得られた光触媒製品30は、表面処理部4-2として、多孔質基材1上に順に形成された吸着剤層6、粘土鉱物層2、及び光触媒層3を含む。なお、多孔質基材1が吸着剤や粘土鉱物を吸収する場合には、吸着剤層6や粘土鉱物層2は多孔質基材に染み込んでいても構わない。
架橋剤層と吸着剤層の両方を適用する場合には、例えば、図4に示すように、多孔質基材1上に、粘土鉱物層を形成する前に、架橋剤層5、及び吸着剤層6の順、あるいは吸着剤層6、架橋剤層5の順に形成することができる。得られた光触媒製品40は、多孔質基材1上に、表面処理部4-3として、架橋剤層5、吸着剤層6、粘土鉱物層2、及び光触媒層3が順に積層されている。なお、多孔質基材1が架橋剤、吸着剤や粘土鉱物を吸収する場合には、架橋剤層5や吸着剤層6、粘土鉱物層2は多孔質基材に染み込んでいても構わない。
When adipic acid dihydrazide is used, for example, as shown in Fig. 3, an adsorbent layer 6 containing adipic acid dihydrazide can be formed before forming a clay mineral layer on a porous substrate. The obtained photocatalyst product 30 includes, as a surface treatment portion 4-2, an adsorbent layer 6, a clay mineral layer 2, and a photocatalyst layer 3, which are formed in this order on a porous substrate 1. In addition, when the porous substrate 1 absorbs an adsorbent or a clay mineral, the adsorbent layer 6 and the clay mineral layer 2 may be soaked into the porous substrate.
When both the crosslinker layer and the adsorbent layer are applied, for example, as shown in FIG. 4, the crosslinker layer 5 and the adsorbent layer 6 can be formed in this order, or the adsorbent layer 6 and the crosslinker layer 5 can be formed in this order, before forming the clay mineral layer on the porous substrate 1. The obtained photocatalyst product 40 has the crosslinker layer 5, the adsorbent layer 6, the clay mineral layer 2, and the photocatalyst layer 3 laminated in this order on the porous substrate 1 as the surface treatment portion 4-3. In addition, when the porous substrate 1 absorbs the crosslinker, the adsorbent, or the clay mineral, the crosslinker layer 5, the adsorbent layer 6, and the clay mineral layer 2 may be soaked into the porous substrate.

架橋剤層は多孔質基材中の水溶性高分子のカルボキシル基や水酸基などと反応させるため、吸着剤層よりも多孔質基材の近くに設けることができる。炭酸ジルコニウムアンモニウムとアジピン酸ジヒドラジドとをさらに含むことにより、周囲雰囲気に対する触媒作用がさらにまた良好な光触媒製品が得られる。また、架橋剤層5の架橋反応により、多孔質基材に吸着剤層6が含浸しにくくなる場合には、吸着剤層6、架橋剤層5の順に形成することができる。 The crosslinking agent layer can be provided closer to the porous substrate than the adsorbent layer in order to react with the carboxyl groups and hydroxyl groups of the water-soluble polymer in the porous substrate. By further including ammonium zirconium carbonate and adipic dihydrazide, a photocatalyst product with even better catalytic action on the surrounding atmosphere can be obtained. In addition, if the crosslinking reaction of the crosslinking agent layer 5 makes it difficult for the adsorbent layer 6 to be impregnated into the porous substrate, the adsorbent layer 6 and the crosslinking agent layer 5 can be formed in that order.

架橋剤層と吸着剤層は、それぞれ架橋剤を含む塗付液、及び吸着剤を含む塗付液を例えば、ディップコート、グラビアコート、スピンコート、バーコート、あるいはスプレーコート等の塗付方法を用いて塗付することにより、形成することができる。例えばディップコートのように多孔質基材の両面に適用すると、例えば多孔質基材が有機基材であり、光触媒製品をロール状で、あるいはスタックして保管する場合に、有機基材の裏面からのガス放出を抑制することができる。また、光触媒と有機基材が接触して反応することを抑制することができる。 The crosslinker layer and the adsorbent layer can be formed by applying a coating liquid containing a crosslinker and a coating liquid containing an adsorbent, respectively, using a coating method such as dip coating, gravure coating, spin coating, bar coating, or spray coating. For example, when applied to both sides of the porous substrate as in dip coating, gas emission from the back side of the organic substrate can be suppressed when, for example, the porous substrate is an organic substrate and the photocatalyst product is stored in a roll or stack. In addition, reaction between the photocatalyst and the organic substrate upon contact can be suppressed.

図5に、第2実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図を示す。
第2実施形態にかかる光触媒製品50は、多孔質基材1と、多孔質基材1上に設けられた表面処理部4-4として、架橋剤層5、及び酸化タングステンを含有する光触媒層3が順に積層されている。多孔質基材1として不織布など表面が不均一な基材を使用した場合、架橋剤層5は、一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。同様に、光触媒層3も一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。なお、多孔質基材が架橋剤を吸収する場合には、架橋剤層5は多孔質基材に染み込んでいても構わない。
表面処理部4には炭酸ジルコニウムアンモニウムが豊富な領域、光触媒が豊富な領域、及び炭酸ジルコニウムアンモニウムと光触媒の両方が混在する領域が存在し得る。触媒作用を示すのは、表面処理部4上に露出している光触媒である。
FIG. 5 shows a model diagram showing the configuration of a photocatalyst product according to the second embodiment.
The photocatalyst product 50 according to the second embodiment is a porous substrate 1, a crosslinking agent layer 5, and a photocatalyst layer 3 containing tungsten oxide, which are laminated in this order as a surface treatment portion 4-4 provided on the porous substrate 1. When a substrate having an uneven surface such as a nonwoven fabric is used as the porous substrate 1, the crosslinking agent layer 5 does not need to be a uniform layer, and may be scattered on the substrate surface. Similarly, the photocatalyst layer 3 does not need to be a uniform layer, and may be scattered on the substrate surface. In addition, when the porous substrate absorbs the crosslinking agent, the crosslinking agent layer 5 may be soaked into the porous substrate.
The surface-treated part 4 may have a region rich in ammonium zirconium carbonate, a region rich in photocatalyst, and a region where both ammonium zirconium carbonate and photocatalyst are mixed. It is the photocatalyst exposed on the surface-treated part 4 that exhibits catalytic activity.

第2実施形態によれば、炭酸ジルコニウムアンモニウムを含む架橋剤を用いると、多孔質基材例えば有機基材中の水溶性高分子のカルボキシル基や水酸基などを炭酸ジルコニウムアンモニウムと反応させて、不溶化することにより、多孔質基材の不必要なガスの放出やブリードを防止することができる。このようにして光触媒と多孔質基材が反応することを防ぐことにより、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品が得られる。 According to the second embodiment, when a crosslinking agent containing ammonium zirconium carbonate is used, the carboxyl groups and hydroxyl groups of the water-soluble polymer in the porous substrate, for example, the organic substrate, are reacted with ammonium zirconium carbonate to insolubilize it, thereby preventing unnecessary gas emission and bleeding from the porous substrate. In this way, by preventing the photocatalyst from reacting with the porous substrate, a photocatalyst product with good catalytic action in the surrounding atmosphere can be obtained.

第2実施形態に使用される多孔質基材、表面処理部、架橋剤層、及び酸化タングステンを含有する光触媒層等の部材は、各々、第1実施形態に使用される部材と同様である。また、多孔質基材に対する炭酸ジルコニウムアンモニウム及び光触媒層等の使用量は、第1実施形態と同様である。 The components used in the second embodiment, such as the porous substrate, the surface treatment portion, the crosslinking agent layer, and the photocatalyst layer containing tungsten oxide, are the same as those used in the first embodiment. The amounts of ammonium zirconium carbonate and the photocatalyst layer used relative to the porous substrate are the same as those in the first embodiment.

第3実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられた表面処理部とを含み、表面処理部は、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む。さらに、この光触媒製品は、チャンバーの容積が0.5Lであり、白色蛍光灯FL20SWから光照射し、クラレックスUVカットフィルターN-169(日東樹脂工業)で380nm以下のUV光をカットし、照度6000ルクスとし、常温、常圧、湿度20%の条件で、10ppmの濃度のアセトアルデヒドを2時間で60%以上削減することができる。 The photocatalyst product according to the third embodiment includes a porous substrate and a surface treatment section provided on the porous substrate, and the surface treatment section includes a clay mineral including smectite, and a photocatalyst containing tungsten oxide. Furthermore, this photocatalyst product has a chamber volume of 0.5 L, and is irradiated with light from a white fluorescent lamp FL20SW, cuts UV light of 380 nm or less with a Clarex UV cut filter N-169 (Nitto Resin Industry), and is capable of reducing acetaldehyde at a concentration of 10 ppm by 60% or more in 2 hours under conditions of room temperature, normal pressure, and humidity of 20%.

