JP7479611B2 - プラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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Description
3 真空ポンプ(減圧ポンプ)
11 攪拌機構
12 プラズマ発生機器
16b 連通孔(ガス導入部)
27 攪拌体(攪拌部材)
29 還元コンベア(還元部)
31a 可動面
33 攪拌羽根
38 攪拌駆動モータ(アクチュエータ)
61a 攪拌部
Y 軸(回転軸,回動軸)
Z 軸(回転軸,回動軸)
Claims (6)
- 粉体のプラズマ処理を行うプラズマ処理方法であって、
前記粉体をチャンバー内に収容する前準備工程と、
前記チャンバー内を減圧ポンプによって減圧し、前記チャンバー内に所定のガスを導入することによって、大気圧よりも低く気圧に減圧され且つ前記ガスが導入された雰囲気である減圧ガス雰囲気を前記チャンバー内に形成する前処理工程と、
前記チャンバー内に形成された前記減圧ガス雰囲気下で、前記粉体を攪拌させながらプラズマ処理するプラズマ処理工程とを有し、
前記粉体の粒径を100nm~1mmとし、
前記減圧ガス雰囲気下の気圧は1~266Paに設定され、
前記プラズマ処理時に印加する電圧は50V~100kVに設定された
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1に記載のプラズマ処理方法によって前記粉体のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、
前記粉体がその内部に収容されるチャンバーと、
前記チャンバー内を減圧する減圧ポンプと、
前記チャンバー内に収容された前記粉体を攪拌する攪拌機構と、
前記チャンバー内に所定のガスを導入するガス導入部と、
前記チャンバー内にプラズマを発生させるプラズマ発生機器とを備え、
前記攪拌機構は、可動面と、該可動面を回転又は回動駆動させるアクチュエータとを有し、
前記可動面は、その回転又は回動される方向である攪拌方向に沿う形状に形成され、
前記アクチュエータによって回動又は回転駆動可能に支持された攪拌部材を備え、
前記攪拌部材には前記可動面が形成され、
前記可動面からは攪拌羽根が一体的に突出して形成され、
前記攪拌羽根は、前記攪拌方向に対して交差する方向に形成され、
前記粉体は、回転又は回動する前記攪拌部材の可動面又は攪拌羽根によって攪拌され、
前記攪拌機構は、前記攪拌部材の回転軸方向視で、該攪拌部材によって該回転軸の左右の一方側である上流側から他方側である下流側に搬送されてくる前記粉体を、受け取って前記攪拌部材の前記上流側に搬送して還元する還元部を有する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記可動面は、前記攪拌方向に沿って環状に形成された内周面から構成され、
前記攪拌部材は、その回転又は回動軸方向視で、前記粉体を、該回転又は回動軸以上の高さまで搬送するように構成された
請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記還元部は、前記攪拌部材の前記回転軸側に配置された
請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記プラズマ発生機器は、前記還元部によって搬送されている最中の前記粉体に対して、プラズマ処理を行うように構成された
請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理方法によって前記粉体のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、
前記粉体がその内部に収容されるチャンバーと、
前記チャンバー内を減圧する減圧ポンプと、
前記チャンバー内に収容された前記粉体を攪拌する攪拌機構と、
前記チャンバー内に所定のガスを導入するガス導入部と、
前記チャンバー内にプラズマを発生させるプラズマ発生機器とを備え、
前記攪拌機構は、可動面と、該可動面を回転又は回動駆動させるアクチュエータとを有し、
前記チャンバーに形成された内周面によって前記可動面が構成され、
前記攪拌機構は、前記チャンバーをその内周面に沿って回転又は回動駆動させるアクチュエータを有し、
前記可動面からは攪拌部が一体的に突出して形成され、
前記攪拌部は、前記攪拌方向に対して交差する方向に形成され、
前記粉体は、回転又は回動する前記チャンバーの内周面又は前記攪拌部によって攪拌され、
前記攪拌機構は、前記チャンバーの回転又は回動中、その回転又は回動軸が斜めを向き、前記攪拌部が前記チャンバーの下寄り部分に位置するように構成された
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
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