第3実施形態によれば、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品が得られる。

第3実施形態に使用される多孔質基材、及び表面処理部の部材は、各々、第1実施形態に使用される部材と同様である。また、多孔質基材に対する光触媒層等の使用量は、第1実施形態と同様である。
実施形態にかかる光触媒製品は、いずれも、光触媒、アジピン酸ジヒドラジド、炭酸ジルコニウムアンモニウム、あるいはスメクタイトなどの部材を含む粘土鉱物を含有する塗付液を多孔質基材に塗布することにより、作製することができる。塗付液の塗布により多孔質基材に固着する部材の状態は、多孔質基材の材質に影響される。例えば多孔質基材が樹脂フィルム、あるいは樹脂シートである場合には、塗布液が染み込みにくく、塗布液中の部材は、多孔質基材表面を覆うように固着され得る。一方、多孔質基材が、布製品、不織布、あるいは織物である場合には、塗布液が染み込みやすく、塗布液中の部材は、多孔質基材を構成する1本1本の繊維を覆うように固着され得る。このようなことから、実施形態にかかる光触媒製品の製造工程において、塗布液の濃度、及び塗付量は、使用される多孔質基材のそれぞれについて、塗付液の染み込みやすさを考慮して調整することができる。
According to the third embodiment, a photocatalyst product having good catalytic action on the surrounding atmosphere can be obtained.

The porous substrate and the surface treatment portion used in the third embodiment are the same as those used in the first embodiment. The amount of the photocatalyst layer and the like used in the porous substrate is the same as that in the first embodiment.
The photocatalyst products according to the embodiments can be prepared by applying a coating liquid containing a photocatalyst, adipic acid dihydrazide, ammonium zirconium carbonate, or a clay mineral containing a member such as smectite to a porous substrate. The state of the member that is fixed to the porous substrate by the application of the coating liquid is affected by the material of the porous substrate. For example, when the porous substrate is a resin film or a resin sheet, the coating liquid is unlikely to penetrate, and the member in the coating liquid can be fixed to cover the surface of the porous substrate. On the other hand, when the porous substrate is a cloth product, a nonwoven fabric, or a woven fabric, the coating liquid is likely to penetrate, and the member in the coating liquid can be fixed to cover each fiber that constitutes the porous substrate. For this reason, in the manufacturing process of the photocatalyst product according to the embodiments, the concentration and coating amount of the coating liquid can be adjusted for each porous substrate used, taking into consideration the ease of penetration of the coating liquid.

多孔質基材に対する塗付液の染み込みやすさの目安として、使用する多孔質基材ついて、予め、多孔質基材が単位面積あたりに純水を吸水できる最大吸水量を測定することができる。このとき、各塗付液の多孔質基材への固着量(固形分量)FW(g/m)は、下記式(1)で表すことができる。
=K/100×W×C/100×(D/D)…(1)
FW:固形分の固着量(g/m)K:0を超え100以下の任意の値
:純水を吸水できる最大吸水量(g/m
C:塗付液の固形分濃度(重量%)
D:塗布液の比重(g/cm
:水の比重(g/cm
式中、Wは、多孔質基材が単位面積あたりに純水を吸水できる最大吸水量(g/m)、Kは、塗布の方法や塗布液の塗布状態によって選択される、0を超え100以下の任意の値、Cは、塗付液の固形分濃度(重量%)、Dは、塗布液の比重(g/cm)、Dは水の比重(g/cm)である。
As a measure of the ease with which a coating liquid penetrates into a porous substrate, the maximum water absorption amount that the porous substrate can absorb pure water per unit area can be measured in advance for the porous substrate to be used. At this time, the amount of each coating liquid adhering to the porous substrate (solid content) FW (g/ m2 ) can be expressed by the following formula (1).
F W =K/100×W A ×C/100×(D/D 0 )...(1)
FW: amount of adhered solids (g/m 2 ) K: any value greater than 0 and equal to or less than 100 WA : maximum amount of water absorption capable of absorbing pure water (g/m 2 )
C: Solid content concentration of the coating liquid (% by weight)
D: Specific gravity of coating liquid (g/cm 3 )
D 0 : Specific gravity of water (g/cm 3 )
In the formula, W A is the maximum water absorption amount (g/m 2 ) that the porous substrate can absorb pure water per unit area, K is an arbitrary value greater than 0 and less than 100 selected depending on the coating method and coating state of the coating liquid, C is the solids concentration (wt %) of the coating liquid, D is the specific gravity of the coating liquid (g/cm 3 ), and D 0 is the specific gravity of water (g/cm 3 ).

各塗付液の固形分濃度C(重量%)は、塗付液に使用される部材によって異なる。スメクタイトの場合は0~5重量%である。スメクタイトを含む塗付液の固形分濃度Cは、5重量%を超えると、粘度が高くなり、水分散が困難になる傾向があることから、5重量%以下にすることができる。炭酸ジルコニウムアンモニウムの場合は、ZrO換算で0~20重量%である。炭酸ジルコニウムアンモニウム(AZC)を含む塗付液の固形分濃度Cは、20重量%(ZrO換算)を超えると、アンモニア臭が強くなり、作業環境を悪化させる傾向があるため、20重量%以下にすることができる。アジピン酸ジヒドラジドの場合は0~11重量%にすることができる。アジピン酸ジヒドラジド(ADH)の水に対する溶解度は、30℃で11重量%であることから、アジピン酸ジヒドラジド(ADH)を含む塗付液の固形分濃度Cは11重量%以下にすることができる。
固形分濃度Cは、好ましくは、スメクタイトの場合1~3重量%、炭酸ジルコニウムアンモニウムの場合ZrO換算で0.1~10重量%、アジピン酸ジヒドラジドの場合0.1~8重量%にすることができる。
The solid content concentration C (weight %) of each coating liquid varies depending on the materials used in the coating liquid. In the case of smectite, it is 0 to 5 weight %. If the solid content concentration C of a coating liquid containing smectite exceeds 5 weight %, the viscosity increases and water dispersion tends to become difficult, so it can be set to 5 weight % or less. In the case of ammonium zirconium carbonate, it is 0 to 20 weight % in terms of ZrO2 . If the solid content concentration C of a coating liquid containing ammonium zirconium carbonate (AZC) exceeds 20 weight % ( ZrO2 equivalent), the ammonia odor becomes strong and the working environment tends to deteriorate, so it can be set to 20 weight % or less. In the case of adipic acid dihydrazide, it can be set to 0 to 11 weight %. Since the solubility of adipic acid dihydrazide (ADH) in water is 11 weight % at 30 ° C, the solid content concentration C of a coating liquid containing adipic acid dihydrazide (ADH) can be set to 11 weight % or less.
The solids concentration C can be preferably 1 to 3% by weight in the case of smectite, 0.1 to 10% by weight in terms of ZrO2 in the case of ammonium zirconium carbonate, and 0.1 to 8% by weight in the case of adipic acid dihydrazide.

以下、実施例を示し、実施形態を具体的に説明する。 The following provides examples and explains the embodiments in detail.

実施例1
粘土鉱物塗付液1の調製
スターラーで撹拌した純水にスメクタイト粉末を2.8重量%となるように投入し5分間撹拌した後、ホモジナイザーで15分間処理し24時間放置した。これを再度スターラーで撹拌し均一化させ、粘土鉱物層塗付液1としてのスラリーを得た。
Example 1
Preparation of clay mineral coating solution 1
Smectite powder was added to pure water stirred with a stirrer so that the concentration was 2.8% by weight, and the mixture was stirred for 5 minutes, then treated with a homogenizer for 15 minutes and left for 24 hours. This was then stirred again with a stirrer to make it homogenous, and a slurry was obtained as clay mineral layer coating liquid 1.

光触媒塗付液1の調製
10重量%WOおよび10重量%TiOを含むスラリーを用意し、純水で総固形分が2.5重量%となるように希釈した。
Preparation of photocatalyst coating solution 1
A slurry containing 10 wt% WO3 and 10 wt% TiO2 was prepared and diluted with pure water to a total solids content of 2.5 wt%.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの最大吸水量WAを192.8g/mと見積もった。
この不織布壁紙に、粘土鉱物塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、Kが100,塗布液の比重Dは1.03g/cm)塗布し、150℃で5分間乾燥させ、不織布壁紙基材に5.6g/mのスメクタイトを固着した。
更に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、紫外線による前処理を行わないサンプルも用意した。
Sample Preparation The maximum water absorption capacity of a nonwoven wallpaper cut to a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 0.964 g. The maximum water absorption capacity per m2 , WA, was estimated to be 192.8 g/ m2 .
Clay mineral coating solution 1 was applied to this nonwoven wallpaper by dip coating at 199 g/ m2 (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.03 g/ cm3 ), and dried at 150°C for 5 minutes to fix 5.6 g/ m2 of smectite to the nonwoven wallpaper substrate.
Furthermore, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.
The nonwoven wallpaper thus produced was pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/m 2 to prepare a sample. In addition, a sample that was not pretreated with ultraviolet light was also prepared.

試験方法
アセトアルデヒドガス除去試験は、5L容積のチャンバーにサンプルを入れ、25℃、湿度20%となるように予め換気し調整した後、アセトアルデヒドガスを、濃度が10ppmとなるように、チャンバーにシリンジで注入した。除去試験には、紫外線シャープカットフィルター(クラレックスUVカットフィルターN-169)を灯具とチャンバーの間に挟み込み、380nm以下のUV光をカットしながら白色蛍光灯FL20SWを用いてサンプル面上で6000lxとなるように光照射を行い、アセトアルデヒドガスの濃度測定を、光音響マルチガスモニターINNOVA1412i(LumaSense Technologies社製)を用いて、2時間行った。
Test method
In the acetaldehyde gas removal test, a sample was placed in a 5L volume chamber, and after pre-ventilation and adjustment to 25°C and humidity 20%, acetaldehyde gas was injected into the chamber with a syringe so that the concentration was 10 ppm. In the removal test, an ultraviolet sharp cut filter (Kurarex UV cut filter N-169) was sandwiched between the lamp and the chamber, and light was irradiated on the sample surface at 6000 lx using a white fluorescent lamp FL20SW while cutting UV light of 380 nm or less, and the concentration of acetaldehyde gas was measured for 2 hours using a photoacoustic multi-gas monitor INNOVA1412i (manufactured by LumaSense Technologies).

図6は、実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
図7は、実施形態にかかる光触媒製品の他のサンプルの触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
実施例1の結果を図6にグラフ101として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ506として示す。
図6及び図7より、表面処理部にスメクタイトと光触媒を適用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となり、良好な触媒作用があることがわかった。しかしながら、紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で70%以上となり、十分な触媒作用は確認できなかった。
FIG. 6 is a graph showing the catalytic action of the photocatalyst product according to the embodiment, showing the relationship between the light irradiation time and the residual rate of acetaldehyde.
FIG. 7 is a graph showing the catalytic action of another sample of the photocatalyst product according to the embodiment, showing the relationship between the light irradiation time and the residual rate of acetaldehyde.
The results of Example 1 are shown as graph 101 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 506 in FIG.
6 and 7, when smectite and photocatalyst are applied to the surface treatment, the acetaldehyde gas residual rate in the sample pretreated with ultraviolet light was 10% or less in 2 hours, indicating good catalytic action. However, in the sample not pretreated with ultraviolet light, the acetaldehyde gas residual rate was 70% or more in 2 hours, indicating insufficient catalytic action.

実施例2
架橋剤塗付液1の調製
架橋剤塗付液は、ZrO換算で19%炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で1.9重量%に希釈し、スターラーで撹拌して作製した。
粘土鉱物塗付液1の調製
実施例1と同様にして、粘土鉱物層塗付液1のスラリーを得た。
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
Example 2
Preparation of crosslinker coating solution 1
The crosslinking agent coating solution was prepared by diluting a 19% aqueous solution of ammonium zirconium carbonate (calculated as ZrO2) with pure water to 1.9% by weight and stirring with a stirrer.
Preparation of clay mineral coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of clay mineral layer coating liquid 1 was obtained.
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの最大吸水量WAを192.8g/mと見積もった。
この不織布壁紙に、架橋剤塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、Kが100、塗付液の比重Dは1.033g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO換算)として、3.8g/mを固着させた。
Sample Preparation The maximum water absorption capacity of a nonwoven wallpaper cut to a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 0.964 g. The maximum water absorption capacity per m2 , WA, was estimated to be 192.8 g/ m2 .
Crosslinking agent coating solution 1 was applied to this nonwoven wallpaper by dip coating at 199 g/ m2 (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.033 g/ cm3 ) and dried at 150°C for 5 minutes to fix ammonium zirconium carbonate. In this way, 3.8 g/ m2 of ammonium zirconium carbonate solids ( ZrO2 equivalent) was fixed to the nonwoven wallpaper substrate.

次に、実施例1と同様の粘土鉱物塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、Kが100,液比重Dは1.04g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、不織布壁紙基材に5.6g/mのスメクタイトを固着した。 Next, the same clay mineral coating solution 1 as in Example 1 was applied by dip coating at 199 g/ m2 (K was 100 and the liquid specific gravity D was 1.04 g/ cm3 ) and dried at 150°C for 5 minutes to fix 5.6 g/ m2 of smectite to the nonwoven fabric wallpaper substrate.

更に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。
Furthermore, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.
The nonwoven wallpaper thus produced was pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/m 2 to prepare a sample. A sample that was not pretreated was also prepared.

試験方法
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図6にグラフ102として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ503として示す。
図6及び図7より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となり、良好な触媒作用があることがわかった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で20%以下となり、触媒効果があることが確認できた。
Test method
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 102 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 503 in FIG.
6 and 7, when smectite, a photocatalyst, and a crosslinking agent are used in the surface treatment, the sample that was pretreated with ultraviolet light had an acetaldehyde gas residual rate of 10% or less in 2 hours, demonstrating good catalytic action.The sample that was not pretreated with ultraviolet light had an acetaldehyde gas residual rate of 20% or less in 2 hours, confirming the catalytic effect.

実施例3
吸着剤塗付液1の調製
吸着剤塗付液1は、純水中にアジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は0.4重量%とした。
粘土鉱物塗付液1の調製
実施例1と同様にして、粘土鉱物層塗付液1のスラリーを得た。
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
Example 3
Preparation of adsorbent coating solution 1
Adsorbent coating solution 1 was prepared by adding adipic acid dihydrazide powder to pure water and stirring with a stirrer to give a concentration of 0.4% by weight.
Preparation of clay mineral coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of clay mineral layer coating liquid 1 was obtained.
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの最大吸水量WAを192.8g/mと見積もった。
この不織布壁紙に、吸着剤塗付液1を、ディップコートにより、192.8g/m(このとき、Kが100、塗布液の比重Dは1.000g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、0.8g/mを固着させた。
Sample preparation
The maximum amount of pure water absorbed by a nonwoven wallpaper cut to a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 0.964 g. The maximum amount of water absorbed per m2 , WA, was estimated to be 192.8 g/ m2 .
The nonwoven wallpaper was coated with 192.8 g/ m2 of adsorbent coating solution 1 by dip coating (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.000 g/ cm3 ) and dried at 150°C for 5 minutes to fix the adipic acid dihydrazide. In this way, 0.8 g/ m2 of adipic acid dihydrazide was fixed to the nonwoven wallpaper substrate as a solid content.

次に、実施例1と同様の粘土鉱物塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、比率Kが100,塗布液の比重Dは1.04g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、不織布壁紙基材に5.6g/mのスメクタイトを固着した。
更に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。
Next, the same clay mineral coating solution 1 as in Example 1 was applied by dip coating at 199 g/ m2 (ratio K was 100, and specific gravity D of the coating solution was 1.04 g/ cm3 ), and dried at 150°C for 5 minutes to fix 5.6 g/ m2 of smectite to the nonwoven fabric wallpaper substrate.
Furthermore, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.
The nonwoven wallpaper thus produced was pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/m 2 to prepare a sample. A sample that was not pretreated was also prepared.

試験方法
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図6にグラフ103として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ502として示す。
図6及び図7より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と吸着剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となり、良好な触媒作用があることがわかった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでも、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となり、十分な触媒効果があることが確認できた。
Test method
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 103 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 502 in FIG.
6 and 7, when smectite, photocatalyst, and adsorbent are used in the surface treatment, the acetaldehyde gas residual rate was 10% or less in 2 hours in the sample that was pretreated with ultraviolet light, demonstrating good catalytic action. Even in the sample that was not pretreated with ultraviolet light, the acetaldehyde gas residual rate was 10% or less in 2 hours, confirming sufficient catalytic effect.

実施例4
吸着剤塗付液1の調製
実施例3と同様にして吸着剤塗付液1を調製した。
架橋剤塗付液1の調製
実施例2と同様にして架橋剤塗付液を調製した。
粘土鉱物塗付液1の調製
実施例1と同様にして、粘土鉱物層塗付液1のスラリーを得た。
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
Example 4
Preparation of adsorbent coating solution 1
An adsorbent coating solution 1 was prepared in the same manner as in Example 3.
Preparation of crosslinker coating solution 1
A crosslinking agent coating solution was prepared in the same manner as in Example 2.
Preparation of clay mineral coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of clay mineral layer coating liquid 1 was obtained.
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの最大吸水量WAを192.8g/mと見積もった。
この不織布壁紙に、吸着剤塗付液1を、ディップコートにより、192.8g/m(このとき、Kが100、塗布液の比重Dは1.000g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、0.8g/mを固着させた。
Sample preparation
The maximum amount of pure water absorbed by a nonwoven wallpaper cut to a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 0.964 g. The maximum amount of water absorbed per m2 , WA, was estimated to be 192.8 g/ m2 .
The nonwoven wallpaper was coated with 192.8 g/ m2 of adsorbent coating solution 1 (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.000 g/ cm3 ) by dip coating, and then dried at 150°C for 5 minutes to fix the adipic acid dihydrazide. In this way, 0.8 g/ m2 of adipic acid dihydrazide was fixed to the nonwoven wallpaper substrate as a solid content.

次に、この不織布壁紙に、架橋剤塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、Kが100、塗布液の比重Dは1.033g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO換算)、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、3.8g/mを固着させた。
続いて、実施例1と同様の粘土鉱物塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、比率Kが100,塗布液の比重Dは1.04g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、不織布壁紙基材に5.6g/mのスメクタイトを固着した。
Next, 199 g/ m2 of crosslinking agent coating solution 1 (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.033 g/ cm3 ) was applied to this nonwoven wallpaper by dip coating, and dried for 5 minutes at 150°C to fix ammonium zirconium carbonate. In this way, 3.8 g/ m2 of ammonium zirconium carbonate solid content ( ZrO2 equivalent) and adipic acid dihydrazide solid content were fixed to the nonwoven wallpaper substrate.
Next, 199 g/ m2 of clay mineral coating solution 1 similar to that in Example 1 was applied by dip coating (ratio K was 100, and specific gravity D of the coating solution was 1.04 g/ cm3 ), and dried at 150°C for 5 minutes to adhere 5.6 g/ m2 of smectite to the nonwoven fabric wallpaper substrate.

更に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。
Furthermore, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.
The nonwoven wallpaper thus produced was pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/m 2 to prepare a sample. A sample that was not pretreated was also prepared.

試験方法
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図6にグラフ104として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ504として示す。
図6及び図7より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤と吸着剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となり、良好な触媒効果があることが確認できた。
Test method
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 104 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 504 in FIG.
6 and 7, when smectite, a photocatalyst, a crosslinking agent, and an adsorbent were used in the surface treatment, the acetaldehyde gas residual rate was 10% or less in 2 hours in the sample that was pretreated with ultraviolet light. In the sample that was not pretreated with ultraviolet light, the acetaldehyde gas residual rate was 10% or less in 2 hours, confirming that there was a good catalytic effect.

実施例5
架橋剤塗付液1の調製
実施例2と同様にして架橋剤塗付液を調製した。
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
Example 5
Preparation of crosslinker coating solution 1
A crosslinking agent coating solution was prepared in the same manner as in Example 2.
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの最大吸水量WAを192.8g/mと見積もった。
この不織布壁紙に、架橋剤塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、Kが100、塗布液の比重Dは1.033g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO換算)として、3.8g/mを固着させた。
Sample preparation
The maximum amount of pure water absorbed by a nonwoven wallpaper cut to a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 0.964 g. The maximum amount of water absorbed per m2 , WA, was estimated to be 192.8 g/ m2 .
Crosslinking agent coating solution 1 was applied to this nonwoven wallpaper by dip coating at 199 g/ m2 (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.033 g/ cm3 ) and dried at 150°C for 5 minutes to fix ammonium zirconium carbonate. In this way, 3.8 g/ m2 of ammonium zirconium carbonate solids ( ZrO2 equivalent) was fixed to the nonwoven wallpaper substrate.

次に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。
Next, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.
The produced nonwoven wallpaper was pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/ m2 , and used as a sample.

試験方法
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図6にグラフ105として示す。
Test method
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 105 in FIG.

実施例6
架橋剤と吸着剤の混合塗付液1の調製
19%炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、アジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は、それぞれ1.9重量%、0.4重量%とした。
粘土鉱物塗付液1の調製
実施例1と同様にして、粘土鉱物層塗付液1のスラリーを得た。
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
Example 6
Preparation of mixed coating solution 1 of crosslinker and adsorbent
The solutions were prepared by diluting a 19% aqueous solution of ammonium zirconium carbonate with pure water, adding adipic acid dihydrazide powder, and stirring with a stirrer to give concentrations of 1.9% by weight and 0.4% by weight, respectively.
Preparation of clay mineral coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of clay mineral layer coating liquid 1 was obtained.
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.

サンプル作製
基材として不織布壁紙を用意した。使用した多孔質基材のSEM写真を図11に示す。図11は、不織布壁紙基材表面を観察したものであり、図示するように、天然繊維にポリエステル繊維を含有した不織布基材に、フィラー(鱗片状の片)を含む染料が装飾のために施されている。
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの最大吸水量WAを192.8g/mと見積もった。
Sample preparation
A nonwoven wallpaper was prepared as the substrate. An SEM photograph of the porous substrate used is shown in Figure 11. Figure 11 shows the surface of the nonwoven wallpaper substrate. As shown in the figure, a dye containing filler (scale-like pieces) is applied for decoration to the nonwoven substrate, which contains polyester fibers in addition to natural fibers.
The maximum amount of pure water absorbed by a nonwoven wallpaper cut to a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 0.964 g. The maximum amount of water absorbed per m2 , WA, was estimated to be 192.8 g/ m2 .

この不織布壁紙に、架橋剤と吸着剤の混合塗布液1を、ディップコートにより、196.1g/m(このとき、Kが100、塗布液の比重Dは1.017g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムと、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO換算)として、3.7g/m、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、0.8g/mを固着させた。 The nonwoven wallpaper was coated with 196.1 g/ m2 of mixed coating solution 1 of crosslinker and adsorbent by dip coating (K was 100, and specific gravity D of the coating solution was 1.017 g/ cm3 ) and dried at 150°C for 5 minutes to fix ammonium zirconium carbonate and adipic acid dihydrazide. In this way, 3.7 g/ m2 of ammonium zirconium carbonate solid content ( ZrO2 equivalent) and 0.8 g/ m2 of adipic acid dihydrazide solid content were fixed to the nonwoven wallpaper substrate.

次に、実施例1と同様の粘土鉱物塗布液1を、ディップコートにより、199g/m(このとき、比率Kが100,液比重Dは1.04g/cm)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、不織布壁紙基材に5.6g/mのスメクタイトを固着した。
更に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
Next, the same clay mineral coating liquid 1 as in Example 1 was applied by dip coating at 199 g/ m2 (ratio K was 100, and liquid specific gravity D was 1.04 g/ cm3 ), and dried at 150°C for 5 minutes to fix 5.6 g/ m2 of smectite to the nonwoven fabric wallpaper substrate.
Furthermore, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.

得られた光触媒製品の表面を電子顕微鏡で観察したSEM写真を図12に示す。図示するように、この光触媒製品では、多孔質基材表面から染み込んだ架橋剤、吸着剤、及び光触媒が、それぞれの天然繊維およびポリエステル繊維の上に設けられている。
作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。
An SEM photograph of the surface of the obtained photocatalyst product observed with an electron microscope is shown in Fig. 12. As shown in the figure, in this photocatalyst product, the crosslinking agent, the adsorbent, and the photocatalyst soaked in from the surface of the porous substrate are provided on the natural fibers and the polyester fibers, respectively.
The nonwoven wallpaper thus produced was pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/m 2 to prepare a sample. A sample that was not pretreated was also prepared.

試験方法1(初期値)
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図6にグラフ106として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ501として示す。
図6及び図7より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤と吸着剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%以下となり、良好な触媒効果があることが確認できた。
Test method 1 (initial value)
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 106 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 501 in FIG.
6 and 7, when smectite, a photocatalyst, a crosslinking agent, and an adsorbent were used in the surface treatment, the acetaldehyde gas residual rate was 10% or less in 2 hours in the sample that was pretreated with ultraviolet light. In the sample that was not pretreated with ultraviolet light, the acetaldehyde gas residual rate was 10% or less in 2 hours, confirming that there was a good catalytic effect.

試験方法2
ホルムアルデヒド除去試験として、アセトアルデヒドガスの代わりにホルムアルデヒドガスを注入すること、および5Lのガスバックと使うこと以外は実施例1の試験方法と同様にして、紫外線前処理を行ったサンプルについて、ホルムアルデヒドガスの濃度測定を、48時間行った。
その結果、48時間後のホルムアルデヒド残存率が10%未満であり、良好な触媒効果があることが確認できた。
Test method 2
As a formaldehyde removal test, the concentration of formaldehyde gas was measured for 48 hours for samples that had been subjected to ultraviolet light pretreatment in the same manner as in Example 1, except that formaldehyde gas was injected instead of acetaldehyde gas and a 5 L gas bag was used.
As a result, the residual formaldehyde rate after 48 hours was less than 10%, confirming a good catalytic effect.

試験方法3
トルエン除去試験として、アセトアルデヒドガスの代わりにトルエンガスを注入すること、および5Lのガスバックを使うこと以外は実施例1の試験方法と同様にして、紫外線前処理を行ったサンプルについて、トルエンガスの濃度測定を、48時間行った。
その結果、48時間後のトルエン残存率が59%であった。トルエンの分解に関しては、残存率が65%以下であり、触媒作用があると認められる。
Test method 3
As a toluene removal test, the concentration of toluene gas was measured for 48 hours on a sample that had been subjected to ultraviolet light pretreatment in the same manner as in Example 1, except that toluene gas was injected instead of acetaldehyde gas and a 5 L gas bag was used.
As a result, the toluene remaining rate after 48 hours was 59%. Regarding the decomposition of toluene, the remaining rate was 65% or less, which indicates the presence of a catalytic effect.

比較例1-1
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙に、光触媒塗付液1を固形分が1.0g/mとなるようにディップコートにより塗布し、120℃の乾燥炉中で5分間乾燥させる。作製した不織布壁紙は、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。
Comparative Example 1-1
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.
Sample preparation
A nonwoven wallpaper cut to 50 x 100 mm is coated with the photocatalyst coating solution 1 by dip coating so that the solid content is 1.0 g/ m2 , and dried for 5 minutes in a drying oven at 120 ° C. The nonwoven wallpaper thus prepared is pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/ m2 to prepare a sample. A sample without pretreatment was also prepared separately.

試験方法1
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図6に、グラフ107として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ505として示す。
図6及び図7より、表面処理部に光触媒のみを適用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒド残存率が2時間で25%程度であるが、紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で80%程度であり、十分な触媒効果が得られないことが確認できた。
Test method 1
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 107 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 505 in FIG.
6 and 7, when only a photocatalyst is applied to the surface treatment portion, the acetaldehyde residual rate in the sample that was pretreated with ultraviolet light was about 25% after 2 hours, whereas the acetaldehyde gas residual rate in the sample that was not pretreated with ultraviolet light was about 80% after 2 hours, confirming that a sufficient catalytic effect was not obtained.

試験方法2
実施例6の試験方法2と同様にして、ホルムアルデヒド除去試験を48時間行なった。

その結果、48時間後のホルムアルデヒド残存率が250%以上に増加した。
ホルムアルデヒドの増加は有機基材から発生したものと考えられる。有機基材上に光触媒層を塗布しただけでは、有機基材から発生するホルムアルデヒドを抑制することができないことから、十分な触媒作用が得られないものと考えられる。
Test method 2
The formaldehyde removal test was carried out for 48 hours in the same manner as in Test Method 2 of Example 6.

As a result, the residual formaldehyde rate after 48 hours increased to more than 250%.
The increase in formaldehyde is believed to be due to the organic substrate. Simply applying a photocatalyst layer to the organic substrate is not enough to suppress the formaldehyde generated from the organic substrate, and therefore it is believed that sufficient catalytic action cannot be obtained.

試験方法3
実施例6の試験方法3と同様にして、トルエン除去試験を48時間行なった。
その結果、48時間後のトルエン残存率が95%であった。
トルエンは殆ど分解しなかったものと考えられる。有機基材上に光触媒層を塗布しただけでは、トルエンを減少させることができないことから、十分な触媒作用が得られないものと考えられる。
Test method 3
The toluene removal test was carried out for 48 hours in the same manner as in Test Method 3 of Example 6.
As a result, the remaining rate of toluene after 48 hours was 95%.
It is believed that toluene was hardly decomposed. It is believed that sufficient catalytic action cannot be obtained because toluene cannot be reduced by simply applying a photocatalyst layer on an organic substrate.

比較例2
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙の代わりに、多孔質基材ではない50×100mmのガラスを使用すること以外は、比較例1と同様にしてサンプルを作製した。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。
Comparative Example 2
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.
Sample preparation
A sample was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that a non-porous substrate, 50×100 mm glass, was used instead of the non-woven wallpaper cut to 50×100 mm. A sample that was not pretreated was also prepared.

試験方法
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
得られた結果を図8にグラフ108として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図7にグラフ507として示す。
図6及び図7より、表面処理部に光触媒のみを適用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでも、紫外線による前処理を行なわないサンプルでも、アセトアルデヒドガス残存率が2時間で10%程度であり、ガラス基材では光触媒塗付液1のみであっても十分な触媒効果が得られる。
Test Method: In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
The results obtained are shown as graph 108 in FIG.
Similarly, a test for removing acetaldehyde gas was carried out on a sample that was not pretreated with ultraviolet light, and the results are shown as graph 507 in FIG.
As can be seen from Figures 6 and 7, when only a photocatalyst is applied to the surface treatment area, the acetaldehyde gas residual rate is about 10% after 2 hours for both samples that have been pretreated with ultraviolet light and samples that have not been pretreated with ultraviolet light, and for glass substrates, sufficient catalytic effect can be obtained even with only the photocatalyst coating liquid 1.

また、実施例1~6,比較例1,2について、表面処理部の塗布液濃度と固着量と、アセトアルデヒドガス及びその他のガスの濃度測定の評価を下記表1-1及び表1-2に示す。なお、表中、固着量(g/m)は、塗布液濃度(重量%)の下にカッコ書きで示した。また、評価は、2時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が20%以下の場合を○、20%を超える場合は×とした。さらに、48時間後のホルムアルデヒドガスの残存率が20%以下の場合を○、20%を超える場合は×とした。トルエンガスの場合は48時間後の残存率が60%以下の場合を○とした。60%を超える場合は×とした。 Tables 1-1 and 1-2 show the coating solution concentration and adhesion amount in the surface treatment section, and the evaluation of the concentration measurement of acetaldehyde gas and other gases for Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2. In the tables, the adhesion amount (g/m 2 ) is shown in parentheses under the coating solution concentration (wt %). The evaluation was performed as follows: if the residual rate of acetaldehyde gas after 2 hours was 20% or less, it was marked as ○, and if it exceeded 20%, it was marked as ×. Furthermore, if the residual rate of formaldehyde gas after 48 hours was 20% or less, it was marked as ○, and if it exceeded 20%, it was marked as ×. In the case of toluene gas, if the residual rate after 48 hours was 60% or less, it was marked as ○. If it exceeded 60%, it was marked as ×.

表1-1に示すように、実施例1~6の光触媒製品は、いずれも2時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が20%以下となり、有機基材を使用しても周囲雰囲気に対する触媒作用が良好であることがわかった。また、紫外線による前処理を行わないサンプルについては、実施例4及び6に示すように、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤と吸着剤を使用した場合には良好な触媒作用が確認できた。また、実施例2及び3に示すように、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤または吸着剤のうち一方とを用いた場合にも、十分な触媒作用が確認できた。しかしながら、実施例1に示すように、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤を用いた場合には十分な触媒作用は確認できなかった。 As shown in Table 1-1, the residual rate of acetaldehyde gas in the photocatalyst products of Examples 1 to 6 was 20% or less after 2 hours, and it was found that the catalytic action in the surrounding atmosphere was good even when an organic substrate was used. In addition, for samples that were not pretreated with ultraviolet light, good catalytic action was confirmed when smectite, photocatalyst, crosslinking agent, and adsorbent were used in the surface treatment area, as shown in Examples 4 and 6. Also, sufficient catalytic action was confirmed when smectite, photocatalyst, and either a crosslinking agent or an adsorbent were used in the surface treatment area, as shown in Examples 2 and 3. However, sufficient catalytic action was not confirmed when smectite, photocatalyst, and crosslinking agent were used in the surface treatment area, as shown in Example 1.

また、図8は、比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。 Figure 8 is a graph showing the catalytic action of a comparative photocatalyst product, showing the relationship between light exposure time and the residual rate of acetaldehyde.

比較例1は有機基材の例として、図8にグラフ107として示した。
図8に示すように、有機基材上に直接光触媒を適用すると、有機基材からの有害有機分子を多く吸着して分解するため、グラフ107に示すように、周囲雰囲気に対する見かけの触媒作用が低下する。これに対し、ガラス基材上に直接光触媒を適用しても、グラフ108に示すようにガラス基材からは有害有機分子が発生しないので、周囲雰囲気に対する触媒作用が低下しない。また、グラフ108は、実施例1~6とほぼ同等であることから、実施例1~6の光触媒製品においては、有機基材における有害有機分子の発生を、有害有機分子が発生しないガラス基材並みに低減できると考えられる。
Comparative Example 1 is an example of an organic substrate and is shown as graph 107 in FIG.
As shown in Fig. 8, when the photocatalyst is applied directly onto the organic substrate, a large amount of harmful organic molecules from the organic substrate are adsorbed and decomposed, so that the apparent catalytic action on the surrounding atmosphere is reduced, as shown in graph 107. In contrast, even when the photocatalyst is applied directly onto the glass substrate, harmful organic molecules are not generated from the glass substrate, as shown in graph 108, so the catalytic action on the surrounding atmosphere is not reduced. In addition, since graph 108 is almost the same as in Examples 1 to 6, it is considered that the photocatalyst products of Examples 1 to 6 can reduce the generation of harmful organic molecules in the organic substrate to the same level as a glass substrate, which does not generate harmful organic molecules.

Figure 0007482297000001
Figure 0007482297000001

Figure 0007482297000002

実施例7
架橋剤と吸着剤の混合塗付液2の調製
19%炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、アジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は、それぞれ3.5重量%、5重量%とした。
粘土鉱物塗付液1の調製
実施例1と同様にして、粘土鉱物層塗付液1のスラリーを得た。
光触媒塗付液1の調製
実施例1と同様にして、光触媒塗付液1のスラリーを得た。
Figure 0007482297000002

Example 7
Preparation of mixed coating solution 2 of crosslinker and adsorbent
The solutions were prepared by diluting a 19% aqueous solution of ammonium zirconium carbonate with pure water, adding adipic acid dihydrazide powder, and stirring with a stirrer to give concentrations of 3.5% by weight and 5% by weight, respectively.
Preparation of clay mineral coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of clay mineral layer coating liquid 1 was obtained.
Preparation of photocatalyst coating solution 1
In the same manner as in Example 1, a slurry of photocatalyst coating liquid 1 was obtained.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ0.964gであったことから、1m2当たりの最大吸水量WAを192.8g/m2と見積もった。
この不織布壁紙に、架橋剤と吸着剤の混合塗布液2を、ディップコートにより、199.2g/m2(このとき、Kが100、塗布液の比重Dは1.033g/cm3)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムと、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO2換算)として、7.0g/m2、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、10.0g/mを固着させた。
Sample preparation
The maximum amount of pure water that a nonwoven wallpaper cut into a size of 50 x 100 mm could absorb was measured and found to be 0.964 g. The maximum amount of water absorption per m2, WA, was estimated to be 192.8 g/m2.
The mixed coating solution 2 of crosslinker and adsorbent was applied to this nonwoven wallpaper by dip coating at 199.2 g/m2 (K was 100, and the specific gravity D of the coating solution was 1.033 g/cm3), and dried at 150°C for 5 minutes to fix ammonium zirconium carbonate and dihydrazide adipic acid. In this way, 7.0 g/m2 of ammonium zirconium carbonate solid content (ZrO2 equivalent) and 10.0 g/ m2 of dihydrazide adipic acid were fixed to the nonwoven wallpaper substrate.

次に、実施例1と同様の粘土鉱物塗布液1を、ディップコートにより、199g/m2(このとき、比率Kが100,液比重Dは1.04g/cm3)を塗布し、150℃で5分間乾燥させ、不織布壁紙基材に5.6g/mのスメクタイトを固着した。
更に、1.25重量%WO、および1.25重量%TiOを含む光触媒塗布液1をディップコートで40g/m塗布し、150℃で5分間乾燥し、光触媒を1.0g/m固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
Next, the same clay mineral coating solution 1 as in Example 1 was applied by dip coating at 199 g/m2 (ratio K was 100, and liquid specific gravity D was 1.04 g/cm3) and dried at 150°C for 5 minutes, thereby fixing 5.6 g/ m2 of smectite to the nonwoven fabric wallpaper substrate.
Furthermore, photocatalyst coating solution 1 containing 1.25 wt% WO3 and 1.25 wt% TiO2 was applied by dip coating at 40 g/ m2 , and dried at 150°C for 5 minutes to fix the photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining a nonwoven wallpaper as a photocatalyst product.

試験方法1(初期値)
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。
図9は、実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
得られた結果を図9にグラフ301として示す。
試験方法2(7日間後)
初期値を測定したサンプルを、白色蛍光灯が設置された人の出入りのある事務所内の机上に7日間放置し、実空間試験とした。サンプル面上の照度は約350lxであり、夜間・休日は消灯した。アセトアルデヒドガス除去試験は試験法1と同じ条件で実施し、7日間実空間放置後データーとした。
得られた結果を図9にグラフ302として示す。
試験方法3(15日間後)
7日間実空間放置試験を実施したサンプルを、試験方法2と同条件で、更に8日間放置して、アセトアルデヒドガス除去試験は試験法1と同じ条件で実施し、15日間実空間放置後データーとした。
Test method 1 (initial value)
In the same manner as in Example 1, the concentration of acetaldehyde gas was measured for two hours.
FIG. 9 is a graph showing the catalytic action of the photocatalyst product according to the embodiment, showing the relationship between the light irradiation time and the acetaldehyde residual rate.
The results obtained are shown as graph 301 in FIG.
Test method 2 (after 7 days)
The sample with the initial value measured was left on a desk in an office with white fluorescent lights and people coming and going for 7 days as a real space test. The illuminance on the sample surface was about 350 lx, and the lights were turned off at night and on holidays. The acetaldehyde gas removal test was performed under the same conditions as Test Method 1, and the data was taken after leaving the sample in the real space for 7 days.
The results obtained are shown as graph 302 in FIG.
Test method 3 (after 15 days)
The samples that had been subjected to the 7-day real-space storage test were left for a further 8 days under the same conditions as in Test Method 2, and the acetaldehyde gas removal test was carried out under the same conditions as in Test Method 1, and the data after leaving the samples in the real space for 15 days was recorded.

得られた結果を図9にグラフ303として示す。
比較例1-2
比較例1-1と同様のサンプルを用意し、実施例7と同様にして、初期、7日間後、15日間後についてアセトアルデヒドガス除去試験を行った。
図10は、比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
初期値をグラフ401、7日間後をグラフ402、15日間後をグラフ403に示す。

図9に示すように、実施例7にかかる光触媒製品は、7日間後、15日間後であっても、いずれも2時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が30%以下となり、周囲雰囲気に対する触媒作用が十分であり、ライフ特性が良好であることがわかった。
これに対し、図10に示すように、比較例1にかかる光触媒製品では、7日間後、15日間後は、いずれも2時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が80%を超え、周囲雰囲気に対する触媒作用が低下し、ライフ特性が悪いことがわかった。
The results obtained are shown as graph 303 in FIG.
Comparative Example 1-2
The same sample as in Comparative Example 1-1 was prepared, and an acetaldehyde gas removal test was carried out in the same manner as in Example 7 at the initial stage, after 7 days, and after 15 days.
FIG. 10 is a graph showing the catalytic action of a comparative photocatalyst product, showing the relationship between the light irradiation time and the residual rate of acetaldehyde.
The initial value is shown in graph 401, the value after 7 days in graph 402, and the value after 15 days in graph 403.

As shown in FIG. 9, in the photocatalyst product of Example 7, the residual rate of acetaldehyde gas was 30% or less after 2 hours even after 7 days or 15 days, and it was found that the catalytic action on the surrounding atmosphere was sufficient and the life characteristics were good.
In contrast, as shown in FIG. 10, in the photocatalyst product of Comparative Example 1, after 7 days and 15 days, the residual rate of acetaldehyde gas exceeded 80% after 2 hours, indicating that the catalytic action against the surrounding atmosphere was reduced and the life characteristics were poor.

実施例8-1,8-2
架橋剤と吸着剤の混合塗付液3の調製
19%炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、アジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は、それぞれ5重量%(ZrO換算)、7.5重量%とした。
粘土鉱物塗付液2の調製
スターラーで撹拌した純水にスメクタイト粉末を4重量%となるように投入し、5分間撹拌した後、ホモジナイザーで15分間処理し24時間放置した。これを再度スターラーで撹拌し均一化させ、粘土鉱物層塗付液2としてのスラリーを得た。
Examples 8-1 and 8-2
Preparation of mixed coating solution 3 of crosslinker and adsorbent
A 19% aqueous solution of ammonium zirconium carbonate was diluted with pure water, and adipic acid dihydrazide powder was added and stirred with a stirrer to prepare the solution. The concentrations were 5% by weight ( ZrO2 equivalent) and 7.5% by weight, respectively.
Preparation of clay mineral coating solution 2
Smectite powder was added to pure water stirred with a stirrer so that the concentration was 4% by weight, and the mixture was stirred for 5 minutes, then treated with a homogenizer for 15 minutes and left for 24 hours. This was then stirred again with a stirrer to make it homogenous, and a slurry was obtained as clay mineral layer coating liquid 2.

光触媒塗付液2の調製
純水にWOを10重量%含むスラリーを用意し、スラリーの重量に対し、TiO光触媒を10重量%添加した。これを純水で総固形分量が4.5重量%になるように希釈して光触媒塗付液2を調製した。
Preparation of photocatalyst coating solution 2
A slurry containing 10% by weight of WO3 in pure water was prepared, and 10% by weight of TiO2 photocatalyst was added to the weight of the slurry. This was diluted with pure water so that the total solid content was 4.5% by weight to prepare photocatalyst coating liquid 2.

サンプル作製
50×100mmに切り出した不織布壁紙について、この基材の純水を吸水できる最大吸水量を予め測定したところ0.964gであったことから、1m当たりの基材吸水量WAは192.8g/mと見積もった。
この不織布壁紙に、混合塗布液3を、ディップコートにより、28.9g/m(このとき、Kが14.3、塗布液の比重Dは1.049g/cm)を塗布し、170℃で3分間乾燥させ炭酸ジルコニウムアンモニウムと、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。不織布壁紙基材には、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO換算)として、1.45g/m、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、2.17g/mを固着させた。
Sample preparation
The maximum water absorption capacity of the nonwoven wallpaper cut into a size of 50 x 100 mm was previously measured and found to be 0.964 g. Therefore, the water absorption capacity WA of the substrate per m2 was estimated to be 192.8 g/ m2 .
Mixed coating solution 3 was applied to this nonwoven wallpaper by dip coating at 28.9 g/ m2 (K was 14.3, and specific gravity D of the coating solution was 1.049 g/ cm3 ) and dried at 170°C for 3 minutes to fix ammonium zirconium carbonate and adipic acid dihydrazide. Ammonium zirconium carbonate solid content ( ZrO2 equivalent) of 1.45 g/ m2 and adipic acid dihydrazide solid content of 2.17 g/ m2 were fixed to the nonwoven wallpaper substrate.

次に、粘土鉱物塗付液2を、スキージにより、62.3g/m(このとき、Kが31、塗布液の比重Dは1.043g/cm)を塗布し、170℃で4分間乾燥させスメクタイトを固定化した。このようにして不織布壁紙に2.5g/mのスメクタイトを固着した。
更に、上記不織布壁紙に光触媒塗付液2をスキージで26.5g/m塗布し、120℃で3分間乾燥させ、光触媒を1.2g/m固着させて実施例8-1の不織布壁紙を作製した。
Next, 62.3 g/m2 of clay mineral coating liquid 2 (K was 31, and the specific gravity D of the coating liquid was 1.043 g/ cm3 ) was applied with a squeegee and dried at 170°C for 4 minutes to fix the smectite. In this way, 2.5 g/ m2 of smectite was fixed to the nonwoven wallpaper.
Furthermore, 26.5 g/m2 of photocatalyst coating liquid 2 was applied to the nonwoven wallpaper with a squeegee and dried at 120°C for 3 minutes to fix the photocatalyst at 1.2 g/ m2 , thereby producing the nonwoven wallpaper of Example 8-1.

また、実施例8-2として、光触媒塗付液2をスキージで45g/m塗布した不織布壁紙を作製した。乾燥温度は120℃、乾燥時間を5分とした。この時の光触媒量は2.0g/mであった。
実施例8-1及び実施例8-2の不織布壁紙について、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、24時間の前処理を行い、サンプルを得た。
In addition, as Example 8-2, a nonwoven wallpaper was produced by applying 45 g/ m2 of the photocatalyst coating liquid 2 with a squeegee. The drying temperature was 120°C, and the drying time was 5 minutes. The amount of photocatalyst at this time was 2.0 g/ m2 .
The nonwoven wallpapers of Examples 8-1 and 8-2 were pretreated for 24 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/ m2 to obtain samples.

試験方法
アセトアルデヒドガス除去試験
実施例1と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を2時間行った。実施例8-1では、アセトアルデヒドガス残存率が10%以下、実施例8-2では5%以下であり、いずれも良好な触媒作用があることがわかった。
Test method
Acetaldehyde gas removal test
The concentration of acetaldehyde gas was measured for 2 hours in the same manner as in Example 1. In Example 8-1, the residual rate of acetaldehyde gas was 10% or less, and in Example 8-2, it was 5% or less, and it was found that both had good catalytic action.

黒布転着試験法
上記サンプル作製と同様にして別途作製した不織布壁紙の表面を、羊毛の黒い布で擦り、黒布に転着する色を観察した。平板上に置いた不織布壁紙の上に、黒布を置き、その上から直径17mmの円形の面上に3kgfの荷重をかけて、そのまま10cm移動させることにより、不織布壁紙と黒布を擦った。この時の圧力は13.2g/mmであった。
Black cloth transfer test method
The surface of a nonwoven wallpaper prepared separately in the same manner as the above sample preparation was rubbed with a black wool cloth, and the color transferred to the black cloth was observed. The black cloth was placed on the nonwoven wallpaper placed on a flat plate, and a load of 3 kgf was applied to a circular surface with a diameter of 17 mm from above, and the nonwoven wallpaper and the black cloth were rubbed by moving it for 10 cm. The pressure at this time was 13.2 g/ mm2 .

図13に、実施例8-1の不織布壁紙の転着試験の結果を表す黒布表面の写真、図14に、実施例8-2の不織布壁紙の転着試験の結果を表す黒布表面の写真を、各々示す。 Figure 13 shows a photograph of the black cloth surface illustrating the results of the transfer test of the nonwoven wallpaper of Example 8-1, and Figure 14 shows a photograph of the black cloth surface illustrating the results of the transfer test of the nonwoven wallpaper of Example 8-2.

実施例8-1では、黒布はほとんど変化がなかったが、実施例8-2では、白く変化した。白色の原因は、ハンディー型蛍光X線測定装置(オリンパス株式会社製 商品名 ハンドヘルド蛍光X線分析計 DELTA Professional)で確認した結果、光触媒成分であることが確認された。この多孔質基材の例では、1.2g/mの光触媒の固着量は適正であったが、2.0g/mでは光触媒の固着量が多少過剰となる傾向があることがわかった。 In Example 8-1, the black cloth was almost unchanged, but in Example 8-2, it turned white. The cause of the white color was confirmed to be a photocatalytic component as a result of checking with a handheld fluorescent X-ray measuring device (Olympus Corporation, product name Handheld Fluorescent X-ray Analyzer DELTA Professional). In this example of a porous substrate, the amount of photocatalyst adhered was appropriate at 1.2 g/m 2 , but it was found that the amount of photocatalyst adhered tended to be somewhat excessive at 2.0 g/m 2 .

実施例9及び比較例3
架橋剤塗付液2の調製
19重量%(ZrO換算)炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、0.75重量%濃度(ZrO換算)の水溶液を作製した。
光触媒塗付液3の調製
10重量%のWOを分散させたスラリーを純水で希釈し、固形分量が0.5重量%wになるように調整した。
Example 9 and Comparative Example 3
Preparation of crosslinker coating solution 2
A 19 wt% ( ZrO2 equivalent) aqueous solution of ammonium zirconium carbonate was diluted with pure water to prepare an aqueous solution with a concentration of 0.75 wt% ( ZrO2 equivalent).
Preparation of photocatalyst coating solution 3
A slurry in which 10 wt% WO3 was dispersed was diluted with pure water to adjust the solid content to 0.5 wt%.

サンプル作製
50×100mmに切り出したモケット生地について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ7.94gであったことから、1m当たりの基材吸水量WAは1588g/mと見積もった。
このモケット生地に、架橋剤塗付液2を、ディップコートにより、200g/m(このとき、Kが12.4、塗布液の比重Dは1.013g/cm)を塗布し、150℃で3分間乾燥させ炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。モケット生地には、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量(ZrO換算)として、1.5g/mが固着された。
Sample preparation
The maximum water absorption capacity of the moquette fabric cut into a size of 50 x 100 mm was measured and found to be 7.94 g. Therefore, the base material water absorption capacity WA per 1 m2 was estimated to be 1588 g/ m2 .
Crosslinking agent coating solution 2 was applied to this moquette fabric by dip coating at 200 g/ m2 (K was 12.4, and the specific gravity D of the coating solution was 1.013 g/ cm3 ), and the fabric was dried at 150°C for 3 minutes to fix ammonium zirconium carbonate. 1.5 g/ m2 of ammonium zirconium carbonate was fixed to the moquette fabric as a solid content ( ZrO2 equivalent).

次に、上記モケット生地に光触媒塗付液3を、簡易的なグラビア試験機で200g/m塗布し、120℃で3分間乾燥させ、WO光触媒を1.0g/m固着させ、実施例_9のモケット生地とした。
また、比較例3として、架橋剤塗付液2を塗布しないこと以外は実施例9と同様にして、モケット生地を作製した。
実施例9と比較例3のモケット生地、および全く処理をしていないBlank用のモケット生地について、20W/mとなるように調整した紫外線ランプFL20SBLで、12時間の前処理を行い、サンプルを作製した。
Next, the photocatalyst coating liquid 3 was applied to the above moquette fabric at 200 g/m2 using a simple gravure tester, and dried at 120 °C for 3 minutes to fix the WO3 photocatalyst at 1.0 g/ m2 , thereby obtaining the moquette fabric of Example 9.
As Comparative Example 3, a moquette fabric was prepared in the same manner as in Example 9, except that the crosslinking agent coating solution 2 was not applied.
The moquette fabrics of Example 9 and Comparative Example 3, and the moquette fabric for Blank that was not treated at all were pretreated for 12 hours with an ultraviolet lamp FL20SBL adjusted to 20 W/ m2 to prepare samples.

アセトアルデヒド除去試験方法
アセトアルデヒドガス除去試験は、1.5L容積のチャンバーにサンプルを入れ、25℃、湿度20%となるように予め換気し調整した後、アセトアルデヒドガスを、濃度が10ppmとなるように、チャンバーにシリンジで注入した。除去試験には、紫外線シャープカットフィルター(クラレックスUVカットフィルターN-169)を灯具とチャンバーの間に挟み込み、380nm以下のUV光をカットしながら白色蛍光灯FL20SWを用いてサンプル面上で6000lxとなるように光照射を行い、アセトアルデヒドガスの濃度測定を、光音響マルチガスモニターINNOVA1412i(LumaSense
Technologies社製)を用いて1時間行った。得られた結果を図15に示す。
Acetaldehyde removal test method
In the acetaldehyde gas removal test, a sample was placed in a 1.5 L volume chamber, and after pre-ventilation and adjustment to 25°C and 20% humidity, acetaldehyde gas was injected into the chamber with a syringe so that the concentration was 10 ppm. In the removal test, an ultraviolet sharp cut filter (Kurarex UV cut filter N-169) was sandwiched between the lamp and the chamber, and light was irradiated on the sample surface at 6000 lx using a white fluorescent lamp FL20SW while cutting out UV light of 380 nm or less, and the concentration of acetaldehyde gas was measured using a photoacoustic multi-gas monitor INNOVA1412i (LumaSense
The measurement was performed for 1 hour using a 350 nm NMR spectrometer (manufactured by Sigma-Aldrich Technologies). The results are shown in FIG.

図15は、光照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を表すグラフ図である。
図中、501はブランク用のモケット生地、502は比較例3、503は実施例9の結果を各々示す。502に示すように、光触媒のみを塗布した比較例3のモケット生地は、アセトアルデヒド残存率が90%以上であり、触媒作用はなかったが、503に示すように、炭酸ジルコニウムアンモニウムと光触媒を塗布した実施例9のモケット生地は、アセトアルデヒドガス残存率が50%以下であり、炭酸ジルコニウムアンモニウムで処理したことにより、良好な触媒作用があることがわかった。
また、上記表1-1及び表1-2には、実施例7,8-1,8-2,9、比較例3についても、表面処理部の塗布液濃度と固着量と、アセトアルデヒドガスの濃度測定の評価を示した。
FIG. 15 is a graph showing the relationship between the light irradiation time and the residual rate of acetaldehyde.
In the figure, 501 indicates the results of the blank moquette fabric, 502 indicates the results of Comparative Example 3, and 503 indicates the results of Example 9. As shown in 502, the moquette fabric of Comparative Example 3, which was coated with only the photocatalyst, had an acetaldehyde residual rate of 90% or more, indicating no catalytic action, but as shown in 503, the moquette fabric of Example 9, which was coated with ammonium zirconium carbonate and the photocatalyst, had an acetaldehyde gas residual rate of 50% or less, indicating that treatment with ammonium zirconium carbonate provided good catalytic action.
Tables 1-1 and 1-2 also show the evaluation of the coating liquid concentration and adhesion amount in the surface treatment area and the acetaldehyde gas concentration measurement for Examples 7, 8-1, 8-2, and 9, and Comparative Example 3.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]
多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備えた光触媒製品。
[2]
前記表面処理部は、少なくとも炭酸ジルコニウムアンモニウムまたはアジピン酸ジヒドラジドのうち1つをさらに含む[1]に記載の光触媒製品。
[3]
前記表面処理部は、前記多孔質基材上に設けられた前記粘土鉱物を含む粘土鉱物層と、
前記粘土鉱物層上に設けられた、前記光触媒を含む光触媒層とを含む[1]または[2]に記載の光触媒製品。
[4]
前記表面処理部と前記多孔質基材との間に、炭酸ジルコニウムアンモニウムを含む層、またはアジピン酸ジヒドラジドを含む層をさらに含む[3]に記載の光触媒製品。
[5]
多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられ、炭酸ジルコニウムアンモニウム、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備えた光触媒製品。
[6]
多孔質基材と、前記多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備え、
10ppmの濃度のアセトアルデヒドを導入した容積0.5lのチャンバー内で、白色蛍光灯FL20SWを用い、紫外線カットフィルターにより380nm以下の光をカットしながら、6000ルクスの照度で光照射され、常温、常圧、湿度20%で2時間放置されたとき、60%以上のアセトアルデヒドを削減する光触媒製品。
[7]
前記多孔質基材は、不織布である[1]ないし[6]のいずれか1項に記載の光触媒製品。
[8]
前記多孔質基材は、壁紙である[1]ないし[7]のいずれか1項に記載の光触媒製品。
[9]
前記多孔質基材は、壁布である[1]ないし[6]のいずれか1項に記載の光触媒製品。
Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, and are included in the scope of the invention and its equivalents described in the claims.
The invention as originally claimed in the present application is set forth below.
[1]
A porous substrate;
A photocatalyst product comprising a surface treatment section provided on the porous substrate, the surface treatment section including a clay mineral including smectite and a photocatalyst containing tungsten oxide.
[2]
The photocatalyst product according to [1], wherein the surface treatment further comprises at least one of ammonium zirconium carbonate or adipic dihydrazide.
[3]
The surface treatment portion includes a clay mineral layer including the clay mineral provided on the porous substrate,
The photocatalyst product according to [1] or [2], further comprising a photocatalyst layer comprising the photocatalyst and provided on the clay mineral layer.
[4]
The photocatalyst product according to [3], further comprising a layer containing ammonium zirconium carbonate or a layer containing adipic dihydrazide between the surface treatment portion and the porous substrate.
[5]
A porous substrate;
A photocatalyst product comprising a surface treatment section provided on the porous substrate, the surface treatment section including a photocatalyst containing ammonium zirconium carbonate and tungsten oxide.
[6]
A porous substrate and a surface treatment portion provided on the porous substrate, the surface treatment portion including a clay mineral including smectite and a photocatalyst including tungsten oxide;
This photocatalyst product reduces acetaldehyde by 60% or more when it is placed in a 0.5 liter chamber containing 10 ppm acetaldehyde and exposed to 6,000 lux of light using a white fluorescent lamp FL20SW while using an ultraviolet filter to block light below 380 nm, and left for 2 hours at room temperature, normal pressure, and humidity of 20%.
[7]
The photocatalyst product according to any one of [1] to [6], wherein the porous substrate is a nonwoven fabric.
[8]
The photocatalyst product according to any one of [1] to [7], wherein the porous substrate is wallpaper.
[9]
The photocatalytic product according to any one of [1] to [6], wherein the porous substrate is a wall cloth.

1…多孔質基材、2…粘土鉱物層、3…光触媒層、4,4-1,4-2,4-3…表面処理部、5…架橋剤層、6…吸着剤層、10,20,30,40,50…光触媒製品 1...Porous substrate, 2...Clay mineral layer, 3...Photocatalyst layer, 4, 4-1, 4-2, 4-3...Surface treatment section, 5...Crosslinker layer, 6...Adsorbent layer, 10, 20, 30, 40, 50...Photocatalyst product

Claims (4)

多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられた表面処理部とを備え、
前記表面処理部は、前記多孔質基材上の炭酸ジルコニウムアンモニウム層、及び前記炭酸ジルコニウムアンモニウム層上の酸化タングステンを含有する光触媒層を含む光触媒製品。
A porous substrate;
A surface treatment portion is provided on the porous substrate,
The surface treatment section comprises an ammonium zirconium carbonate layer on the porous substrate, and a photocatalyst layer containing tungsten oxide on the ammonium zirconium carbonate layer.
前記多孔質基材は、不織布である請求項1に記載の光触媒製品。 The photocatalytic product according to claim 1, wherein the porous substrate is a nonwoven fabric. 前記多孔質基材は、壁紙である請求項1または2に記載の光触媒製品。 The photocatalytic product according to claim 1 or 2, wherein the porous substrate is wallpaper. 前記多孔質基材は、壁布である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光触媒製品。 The photocatalytic product according to any one of claims 1 to 3, wherein the porous substrate is a wall cloth.
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